【課題】基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成した状態で露光できる基板ステージを提供する。
【解決手段】基板ステージは、被露光対象としての基板を保持して移動可能である。基板ステージは、第１周壁と、第１周壁の内側に形成された第２周壁と、第２周壁の内側に形成された支持部とを備え、第２周壁に囲まれた空間を負圧にすることによって、支持部に基板を保持する。 （もっと読む）

【課題】帯状シートが巻回されかつデータキャリアが設けられた軸芯部材を支持軸で支持する際に、データキャリアに対するデータの通信を適切に行うための正確な位置合わせが不要な帯状シートの支持装置および支持方法を提供すること。
【解決手段】支持装置２は、筒状部材２５１における中空部の一端側から挿入されることで当該筒状部材２５１を支持する支持軸２２１と、支持軸２２１を支えるフレーム２１とを備え、筒状部材２５１の内側には、所定のデータの記憶と送信のうち少なくとも一方が可能なデータキャリアを取付可能な中間壁２５２が設けられ、支持軸２２１の先端面には、中間壁２５２に対向するとともに、当該データキャリアと通信が可能なループアンテナ２４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板全体面を均一に処理できる基板支持ユニット及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】本発明による基板支持ユニットは、基板が置かれる支持プレートと、前記支持プレート内に位置し、前記支持プレートを加熱部材と、を含む。前記加熱部材は前記支持プレートの第１領域に提供された複数個の第１熱線と、前記第１領域と異なる前記支持プレートの第２領域に提供された複数個の第２熱線と、を含む。前記第１熱線は直列と並列うち一方の方式で連結され、前記第２熱線は直列と並列のうち他方の方式で連結される。 （もっと読む）

【課題】帯状シートが巻回されかつデータキャリアが設けられた軸芯部材を支持軸で支持する際に、データキャリアに対するデータの通信を適切に行うための正確な位置合わせが不要な帯状シートの支持装置および支持方法を提供すること。
【解決手段】支持装置２は、軸芯部材２４の中空部に挿入可能な支持軸２２１と、支持軸２２１を支えるフレーム２１とを備え、軸芯部材２４には、所定のデータの記憶と送信のうち少なくとも一方が可能なデータキャリア２６が設けられ、フレーム２１には、支持軸２２１の軸線Ｃと直交するアンテナ面２７３が設けられ、アンテナ面２７３には、軸線Ｃを囲むループ状に巻かれた線状の導電体からなるループアンテナ２７４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】高温処理においても、サセプタ変形を抑制することができる基板処理技術を提供する。
【解決手段】基板が載置された載置体と、前記載置体が複数支持された載置体支持具と、前記載置体支持具が収容される反応管と、前記反応管の外側に設けられ、前記反応管内に収容された基板を加熱する加熱部とを備え、前記載置体の、前記基板と接触する面と前記載置体支持具と接触する面が、同じ粗さに表面加工されるように基板処理装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、載置する試料を一定の温度に維持する要求に応える載置用部材を提供するものである。
【解決手段】
本発明の一形態に係る載置用部材１は、流路６を有する載置用部材１において、一主面に試料２が載置され、他主面に流路６の内壁を構成する溝部８を有するセラミックスからなる第１基板３と、一主面が該第１基板３の他主面に接続されたセラミックスからなる第２基板４と、第１基板３と第２基板４との間に介在した、第１基板３よりも熱伝導率の低いガラスからなる接合層５とを備え、第２基板４の一主面は、第１基板３の他主面に接合層５を介して接続された第１領域９と、流路６の内壁を構成する第２領域１０とを有し、該第２領域１０は、前記第１領域９と同一平面をなす。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージにおいて石英ガラスからなる当設部材が割れるのを防止する。
【解決手段】ウエハＷを支持する支持ユニット２をウエハＷの外周円上に配置したウエハステージであって、各支持ユニット２は、ウエハＷの外周縁に接するセラミック質の当接部材３と、当接部材３が装着される金属製のベース部と、当接部材３をベース部に固定する固定具とを備える。ベース部には挿入孔４０が形成され、当接部材３には挿入孔４０に向かって上下に貫通する係合孔３０が形成され、固定具は挿入孔４０に嵌合する上下に延びる軸部５４と係合孔３０に係合する係合頭部５３とが一体に形成されたピン５を備え、ピン５が永久磁石の磁力によって下方に向かって付勢されていることで当接部材を固定している。 （もっと読む）

【課題】 プロセス条件で与えられるストレス以上に大きなストレスを薄膜に与えることが可能なプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】 処理容器１と、処理容器１内に設けられた、被処理基板Ｗが載置される基板載置台３と、処理容器１内に、ガスを供給するガス導入部２７と、を具備し、基板載置台３の、被処理基板Ｗが載置される基板載置面３ａが窪み３ｂを有し、窪み３ｂの直径を２００ｍｍとしたとき、最深部の深さを１ｍｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ保持具からウェーハを取り外す際にウェーハが破損されることがなく、特性試験の実施コストが低く、高温における特性試験を可能とし、ウェーハ面に垂直に力が働いても保持具からウェーハが外れたり破損したりすることがなく、ウェーハを容易に特性試験の実施装置の載荷ステージ面に平坦に装着させることが可能であるウェーハ保持具を提供する。
【解決手段】リング状に周辺部を残し中空部が設けられた保持フレーム１０の中空部をふさぐように金属シート１２がこの保持フレーム１０に固定され、この金属シート１２には、複数の細かな孔が開けられた穿孔領域１４が形成されている。この穿孔領域１４の一部または全部を覆うようにウェーハ３０を配置させることが可能とされていて、金属シート１２上に配置されたウェーハ３０をこの金属シート１２に対して動かないように固定する耐熱性素材で形成されたウェーハ固定機構２０を備えている。 （もっと読む）

【課題】 常温のみならず高温においても体積抵抗率を高い値に維持することができる窒化アルミニウム焼結体、及び該窒化アルミニウム焼結体を少なくとも部分的に用いた半導体製造装置用又は検査装置用のウエハ保持体を提供する。
【解決手段】 カーボンナノチューブを内部に含んだ窒化アルミニウム粒子からなる窒化アルミニウム焼結体であって、その常温及び５００℃における体積抵抗率がそれぞれ１.０×１０^１３Ω・ｃｍ以上及び１.０×１０^８Ω・ｃｍ以上である。 （もっと読む）