基板上に薄膜を堆積させるためのスパッタリングステーションは、互いに対向して配置され、プラズマ領域を規定する２つのターゲットと、磁界を生成する永久磁石またはコイルと、磁界を方向付けるヨークと、各ターゲットへのエネルギを個別に制御するために各ターゲットに接続された２つの個別の電源とを備える陰極を含む。
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ポリマー物質を基体上に堆積させる方法であって、上記方法は、気体状態における有機モノマー物質をプラズマ堆積チャンバ中に導入することと、上記チャンバ内でグロー放電に点火することと、高周波数電圧をパルス磁場として、０．００１〜５００ｗ／ｍ^３の電力で、ポリマー層を基体の表面上に形成させるために十分な時間、加えることとを含む。この方法は、特にモノマー物質がハロアルキル化合物を含有する場合に、撥油および撥水コーティングを製造するために特に好適である。本発明の方法を実施するために特に用いられる装置も記載され、特許を請求する。 （もっと読む）

【課題】 時間経過による良好な安定性と良好な再現性を持ちながら、なお電気アーク形成の危険を減らし、好ましくは高出力の電気放電を発生することを可能とするパルス型マグネトロンスパッタリングにより物質を蒸着する方法を提供する。
【解決手段】 この課題は、マグネトロン陰極に付与される各主電圧パルスに先立ち、主電圧パルスの遮断後の電流パルスの減衰時間が５μｓ未満の電流パルスを発生するようにガスが予備イオン化されることにより達成された。 （もっと読む）

マグネトロン源、マグネトロン処理チャンバ、かつ真空プラズマ処理される表面を有する基板を製造する方法は、非対称の非平衡の長い範囲のマグネトロン磁界パターンを生成しかつ用い、そのマグネトロン磁気パターンは、真空プラズマ処理される基板表面でのイオン密度を改善するために基板表面に沿って掃引される。長い範囲の磁界は、少なくとも０．１ガウス、好ましくは１ガウスから２０ガウスの間の基板表面に平行な磁界の成分を有して基板表面に到達する。プラズマ処理は、例えばスパッタリング被覆またはエッチングであり得る。
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ハンドヘルド型ガスプラズマ組織処置器具用の使い捨てアセンブリーは、器具の先端ケーシング（５１７）内に収容される耐熱性誘電管（５１６）を有する。ケーシングは、アセンブリーを器具ハンドピース（５０１）の本体に取り外し可能に取り付けることを可能にするラッチ機構を有する。器具ハンドピース（５０１）は、使い捨てアセンブリーがハンドピース本体に取り付けられると、誘電管（５１６）の内側及び外側にそれぞれ位置する内部電極（５０６）及び外部電極（５０７）を含む。電場収束素子（５２１）が管（５１６）に組み込まれ、アセンブリーがハンドピース本体に取り付けられると内部電極（５０６）の端部と係合されて位置する。
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【課題】
【解決手段】極端紫外線リソグラフィー即ちＥＵＬにおいて高出力パルスレーザーを用いるためのレーザー多重化システム及び方法。第１の実施形態では、レーザー発生プラズマ生成のための高出力ＥＵＶレーザー多重化素子（２００）が、少なくとも２つのレーザービーム（２０８）を夫々共通のワークピース上の焦点（２０４）に収束させる少なくとも２つの収束素子（２１０）を備える複合レンズを有する。第２の実施形態では、レーザー多重化装置が、パルスレーザービームを生成するための少なくとも２つのパルスレーザーソースと、少なくとも２つのパルスレーザービーム（３００）を時間的に交互に配置する時間多重化要素（３０２）と、を有する。第３の実施形態では、レーザー多重化組体がビーム形成素子（４０１）を有し、ビーム形成要素は、第１のレーザービーム（４０６ａ）を、第２のレーザービーム（４０６ｂ）の軸と共通の軸に沿って、上記共通の軸を中心として配置されている共通の収束素子（４０５）へと向ける。 （もっと読む）

本発明のプラズマ発生装置は、柱形状の電源極、電源極の周りを覆う誘電体膜、電源極に隣接して配置される補助プラズマ接地極、反応ガスを提供するためのガス流入部、及び電源極に印加されるＲＦ電源を制御する電源コントローラを含み、プラズマ発生装置が作動する間には、電源コントローラは、電源極と補助プラズマ接地極との間に補助プラズマを維持することを特徴とする。本発明のプラズマ発生装置は、大気圧下で低温プラズマを生成することができ、補助プラズマを利用することによって、安定したプラズマを提供することができる。特に、電源の供給が不安定である高周波電源を使用する場合にも、補助プラズマが安定的なプラズマソースとして機能するので、均一で且つ大面積に適用可能なグロープラズマを生成することができる。 （もっと読む）

キャピラリがその内側に形成されている内部誘電体と、内部誘電体のキャピラリ内に軸方向に一部挿入された遠位端を有する第１の電極と、その間に放電ゾーンを形成するようにそこから離れており、第１の電極の遠位端近傍にて外部誘電体の少なくとも一部の外側へ放射状に延在する第２の電極とを有するキャピラリ内蔵リング型ガス放電発生器。弱電離ガスの放出はキャピラリから生じ、更に内部誘電体と外部誘電体との間の放電領域でも生じる。こうして、外部誘電体の内開口とサイズが実質的に等しく、比較的大きい表面積を効率良く処理することができる弱電離ガスプルームが生成される。 （もっと読む）

マイクロ波を用いて線状プラズマを形成し、被処理物表面を前記線状プラズマに水平に保ちつつ被処理物の移動中に大気圧下またはその近傍の圧力下で処理を被処理物に施すマイクロ波プラズマ処理方法、マイクロ波プラズマ処理装置及びそのプラズマヘッドにおいて、プラズマヘッドにＨ面スロットアンテナを備え、該スロットアンテナのスロットをλｇ／２のピッチで導波管の中心線を挟んで交互に形成し、かつ、前記スロットから前記プラズマヘッドの放出端までの距離ｎ・λｇ／２を有するようにする（ここで、λｇ：マイクロ波の管内波長）。また、プラズマヘッドにＥ面スロットアンテナを備え、該スロットアンテナのスロットをλｇのピッチで導波管の中心線上に形成し、かつ、前記スロットから前記プラズマヘッドの放出端までの距離ｎ・λｇ／２を有する均一化線路を配置する。 （もっと読む）

少なくとも２つの離間した電極を具備するプラズマ放電空間でグロー放電プラズマを生成及び維持する方法及び装置に関する。その方法及び装置は、大気圧条件下でガス又はガス混合を放電空間において案内する段階を達成し、複数の電極にＡＣ活性電圧（Ｖ_a）を印加することによって複数の電極を活性化し、かつプラズマ生成で変位電流の急激で相対的な減少がもたらされるように活性電圧（Ｖ_a）を制御するよう配置される。
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