【課題】 電極のための温調管を着脱作業等を容易化でき、冷却水等を介した異常放電も防止できるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】
処理ヘッド１の筐体２１の一端側に樹脂製の連通路形成部材６１，６２を組み込む。連通路形成部材６１，６２の上端部を処理ヘッド１のガス導入ユニット１０より突出させ、そこに温調管継手５１〜５４を設け、これに温調管４１〜４３を接続する。連通路形成部材６１，６２の内部には、連通路６１ａ〜６２ｂを形成し、温調管継手５１〜５４と電極３１，３２内の温調路３１ｘ，３２ｘとを連通する。 （もっと読む）

【課題】
簡単な製造の際に確実な予め決定できる作動態様が可能であるように、物品を処理する装置を再現すること。
【解決手段】
この発明は、物品の収容室（１３）が絶縁材料から成る一つの壁（１１，１１ａ，１１ｂ，１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ）により形成され、その室の外面（１５）には少なくとも二つの電極（１６ａ，１６ｂ）が配置されていて、物品の収容室内において放電によって物品（１４）を処理する装置（１０）に関する。この発明は、壁（１１）の内面（２０）には両外部電極に対して容量的に連結された少なくとも一つの逆電極（２１）が固定式に配置されていることを特徴とする。
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【課題】 大気圧（又は、低気圧若しくは高気圧）で低温の非平衡プラズマを安定して、小形の装置で発生させること、また、アレイ化により大規模化すること。
【解決手段】 入力部４からマイクロ波を供給し、マイクロストリップ２の基板である誘電体基板１を縦に、すなわち、マイクロ波が伝搬する方向に対して垂直に誘電体基板１を切って、その断面にマイクロストリップ２とアース３の間によるプラズマ発生部５の隙間を形成することにより電界を集中させ、そこにプラズマ、特に、低温の非平衡マイクロプラズマを発生させる。 （もっと読む）

プラズマ加工チャンバを有したプラズマ加工システムにおいて利用される加工工程の現場モニター方法が開示されている。本方法はプラズマ加工チャンバ内に基板を配置するステップを含んでいる。本方法は基板がプラズマ加工チャンバ内に配置されているときにプラズマ加工チャンバ内でプラズマをストライク処理するステップをさらに含んでいる。本方法はプラズマストライク処理後に存在する測定されたプラズマ周波数を獲得するステップをさらに含んでおり、測定されたプラズマ周波数はプラズマが存在しないときには第１値を有し、プラズマが存在するときには第１値とは異なる少なくとも第２値を有している。本方法は測定されたプラズマ周波数値が設定プラズマ周波数値範囲を外れていれば、測定されたプラズマ周波数値をその工程の属性と相関させるステップをさらに含んでいる。
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【課題】 金属および／または非金属汚染の少ないエミッタ電極を提供する。
【解決手段】 ガスイオナイザ１００はイオン化ガスをクリーンルームに送り出す。イオナイザエミッタ電極１２は理想的にはカーバイド材料から形成されるかカーバイド材料で少なくとも部分的にコーティングされる。カーバイド材料は炭化ゲルマニウム、炭化ボロン、炭化シリコンおよび炭化シリコン・ゲルマニウムからなるグループから選択される。代替として、コロナ発生イオナイザエミッタ電極１２は、実質的に炭化シリコンから形成されるか、少なくとも部分的に炭化シリコンでコーティングされた導電性金属ベースから形成されるか、高圧電源２２からエミッタ電極１２に高電圧が印加されたときガスをイオン化し、エミッタ電極は実質的に炭化シリコンから形成され、約１００Ω−ｃｍ以下の抵抗を有する。 （もっと読む）

【課題】 現実の発光点の形状又は大きさに対して良好なデブリ除去を実現し、安定してＸ線（例えば、ＥＵＶ光）を効率的に発生させることができるデブリ除去装置、及びそれを有するＸ線発生装置並びに露光装置を提供する。
【解決手段】 プラズマを発生し、当該プラズマからＸ線を発生させるＸ線光源の前記Ｘ線の発光点で発生したデブリが光学系に到達することを防止するデブリ除去装置であって、前記デブリを吸着する複数の吸着面を含む吸着部を有し、当該吸着部は同一点を頂点とする複数の円錐を、前記同一点を中心とする球で切り出した形状を有し、前記複数の円錐のうち任意の隣接する２つの円錐の前記頂点からの広がり角の差は前記２つの円錐の内側の円錐の広がり角よりも大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】放電空間内にガスの対流を作ることにより、均一かつ高安定な処理が行え、さらに多層の処理が行える簡素でかつ安価な大気圧プラズマ処理装置の提供にある。
【解決手段】大気圧近傍の圧力下で、処理基材４を挟んで一対の電極１、２を備え、該電極間に処理ガスを導入する処理ガス供給口８と、ガスを排気するための処理ガス排気口７とを備えてなり、電圧を印加することにより、前記処理基材４にプラズマ処理を施す大気圧プラズマ処理装置であって、少なくとも一方の電極１に処理ガス供給口８を２つ以上、及び処理ガス排気口７を２つ以上設けてなり、かつ該処理ガス供給口８及び処理ガス排気口７が交互に配設されている大気圧プラズマ処理装置とするものである。 （もっと読む）

本発明は、真空スパッタリングのためのカソードであって、ターゲット（２）のための支持体が、冷却機構を備えている。本発明によるカソードは、支持体が、支持ベース（３）を備え、この支持ベース（３）の上には、フレーム（１１）が重ね合わされ、このフレーム（１１）が、冷却流体の循環のための少なくとも１つのギャップ（１１ａ）を形成することを特徴としている。本発明においては、フレーム（１１）の上には、メンブラン（４）が重ね合わされ、支持ベース（３）とフレーム（１１）とメンブラン（４）とが、それぞれの周縁部において互いに連結されている。
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プラズマ処理システムにおいて、ガス供給システムをマルチゾーン噴射器に接続するための一体型ガス流量制御組み立て品を開示する。組み立て品は、第一流速を備えた第一バルブ組み立て品、第二流速を備えた第二バルブ組み立て品、第三流速を備えた第三流量組み立て品、および第四流速を備えた第四流量組み立て品にガス供給システムを接続する第一組のチャネルを有し、前記第一バルブ組み立て品が実質的に開であるとき第三流速は第一流速より小さく、前記第二バルブ組み立て品が実質的に開であるとき第四流速は第二流速より小さい。組み立て品はさらに、第三流量組み立て品と第一バルブ組み立て品をマルチゾーン噴射器の第一ゾーンに接続するための第二組のチャネルを有する。組み立て品はさらに、第四流量組み立て品と第二バルブ組み立て品をマルチゾーン噴射器の第二ゾーンに接続するための第三組のチャネルを有する。前記第一バルブ組み立て品が閉であればマルチゾーン噴射器の第一ゾーンの流速は第三流速と同様であり、第二バルブ組み立て品が閉であればマルチゾーン噴射器の第二ゾーンの流速は第四流速と同様である。
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【課題】気体励起効率を向上させ、製造コスト及びランニングコストの低減化を実現することができる気体励起装置及び気体励起方法を提供する。
【解決手段】気体励起装置１０Ａは、被処理気体の流入用開口部１０２と処理済み気体の排出用開口部１０３とを有するハウジング１０１内に、交流電源と接続する少なくとも一対の電極１６Ａ，１６Ｂを備え、前記の一対の電極が保護電極と保護電極との組合せであるか又は保護電極と露出電極との組合せであり、少なくとも１つの保護電極が、芯電極１６Ｘと、その芯電極の表面上に全表面を覆って担持された絶縁体被膜層１６Ｙとからなる。 （もっと読む）