【課題】電気的絶縁性を保持しつつ、高い真空度で配管などを接続可能な真空接続装置を提供する。
【解決手段】対向するフランジ３、４は、これらの間に絶縁スペーサ１２を挟み、ボルト９とナット１０で締結することにより真空シールされる。座金７は絶縁性の樹脂からなり、ボルト９は絶縁性の樹脂１１で被覆されている。フランジ３、４の各対向面には、エッジ１３、１４が設けられており、エッジ１３、１４からフランジ３、４の各外周部に向かってテーパ部１５、１６が形成されている。テーパ部１５、１６によって挟まれた空間には、樹脂ガスケット５が介装されている。樹脂ガスケット５は、エッジ１３、１４より外周部側の空間内に留まっているようにする。樹脂ガスケット５は、テフロン（登録商標）からなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】活性種の生成量を多くしてアパーチャの側面のクリーニングを可能にしつつチャンバ内の圧力の上昇を抑える。
【解決手段】クリーニングユニット２００は、第１個数よりも少ない第２個数の放出孔を有する放出孔プレート２０２を含む容器２０３と、前記容器の中で活性種を発生する活性種源と、前記容器を移動させる駆動機構２２０とを含み、前記チャンバ１１５の中に配置された前記容器の内部空間の圧力と前記容器の外部空間の圧力との差によって前記活性種が前記第２個数の放出孔から放出され、前記駆動機構は、前記第１個数よりも少ない前記第２個数の放出孔から放出される活性種によって前記第１個数のアパーチャのすべてがクリーニングされるように、前記電子光学系に前記放出孔プレートが対面した状態で前記容器を移動させる。 （もっと読む）

【課題】複数の荷電粒子線を屈折させる正確さ及びサイズの小ささの両立に有利な静電レンズアレイ。
【解決手段】第１電極板及び第２電極板のそれぞれは、荷電粒子線を通過させる３つ以上の開口をそれぞれ含んで開口どうしが互いに整列している複数の開口サブセット領域を含み、絶縁性スペーサは、第１電極板及び第２電極板における複数の開口サブセット領域にそれぞれ対応し、且つ、対応する開口サブセット領域の外形より大きい外形をそれぞれ有する複数の貫通孔を含み、絶縁性スペーサは、第１電極板における複数の開口サブセット領域の間の領域において第１電極板と接触し、第２電極板における複数の開口サブセット領域の間の領域において第２電極板に接触し、且つ、複数の貫通孔のそれぞれが第１電極板及び第２電極板における対応する開口サブセット領域に整列するように、第１電極板と第２電極板との間に配置されている、ことを特徴とする静電レンズアレイ。 （もっと読む）

【課題】電子銃の電極の交換に要する時間を短縮するために有利な技術を提供する。
【解決手段】電子銃から放射される電子ビームによって基板にパターンを描画する電子ビーム描画装置は、前記電子銃を構成する電極の予備としての予備電極を調整するための調整チャンバーと、前記電子銃から使用済みの電極を取り外して、前記調整チャンバーの中で調整された予備電極を前記電子銃に組み込む駆動機構と、を備え、前記予備電極の調整は、前記予備電極に電力を供給することを含む。 （もっと読む）

【課題】スループットの維持を図りつつＤＡＣアンプが異常（故障）として検出される前にショットの変化を確実に検出していくことで、ＤＡＣアンプの異常（故障）を事前に予測可能とするＤＡＣアンプの評価方法及び荷電粒子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】ＤＡＣアンプ３４，３５から出力されるアナログ電圧信号を受信し、加算するステップと、加算の結果生成される加算信号をデジタル加算信号に変換するステップと、デジタル加算信号を基にエラーを検出するステップと、を備え、エラー検出ステップでは、電子ビーム照射の整定待ち時間を整定時間よりも短く設定することで荷電粒子ビームのショット時におけるＤＡＣアンプ３４，３５の電圧値が予め設定される閾値外となることをエラーと定義する。 （もっと読む）

【課題】マルチビームを用いた荷電粒子線装置においてビーム間の結像誤差を補正する簡便な方法を実現する。
【解決手段】複数の一次電子ビームレットの焦点を形成する粒子光学部品６０５に於いて、第１の多孔プレート６１３と第２の多孔プレート６１４の複数の対応する開孔が互いに整列配置されており、第１の開孔６１５の位置における第１の幅Ｗ１を第２の開孔６１５’の位置における第２の幅Ｗ２よりも少なくとも５％大きく形成する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線をブランキングする機能の維持に有利な描画装置を提供する。
【解決手段】この荷電粒子線描画装置１は、複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置である。ここで、荷電粒子線描画装置１は、複数の荷電粒子線をそれぞれブランキングするための複数の偏向器を含むブランキング偏向器アレイを少なくとも２段（ブランキング偏向器アレイ１４、１９）備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、磁場レンズ内における電場レンズを構成する中間電極の長さ及び配置を工夫したり、電場レンズの中間電極の内部の中央に絞りを設け、電場レンズ内部でイオンガスの蓄積を阻止させるようにしたので、描画材料の描画フィールドのパターンを描画する時に発生する電子ビームの位置ずれ防止することができる。
【解決手段】電子ビームの描画材料上への集束状態を変化させるための電場レンズであって、電子ビームが内部を通過する円筒型の中間電極と、中間電極の上流側に配置される上段電極と、中間電極の下流側に配置される下段電極とから構成される電場レンズとを備えた電子ビーム描画装置において、磁場レンズが形成する磁場の中心に合わせて中間電極が配置され、且つ中間電極は、少なくとも一つの端部が、磁場レンズが形成する磁場と端部位置に形成される電位の壁とによりイオントラップが形成されない位置に来るように設けた。 （もっと読む）

【目的】より簡易に寸法変動補正を行うことが可能な装置を提供する。
【構成】描画装置１００は、パターンを構成する図形毎の座標とｘ，ｙ方向サイズと補正方向とが定義された図形データが示す補正方向についての当該図形の線幅寸法を演算する幅寸法演算部６２と、図形が配置されるメッシュ領域のパターン密度を演算するパターン密度算出部６０と、線幅寸法とパターン密度をパラメータとして用いて幅寸法を補正するドーズ補正係数を演算するドーズ補正係数算出部６４と、図形を描画するための第１の照射量に補正係数を乗じた第２の照射量を演算する照射量補正部７０と、第２の照射量で試料に図形を描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】レジストを残す部分をパターンとするパターン形成を行なう場合でも寸法誤差を低減させる描画装置を提供すると共に、その装置を用いた描画方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、電子ビーム２００を照射する電子銃２０１と、電子ビーム２００を遮断する領域の両側に透過する領域を有する第１の成形アパーチャ部材２０３と、第１の成形アパーチャ部材２０３を透過した電子ビーム２００を偏向する成形偏向部２０５と、偏向された電子ビーム２００を遮断する領域の両側に透過する領域を有する第２の成形アパーチャ部材２０６と、第２の成形アパーチャ部材２０６を透過した電子ビーム２００が照射される試料１０１を載置するＸＹステージ１０５と、を備えたことを特徴する。本発明によれば、レジストを残す部分をパターンとする場合でも寸法誤差を低減させることができる。 （もっと読む）