【課題】イオンを加工物に注入するシステム及びその方法を提供する。
【解決手段】イオン注入システムにおいて、イオンを加工物に注入するために、イオンビームを発生させ、イオンビームを質量分析し、加工物に対してイオンビームをスイープ軸線に沿って上下方向にスイープ動作させる。そして、イオンビームのスイープ動作に同期して、ビーム軸線に沿って加工物を傾けて、前記加工物に対してほぼ一定の注入角度を維持する。この場合、イオンビームがウエハを横切って上下方向にスイープされるとき、ビームとともに分析開口が移動する。これにより、所望のイオンをウエハに衝突させることができ、不要な汚染物質が阻止される。 （もっと読む）

【課題】微小化構造を有する物体を検査及び加工するための電子顕微鏡、微小化構造を有する物体の製造方法を提供する。
【解決手段】製造方法は、反応ガスを供給すると同時に、加工すべき箇所に電子ビームを当てて、材料を堆積するか、あるいは、材料を切除することにより、物体を加工する工程と、物体の表面を電子ビームによって走査し、生成された後方散乱電子及び二次電子をエネルギー選択器７に導入し、二次電子をエネルギー選択器７によって反射させ、エネルギー選択器７を通過する後方散乱電子を検出し、検出された後方散乱電子に応じて走査領域の電子顕微鏡像を形成して、物体を検査する工程と、形成された電子顕微鏡像を調べて、材料のさらなる堆積又は切除を実施すべきか否かを決定する工程とを含む。並びに、この方法を実施するように構成された電子顕微鏡及び加工システム。 （もっと読む）

【課題】
全般的な複雑性を低減し、各ビーム吸収素子の寿命を延長する所望の粒子種（「名目種」）を具体的に選択するように粒子フィルタ装置を改良する
【解決手段】
パターンが、主に、名目運動エネルギーを有する名目質量の種の高エネルギー荷電粒子のビームを用いて、投射システムを介して対象に投射される。ビームを生成するため、粒子源（１１）、速度依存偏向器（３２）、および照射光学システムが設けられる。速度依存偏向手段（３２）は、粒子の速度に依存する名目種の経路に対して粒子経路を偏移させるように粒子に作用する横断双極電界および／または横断双極磁界を備える。 （もっと読む）

【課題】
一次電子線の収差を増やさずに二次信号を効率よく検出することにより高分解能でかつ高コントラストな観察像を取得し、観察像により欠陥を検出することにより検査速度を高速・高感度にする荷電粒子ビーム装置を得る。
【解決手段】
試料の所望領域を一次荷電粒子ビームで走査し、一次荷電粒子ビームの照射により領域から二次的に発生する二次荷電粒子を二次電子変換電極33に衝突させた後、二次電子変換電極33の上記試料側の面に絶縁物を介して固定した第１のE×B偏向器31により発生する二次電子を検出器34に取り込む。同時に、第１のE×B偏向器31に固定した第２のE×B偏向器32により第１のE×B偏向器31で一次荷電粒子ビームに発生する偏向色収差を抑制し、高分解能かつ、シェーディングのない高コントラストな観察像を取得する。 （もっと読む）

【課題】 ウィーンフィルタ内で静電偏向場、及び静磁偏向場に付随して発生する六極子場に対して、静電六極子場を積極的に発生させ、３回非点を補正する。
【解決手段】 静電場発生部４は、この１２極型ウィーンフィルタが適用されるモノクロメータにおいてスリット上でビームを絞るために、ユーザが操作部６を使って操作した指示にしたがって、各電源の印加電圧を調整し、静電偏向場、静電四極子場、静電六極子場のような多重極静電場を発生する。 （もっと読む）

【課題】走査型電子顕微鏡において、一次電子線や二次電子の偏向量が少なくなる最適な走査方法を決定して安定した画像を取得できるようにするものである。
【解決手段】エネルギーフィルタを用いてエネルギーを弁別し、得られる電子収量の変化から試料電位の変動を測定し、電子線照射時に形成される帯電の時定数を抽出する。抽出した時定数を基に走査方法を最適化し、ＳＥＭ像に現れる歪みや倍率変動を抑制する。 （もっと読む）

【課題】本発明は走査電子顕微鏡など電子線応用装置において二次電子および反射電子の検出において検出器の小形化、エネルギーフィルタ機構の装備、二次電子/反射電子選別機構の装備などを実現し小形で高効率/高機能の検出器を提供することを目的とするものである。
【解決手段】上記目的は、電子入射面を低密度薄膜で隔離した小形のガス増幅形検出器を高真空に保持された電子線通路または試料室中の適切な位置に配置し、当該検出器をレンズ磁場中に配置することで検出器内を進む電子の移動距離を大きくしガス増幅率を増大させることで実現される。さらに、ガス増幅形検出器の電子入射面にエネルギーフィルタ電極を設けることで二次電子のエネルギー選別を可能とする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造を有するモノクロメータを提案して、このモノクロメータが簡単に調整できかつ濾波された粒子ビームの指向性ビーム値に対する不利な影響を有しないようにすること
【解決手段】荷電粒子用モノクロメータにおいて、粒子の拡散方向に相前後して直列に配置された複数のウィーンフィルタを有しており、このウィーンフィルタの一部は、別のウィーンフィルタに対して光軸の周りに９０°の回動角で回動して配置されていることを特徴とする荷電粒子用モノクロメータを構成する。 （もっと読む）

【課題】複数の電子線の軸上色収差が補正でき、非点収差や偏向収差も低減できる電子線装置及びこれを用いたパターン評価方法を提供すること。
【解決手段】一次電子線を放出する電子銃と、前記一次電子線の一部が通過する複数の開口を有するマルチ開口板と、前記開口を通過する一次電子線を縮小するコンデンサレンズと、縮小された一次電子線を試料の表面に結像させる対物レンズとを備える一次光学系と、前記試料から放出される二次電子線を偏向する偏向器群と、前記偏向器群で偏向された二次電子線を拡大する拡大レンズと、拡大された二次電子線を検出する二次電子線検出器とを備える二次光学系とを備え、前記一次光学系に、前記対物レンズで生じる軸上色収差に対応した軸上色収差を発生させる非分散ウィーンフィルタからなる軸上色収差補正レンズを備えること。 （もっと読む）

【課題】試料の状態および撮影条件に依存せず、安定して良好な画像情報を取得することができる荷電粒子ビーム装置を実現する。
【解決手段】試料１と概ね同電位の基準静電電極４およびこの基準静電電極４を挟む一対の円筒形フィルター電極５および５′を、電子銃３０および加速場電極１４の間に設け、円筒形フィルター電極５および５′に正の電位を印加し、さらに制御部９によりこの電位を調整することにより、試料１で発生された２次電子の発生の際のエネルギーの大きさにより、２次電子５１を分離検出することとしているので、低エネルギー帯の２次電子を除去することができ、ひいてはＳＥＭ画像に含まれる、像全体を明るくする成分を除去し、安定して良好な画像情報の取得を行うことを実現させる。 （もっと読む）