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国際特許分類[H01J27/14]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 電子管または放電ランプ (32,215) | イオンビーム管 (482) | イオン源;イオン銃 (482) | アーク放電を利用するもの (108) | 加えられた磁界を利用する他のアーク放電によるイオン源 (28)

国際特許分類[H01J27/14]に分類される特許

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閉ドリフトイオン源の電気絶縁アノード電極に電子を供給するステップを含む、基板の表面を改質するプロセスが、提供される。アノード電極は、正のアノード電極帯電バイアスを有するが、閉ドリフトイオン源の他の構成要素は、電気的に接地され、または電気的浮動電圧を保持する。電子は、イオン形成を誘導する閉ドリフト磁場と交差する。アノード汚染は、ガスの存在下で電極帯電バイアスを負に切り替えることによって防止され、プラズマが、アノード電極の近傍に生成され、アノード電極から汚染堆積物を浄化する。次に、電極帯電バイアスは、反復電子源の存在下で正に戻され、反復イオン形成を誘導し、基板の表面を再び改質する。このプロセスによって基板の表面を改質する装置が、提供される。
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励起したおよび/または原子状態のガスの注入を利用するイオン源を開示する。イオンビームに適用する場合、ソースガスはそのまま使用して従来どおり供給する。代替的にまたは付加的に、ソースガスをイオン源チャンバに導入する前にリモートプラズマ源を通過させることにより変質させることができる。これにより励起中性種、重イオン、準安定分子、または多価イオンを生成することができる。他の実施形態において、複数のガスを用い、1つ以上のガスがリモートプラズマ源を通過するようにする。特定の実施形態においては、複数のガスをイオン源チャンバへ供給する前に単一のプラズマ源において混合する。プラズマ浸漬に適用する場合、1つ以上の追加ガス注入箇所を介して、プラズマをプロセスチャンバに注入する。これら注入箇所により、プロセスチャンバの外部におけるリモートプラズマ源で生成した追加プラズマの流入が可能になる。 (もっと読む)


【課題】 アルミニウムイオンを含むイオンビームを発生させるイオン源において、部品点数の削減および構造の簡素化を可能にする。
【解決手段】 このイオン源は、フッ素を含むイオン化ガス8が導入されるプラズマ生成容器2と、この容器2内の一方側に設けられた熱陰極12と、プラズマ生成容器2内の他方側に設けられていて、バイアス電源24から当該容器2に対して負電圧VB が印加されて電子を反射する対向反射電極20と、プラズマ生成容器2内に、熱陰極12と対向反射電極20とを結ぶ線に沿う磁界28を発生させる磁石30とを備えている。対向反射電極20はアルミニウム含有物質から成る。 (もっと読む)


【課題】絶縁不良が生じにくく、メンテナンスの頻度を低減することのできるイオン発生装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかるイオン発生装置100は、カソード孔12、リペラ孔14、ガス入口16、およびイオン取出口18を備えたアークチャンバ10と、フィラメント22およびサーマルブレイク24を備え、カソード孔12を介してアークチャンバ10内に突出して設けられたカソード20と、支柱32および支柱32の先端に設けられた反射板34を備え、リペラ孔14を介してアークチャンバ10内に突出して設けられたリペラ30と、を有し、サーマルブレイク24および反射板34は、アークチャンバ10内で互いに対向しており、アークチャンバ10は、カソード20およびリペラ30と電気的に絶縁されており、平面視において、リペラ孔12は、反射板34の輪郭の内側に形成される。 (もっと読む)


【課題】ビーム電流のより大きな負イオンビームを出射する負イオン源、及び負イオン源の運転方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、プラズマ容器12と、熱電子を放出して原料ガスからプラズマを生成するフィラメント16と、プラズマ容器12の外周に沿って設けられてカスプ磁場を形成する複数の磁石M1と、プラズマから負イオンを外部に引き出して負イオンビームを生成する引出電極20と、プラズマ容器12の内部空間を放電空間S1と引出空間S2とに分割するような位置にフィルタ磁場MFを形成するフィルタ磁場形成手段M2とを備える負イオン源10を用い、出空間S2内に形成されたプラズマのプラズマポテンシャルVpが測定され、このプラズマポテンシャルVpの測定値に対して引出電極20の電位が同電位又は略同電位となるように引出電圧が調節されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 同軸構造の熱陰極の内部導体の温度上昇を抑制して、内部導体の寿命ひいては熱陰極の寿命を長くする。
【解決手段】 この熱陰極10は、中空の外部導体2と、その内側に同軸状に配置されている中空の内部導体1と、両導体1、2の先端部を電気的に接続する接続導体3とを備えている。加熱電流IH は、接続導体3を通して折り返されて、外部導体2と内部導体1とで互いに逆向きに流される。 (もっと読む)


【課題】プラズマ生成容器に複数の被加熱体が設けられるイオン源において、安定した熱電子の放出が可能であり、被加熱体を交換するまでのイオン源の運用時間を長くする。
【解決手段】イオン源は、ガスが供給されてプラズマを生成する、導体面を有する内部空間を備えたプラズマ容器と、このプラズマ容器と電気絶縁され、内部空間の内壁面から突出し、通電することにより前記内部空間に熱電子を放出する一対の熱電子放出素子と、 一対の熱電子放出素子のそれぞれに電流を流す電源と、を有する。プラズマ容器内のプラズマに曝される内壁面の材料と、一対の熱電子放出素子の、プラズマに曝され、熱電子を放出する部分の材料が、同じ金属を主成分とする材料で構成される。 (もっと読む)


【課題】より高い電流密度を得ることを可能とすることにより、プロセスの高速化を図ることが可能なイオンガン及び成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明のイオンガン1は、スリット状の開口部11が形成された陰極2と、開口部11の幅方向に磁場を発生させる磁石3と、この磁場に対して略垂直方向に電界を生じさせるように陰極2の裏面から離間して配置された陽極4と、を備え、陰極2の表面の開口部11からイオンビームBが引き出されるもので、陽極4を構成する材料が強磁性材、または非磁性のステンレス鋼を熱処理により弱磁性材化した弱磁性材である。 (もっと読む)


【課題】 組立てが容易であり、カソードの加熱効率を高めることができ、振動が加わってもカソードの少なくとも下方への位置ずれや脱落を防止することができ、かつねじ加工を使わずに済み、構造が簡単なカソード保持構造を提供する。
【解決手段】 このカソード保持構造は、熱電子を放出させるための前部22、その背後の後部24およびその側壁の周囲に形成された溝26を有しているカソード20と、筒状のものであってその先端部付近内にカソード20の後部24が通る貫通穴34を有する棚部32を備えているカソードホルダー30と、平面形状がC形、断面形状が円形をしているロックワイヤ40とを備えていて、カソード20の後部24を貫通穴34に挿通し、溝26にロックワイヤ40を嵌めて、ロックワイヤ40でカソード20をカソードホルダー30の棚部32に係止している。 (もっと読む)


イオンソース100は、プラズマ生成部104と、第1ガスを受け取る第1ガス注入口122とを有する第1プラズマ室102であって、プラズマ生成部104および当該第1ガスが協働して上記第1プラズマ室104内に第1プラズマを生成し、上記第1プラズマ室102が、上記第1プラズマから電子を取り出す開口部114をさらに規定した第1プラズマ室102、および、第2ガスを受け取る第2ガス注入口124を有する第2プラズマ室116であって、第2プラズマ室116が、第1プラズマ室102の開口部114と合う位置に開口部117を規定し、当該開口部から取り出された電子を受け取り、電子および第2ガスが協働して第2プラズマ室116内に第2プラズマを生成し、第2プラズマ室116が、第2プラズマから各イオンを取り出す取り出し開口部120をさらに規定した第2プラズマ室116を有する。
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