【課題】直流電源配線に電流が流れたか否かを検出可能な回路を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置において、駆動回路ＢＬＤＵ，ＢＬＤＤ，ＢＬＢＤＵ，ＢＬＢＤＤは、電流磁界またはスピン注入によってトンネル磁気抵抗素子ＴＭＲ，ＴＭＲＢを第１の磁化状態に初期設定するために、制御信号線ＢＬ，ＢＬＢに直流電流を流す。電源配線ＤＬは、トンネル磁気抵抗素子ＴＭＲ，ＴＭＲＢに近接して設けられる。ここで、トンネル磁気抵抗素子ＴＭＲ，ＴＭＲＢは、電源配線ＤＬに直流電流が流れるときに生じる電流磁界によって第２の磁化状態に変化する。センスアンプ１０は、トンネル磁気抵抗素子ＴＭＲ，ＴＭＲＢが第１の磁化状態から第２の磁化状態に変化したか否かを判定するために、制御信号線ＢＬ，ＢＬＢを介してトンネル磁気抵抗素子ＴＭＲ，ＴＭＲＢに流れる電流を検出する。 （もっと読む）

【課題】ＩＧＢＴ終端部でのリカバリ破壊を防ぎ、ダイオードのスナップバックを抑制することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】Ｎ−型のドリフト層３０の上に形成されたＰ型のチャネル層３１を含む半導体基板３２のうちチャネル層３１側の一面３３とは反対側の他面３４側に、Ｐ＋＋型のコレクタ層５３とＮ＋＋型のカソード層５４とが同じ階層に形成されている。そして、Ｐ＋＋型のコレクタ層５３がトレンチ３５の延設方向における表面ＩＧＢＴ専用領域１０および表面ダイオード専用領域２０の周辺部２５にそれぞれ設けられていることによりＮ＋＋型のカソード層５４は四角形状にレイアウトされている。また、Ｐ＋＋型のコレクタ層５３がエミッタ領域３９の終端部３９ａから距離ａを半径とする円形状に設けられていることにより当該四角形状の角部が窪んだ形状にレイアウトされている。 （もっと読む）

【課題】スパイラルインダクタを有する半導体装置における寄生容量の低減と、Ｑ値の低下を抑制すること。
【解決手段】半導体基板と、前記半導体基板の表面近傍に設けられた複数個の素子分離領域と、前記素子分離領域間の半導体基板上に設けられた能動素子部と、基板上に積層された複数の配線層と、前記素子分離領域のうち第１の素子分離領域の鉛直上方であって、かつ、前記配線層のうち少なくとも最上の配線層に設けられたスパイラルインダクタとを備え、前記スパイラルインダクタが形成されたインダクタ形成領域の鉛直下方であって、かつ、前記第１の素子分離領域の半導体基板表面上にシリサイド形成防止膜が形成されていることを特徴とする半導体装置。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路装置において、Ｉ／Ｏセルの高さを低減すると同時に幅の増大を防ぐことでＩ／Ｏセルの占める領域の面積を削減すること。
【解決手段】レベルシフタ回路、Ｉ／Ｏロジック回路およびＩ／Ｏバッファ回路を含むＩ／Ｏセルがコア領域の周囲に配置された半導体集積回路装置であって、Ｉ／Ｏロジック回路が配置されたＩ／Ｏロジック領域、および、Ｉ／Ｏバッファ回路が配置されたＩ／Ｏバッファ領域は、Ｉ／Ｏセルに対するパッドが配置された領域と重なり合うとともに、コア領域の辺に平行な方向に互いに並んで配置されている。 （もっと読む）

【課題】部分的な経年劣化の予兆を早期に発見することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】ＬＳＩ１は、複数のモジュールと、複数の遅延モニタを含む遅延モニタ群１５とを備える。各遅延モニタは、複数段のゲート素子を有するリングオシレータを含む。各遅延モニタは、ゲート素子の遅延時間を測定する。ＣＰＵ＃０は、遅延モニタによって測定された遅延時間に基づいて、遅延モニタの近傍のモジュールの経年劣化を判定する。 （もっと読む）

【課題】低損失で差動信号を伝送することができるリドライバＩＣ、半導体装置、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本実施の形態に係る半導体装置は、差動信号が伝送される差動配線が形成された配線基板１０と、配線基板１０に搭載され、外部機器に対して差動信号を送受信するコネクタ１１と、配線基板１０に搭載され、コネクタ１１から受信した差動信号を中継する受信系のリドライバＩＣ２１と、受信系のリドライバＩＣ２１と離間した位置において配線基板１０に搭載され、コネクタ１１に送信する差動信号を中継する送信系のリドライバＩＣ２０と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】不具合の発生が抑制された半導体集積回路を提供する。
【解決手段】電圧レベルの高いＨｉ信号、及び、該Ｈｉ信号よりも電圧レベルの低いＬｏ信号が異なるタイミングで入力される第１入力端子と、Ｈｉ信号が常時入力される第２入力端子と、第１入力端子のＨｉ信号によって第１動作状態、第１入力端子のＬｏ信号によって第２動作状態に制御される素子と、を有する半導体集積回路であって、第２入力端子とグランドとの間にスイッチング素子が設けられており、該スイッチング素子は、第１入力端子にＨｉ信号が入力されている時にＯＦＦ状態、第１入力端子にＬｏ信号が入力されている時にＯＮ状態となる。 （もっと読む）

【課題】給電ユニット（エナジーハーベスティングデバイス）に改変を加えること無く、不安定な給電電圧、特に、低い給電電圧ででも正常に動作する、回路ユニットを含む集積回路を提供する。
【解決手段】本発明に係る集積回路は、外部電源に接続された第１の電源リングで囲まれた第１の回路ブロックと、第１の電源リングを介して前記外部電源に接続された第２の電源リングで囲まれた第２の回路ブロックとを含み、第１の回路ブロック内の半分以上が同期回路で構成され、第２の回路ブロック内の半分以上が非同期回路で構成されている。 （もっと読む）

【課題】固相拡散接合により、プロセス温度が低温化され、プロセス時間が短縮化され、かつフリップチップ構造の半導体装置提供する。
【解決手段】絶縁基板８と、絶縁基板８上に配置された信号配線電極１２と、絶縁基板８上に若しくは絶縁基板８を貫通して配置されたパワー配線電極１６と、絶縁基板８上にフリップチップに配置され、半導体基板２６と、半導体基板２６の表面上に配置されたソースパッド電極ＳＰおよびゲートパッド電極ＧＰと、半導体基板２６の裏面上に配置されたドレインパッド電極３６とを有する半導体デバイス１０と、ゲートパッド電極ＧＰ上に配置されたゲートコネクタ１８と、ソースパッド電極ＳＰ上に配置されたソースコネクタ２０とを備え、ゲートコネクタ１８とゲートパッド電極ＧＰおよび信号配線電極１２、ソースコネクタ２０とソースパッド電極ＳＰおよびパワー配線電極１６は、固相拡散接合される半導体装置１。 （もっと読む）

【課題】ホールド電圧が高いエミッタ・ベース短絡型の保護素子が設けられた半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置１は、基板１０と、前記基板上に形成された第１導電形の半導体層１１と、前記基板と前記半導体層との間に形成された第１導電形の埋込層１３と、前記半導体層上に形成された第２導電形のウェル１４と、前記半導体層上であって、前記ウェルから離隔し、前記埋込層の直上域に形成された第１導電形の第１コンタクト層１５と、前記ウェル上に形成された第２導電形の第２コンタクト層１６と、前記ウェル上であって、前記第１コンタクト層と前記第２コンタクト層との間に形成された第１導電形の第３コンタクト層１７と、前記埋込層と前記第１コンタクト層との間に形成され、前記第１コンタクト層に接した第１導電形のディープ層１８と、を備える。 （もっと読む）