【課題】 薄手の基材に対するヤラレを防止して、薄手の基材であっても安定した薄膜形成を可能とする。
【解決手段】 この薄膜形成装置には、互いの放電面が対向されて放電空間を形成するように配置された一対の電極と、基材を支持する支持体とが備えられている。また、薄膜形成装置には、基材が放電空間内で一対の電極のうち、少なくとも一方の電極に沿うように、支持体を電極に密着させて保持する保持機構と、薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように前記放電空間に前記ガスを供給し、活性化された前記ガスで前記基材を晒すことで基材の表面上に薄膜を形成するためのガス供給部とが備えられている。そして、基材及び支持体は、再剥離性を有する粘着剤によって密着している。 （もっと読む）

【課題】 高電圧の作用により排ガスを浄化する排ガス浄化装置において、複数の放電管を互いに並行するように保持するにあたり、組立て工程を容易化しうる手段を提供する。
【解決手段】 支持ブロック１５を、複数の放電管４ａが中を通る外側環状体１５ａと、複数の放電管４ａを相互に位置決めする位置決めコマ１５ｂとから構成する。外側環状体１５ａの中に複数の放電管４ａを通し、その後に複数の放電管４ａの間に位置決めコマ１５ｂを挿入することによって、複数の放電管４ａを相互に位置決めできる。放電管４ａの断面形状に対応する多数の通孔に放電管４ａを１本ずつ通すような正確な作業が不要となり、組立て工程を容易化できる。 （もっと読む）

大気圧グロー放電プラズマＡＰＧ（７）を発生させるための方法及び装置（１）であって、複数の電極（４，５）が配置され、この複数の電極（４，５）が前記プラズマ（７）を形成するための放電空間を規定する。電極（４，５）は、電源（８）に接続され、この電源（８）は、少なくとも５０ｋＨｚの周波数を有するＡＣ電圧を電極（４，５）に供給する。ガス状物質（６）は、前記放電空間に供給され、少なくとも、アルゴン、窒素、および空気より成る。
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【課題】被処理ガスの圧損の増加を抑制しつつ、放電空間を確保するとともに放電の電力密度を向上させることにより、より大流量の被処理ガスを処理可能な小型の放電型ガス処理装置である。
【解決手段】放電型ガス処理装置１０は、被処理ガスＸの流路上に被処理ガスＸの進行方向を横切る複数の棒状の電極１５ａを有する導体電極１５と、導体電極１５に対向し、棒状の電極１５ａの曲率よりも大きい曲率の表面を有する対向電極１６と、対向電極１６の導体電極１５側を覆う誘電体１７と、導体電極１５と対向電極１６との間に所要の電圧を印加して被処理ガスＸに浄化処理を施すための放電プラズマを生成させる放電電源１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、処理する基板に与えるダメージを抑制し、高速な処理を可能とする大気圧プラズマ処理装置及び処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明において、コイル２に高周波電力を供給することで直接形成される磁場の向き（磁力線の向き）は、平板状絶縁体１ａ又は基板８の表面に対して略垂直な法線方向を向くため、反応容器１内に形成される誘導電場の向きは基板８の表面に対して、略平行な方向となる。このため、反応容器１内において、反応容器１内で微小な火花放電が発生した場合においても、火花放電の発生がアーク放電の発生などに直結して基板８にダメージを与えることが、抑制される。 （もっと読む）

【課題】 除去加工を行うプラズマＣＶＭ法又は成膜を行うプラズマＣＶＤ法に使用するプラズマ処理方法及びその装置であって、プラズマＣＶＭの場合には最小加工痕が、プラズマＣＶＤの場合には最小成膜部が軸対称となるようにした回転電極を用いたプラズマ処理方法及びその装置を提供する。
【解決手段】 反応ガス及び不活性ガスを含むガス雰囲気中に回転電極２００とワーク２０１とを配設し、ワークと回転電極をＸＹ軸方向へ相対的に走査するとともに、Ｚ軸方向の回転軸２０２を有する回転電極とワークとの間に所定のギャップ２０３を形成するように回転電極とワークをＺ軸方向へ相対的に変位させ、回転電極を回転させてギャップ近傍に渦流を形成するとともに、回転電極に高周波電圧を印加してギャップでプラズマを発生し、反応ガスに基づいて生成した中性ラジカルを用いてワーク表面を加工又はワーク表面に成膜する。 （もっと読む）

特別に形作られた波形を持つ印加電圧を用いて非熱的大気ガスプラズマ（ｎｏｎ−ｔｈｅｒｍａｌ ａｔｍｏｓｐｈｅｒｉｃ ｇａｓ ｐｌａｓｍａｓ）を生成する方法。電流放電発生後の期間に電圧を小さくすることによって、エネルギーの浪費を避ける形状に波形が作られる。ガス放電電流に応答して印加電圧の波形を形成するために、制御システムが用いられることができる。
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【課題】 大気圧下のプラズマを用いてプロセスを行なう装置において、プラズマ放電を支援するためのガスの使用量を低減でき、またプロセスを安定して再現性良く行なうことが可能なプラズマプロセス装置およびプラズマプロセス方法を提供する。
【解決手段】 大気圧下またはその近傍の圧力下でプラズマを形成するための電界を形成する複数の電極対（電力投入電極１と接地電極２）が設けられ、この電極対が対向する下方近傍領域に、プラズマを発生させるための電界が発生する。また、この電極対が対向する領域に、電極対に対応して、プロセスガス供給手段からプロセスガスが供給される。また、電極対が対向する領域の下方近傍領域に、電力投入電極１と接地電極２とが配列される方向に沿ってプラズマ生成ガスを供給し、一のガス流路７を形成する。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理装置において、きわめて短時間にガスの置換を行なうことが可能な装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ処理装置は、大気圧近傍の圧力下であるプラズマ発生空間１６に対して所望のガスを供給するためのガス供給手段と、プラズマ発生空間１６内にプラズマ８を発生させるための３以上の電極５ａ，５ｂ，５ｃと、プラズマ発生空間１６内にプラズマ８を発生させるために上記３以上の電極の中から選択された１以上の電極である電圧印加対象電極に電圧を印加するための電源６と、プラズマ発生空間１６内におけるプラズマ８の発生する領域が互いに異なる第１の発生領域と第２の発生領域との間で切り替わるように、上記電圧印加対象電極の選択を切り替えるための電圧印加状態切替手段としてのスイッチング回路７とを備える。 （もっと読む）

【課題】 放電電極（41）の先端から対向電極（42）に向かってストリーマ放電を行う放電装置（40）において、放電電極（41）の先端が損耗してもストリーマ放電の安定性が低下しないようにする。
【解決手段】 線状ないし棒状の放電電極（41）を対向電極（42）に対して実質的に平行に配置して、放電電極（41）の先端が損耗しても放電電極（41）の先端形状が変わらず、放電電極（41）と対向電極（42）との間隔も変わらないようにする。 （もっと読む）