【課題】周波数の切換が可能な動作クロックを生成する動作クロック生成装置、及び、その動作クロック生成装置が生成する動作クロックによって動作する回路を複数備えた処理装置において、グリッジによって余分な動作クロックが出力されるのを抑制すること。
【解決手段】カウンタ７は、カウンタ値が所定数に設定された後、基準クロックＰＳ０を１つ計数する毎に１つカウンタ値を減算し、カウンタ値が「０」になると、ｃａｒｒｙ端子７ｄからＨレベルのキャリー信号Ｃ−ＳＥＬ（基準クロックＰＳ０の１周期分）を出力する共に、前記カウンタ値を前記所定数にリセットする。また、前記所定数は、カウンタ７のｖａｌ＿ｍａｘ端子７ｃに切換値が入力されると、その値に変更される。クロックゲーティングセル９は、キャリー信号Ｃ−ＳＥＬがＨレベルのときに立ち上がった基準クロックＰＳ０のみを、動作クロックＢＣＬＫとして出力する。 （もっと読む）

【課題】回路面積の増大を抑え、回路ブロックに電源供給するための複数の電源スイッチをオンするための時間間隔を適切に制御できるようにする。
【解決手段】回路ブロックに対する電源供給を管理する電源管理ユニット１１と、回路ブロックＡ１２への電源供給を制御する複数の電源スイッチＰＳＷＡと、回路ブロックＡに供給する電源で動作し、その電位に応じた遅延を生成する遅延生成器１３とを備え、電源スイッチは、電源供給を行うためにオン状態に制御されるときに、電源管理ユニット及び遅延生成器１３の出力に基づいて回路ブロックＡに供給される電源電位に応じた時間間隔で順次オン状態にするようにして、電源スイッチをオンするための時間間隔を回路ブロックＡに供給される電源電位に応じて自動的に調整して電源供給を行う。 （もっと読む）

【課題】ＶＭ電位のｄｖ／ｄｔに起因する上アーム電力用スイッチング素子の誤動作を抑制できるレベルシフト回路並びにこれを備えたインバータ装置を提供する。
【解決手段】支持体Ｓｉ基板上にＢＯＸ酸化膜を介しＮ型Ｓｉ活性層を形成したＳＯＩ基板により構成し、分離酸化膜により分離されＮ型ＭＯＳＦＥＴを形成する第１のＮ型Ｓｉ活性層、分離酸化膜により分離されＰ型拡散層による拡散抵抗を形成する第２のＮ型Ｓｉ活性層、分離酸化膜により分離され上アーム制御電源の一端側に接続する第４のＮ型Ｓｉ活性層から構成され、第１のＮ型Ｓｉ活性層を形成する分離酸化膜と第４のＮ型Ｓｉ活性層を形成する分離酸化膜は、隣接配置されるとともに、Ｎ型ＭＯＳＦＥＴのドレイン電極と拡散抵抗の第一の電極を接続し、拡散抵抗の第２の電極を上アーム制御電源の他端側に接続した。 （もっと読む）

【課題】本発明の実施形態は、高周波スイッチ回路の高周波特性の良否を簡便に判定することができる半導体装置およびその検査方法を提供する。
【解決手段】実施形態に係る半導体装置は、複数の高周波端子と、共通高周波端子と、の間の信号経路を、前記高周波端子と前記共通高周波端子との間に直列に設けられた複数のＦＥＴにより切り替える高周波スイッチ回路を有する半導体装置であって、前記共通高周波端子に接続された複数のＦＥＴを含む半導体スイッチと、前記半導体スイッチを介して前記共通高周波端子に接続された発振回路と、前記発振回路の出力を入力とする検波回路と、前記検波回路の出力端子と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マルチプレクサとクロック分割回路との間における相互の電源ノイズの影響を低減する。
【解決手段】外部クロック信号ＣＫに基づいて内部クロック信号ＬＣＬＫ１を生成するＤＬＬ回路１００と、内部クロック信号ＬＣＬＫ１に基づいて、互いに位相の異なる内部クロック信号ＬＣＬＫ２，ＬＣＬＫ２Ｂを生成するクロック分割回路２００と、内部データ信号ＣＤ，ＣＥに基づいて、クロック信号ＬＣＬＫ２，ＬＣＬＫ２Ｂにそれぞれ同期した内部データ信号ＤＱＰ，ＤＱＮを出力するマルチプレクサ３００とを備える。クロック分割回路２００に供給される内部電源電圧ＶＰＥＲＩ２とマルチプレクサ３００に供給される内部電源電圧ＶＰＥＲＩ３は、互いに異なる電源回路８２，８３によって生成され、且つ、該半導体装置内で分離されている。これにより、相互にノイズの影響を及ぼし合うことがなくなる。 （もっと読む）

【課題】チップ面積を増大させることなく突入電流の発生を抑制することができる電源スイッチ回路を提供することである。
【解決手段】本発明にかかる電源スイッチ回路は、第１の電源線２１と第２の電源線２２との間に接続され、第１の電源線２１と第２の電源線２２との接続および非接続を第１のイネーブル信号４に応じて切り替える第１のスイッチ素子１と、第１の電源線２１と第２の電源線２２との間に接続され、第１の電源線２１と第２の電源線２２との接続および非接続を切り替える第２のスイッチ素子２と、第２の電源線２２から電源が供給される論理ゲートを少なくとも１つ備え、第２のスイッチ素子２を制御するスイッチ制御回路３と、を有する。スイッチ制御回路３は、スイッチ制御回路３に供給される第２のイネーブル信号５及び第２の電源線２２の電圧に基づいて第２のスイッチ素子２を制御する。 （もっと読む）

【課題】電源分離領域内の配線密度を低下させる。
【解決手段】動作モードに応じて電源電圧が供給される電源線ＶＶＤＤと、常に電源電圧が供給される電源線ＶＤＤと、通常モードで電源線ＶＶＤＤを電源線ＶＤＤに接続するか、またはスリープモードで電源線ＶＶＤＤを接地電位とするか、を切り替える電源切替回路（１０４、１１１、１１０が相当）と、電源線ＶＶＤＤから電源供給されスリープモードでは動作を停止する第１回路ブロック１０１と、電源線ＶＤＤからの電源供給によって常に動作可能とする第２回路ブロック１０３と、電源線ＶＶＤＤの電位が接地電位近傍にあるか否かにそれぞれ応じて、第２回路ブロック１０３の入力端をハイレベルにするか、第１回路ブロック１０１の出力信号を第２回路ブロック１０３に伝達可能とするか、を制御する入力制御回路（１１４、１１８が相当）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】低電源電圧状態で、ビットラインプリチャージ電圧又はセルプレート電圧を安定的に駆動し、待機電流ＩＤＤ２Ｐ及び動作電流を最小化すること。
【解決手段】電源電圧のハーフレベルの基準電圧を利用し、異なるレベルのバイアス信号を生成するバイアス信号生成手段と、出力端の電圧レベルに応答してプルダウン駆動信号を生成する駆動信号生成手段と、駆動信号に応答して出力端を駆動する電圧駆動手段と、出力端の電圧レベルに応じてプルアップ駆動信号／プルダウン駆動信号を生成する駆動信号生成手段と、前記プルアップ駆動信号／プルダウン駆動信号に応答して前記出力端をプルアップ駆動／プルダウン駆動するプルアップＰＭＯＳトランジスタ／プルダウンＮＭＯＳトランジスタと、第１多重化手段と、第２多重化手段とを備える半導体メモリ素子の電圧発生装置。 （もっと読む）

【課題】製造プロセス条件の変動に関わらず短い電源立ち上げ時間を確保することが可能な半導体集積回路を提供する。
【解決手段】半導体集積回路は、第１の電源線と第２の電源線との間に並列に配置された複数の電源スイッチと、複数の電源スイッチを設定時間間隔で順次導通させる駆動回路と、第２の電源線と第３の電源線との間に配置される内部回路と、第２の電源線と第３の電源線との間の電圧が上昇して所定値に到達すると検知信号をアサートする昇圧検知回路と、検知信号のアサート時において導通状態にある複数の電源スイッチの数に応じて設定時間間隔を変化させる制御回路とを含む。 （もっと読む）

【課題】回路の誤動作や回路面積の増加を防止しつつ一部の回路の電源電圧を
遮断して消費電力を低減させることができる半導体集積回路を提供する。
【解決手段】チップ内部を複数の回路ブロック（１１，１２，１３……）に分
割するとともに、いずれかの回路ブロックへの電源電圧の供給を遮断可能に構成
し、電源電圧の供給を遮断可能な回路ブロックから他の回路ブロックへ出力され
る信号の経路上であって信号が分岐される前の位置に、信号の伝達を遮断可能な
信号ゲート手段（３１）と電源遮断直前の信号を記憶可能な記憶手段（３２）と
を含むブロック間インタフェース回路（３０）を設けるようにした。 （もっと読む）