検出システムは、中性子およびγフォトンの両方を含む高エネルギー粒子のパルス束を発生させ、かつ該パルス束(140)を分析すべき物品(600)の方向に指向させるための粒子供給装置(500)、該粒子は該物品中の物質の核と反応させるためのもの；少なくとも３つの検出器アセンブリを含む検出ユニット(400)、これらの検出器アセンブリは、それぞれのエネルギー範囲において、該高エネルギー粒子パルス束に応答して該物品から来て、それに衝突する中性子およびγフォトンに応答性であって、対応する経時信号を送給することができる；および時間関連信号特性を含む、前記物品への前記パルス束の印加後の前記信号からのサインを、このサインを格納ずみ参照サインと比較するために発生させることができる、前記検出器の出力側に接続されたデータ処理ユニット(800)を備える。本発明は対応する検出方法も提供する。特に空港での手荷物保安検査、地雷検出などに適用。
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【課題】単位時間当たりの中性子発生量を増加することができるイオン発生装置および中性子発生装置を提供すること。
【解決手段】中性子発生装置１は、イオン発生装置２を備え、このイオン発生装置２は、重水素ガスまたは三重水素ガスが供給されるイオン発生管２１と、イオン発生管２１の外部に配置され、このイオン発生管２１に磁界を発生させる磁石２３と、イオン発生管２１の外部に配置され、このイオン発生管２１に電界を発生させるプラズマ発生用アンテナ２２と、プラズマ発生用アンテナ２２に高周波電力を供給する高周波電源２４と、を備える。高周波電源２４は、イオン発生管２１においてプラズマの非定常状態を繰り返し発生するように、プラズマ発生用アンテナ２２に、高周波電力をパルス制御して供給する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線光源サイズが数μｍのコンパクトで、Ｘ線ターゲットの放熱効果が大きく低コストな高輝度大強度のＸ線源を得る。
【解決手段】荷電粒子発生手段、荷電粒子加速手段、偏向磁界発生手段および荷電粒子の安定周回軌道上に配置されたＸ線ターゲットを有する円形加速器において、上記Ｘ線ターゲット１４を、先端が直径１０μｍ程度の針状に尖った金属棒とし、針状突起部の方向を荷電粒子が周回している方向に対し垂直方向とした。 （もっと読む）

【課題】ガスの状態でＥＵＶ放射種が供給されても安定してＥＵＶ光を放射することができる放電電極が回転移動する極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】ガス導入口１０からＥＵＶ放射種のキセノンガスが導入される。主放電電極１は、モータ４により回転しており、電子線発生装置５ａから出射した電子線は、主放電電極１に形成されている多数の貫通孔１ａを通過して、貫通孔２ａ内とその近傍に照射されキセノンガスを電離させる。高電圧印加回路５０から、両電極１，２に高電圧パルス電圧を印加すると、両電極１，２間に放電が発生し、貫通孔２ａには電子線により電離したキセノンによる高密度高温プラズマが発生し、このプラズマから波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放射される。プラズマから放射されたＥＵＶ光は、ＥＵＶ集光鏡３に入射して反射集光され、フィルタ６を介して、照射部に出射する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物表面に放射線を照射する放射線源が，単純な平面的なものであったので，微小な測定対象や，局所的な元素分析が必要なときにも，広い範囲に放射線を照射してしまうという欠点を解消すること。
【解決手段】上記放射線源が，上記測定対象物表面の放射線照射点に対向する円錐面状に形成されてなり，且つ上記放射線源を保持する放射線源ホルダに，上記放射線源から上記測定対象物表面の放射線照射点に向けて先細りする放射線通路が形成されてなることを特徴とする粒子線励起Ｘ線分析装置。 （もっと読む）

【課題】比較的小型の加速器装置を利用して、ほぼ同時かつ同方向に二つの異なる波長帯の短パルス高輝度光ビームを得ることができる二帯域短パルス高輝度光源を提供することを目的とする。
【解決手段】二帯域短パルス高輝度光源装置は、大電荷量の線形加速器を用いた相対論的電子ビームに大出力短パルスレーザーを衝突させるコンプトン散乱により準単色の硬Ｘ線ビームを発生させ、前記電子ビームを周期長の短いアンジュレータで短パルスレーザーから分離した一部分と相互作用させてバンチスライス法によるテラヘルツ光を発生させたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 プラズマから発生するデブリ粒子によって、光源装置内のミラーが劣化するのを防ぐことを目的とする。
【解決手段】 本発明のＥＵＶ露光装置は、プラズマを生成する手段と、前記プラズマから発する光を反射するミラーと、前記プラズマと前記ミラーとの間に、前記光が発光する発光中心を通る軸を中心として放射状に配置された複数の板状部材と、前記プラズマと前記ミラーとの間に磁力線を発生させる磁場発生手段と、を備えており、前記プラズマと前記ミラーとの間の第１位置における前記磁力線の方向が、前記軸と同一平面内で且つ前記第１位置における前記発光点からの放射方向と垂直な成分を有しており、前記第１位置が、前記複数の板状部材で挟まれた第１空間内或いは前記第１空間と前記プラズマとの間の第２空間内のいずれかに位置していることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、患部に対して適正量の放射線を照射し、且つ患部周辺健全組織への放射線照射量の低減を図るために、患部性状に応じた放射線照射領域を設定した上で当該患部に放射線を照射することのできる放射線照射装置を提供することである。
【解決手段】本発明の放射線照射装置では、治療用Ｘ線発生源２が、互いに直交する２つの回転軸を備えた回転機構１３を介して支持台１２に固定される。治療用Ｘ線発生源２から出射されるＸ線は、回転機構１３によって、その照射軸が照射対象患部の中心が位置されるアイソセンタに向くように指向制御される。また、治療用Ｘ線発生源２は、それとは独立に、位置決め機構１１を介して支持台１２に対して２軸方向に位置調整される。これら２つの機構による調整により、Ｘ線の照射軸と支持台に固定されているマルチリーフコリメータの中心軸とがアイソセンターに指向する。 （もっと読む）

【課題】レーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置において、プラズマから放出されるイオン等の荷電粒子を効率よく排出する。
【解決手段】ターゲット物質を供給するターゲットノズル４と、該ターゲットノズルによって供給されるターゲット物質に対してレーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザ発振器１と、該プラズマから放射される極端紫外光を集光するＥＵＶ集光ミラー５と、ターゲット物質に対してレーザビームを照射する位置に非対称な磁場を形成する電磁石コイル６及び７とを有する。 （もっと読む）

【課題】反射率の低下を低減し、優れたスループットを有する露光装置を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ光を用いてレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系とを備える露光装置であって、前記照明光学系及び前記投影光学系は、前記ＥＵＶ光を反射する複数の多層膜ミラーを有し、前記複数の多層膜ミラーのうち、前記ＥＵＶ光の単位面積あたりの照射強度が０．１ｍＷ／ｍｍ^２を超える位置に配置される少なくとも１つの多層膜ミラーは、前記ＥＵＶ光の入射側の最表面に白金を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）