【課題】 分離パターン、ホールパターンの微細化において、波長限界を超えるパターン形成を可能とする微細分離レジストパターン形成を実現する、下地レジストを溶解しない水溶性の微細パターン形成材料を提供すること。
【解決手段】 カチオン性基を有する水溶性有機化合物を主成分とする組成物と、該組成物を溶解する、水または水と水溶性有機溶媒との混合溶媒を含有する微細パターン形成材料であって、前記水溶性有機化合物は、該水溶性有機化合物中のカチオン性基が、アニオン性基を有する化合物を主成分とするレジストパターン中のアニオン性基と塩を形成して不溶化膜を形成可能なものであることを特徴とする微細パターン形成材料。 （もっと読む）

【課題】配線等のパターニングにおける従来の現像工程を省略し、サイドエッチングが無く、低コスト、高スループットを実現可能とした表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板ＳＵＢ上に成膜した金属膜ＭＴを覆って酸現像タイプのネガ型ホトレジストＮＲＧを塗布し、所要の開口パターンを有するネガ型露光マスクＮＭＫを通してホトレジストを露光して露光部のホトレジストを硬膜化し、酸現像液を用いて硬膜化したホトレジストの露光部を残し、露光されなかった非露光部を除去するとともに、当該非露光部のホトレジストの除去で露出した金属膜ＭＴをエッチングして除去した後、ホトレジストＮＲＧを除去する。 （もっと読む）

【課題】 集積回路においてフォトリソグラフィ解像力を超える最小ピッチを画定する方法を提供する。
【解決手段】 最小ピッチで画定されるターゲット層１４を形成する段階と、ターゲット層１４上にピッチを含むパターン層を形成する段階と、パターン層上に第１の側壁スペーサを形成する段階と、ターゲット層１４をエッチングして、第１のトレンチ２４を形成する段階と、第１のトレンチ２４に絶縁体を充填する段階と、パターン層を除去する段階と、第１の側壁スペーサ上に第２の側壁スペーサを形成する段階と、ターゲット層１４をエッチングして、第２のトレンチ３４を形成する段階と、絶縁体、第１の側壁スペーサおよび第２の側壁スペーサを除去する段階とを含む。したがって、最小ポリシリコンピッチが拡大され、初期最小ポリシリコンピッチを縮小できる。 （もっと読む）

【課題】 その第一の課題は、ドライプロセスでの平版印刷版の指紋汚れ、解像度の改善をすることにある。第二の課題は、新規なドライのフィニッシャー処理方法（具体的にはガム処理）を採用することにより、画像形成後の傷による置き版適性を改善することにある。
【解決手段】 少なくとも画像露光を行う工程及び下記の液体現像処理を伴わずに親水化処理を行う工程を、感光性平版印刷版を順次搬送しながら行う平版印刷版の処理装置において、前記親水化処理がコーティング処理により行われることを特徴とする平版印刷版の処理装置。
ここで、液体現像を伴わずに親水化処理を行う工程とは、ａ）溶融熱転写方式、ｂ）昇華熱転写方式、ｃ）アブレーション転写方式、ｄ）穿孔方式、及びｅ）光変性方式の群から選ばれる少なくとも１つの方式を有する親水化処理を行う工程を言う。 （もっと読む）

【課題】
メッキ高さが高く多段段差形状を有するメッキ形成物の形成を可能にする。
【解決手段】
ネガ型ホトレジスト組成物を、（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）酸発生剤、（ｃ）その他の成分を含有するネガ型ホトレジスト組成物とし、
（Ａ）ネガ型ホトレジスト組成物の層を形成し、加熱後、露光する。
（Ｂ）前記工程（Ａ）を２回以上繰り返してネガ型ホトレジスト層を積み重ねた後、全ての層を同時に現像することで多層レジストパターンを形成する。
（Ｃ）多層レジストパターンにメッキ処理を行うことによりメッキ形成物を形成する。 （もっと読む）

【課題】 非感光性樹脂等からなる厚膜であっても、高精度のパターニングが可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 基板３上に第一のパターン１を形成し、その第一のパターン１の開口部４に被パターン材料からなる層２を形成し、その後、第一のパターン１を除去して被パターン材料からなる第二のパターンを形成する。この方法において、第一のパターン１が金属又は感光性樹脂からなるパターンであることが好ましく、被パターン材料が有機材料又は無機材料であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 ドライフィルム等の画像形成材料をラミネート等の方法により被加工基板に密
着させて得たレジスト画像形成材を用いる画像形成方法であって、微細なパターンでも脱脂処理の処理剤等の薬品に対する耐薬品性が良好で被加工基板に対して実用上充分な密着性を持ち、更にレジストの剥離性にも優れたレジスト画像を得るための方法を提供する。
【解決手段】 光重合性組成物の層を有するレジスト画像形成材料の光重合性組成物面を、被加工基板上に接する様に密着させて得たレジスト画像形成材を、露光の後、現像してレジスト画像を形成させる方法において、現像して得られたレジスト画像のレジスト画像形成面を全面露光することを特徴とするレジスト画像形成方法。 （もっと読む）

無機構造を製造するための方法であって、（ａ）光反応性組成物を基材に付与する工程であって、組成物が、反応種と、光開始剤系と、複数の実質的に無機のコロイド粒子であって、粒子の平均粒度が約３００ｎｍ未満であるコロイド粒子とを含む、工程と、（ｂ）組成物をフォトパターニングして、構造を規定する工程と、（ｃ）反応種を熱分解し、かつ粒子を少なくとも部分的に溶融するのに十分な時間、構造を高温に曝す工程とを含む方法。 （もっと読む）

【課題】 トリミング実施中の疎パターンと密パターンのそれぞれのトリミング量をモニターする方法を確立し、それぞれのパターンのトリミング量が規格値に収まるトリミング終点を検出する方法を実現するトリミング量制御技術を提供する。
【解決手段】 真空処理室内に収容したウエハにレジストトリミング処理を施すプラズマエッチング処理装置１３において、プラズマ処理中の装置状態をモニタリングするＯＥＳ１９を有し、ＯＥＳ１９からのモニタリング出力に基づく特徴量１６およびトリミング時間１５とから予め設定した疎密パターン別トリミング量予測回帰モデル１７を用いて疎密パターン別トリミング量予測値１８を予測し、トリミング量予測値１８と目標トリミング量１１０との距離が等しくなる時点をトリミングプロセスの終了点として、プラズマエッチング処理装置１３を制御する。 （もっと読む）

【課題】 着色がなく透過率に優れ、且つ、高さや、基板と接触する角度等の形状が安定した液晶分割配向突起を形成することができる液晶分割配向突起用感光性組成物を提供する。
【解決手段】 エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、アルカリ可溶性樹脂を主成分とする液晶分割配向突起用感光性組成物において、該感光性組成物を膜厚１．７μｍで塗布した感光層に、線幅１５μmの細線パターンを有するマスクを介して波長３６５ｎｍの紫
外光を５０ｍＪ／ｃｍ²で照射し、継いで、２３℃、水圧０．２５ＭＰａのシャワー現像
処理により得られた細線画像の側面と基板平面から形成される接触角を（W1）、該細線画像をさらに２３０℃、３０分の加熱処理を施した液晶分割配向突起状の細線画像の側面と基板平面から形成される接触角を（W2）とした場合、以下の式を満たすことを特徴とする液晶分割配向突起用感光性組成物。
W1／W2≧１．２ （もっと読む）