【課題】基板を検出する検出手段の数を少なくしても、基板の位置ズレを確実に検出可能な基板位置検出方法を提供する。
【解決手段】１つの検出手段５１に対して、基板１５に設定された３つの検出位置Ｅ１〜Ｅ３が順次重なるように基板１５を移動させる（検出工程）。次に、得られた第一検出位置Ｅ１、第二検出位置Ｅ２、および第三検出位置Ｅ３における基板１５の検出タイミング（基板検出信号）と、ロボットハンドの移動量とから、ロボットハンドに対する基板１５の実際の中心位置（検出値）を算出する。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを露光装置から効率的に回収し又分配できる搬送装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】それぞれパターンＰを形成した複数のマスクＭの間に間座２０を配置して、重ねて搬送するので、重ねた時に間座２０によりマスクＭのパターンＰが損傷しないように隙間をあけることができ、コンパクトな状態で搬送を行えると共に、複数のマスクＭを一度で回収でき、且つ一度で分配できるので搬送時間が大幅に短縮され、マスクＭを用いた装置の稼働率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、低背化あるいは小型化することができる接合装置を提供する。
【解決手段】加圧機構１３と、加圧機構１３から加圧力が付与され加圧力の作用方向に複数配置される熱盤部２０と、加圧力の作用方向に隣接する熱盤部２０同士が相互に積み重なることにより当該熱盤部２０間に形成された真空チャンバＣと、を有し、真空チャンバＣ内で貼り合せ用基材Ｔ同士を熱盤部２０により熱圧着させて接合する接合装置１０であって、加圧機構１３は、加圧方向と平行に配置された２本の駆動軸１４と、駆動軸１４を介して熱盤部２０に加圧力を付与する駆動源１６と、を有し、貼り合せ用基材Ｔの接合中心部Ｚが２本の駆動軸１４を結んだ線Ｍ上に位置することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】センタリング動作と旋回動作を同時に行なってガラス基板のアライメント時間を短縮し、また、ガラス基板の損傷を抑制するアライメント装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板を搬送する手段を載置したステージＡと、ステージＡ上に設けられたステージＢの内部に備えられ、ガラス基板を上昇させて支持するガラス基板支持手段と、ガラス基板の一辺を把持する手段と、把持する手段と把持する手段に繋がれガラス基板の前記一辺を押圧する第一のアライメントピンを移動する手段と、前記ガラス基板の一辺と対向する辺を押圧する第二のアライメントピンと、前記第二のアライメントピンを移動する手段と、ガラス基板の一辺を把持した状態でステージＡを水平方向に旋回してガラス基板を所定の方向に旋回する手段と、を備え、且つ、前記ガラス基板を所定の方向に旋回する動作と、センタリングする動作と、を同時に行なうことを特徴とする基板アライメント装置。 （もっと読む）

【課題】ウエハの間に異物が混入することなくウエハを接合することができる生産性が向上されたウエハの接合方法を提供する。
【解決手段】
オリエンテーションフラットとなる側面を二面備えている両主面が円形形状のウエハを接合するウエハの接合方法であって、第一の壁部と第二の壁部貫通孔を供えた平板部ととからなる接合用ジグにオリエンテーションフラットとなる側面が第二の壁部に接触するようにウエハを搭載した状態でエキシマ照射ランプから放射された光をウエハに照射し、平板部の貫通孔から吸引して接合用ジグにウエハを保持した状態で平板部の側面と第一の壁部の側面とが接するように配置しウエハを接触させて接合することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の基板の露光をより効率的に行うことができ、タクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及びそれを用いた露光方法を提供する。
【解決手段】露光ユニット１０は、マスクＭを保持するマスクステージ２１と、基板Ｗ１，Ｗ２をそれぞれ保持する第１及び第２のワークチャック２２，２３を備える基板ステージ２４と、第１及び第２のワークチャック２２，２３に保持された基板Ｗ１，Ｗ２がマスクＭと対向するように、第１及び第２のワークチャック２２，２３を同期して移動可能なステージ移動機構２５と、マスクＭを介して基板Ｗ１，Ｗ２に露光光を照射する照明光学系と、を備える露光装置１１と、基板Ｗ１、Ｗ２をそれぞれ保持し、且つ、第１及び第２のワークチャック２２，２３に対して基板Ｗ１，Ｗ２を搬入及び搬出可能な第１及び第２の搬送装置１２，１３と、基板Ｗ１，Ｗ２の搬入及び搬出動作が同期して行われるように第１及び第２の搬送装置１２，１３を制御する制御部２０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】例えば、リソグラフィ装置の基板テーブルの制御を更に改善する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、投影系、基板テーブル、複数のセンサ、少なくとも１つのアクチュエータ、及びコントローラを備える。投影系は、パターンが与えられた放射ビームを基板に投影するためにある。基板テーブルは、基板を支持し、投影系に対し移動するよう構成されている。複数のセンサは、基板テーブルの変形を測定するよう構成されている。少なくとも１つのアクチュエータは、基板テーブルを変形させるよう構成されている。コントローラは、センサにより行われた測定に基づいて基板テーブルを変形させるように、アクチュエータを制御するよう構成されている。複数のセンサは、投影系に対向する基板テーブルの第２の片側とは反対の基板テーブルの第１の片側に配置されている。複数のセンサは、投影系に対し実質的に静止している。 （もっと読む）

【課題】小型かつ簡単な構成で、ステージを水平方向に移動または垂直軸回りに回転させることが可能なステージ装置を提供する。
【解決手段】ベース２と、ベース２にエアベアリング６１を介して設けられたステージ３とを具備するステージ装置１であって、ベース２およびステージ３の対向面のいずれか一方に、対向面と平行な第１の移動方向に沿って複数の第１の一次側磁束発生部４ａが互いに平行に設けられ、第１の移動方向と直交し、かつ、対向面と平行な第２の移動方向に沿って第２の一次側磁束発生部４ｂが設けられ、対向面の他方に、第１および第２の一次側磁束発生部４ａ、４ｂに各々対向するようにして第１および第２の二次側磁束発生部５ａ、５ｂが設けられ、第１および第２の一次側磁束発生部４ａ、４ａ、並びに、第１および第２の二次側磁束発生部５ａ、５ｂの各磁極面を前記対向面と略平行に形成した。 （もっと読む）

【課題】搬送中に、位置合わせされた基板と基板との相対位置がずれるといった課題がある。
【解決手段】基板貼り合せ方法は、仮接合部において、複数の基板を重ね合わせて複数の対向面および側面の少なくとも一方の一部を仮接合部材によって接合する仮接合段階と、前記仮接合段階で仮接合された前記複数の基板を、本接合部へ搬送する搬送段階と、前記本接合部において、前記仮接合段階で仮接合された前記複数の基板を本接合部材によって本接合する本接合段階とを備える。 （もっと読む）

【課題】従来の干渉計に比べて高精度な移動体の位置情報の計測を可能にする。
【解決手段】露光装置は、基板を保持して、ＸＹ平面内で移動し、ＸＹ平面に交差する反射面１３４を有するステージＷＳＴと、計測装置２０Ｙ’とを備えている。計測装置は、ステージＷＳＴの上方に配置され反射面１３４を介して入射した光ビームを回折させて反射面１３４に戻す固定スケール１３５と、反射面１３４に戻された光ビームを検出する検出部（１２４Ａ、１２４Ｂ、１２６、２８）と、を有する。計測装置は、固定スケール１３５からの戻りビームを、再度反射面１３４を経由させることで得られる前記光ビームの複数の回折ビームの干渉光を前記検出部で検出することで、ステージＷＳＴのＹ軸方向の位置を計測する。 （もっと読む）