【課題】 ＥＵＶ光源装置において、ミラーコーティングに有害であるとされるデブリから集光ミラーを保護する。
【解決手段】 ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバ１００と、該チャンバ内にターゲットとなる物質を供給するターゲット噴射装置１２０及びターゲット噴射ノズル１２１と、ターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ光源１１０と、プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光ミラー１０２と、プラズマから放出される粒子に含まれている中性粒子をイオン化して帯電粒子とするＸ線源１３２と、少なくとも、Ｘ線源によってイオン化された中性粒子をトラップするために、チャンバ内に磁場を形成する磁石１３０及び１３１とを含む。 （もっと読む）

【課題】
長尺の高分子フィルムの表面改質を効率よく連続的に行う高分子フィルムの連続的表面改質方法、この方法の実施に好適な高分子フィルムの連続的表面改質装置、及び前記方法によって得られる長尺の高分子フィルムを提供する。
【解決手段】
プラズマ雰囲気中、長尺の高分子フィルムを一定方向に搬送すると同時に、（Ａ）イオン注入圧力が０．０１〜０．１Ｐａで、フィルム表面部にプラズマ中のイオンを注入するか、及び／又は（Ｂ）外部電界を用いることなく印加する高電圧パルスによる電界のみで生成させたプラズマ中のイオンをフィルム表面部に注入する高分子フィルムの連続的表面改質方法、高分子フィルムの連続的表面改質装置、及び前記表面改質方法によって得られる長尺の高分子フィルム。 （もっと読む）

大気圧プラズマを利用した表面処理装置を提供する。表面処理装置は、処理ガス貯蔵部及び該処理ガス貯蔵部の下部に位置したプラズマ発生部からなり、ａ）前記処理ガス貯蔵部は処理ガスを導入する第１流入口を備え、ｂ）前記プラズマ発生部は、お互いに向かい合った上部電極及び下部電極と、該上部電極及び下部電極との間に形成されたプラズマ発生空間と、前記上部電極及び下部電極を絶縁させる絶縁体と、電極の表面温度を下げる放熱器と、前記処理ガスを前記処理ガス貯蔵部からプラズマ発生空間に導入する第２流入口と、前記プラズマ発生空間で生成されたプラズマ及びプラズマに転換されない処理ガスをプラズマ発生空間の外部に誘導する排出口と、交流電圧を印加する交流電源と、を含み、前記上部電極及び下部電極はすべて平板形電極であり、前記排出口は前記下部電極に形成され、前記下部電極の下側には基板が位置される。前記表面処理装置は、処理しようとする基板の形態に制限を受けることがなく、基板の処理面積を増加させることができるだけではなく、大気圧下で連続的な基板の表面処理を可能にする。
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【課題】 ダウンストリーム方式のプラズマ表面処理装置において問題となっている被処理基板への誘導電流の発生、それ伴うアークによる基板表面の損傷をなくすことができる装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ化された反応ガスを被処理基板ｗに噴射供給して表面処理を行う装置において、固体誘電体８で覆われた対向電極６，７′を被処理基板ｗと直交するように配置し、一方の電極６を高周波電源ＲＦの出力端子の接地側に接続し、他方の電極７′を高周波電源ＲＦの他方の出力端子と接続する。そして、上記電極７′には、被処理基板ｗとの間に接地されたシールド導体板９を配置する。このとき、上記電極７′のシールド導体板側を肉薄に形成し、電極７′とシールド導体板９の容量結合を抑制する。 （もっと読む）

本発明は、容器を搬送するための運動システムと、大気圧で動作する、それぞれ１個ずつ容器を処理するべく設計された複数のプラズマ発生器とを備えた、プラズマを使用して容器の表面を処理するためのデバイスに関する。プラズマ発生器は、処理ガス供給システムと、スイッチとして機能する少なくとも１つのトランジスタもしくはＬＣアダプタを備えた、電流にパルスを供給するべく設計された電源システムとを備えている。
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【解決手段】 本発明は、空気を処理するための、引火及び爆発を防止するプラズマ発生装置（１）に関しており、プラズマは、金網によって少なくとも部分的には取り囲まれており、金網は、炎がハウジングを抜け出さないようにする寸法に作られている。本発明は、特に民間航空機の、飛行の安全と防護の要件を満たすのに、特に有用である。 （もっと読む）

【課題】 温調媒が通る流路を設けた電極を容易に交換することができるプラズマ表面処理装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ表面処理装置１０は、分岐配管５０，６０と、分岐配管５０，６０の一端が接続され、分岐配管５０，６０を電極温調用配管６１，６２に選択的に連通させる配管接続部３１，３２とを備える。少なくとも一つの分岐配管５０から配管接続部３１を介して電極温調用配管６１，６２，６３及び電極１６，１８に設けられた流路１６ａ，１８ａにガスが流入可能である。 （もっと読む）

【課題】局部的プラズマ処理を提供すること。
【解決手段】局部的プラズマ処理方法は、帯電粒子蒸着およびエッチングに比べて、処理速度を向上させ、加工物損傷を低減する。一実施形態において、プラズマ噴流は、プラズマ生成チャンバを出て、反応ガスを活性化させる。プラズマおよび反応ガスの噴流は、加工物に衝撃を与え、それを処理する。反応ガスにおけるプラズマおよびイオンは、低運動エネルギーを有することが可能であるため、表面損傷がほとんどまたはまったく起こりえない。これは、蒸着プロセスに特に有用である。材料をエッチングすることが望まれる場合は、反応イオンをより高エネルギーにして、エッチングを増強することができる。 （もっと読む）

本発明によって、プラズマを点火させることを提供する装置と方法とが提供される。該装置と方法とでは、アークの場合は、シャントスイッチが電力をプラズマからそらせるために使われ、該プラズマは、過剰電圧保護回路に組み込まれている。アークが消失すれば、プラズマを再点火させるための点火電圧をブースとするため、蓄えられたインダクタエネルギーが使用されるよう、該過剰電圧保護回路は、アークが消失したときに、シャントスイッチをブーストスイッチとして動作するように制御する。アークが消失し、インダクタ電流が減少し、プラズマが点火するとき、スイッチＳ１はオフにされ、インダクタエネルギーはプラズマに行き、電源は通常動作モードで動作する。 （もっと読む）

【課題】 容易な構成で放電用電極対に高電圧を印加できる高周波プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 高周波プラズマ処理装置は、複数の放電用電極対と、インピーダンス整合器２とを備える。第１放電用電極対は、第１負荷コンデンサ５１ａに対応して、第２放電用電極対は、第２負荷コンデンサ５１ｂに対応する。インピーダンス整合器２は、複数の放電用電極対に対して電気的に並列に接続された第１可変コンデンサ２３と、複数の放電用電極対に対して電気的に直列に接続された第２可変コンデンサ２４とを含む。複数の放電用電極対のうち、少なくとも２個の放電用電極対が直列に接続された構成を有する。 （もっと読む）