【課題】 ４軸制御の原点復帰動作を駆動軸同士の機械的な姿勢の相互干渉を抑えた状態で可能にする。
【解決手段】 ＸＹθガイドとボールねじ直動機構からなる駆動ユニットを４台備えた４軸アライメントステージにて、各駆動ユニットに仮の原点位置を設定して（Ｓ１）、それを基準に４軸制御による原点復帰動作を行う（Ｓ３）。次いで、全軸同時サーボオフを行い（Ｓ４）、その直後に生じる各駆動ユニットのガイドブロックの移動量を計測し（Ｓ５）記憶させる（Ｓ６）。その後、移動量の計測値を補正量として各駆動ユニットの仮の原点位置を補正し（Ｓ７）、補正後の仮の原点位置を基準とする原点復帰動作と、全軸同時サーボオフ直後の移動量の計測及び記憶と、移動量の計測値を補正量とする仮の原点位置の補正を繰り返し、全軸同時サーボオフ直後の移動量が収束したときの仮の原点位置を、４軸制御による実際の原点復帰動作用の原点位置に設定する。 （もっと読む）

【課題】２つのステージを異なる経路に沿って露光位置と交換位置との間で移動する。
【解決手段】 ウエハステージＷＳＴ１に保持されたウエハの露光が終了した際に、ウエハステージＷＳＴ１が露光位置の−Ｘ側に位置する第１帰還経路に沿ってウエハの交換が行われる第１交換位置へ移動され、かつウエハステージＷＳＴ２に保持されたウエハの露光が終了した際に、ウエハステージＷＳＴ２が露光位置の＋Ｘ側に位置する第２帰還経路に沿ってウエハの交換が行われる第２交換位置へ移動される。これにより、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２にはそれぞれ−Ｘ側及び＋Ｘ側から配線・配管用のケーブルを取り付けることで、それらのケーブルの縺れを防止することができるとともに、その長さを極力短くすることができる。 （もっと読む）

【課題】運動性能の向上した基板ステージ装置を提供する。
【解決手段】 基板ステージ２０は、Ｘ軸方向に関する位置を個別に制御可能であってＹ軸方向に関して互いに分離して配置される第１Ｘテーブル２４ａと第２Ｘテーブル２４ｂとを含み、Ｘ軸方向に沿って移動するＸ粗動ステージ２３ｘと、基板Ｐを保持し、Ｘ粗動ステージ２３ｘに誘導されて少なくともＸ軸方向に沿って移動する微動ステージ３０と、Ｙ軸方向に関して第１Ｘテーブル２４ａと第２Ｘテーブル２４ｂとの間に配置され、微動ステージ３０を下方から支持し、微動ステージ３０と共に少なくともＸ軸方向に沿って移動可能な重量キャンセル装置５０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】電磁石と吸引ターゲットとの間のギャップの大きさの変動による位置決め精度の低下を防止する。
【解決手段】位置決め装置は、第１部材と第２部材との相対位置を制御するように構成され、前記第１部材に固定された電磁石と、前記電磁石によって吸引されるように前記第２部材に固定された吸引ターゲットと、前記電磁石が発生する磁束値を検出する磁束センサと、前記電磁石と前記吸引ターゲットとの間のギャップの大きさに応じて磁束指令値を補正することによって得られた補正磁束指令値と前記磁束センサによって検出された磁束値との偏差に応じて前記電磁石を駆動する駆動部とを備える。 （もっと読む）

【課題】搬送ロボットのθ軸が回転した時の角度誤差を検出することが可能であり、検出した角度誤差からθ軸の角度補正を行う機能を有する基板搬送装置を提供する。
【解決手段】アーム１３を有し基板７を搬送する搬送ロボット２と、基板７を外部に搬送するための開口部８とを備える。搬送ロボット２は、θ軸モータによりアーム１３を回転させ、Ｒ軸モータ１１０によりアーム１３を伸縮させる。開口部８のフレームに、投光器から受光器へセンサ光を投射する検出センサ４、４’を備える。搬送ロボット２が、アーム１３を伸縮して、開口部８を通して基板７を搬送する過程において、基板７が検出センサ４及び検出センサ４’のセンサ光を遮光し始めた時と、検出センサ４及び検出センサ４’がセンサ光の遮光が終了して再び受光し始めた時との、Ｒ軸モータ１１０の回転角度を用いて、θ軸モータの回転角度とアーム１３の回転角度との差である角度誤差αを求める。 （もっと読む）

【課題】物体の位置の測定に有利な技術を提供する。
【解決手段】第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ又は第２ヘッド１１３ａで第１物体に対する第２物体の相対的な位置を測定する第１測定部１１０と、第１物体に対する第２物体の相対的な位置を求める処理を行う処理部と、を有し、処理部は、第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ及び第２ヘッド１１３ａのうち一方のヘッドで以前に検出された回折格子１１１ａ、１１１ｂ上の位置を他方のヘッドの視野の中心に位置決めした状態で一方のヘッドで以前に検出された回折格子上の位置とは別の位置を一方のヘッドで検出する処理を、一方のヘッドが回折格子の全面を検出するまで繰り返して回折格子の変形量を求める第１処理と、回折格子の変形量に基づいて、第１ヘッド１１２ａ、１１２ｃ又は第２ヘッド１１３ａで測定された第１物体に対する第２物体の相対的な位置を補正する第２処理と、を行う。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置において第１のオブジェクトを第２のオブジェクト上にロードする方法を提供すること。
【解決手段】この方法は、ａ）第１のオブジェクトを第２のオブジェクト上にロードすること、ｂ）ある時間量だけ待つこと、ｃ）応力緩和アクションを実施することを含む。第１のオブジェクトは基板とすることができ、第２のオブジェクトは基板テーブルとすることができる。また、第１のオブジェクトは基板テーブルとすることができ、第２のオブジェクトは、基板テーブルを支持するサポート構造とすることができる。 （もっと読む）

【課題】基板毎に外径寸法が変動した場合でも、基板の周辺部における塗布膜を除去する領域の幅寸法を一定にすることができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】表面に塗布膜が形成された基板を回転させた状態で、基板の周辺部の表面にリンス液供給部８０によりリンス液を供給することによって、リンス液を供給した位置の塗布膜を選択的に除去する基板処理方法において、基板を予め基板搬送部Ａ３により搬送する際に、基板搬送部Ａ３に設けられた検出部５により、基板の周辺部の位置を検出し、検出した位置に基づいて、周辺部の表面にリンス液を供給する時のリンス液供給部８０の位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】大型化した装置に対して、メンテナンス時の作業性を向上させる。
【解決手段】リペア対象板が載置されるワークテーブルと、当該ワークテーブルの両側に配置されたガイドレールと、当該各ガイドレールに移動可能に支持されて上記ワークテーブル上に架け渡される門型ステージと、当該門型ステージに上記ガイドレールと直交する方向にスライド可能に支持されて上記ワークテーブル上の上記リペア対象板をリペアするリペアユニットとを備えたリペア装置のメンテナンス機構である。このメンテナンス機構を、上記各ガイドレールにそれぞれ嵌合する足台と、当該各足台に載置されて上記ワークテーブル上に架け渡される天板とから構成した。 （もっと読む）

【課題】コイルユニットの収容部に生じる温度分布を抑制できるモータ装置を提供する。
【解決手段】固定子１１と可動子１２との一方にコイルユニットＣＵが設けられ、固定子と可動子との他方に発磁ユニット１３，１５が設けられる。収容部材３１に囲まれた収容空間３２にコイルユニットを収容する収容部３０と、収容部材の外側に設けられ収容部材との間に気体流動空間４０、４１を形成する空間形成部３５、３６と、気体流動空間に気体を流動させる気体流動装置ＦＬとを備える。 （もっと読む）