【課題】移動体の駆動部で暖められた気体の漏れ出しを低減する。
【解決手段】移動体の位置決め装置は、固定子３及び可動子５を有する駆動部と、開口部１１と排気口とを有する筐体７と、前記筐体内の気体を前記排気口から排気する排気部と、制御部とを備える。前記可動子５は、前記移動体２に接続部材１０を介して接続されている。前記筐体７は、前記可動子５の駆動範囲に亙って前記可動子５と前記固定子３とを収容する。前記開口部１１は、前記可動子５の駆動に伴う前記接続部材１０の移動を許容する。前記排気口は、前記駆動範囲の第１端部Ｅａ及び第２端部Ｅｂにそれぞれ配置された端部排気口８ａ、８ｂを含む。前記制御部は、前記可動子５が前記駆動範囲の前記第１端部側を前記第１端部Ｅａに向けて駆動されるときに、前記第１端部Ｅａに配置された端部排気口８ａからの排気量を前記可動子５が前記駆動範囲の中央に位置するときよりも増加させる。 （もっと読む）

【課題】基板内に粒子および／または熱で誘導される応力を回避することができ、パターンの転写精度を改善できる基板クランプシステム、及びリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】パターンをパターニングデバイスから基板Ｗに転写するように構成されたリソグラフィ装置で、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板テーブルを基板テーブルサポート構造にクランプするように構成された第一クランプシステム４０，１２８と、基板テーブルが基板テーブルサポート構造にクランプされた後に、基板を基板テーブルにクランプするように構成された第二クランプシステム４０，１２９とを含む。 （もっと読む）

【課題】露光装置の構造部材の振動を抑制する。
【解決手段】 露光装置は、構造部材と、基板ステージの駆動に起因して発生する構造部材に対する駆動反力を相殺する第１カウンタマスステージと、レチクルステージの駆動に起因して発生する構造部材に対する駆動反力を相殺する第２カウンタマスステージと、構造部材と第１カウンタマスステージとの間に力を発生させる第１カウンタマス駆動部と、構造部材と第２カウンタマスステージとの間に力を発生させる第２カウンタマス駆動部と、制御部とを備える。制御部は、構造部材に作用する力の情報を取得し、第１カウンタマス駆動部により構造部材と第１カウンタマスステージとの間に力を発生させると同時に、第２カウンタマス駆動部により構造部材と第２カウンタマスステージとの間に力を発生させることによって構造部材に作用する力を相殺するように第１カウンタマス駆動部及び第２カウンタマス駆動部を制御する。 （もっと読む）

【課題】計測対象面の凹凸に起因する面位置センサの計測誤差の補正データを作成し、該補正データを用いて計測精度が改善される面位置センサを用いて、移動体を高精度に２次元駆動する。
【解決手段】 Ｘ干渉計１２７、Ｙ干渉計１６を用いて位置を監視しながらウエハステージＷＳＴを移動させ、センサ７２ａ〜７２ｄを用いてウエハステージ上面に設けられたＹスケール３９Ｙ_１，３９Ｙ_２のＺ位置を計測する。ここで、例えば、２つの面位置センサ７２ａ，７２ｂの計測結果の差より、Ｙスケール３９Ｙ_２のＹ軸方向の傾きが得られる。Ｙスケール３９Ｙ_１，３９Ｙ_２の全面について傾きを計測することにより、それらの２次元凹凸データが作成される。この凹凸データを用いてセンサの計測結果を補正し、該補正済みの計測結果を用いることにより、高精度にウエハステージを２次元駆動することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内で液浸流体を使用する際の局所的な熱負荷の影響を低減する。
【解決手段】リソグラフィ装置のための支持テーブルであって、支持テーブルは支持セクション及び調節システムを有し、支持セクション、調節システム、又はその両方は、支持テーブル上に支持された基板への又はからの調節システムの動作に由来する熱伝達が、基板の中心にある基板の領域より基板の縁部に隣接する基板の領域で大きくなるように構成される。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームリソグラフィシステム、及びターゲットの荷電粒子ビーム露光のために最適化されたターゲット位置決め装置を使用する動作方法を提供する。
【解決手段】ターゲット３上に荷電粒子ビーム２を投影するための真空チャンバ５０に配置され、荷電粒子ビーム２を偏向方向に偏向させるための偏向手段を有する荷電粒子光学カラム４と、ターゲット３を保持するためのキャリア及び偏向方向とは異なる第１の方向に沿ってキャリアを保持し移動させるためのステージ５２を有するターゲット位置決め装置５と、を具備し、このターゲット位置決め装置５は、荷電粒子光学カラム４に対する第１の方向にステージ５２を移動させるための第１のアクチュエータ５３を有し、キャリアは、ステージ５２に移動可能に配置されており、ターゲット位置決め装置５は、第１の相対位置にステージ５２に対してキャリアを保持するための保持手段を有する。 （もっと読む）

【課題】移動体を所定平面に平行な所定方向に関して高精度に位置制御する。
【解決手段】 制御装置は、ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面に対する傾斜角を計測する干渉計の計測値に基づいて、Ｙスケール３９Ｙ₁，３９Ｙ₂の周期方向に関しＸＹ平面に対してウエハステージＷＳＴを角度α傾斜させ、その傾斜前後のヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃの計測値と角度αの情報とに基づいて、ＸＹ平面内におけるウエハステージＷＳＴの位置制御の基準となる基準面（例えば投影光学系の像面）に対するＹスケール３９Ｙ₁，３９Ｙ₂表面のアッベ外し量を算出し、ヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃによって計測されたＸＹ平面内におけるウエハステージＷＳＴの位置情報と、Ｙスケール３９Ｙ₁，３９Ｙ₂表面のアッベ外し量に起因するウエハステージＷＳＴの傾斜角に応じたヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃの計測誤差とに基づいて、ＸＹ平面に沿ってウエハステージＷＳＴを駆動する。 （もっと読む）

【課題】フットスペースの小型化が図られるとともに、対象物を確実に位置決めすることができる位置決め装置を提供する。
【解決手段】位置決め装置は、位置決め対象物を支持する支持部と、位置決めすべき方向と略平行な方向に沿って延びる軸線を回転中心Ｏとして回動可能に構成されたアーム部１２と、アーム部１２を回動駆動するモータとを備える。モータは、アーム部１２が対象物から退避した退避位置と、アーム部１２が当該対象物の外周縁に接触することで当該対象物を位置決め方向に沿って押し出して位置決めを完了させる位置決め完了位置との間を行き来するように、アーム部１２を回動駆動する。アーム部１２は、アーム部１２が退避位置から位置決め完了位置へ回動する際に、接触した対象物の外周縁がその表面に沿って摺動することで対象物を位置決め方向に沿って押し出すための傾斜面１４ｂを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】ステージの駆動力が失われた場合に、部材同士の衝突事故の発生を回避しつつ、再開作業もスムースに行えるような技術を提供する。
【解決手段】基板移送装置１０は、基台１１と、上面に基板を載置する載置面１２０が形成されたステージ１２と、ステージ１２を基台１１に対して移動させるステージ駆動機構１５と、ステージ１２が、ステージ１２に対する基板Ｗの受け渡しが行われる受け渡し位置Ｑから移動しないように制動する制動部１６とを備える。制動部１６を制御する制動制御部９０１は、例えば、ステージ１２が受け渡し位置Ｑに配置されている状態において、ステージ駆動機構１５への電力の供給が遮断された場合に、制動部１６にステージ１２を支持するベースプレート１５４を制動させる。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置のセンサ誤作動を抑制する。
【解決手段】本発明に係るスパッタリング装置１は、発光端面６５ａと受光端面６６ａとの少なくとも一方を端面として備えた光ファイバ６５・６６がチャンバ２内に配置された光ファイバセンサ６を備え、光ファイバセンサ６の端面は、チャンバ２の底面から所定の高さ位置で、水平方向に対して上向きに配置されている。 （もっと読む）