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国際特許分類[G11B5/66]の内容

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【課題】良好な記録再生特性を有し、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録層がグラニュラ膜型記録層と連続膜型記録層とを含み、グラニュラ膜型記録層は膜面内の磁気結晶粒子が3nmから7nmの平均結晶粒径を有する第1のグラニュラ膜型記録層と、第1のグラニュラ膜型記録層の平均結晶粒径よりも大きい膜面内の平均結晶粒子をもつ磁気結晶粒子を有する第2のグラニュラ膜型記録層を含む。 (もっと読む)


【課題】 保護層の耐摩耗性や耐衝撃性等の耐久性を向上し、保護層の膜厚が3nm以下に制限されたとしてもスクラッチ等の諸問題を回避可能な、垂直磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基体110上に少なくとも、柱状に成長した結晶粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラー構造の磁気記録層122と、磁気記録層より上に設けられた非磁性のバリア層124と、バリア層より上に設けられ基体主表面の面内方向に磁気的にほぼ連続した補助記録層126と、補助記録層より上に設けられカーボンを主体とする保護層128と、保護層の上に設けられた潤滑層130と、を備え、保護層は、ラマンスペクトルのDピークの高さ(Dh)とGピークの高さ(Gh)の比(Dh/Gh)が0.70以上0.95以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】柱状晶の頂部にドーム状の凸部が形成された配向制御層を有し、なおかつ、平滑性が高く、記録再生特性に優れる高密度記録に適した磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板の上に、軟磁性下地層と、直上の層の配向性を制御する配向制御層3と、磁化容易軸が前記非磁性基板に対して主に垂直に配向した垂直磁性層4とを、少なくとも積層してなる磁気記録媒体であって、前記配向制御層3が、磁性材料を20at%〜50at%の範囲内で含み、前記磁性材料がCoまたはFeであるRu合金層を含むものであり、前記垂直磁性層4が、前記配向制御層3を構成する結晶粒子と共に厚み方向に連続した柱状晶を含むものである磁気記録媒体とする。 (もっと読む)


【課題】 補助記録層に起因すると考えられるノイズを低減させてSNRを向上し、かつ磁気記録層における保磁力を向上させることにより、更なる高記録密度化を達成することが可能な垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 基体上に少なくとも、柱状に連続して成長した磁性粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラ構造の第1磁気記録層と、柱状に連続して成長した磁性粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラ構造の第2磁気記録層と、非磁性の分断層と、基体主表面の面内方向に磁気的にほぼ連続した補助記録層と、をこの順に備え、第1磁気記録層および第2磁気記録層はPtを含むCo系合金であって、第1磁気記録層よりも第2磁気記録層の方がPtの含有量が少ないことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 高い保磁力Hcを確保しつつSNRを更に向上し、更なる高記録密度化を達成することが可能な垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる垂直磁気記録媒体100の構成は、基体110上に少なくとも、柱状に成長した結晶粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラー構造の第1磁気記録層122aと、第1磁気記録層の上に設けられ、Ruを含む非磁性の介在層122bと、介在層の上に設けられ、柱状に成長した結晶粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラー構造の第2磁気記録層122cと、を備え、第1磁気記録層および第2磁気記録層は、粒界部を形成する酸化物を含み、第1磁気記録層に含まれる酸化物の量をA、第2磁気記録層に含まれる酸化物の量をBとすると、酸化物の含有量の関係A/Bは、0.5<A/B<1.0の範囲であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来の読取り/書込み装置がそのまま使用でき、外部磁界に対して安全な高保磁力磁気記録媒体とこれへの磁気記録方法を提供する。
【解決手段】非磁性材料によるカード基体上に磁気記録部が形成された磁気記録媒体において、前記磁気記録部に形成された磁性層は、加圧によって飽和磁化量が低下し加圧から開放されたときに元の飽和磁化量に復帰する磁性体による第一の磁性層と、第一の磁性層に重なるように更にカード基体側に一層、加圧により保磁力、飽和磁化量、残留磁化量が変化しない磁性体による第二の磁性層が形成された磁気記録媒体を提供する。 (もっと読む)


【課題】1Tbit/inch以上の面記録密度を有する熱アシスト磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】少なくとも基板101の上に、第1の磁性層106と第2の磁性層107とが順に積層された構造を有し、第1の磁性層106が、L1構造を有するFePt合金、L1構造を有するCoPt合金、又はL1構造を有するCoPt合金の何れかの結晶粒と、SiO、TiO、Cr、Al、Ta、ZrO、Y、CeO、MnO、TiO、ZnO、MgO、Cのうち少なくとも1種以上の粒界偏析材料とを含むグラニュラー構造を有し、且つ、第1の磁性層106中の粒界偏析材料の含有率が、基板101側から第2の磁性層107側に向かって減少している。 (もっと読む)


【課題】パターンドメディアの作製工程で記録層表面の凹凸が大きくなるためヘッドとメディア間のスペーシングが大きくなり、その結果として記録性能と耐食性が劣化する。
【解決手段】パターンドメディアにおいて、記録層を、1層あるいは複数層の結晶質磁性膜102と、結晶質磁性膜102の最表面上に位置する非晶質構造の磁性膜105で構成し、非晶質構造の磁性膜105の構成元素とその直下に位置する結晶質磁性膜102の構成元素を同じにする。また、その製造方法において、結晶質磁性膜102の表面を非晶質化して非結晶質構造の磁性膜105を形成する。 (もっと読む)


【課題】記録部とガードバンド部の間にできた遷移領域の記録層劣化を改善し、表面平坦化のために充填した非磁性充填層が記録部の記録層上に残らないようにしたパタン型の垂直磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録媒体において、記録層の最上層に、パタン構造に追従した垂直磁化連続膜132を形成することにより、遷移領域22やガードバンド部23の記録層の特性を改善する。また、その製法において、垂直磁化連続膜132を非磁性充填層除去の際に一部除去することにより、非磁性充填層14が記録部21に残らないようにする。 (もっと読む)


【課題】高いSNRを確保しつつ摺動耐久性を向上させることで、信頼性の向上および更なる高記録密度化の達成を図る。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体の製造方法の構成は、基板上に少なくとも、CoCrPt合金を主成分とする磁性粒子と酸化物を主成分とする非磁性の粒界部とからなる主記録層を成膜する主記録層成膜工程と、主記録層上にRu合金またはCo合金を主成分とする分断層を成膜する分断層成膜工程と、分断層成膜工程の後に基板に加熱処理を施す第1加熱工程と、第1加熱工程の後にCoCrPtを主成分とする材料からなる補助記録層を成膜する補助記録層成膜工程と、補助記録層成膜工程の後に基板に加熱処理を施す第2加熱工程と、第2加熱工程の後にCVD法によりカーボンを主成分とする保護層を成膜する保護層成膜工程とを含む。 (もっと読む)


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