【課題】散乱体メディアにおいて、吸収体の再構成に必要不可欠となる散乱係数が制御された光散乱体、並びに光散乱体の作製方法を提供する。
【解決手段】３次元構造の光散乱体中に埋め込まれた光エネルギー吸収体とからなる光情報記録媒体において、光散乱体が多孔質媒質であり、その散乱係数分布が光散乱体中の空孔の大きさと密度分布によって制御されたものである。多孔質媒質の光散乱体とは、ガラスやポリマー樹脂等の材料内部に空孔を多数空けることにより作製された散乱体をいう。空孔を空ける際のパラメータとしては、孔径と孔密度である。光散乱体の散乱係数分布は、光散乱体中の空孔密度分布によって制御可能である。 （もっと読む）

【課題】ＢＤ−Ｒディスク等の製造の大幅な効率化及びコスト低減
【解決手段】光記録媒体の情報記録層を、Ｚｎ又はＡｌと、Ｐｄと、Ｏとを含み、酸素の量が、上記Ｚｎ又は上記Ａｌが完全酸化されてＺｎＯ又はＡｌ₂Ｏ₃となった場合の化学量論組成よりも多く含有されている記録膜を有するものとする。この場合、非常に良好な記録再生特性を得ることができ、また情報記録層は十分な反射率が得られることで反射膜も不要である。このため単膜構造、もしくは保護膜を加えたのみの複膜構造として、非常にシンプルな層構造とすることができる。 （もっと読む）

【課題】記録パワーに変動が生じても記録精度が悪化しない光記録媒体を提供する。
【解決手段】基板１０上に形成されて情報が記録される情報記録層２０を備える光記録媒体１において、この情報記録層２０は、光照射によって光学特性が変化しＢｉ及びＯを主成分とする記録膜２５と、この記録膜２５に接触して形成され、ＳｉＯ２を主成分とする誘電体膜２３を備えるようにした。 （もっと読む）

【課題】多層型の光記録媒体において、レーザー光の入射側から最も遠い記録再生機能層以外の記録再生機能層における反射率均一性、耐久性、信号強度等に優れた光記録媒体を提供する。
【解決手段】レーザー光の入射側から少なくとも、第１保護層、第２保護層、記録層、第３保護層、反射層、及び第４保護層をこの順に有する半透明な記録再生機能層を有する光記録媒体において、前記第２保護層と前記第４保護層とが同一の構成元素を有する材料からなり、前記第２保護層の屈折率が、前記第１保護層の屈折率よりも０．３以上大きく、前記第２保護層の膜厚をＤ２、前記第４保護層の膜厚をＤ４、前記記録層に該レーザー光をフォーカスした場合の記録前反射率をＲとしたとき、Ｒの膜厚に対する増加率ｄ（Ｒ）／ｄ（Ｄ２）とｄ（Ｒ）／ｄ（Ｄ４）との正負を逆とする。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤにより平滑性の高いＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ膜を得ることができるＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ膜の成膜方法を提供すること。
【解決手段】処理容器内に基板を配置し、気体状のＧｅ原料と、気体状のＳｂ原料と、気体状のＴｅ原料とを前記処理容器内に導入してＣＶＤにより基板上にＧｅ_２Ｓｂ_２Ｔｅ_５となるＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ膜を成膜するＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ膜の成膜方法であって、気体状のＧｅ原料および気体状のＳｂ原料を処理容器内に導入して基板上に第１段階の成膜を行う工程（工程２）と、気体状のＳｂ原料および気体状のＴｅ原料を処理容器内に導入して第１段階の成膜で得られた膜の上に第２段階の成膜を行う工程（工程３）とを有し、工程２により得られた膜と、工程３により得られた膜により、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ膜を得る。 （もっと読む）

【課題】生産性の低下を招くことなく、優れた繰り返し記録耐久性を得ることができる光記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光記録媒体は、第１の主面および第２の主面を有する基板と、光の照射により情報信号の記録または再生が行われる、基板の第１の主面上に形成された１または複数の情報記録層と、基板の第２の主面からのガス放出を抑制する、基板の第２の主面上に形成されたバリア層とを備える。基板の第２の主面のうち、バリア層から露出する領域の露出面積が、６８８ｍｍ²以下である。 （もっと読む）

【課題】光波長吸収範囲の狭い有機染料に代え、導体（金属）または半導体の無機材料で記録層を形成し、ブルーレイ記録可能媒体を提供する。
【解決手段】記録可能光学式記録媒体が、磁気スパッタリングによって準備される無機記録層を備えている。記録層は、銅（Ｃｕ）、シリコン（Ｓｉ）、クロミウム（Ｃｒ）またはその組合せから選ばれる主要成分を含む組合せ薄膜である。データ記録の目的は、レーザービームによって記録可能光学記録媒体に照射した後に記録層のミクロ構造を変更することを経由して達成されることができる。 （もっと読む）

【課題】多層であっても記録再生時にチルトマージンを広く取ることが可能な光記録媒体及びこの光記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】光記録媒体は、ガラス基板１０４と、このガラス基板１０４上に支持された、フォトンモードにより記録可能な情報記録層１０２を有し、この情報記録層１０２は、フォトンモードにより記録可能なホログラム記録膜である媒体膜１１２、１１６、１２２と、光学フィルムであって、レーザビームを照射する際の反射透過膜１１４、１１８が交互に積層して構成され、媒体膜１１２、１１６、１２２と反射透過膜１１４、１１８との屈折率差は、０．０２以上０．４０以下であり、反射透過膜１１４、１１８の透過率は９７．５％以上とされていて、媒体膜１１２、１１６、１２２の厚さは、５μｍ以上６０μｍ以下、反射透過膜１１４、１１８の厚さは８μｍ以上５０μｍ以下とされている。 （もっと読む）

【課題】相変化型メモリーの書き換え特性、結晶化速度を向上させることができる相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】３元系以上の元素からなり、アンチモン、テルル又はセレンから選んだ１成分以上を主成分とし、目標組成に対する組成のずれが±１．０ａｔ％以下であることを特徴とする相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び該ターゲットを用いて形成された相変化メモリー用膜とする。 （もっと読む）

【課題】光記録媒体の製造コストを低減することを可能にする光記録媒体を提供する。
【解決手段】基板１と、この基板１上に形成され、ＩｎとＳｎとＰｄと酸素とを含み、酸素原子がＩｎ及びＳｎが完全酸化された場合の化学量論組成よりも多く含有されている記録層２と、この記録層２上に形成された光透過層３とを含む光記録媒体１０を構成する。 （もっと読む）