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国際特許分類[H05H1/48]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | プラズマ技術 (5,423) | プラズマの生成;プラズマの取扱い (4,622) | プラズマの発生 (4,176) | アークを用いるもの (112)

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堆積方法は、基板上の被覆のプラズマ強化化学的気相成長のために、熱膨張プラズマ発生器(102、202)のチャンバ内のターゲットプロセス状態を決定することを含み、発生器(102、202)は、カソード(106、206)、取り替え可能なカスケードプレート、及び同心オリフィスを有する発生器(108、208)を備え、堆積方法はさらに、カスケードプレートを、識別されたターゲットプロセス状態を生じるように構成されたオリフィスを有する他のプレートと取り替えることと、プラズマ発生器(102、202)にプラズマガスを提供することによってターゲットプロセス状態でプラズマを生成し、且つ発生器(102、202)内のカソード(106、206)と発生器(108、208)との間でアーク内のプラズマガスをイオン化し、且つ堆積チャンバにおいて基板上にプラズマとしてガスを膨張することとを含む。制御可能なプラズマを生成するための堆積装置(100)であって、大気圧下の圧力で維持されるように構成される堆積チャンバと、堆積チャンバ内の物品支持体と、カソード(106、206)、単一のカスケードプレート、発生器(108、208)、及び1mm〜20mm未満の長さのオリフィスを有する、カスケードプレートを介する連絡オリフィスを備える熱膨張プラズマ発生器(102、202)とを備える。 (もっと読む)


物質処理に使用されるプラズマを制御するための方法および装置は、プラズマ容器および電源に連結された、共振回路およびスイッチ部の共同作用を特徴とする。プラズマ容器にあるプラズマの状態に関連する信号を取得するためのセンサーは、前記スイッチ部のクローズドループ制御に対応している。共振回路を短絡するためにスイッチ部を閉じることにより、前記センサーによって検出されたプラズマの好ましくない状態を取り除くことができる。 (もっと読む)


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