本発明は、大気圧グロープラズマに基板表面を曝露することによって基板の表面から汚物を除去する方法及び配置に関する。プラズマは、プラズマ電流及び変位電流を発生する複数の電極に交流プラズマ活性電圧を印加することによって、複数の電極を具備する放電空間で生成される。プラズマは、基板表面の特性の改質が防がれるように、プラズマ生成の間に変位電流を制御することによって安定化される。変位電流を制御する段階は、プラズマ生成の間に変位電流の相対的な減少をもたらす。
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窒素のような安価な放電ガスを用いても、高密度プラズマが達成でき、良質な薄膜を高速で製膜できる薄膜形成方法を提供し、これにより良質で緻密な薄膜を有する基材を安価に提供できる。前記薄膜形成方法として、大気圧もしくはその近傍の圧力下、放電空間に窒素元素を有するガスを含有するガスを供給し、前記放電空間に第１の高周波電界および第２の高周波電界を重畳した高周波電界を印加することにより基材上に窒化膜を形成する薄膜形成方法であって、前記第１の高周波電界の周波数ω_１より前記第２の高周波電界の周波数ω_２が高く、前記第１の高周波電界の強さＶ_１、前記第２の高周波電界の強さＶ_２及び放電開始電界の強さＩＶとの関係が、Ｖ_１≧ＩＶ＞Ｖ_２又はＶ_１＞ＩＶ≧Ｖ_２を満たし、前記第２の高周波電界の出力密度が、１Ｗ／ｃｍ^２以上である薄膜形成方法である。 （もっと読む）

高いガスバリア性能を持ち、環境耐久性に優れ、かつ曲げてもそのバリア性能が劣化しない透明ハイバリアフィルムが生産性良く提供される。基材の製造方法として、支持体上に少なくとも有機層および無機層を有する基材の製造方法において、前記無機層が、大気圧又はその近傍の圧力下、放電空間に薄膜形成ガスを含有するガスを供給し前記放電空間に高周波電界を印加し前記ガスを励起し基材を励起した前記ガスに晒すことで形成され、前記高周波電界は、第１の高周波電界および第２の高周波電界を重畳したものであり、前記第１の高周波電界の周波数ω１より前記第２の高周波電界の周波数ω２が高く、前記第１の高周波電界の強さＶ_１、前記第２の高周波電界の強さＶ_２と放電開始電界の強さＩＶとがＶ_１≧ＩＶ＞Ｖ_２またはＶ_１＞ＩＶ≧Ｖ_２を満たし、前記第２の高周波電界の出力密度が１Ｗ／ｃｍ^２以上であることを特徴とする基材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ発生器、リアクター、及び関連したシステム、及び方法を本発明に従って提供する。
【解決手段】 プラズマリアクターは、互いに取り外し自在に連結されてチャンバを形成する多数の区分即ちモジュールを含む。三つの電極を含む電極組が各区分と関連している。これらの電極の各々は、三相交流（ＡＣ）電源の一つの相に連結されている。電極は、チャンバの長さ方向中心線を中心として配置されており、長いアークを形成し、長いプラズマ本体を発生するように構成されている。電極は、チャンバの長さ方向中心線に対して変位自在である。関連した電源の電圧又は電流のレベルの計測に応じて電極を自動的に変位させ、電極隙間を画成するように、制御システムを使用できる。 （もっと読む）

本発明のプラズマ発生電極１は、互いに対向する二つ以上の板状の単位電極２を備え、単位電極２相互間に電圧を印加することによってプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極１であって、互いに対向する単位電極２のうちの少なくとも一方が、少なくとも一方の表面に複数の凹溝５及び／又は複数の凹部が形成された板状のセラミック誘電体３と、セラミック誘電体３の内部に配設された導電膜４とを有してなり、単位電極２相互間に電圧を印加した際に、セラミック誘電体３の表面と、複数の凹溝５及び／又は複数の凹部の側面とによって構成されるエッジ部分９に、エッジ部分９近傍以外の単位電極２相互間に発生するプラズマよりも密度の高い高密度なプラズマを発生させることが可能である。 （もっと読む）

環境圧力下の電気的な放電によって形成されたプラズマフラックスを用いて、細長いフィラメント状の対象物の表面を連続して処理する方法と装置。この装置（100）はチューブ状の本体（2）を有し、本体の２つの端部に少なくとも部分的に開放された経路（1）を備えて、経路（1）の長手軸線とほぼ平行な移動軸線に沿って細長い対象物（A）を移動させる。また、前記本体（2）の少なくとも一部（10）で長手軸線に対して所定角度でニュートラルのプラズマフラックスを形成する手段と、少なくとも細長い対象物が経路の本体の一部を通って移動する時、この一部（10）の内側にプラズマフラックスを閉じ込める手段を有する。さらにこの装置は処理の効果を変化させることができ、このため、必要な追加物をプラズマに加えたり、及び／又は、処理領域内に直接的に加え、また、様々なエネルギーレベルの粒子を備えたプラズマの様々な領域を用いるようにする。
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【課題】 素子の表面を焦がしてしまうことなどのないプラズマプロセッサを提供する。
【解決手段】 素子（１）の表面の少なくとも１つの区域を改質するためのプラズマプロセッサ（５）であって；素子（１）はガスプラズマ環境（４）からのイオンにより衝撃され；イオンは第１のメッシュ（３）に印加された電圧源により素子（１）の方へ吸引される。第１のメッシュ（３）は静止した非対応形状のメッシュ（３）であり、素子（１）は第１のメッシュ（３）と接触しない。素子（１）はイオンの衝撃（４）に対して均一に曝されるように第１のメッシュ（３）の近傍で移動（２）させられる。 （もっと読む）

本発明の一実施形態は、（ａ）チャンバと、（ｂ）上記チャンバの内部に露出される比較的大きな表面積を有するカソードと、（ｃ）上記チャンバ内部に配置され、作動距離位ほどカソードから離隔されているホールを有するアノードと、（ｄ）上記アノードと対向する上記チャンバの内側に配置されたウエハホルダと、（ｅ）その出力が上記カソードに印加され、カソード電圧を提供する負電圧源と、（ｆ）その出力が上記アノードに印加される電圧源と、（ｇ）上記チャンバ内にガスが導入速度で入るよう適合されたガス入口と、（ｈ）上記チャンバからガスを排出速度で排出するように適合されたポンプを含む電子ビーム処理装置であって、上記導入速度及び排出速度は、上記チャンバ内のガス圧力を提供し、カソード電圧、ガス圧力、及び作動距離の値は、カソードとアノード間にアークがなく、作動距離が電子平均自由行路より大きくなるようにする装置である。 （もっと読む）

本発明のプラズマ発生電極は、互いに対向する二つ以上の、長方形の表面及び四つの端面を有する板状の単位電極２と、単位電極２を、単位電極２の四つの端面に対応した四つの端部のうち、一組の互いに平行な端部（一組の端部）の少なくとも一方（固定端６）を保持する保持部材５とを備えたプラズマ発生電極であって、互いに対向する単位電極２の少なくとも一方が、セラミック体３と導電膜４とを有する導電膜配設電極８であるとともに、導電膜配設電極８の四つの端部うち、一組の端部に隣接する他の一組の互いに平行な端部（他の一組の端部９）側における、導電膜４の先端からセラミック体３の先端までの距離ａ（ｍｍ）と、セラミック体３の厚さｃ（ｍｍ）とが、（ｃ／２）≦ａ≦５ｃの関係を満たすプラズマ発生電極であり、熱衝撃による破損を有効に防止することができる。 （もっと読む）

物質処理に使用されるプラズマを制御するための方法および装置は、プラズマ容器および電源に連結された、共振回路およびスイッチ部の共同作用を特徴とする。プラズマ容器にあるプラズマの状態に関連する信号を取得するためのセンサーは、前記スイッチ部のクローズドループ制御に対応している。共振回路を短絡するためにスイッチ部を閉じることにより、前記センサーによって検出されたプラズマの好ましくない状態を取り除くことができる。 （もっと読む）