【課題】 本発明はイオンビーム加工装置に関し、ＴＥＭに用いて好適な試料を遮蔽板を使用せずに作製することができるイオンビーム加工装置を提供することを目的としている。
【解決手段】 イオンビームを用いて試料を加工する装置において、イオン源１と試料４の間にウィーンフィルタ２を配置し、イオン源１からのイオンビームを前記ウィーンフィルタ２を通すことで、ビームの形状を試料の加工に適した形に整形するように構成する。このように構成すれば、ＴＥＭに用いて好適な試料を遮蔽板を使用せずに作製することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は多極子に関し、製造コストを抑え、高加工精度及び高位置精度を確保した多極子電場、多極子磁場、多極子電磁場をそれぞれ独立に発生させることができる多極子を提供することを目的としている。
【解決手段】 複数の電極子２又は磁極子４で構成され、荷電粒子の運動を制御する多極子において、同軸上に非磁性体の多電極子と多磁極子を絶縁体１で支持されるように配置し、前記多磁極子が多電極子の外側に位置するように構成される。非磁性体の多電極子と多磁極子を絶縁体で支持し、前記磁極子４が電極子２の外側に位置するようにしたので、製造コストを抑え、高加工精度及び高位置精度を確保した多極子電場、多極子磁場、多極子電磁場をそれぞれ独立に発生させることができる。 （もっと読む）

【課題】 被照射物に対して目的核種の均一な注入を行なえる質量分離型ドーピング装置を提供する。
【解決手段】 質量分離型ドーピング装置は、イオンの流路を含み、断面形状が円弧状に形成されたケーシング１と、断面形状の円弧状の周りを取り巻くように、ケーシングに巻かれたコイル５と、コイル５に電流を流すための電源とを備える。コイル５が巻かれている領域は、第１密度で巻かれた第１密度巻回領域と、コイルの全体が一定の密度で巻かれたときにビーム電流が最大となる位置を避ける領域において第１密度よりも小さい第２密度で巻かれた第２密度巻回領域とを含む。 （もっと読む）

【課題】 観察箇所の帯電量を所望の帯電量に安定して制御することができる試料観察方法、及びそれを実現する電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 試料の状態にあわせてプリチャージを行う一次電子線１０８の照射条件を制御し、エネルギーフィルタ１０１ｂと２つの電子検出器１０２ａ，１０２ｂを用いて検出される二次電子信号量から観察箇所が所望の帯電量になったことを確認し、観察箇所の帯電量を制御する。 （もっと読む）

【課題】異なる試料位置のエネルギースペクトルを同時に分離して計測する。
【解決手段】透過型電子顕微鏡の試料と前記電子線を結像させるレンズ群との間に、電子線の有するエネルギー量により、該電子線を分光する電子分光器を備え、かつ分光された該電子線の該電子分光器のエネルギー分散方向と、該エネルギー分散方向と直交する方向での、分光された電子線の収束位置が異なっていること。 （もっと読む）

【課題】
散乱電子の極角識別機能を有するＳＥＭ暗視野検出システムを提供すること。
【解決手段】
対物レンズ、走査デフレクタ、反走査デフレクタ、エネルギーフィルタ・ドリフトチューブ、および領域分割された検出器を含む電子ビーム走査装置に関する位置実施形態を開示する。対物レンズには、高い抽出電界を有するように構成されたイマージョンレンズが使用され、標本表面で散乱された電子の方位角の識別を可能にする。反走査デフレクタは、入射電子ビームの走査の補正に使用される。エネルギーフィルタ・ドリフトチューブは、散乱電子を標本表面からの軌道の極角に従って一致させるように構成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電荷粒子のための画像生成型エネルギフィルタに関する。
【解決手段】第１のエネルギ分析器（３０）の出口面（５）と第２のエネルギ分析器（４０）の前記入口面（６）との間には、トランスファレンズ手段（２０）が設けられている。これにより、サンプル（１）の表面（１´）の、検出器（１０）への、エネルギ濾過された、収差のない結像が可能となる。
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【課題】イオン質量分離装置から所望イオン種のイオンビームを安定して導出できるようにする。
【解決手段】中和電子供給体７の電流と、プラズマ発生装置８のアーク電流と、引出し電極９の引出し電流とを設定して出口部３から導出されるイオンビームのビーム電流密度が所定の照射要求密度になるように調節した状態において、空芯励磁電流路６の磁石電流を変化させることにより磁場強度を変化させ、磁場強度の変化時における出口部３から導出されるイオンビームのビーム電流密度を測定し、測定したビーム電流密度の分布から所望イオン種の密度ピーク位置を計測し、計測した密度ピーク位置から基準磁石電流を計算して、磁石電流を設定する。 （もっと読む）

イオン弁（120）と質量分析器（26）との間に配置されるディスパージョンシステム（140）を含むイオン注入システムが設けられる。このディスパージョンシステムは、イオン源から質量分析器に引き出されたイオンビームを選択的に通過させ、または分散されたイオンビームを前記質量分析器に向けて指向させるように作動し、分散されたイオンビームが、引き出されたイオンビームよりも不要な質量範囲のイオンを少なくする。
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本発明は、荷電粒子ビーム（６３）に作用するビーム光学部品（１；２０１）であって、第１の開口部（９；２０９）を備えていて、前記荷電粒子ビーム（６３）に作用する第１の要素（３；２０３）と、前記荷電粒子ビーム（６３）に作用する少なくとも第２の要素（５；２０５）と、前記第１の要素（３；２０３）と前記少なくとも第２の要素（５；２０５）との間に位置決めされていて、前記第１の要素（３；２０３）と前記少なくとも第２の要素（５；２０５）との間に最小距離をもたらす少なくとも１つのディスタンスピース（２０ａ，２０ｂ，２０ｃ）と、前記第１の要素（３；２０３）を前記少なくとも第２の要素（５；２０５）に当接させる第１の保持片（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ）とを有し、前記第１の保持片（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ）は、前記少なくとも１つのディスタンスピース（２０ａ，２０ｂ，２０ｃ）に取り付けられている、ビーム光学部品（１；２０１）に関する。第１及び第２の要素（３；２０３；５；２０５）は好ましくは、静電力又は磁力により荷電粒子ビームに作用する電極又は磁極片である。第１の保持片（３０ａ，３０ｂ，３０ｃ）が少なくとも１つのディスタンスピースに取り付けられた状態で、第１及び第２の要素（３，５）に加わる機械的変形力を減少させ、それにより、それぞれのビーム光学部品（１；２０１）の性能を向上させる。 （もっと読む）