【課題】広い温度範囲においてアドレス放電遅れ時間を短縮して放電応答性を向上させ、休止期間中の壁電荷の減少及び電圧変動の抑制を両立することにより、安定したアドレス放電と高画質なＰＤＰを実現する保護層技術を提供する。
【解決手段】ＰＤＰにおいて、保護層は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を主成分とし、不純物元素としてスカンジウム（Ｓｃ）及びシリコン（Ｓｉ）を含み、ＭｇＯに対するスカンジウム（Ｓｃ）の濃度を５質量ｐｐｍ以上５２５質量ｐｐｍ以下、ＭｇＯに対するシリコン（Ｓｉ）の濃度を５質量ｐｐｍ以上１０００質量ｐｐｍ以下の範囲で制御することにより、広い温度範囲において良好なアドレス放電特性を行うことができ、低コストで高輝度、高コントラストのプラズマディスプレイ装置が得られる。 （もっと読む）

【課題】
パネル内に放電ガスを導入する際に不純物が混入するのを防止し、放電特性の安定したプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】
パネルに接続されたガラス管の一部を加熱真空排気時に冷却することで、パネルから出た不純ガスを冷却したガラス管内に吸着させる。その後、放電ガスを導入し、ガラス管の冷却部分よりもパネルに近い部分を加熱溶融することで、封止切断を行う。これによりパネルから排出された不純ガスが、放電ガスの導入時にパネル内に持ち込まれるのを防止することが出来る。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、従来より長寿命となるエキシマ放電ランプおよび該エキシマ放電ランプの製造方法を提供することにある。
【解決手段】
第１の発明に係るエキシマ放電ランプは、放電空間を介して対向された一対の平板を具備する放電容器と、該一対の平板の外面に設けられた一対の外部電極と、該放電空間に封入された少なくとも希ガス及びハロゲンあるいはハロゲン化物からなる発光ガスと、からなるエキシマ放電ランプにおいて、該放電容器は、密閉された該放電空間が該一対の平板と該一対の平板を連接する側壁とで構成されると共に、該一対の平板と該側壁とがサファイア，ＹＡＧ又は単結晶イットリアからなり、該放電空間を取り囲む該放電容器の内表面に存在する不純物が、少なくともケイ素，炭素，セリウムのいずれかを含む不純物であり、その量が０．６ｎｇ／ｃｍ^２以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子源の製造装置において、大型のポンプを設けることなく真空容器内の排気を短時間で行い、より効率良く電子源を製造する。
【解決手段】基板支持体３上に２枚の電子源基板２ａ、２ｂを載置し、真空容器１で覆って順次電圧印加処理を行う電子源製造装置であって、基板支持体３を降下させ、水平移動させて処理の終了した基板２ｂを排出し、次の基板２ａ上に真空容器１を配置し、再び基板支持体３を上昇させて真空容器１と基板２ａとで閉空間を形成するまで、真空容器１内を低露点ガスにてパージすることにより、真空容器１内への大気の侵入を阻止する。 （もっと読む）

【課題】真空容器の封止後により高い排気性能を発現するようにゲッタを活性化する、画像表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】排気孔５から内部のガスを排気する排気工程において、排気孔５までの排気コンダクタンスがより大きい領域に位置するゲッタから順次局所加熱して活性化する。 （もっと読む）

【課題】パネル内部を均一に清浄化できるＰＤＰ製造方法を提供する。
【解決手段】ベーキング工程では、２つの通気穴（２３，２４）の一方（２４）から第１の排気パス（３３Ａ）と第１の排気パス（３３Ａ）に連通した一方の隙間（３２Ａ）を介して隔壁領域（２１Ａ）に清浄ガスを導入し、第１と第２の基板（１０，２０）の両方又は一方から脱離したガスとともに、隔壁領域（２１Ａ）から前記第２の排気パス（３３Ｂ）に連通した他方の隙間（３２Ｂ）と第２の排気パス（３３Ｂ）を介して２つの通気穴（２３，２４）の他方（２４）から清浄ガスを排気する。これにより、パネル面内に洗浄ガスを均一に導入することができ、パネル特性における面内均一性の高い高品質なＰＤＰの製造を実現できる。 （もっと読む）

【課題】表示基板と背面基板を封止させるのと同様の方向からの荷重のみで給排気アダプタの取り付けを行うことができるガス放電パネルおよびその作製方法を提供する。
【解決手段】ガス放電パネルにおいて、表示基板２０および背面基板３０のうち、給排気アダプタ９が取り付けられる側の基板の基板端部の少なくとも給排気アダプタ９と接する部分が斜めに加工され、給排気アダプタ９が、斜め加工された角度に沿う形に加工される。 （もっと読む）

【課題】一対の基板の間に形成された気密空間内の表示部分に不純物を残留させることのないプラズマディスプレイパネルの製造方法の提供。
【解決手段】背面基板および前面基板を封着した後に、背面基板および前面基板の間に形成された気密空間内に残留する残留ガスを排気行程で気密空間の外に排出する。この排気工程では、背面基板および前面基板が封着温度以下の温度Ｑ１まで昇温された状態で気密空間内に放電ガスを封入する。そのため、背面基板および前面基板は、その気密空間の不純物が高温である温度Ｑ１に晒されているため、気密空間内を漂った状態となり、この状態で、時刻ｔ２〜ｔ３の時間で放電ガスを導入すると、気密空間を漂っていた不純物は基板内部空間の奥の隅に押し込まれる。 （もっと読む）

【課題】
高出力なエキシマ光を放射し得るエキシマランプ、該エキシマランプの製造方法および光源装置を提供する。
【解決手段】
放電用ガスを内部に含んでなる放電容器と、前記放電用ガスに電圧を印加する複数の電極とを有し、前記放電容器内における残留大気の濃度が２５００ｐｐｂ以下であることを特徴とするエキシマランプ、該エキシマランプを製造する方法であって、放電容器内部の残留大気の濃度が、放電用ガス充填後に２５００ｐｐｂ以下の濃度になるように調整したのちに、放電用ガスを充填することを特徴とするエキシマランプの製造方法、および上記エキシマランプと、該エキシマランプを構成する複数の電極に高周波電圧を印加するための電源とを有することを特徴とする光源装置である。 （もっと読む）

【課題】蛍光ランプで使用するランプ用ガラス管の洗浄方法を提供する。
【解決手段】蛍光ランプ、特に背景光で使用するランプ用ガラス管の洗浄方法。洗浄方法は、中性から弱アルカリ性の、好ましくは約７〜約１２の範囲のｐＨ値で、約０°Ｃ〜約９０°Ｃの範囲の洗浄温度で水性洗浄媒体によりガラス管を洗浄するステップを有する。 （もっと読む）