【課題】高圧力下において、大規模なプラズマを、容易、かつ、低コストで得ることができるプラズマの存在領域の制御装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波発振器と、マイクロ波発振器に接続されたアンテナと、マイクロ波発振器及びアンテナの位置を制御する制御手段とを備え、制御手段は、各時刻におけるプラズマの形成領域の指定に基づいてプラズマの形成領域に向けてアンテナを配置し、指定されたプラズマの温度状態に基づいてマイクロ波発振器の駆動シーケンスを設定し、この駆動シーケンスにしたがいマイクロ波発振器を駆動する。 （もっと読む）

パルスプラズマ生成のためのカソード組立体および方法が開示される。カソード組立体は、長手方向に位置合わせされ、好ましくは、同径であり、長さの異なる複数のカソード（１０、２０、３０）に接続されたカソードホルダー（２）を備える。方法は、所定の大きさのＤＣ電流を通すことにより組立体の中のカソード（１０、２０、３０）とアノード（４）との間に電気アークを形成することによって特徴付けられる。アークが作られると、電流は電気アークを持続するために十分な大きさまたは僅かに大きい大きさに低減され、それによって、アークアタッチメントの領域を単一のカソードに縮小する。アタッチメントの領域が縮小されると、電流はパルスの動作レベルまで増加されるが、アタッチメントの領域は著しく増大しない。 （もっと読む）

プラズマ法を実施するための真空処理装置もしくは真空処理方法であって、このとき前記処理は真空室（１）内で行われ、前記真空室には、陰極（１０）及び前記陰極にアーク発生器を介して電気的に接続可能な陽極（１３）から構成されている、低電圧アーク放電（１５）（ＮＶＢＥ）を発生させるための装置と、ワークピース（２）を受容及び移動させるための、電気的にバイアス発生器（１６）に接続可能なワークピースキャリア（７）と、少なくとも１つの不活性ガス及び／又は反応性ガスのための供給口（８）と、が配置されている。このとき、少なくとも前記陽極の表面の一部はグラファイトから構成されており、高温にて作動する。
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【課題】電気アーク装置をより少ないトリガエネルギーでトリガするアブレーションプラズマガンの提供。
【解決手段】第１および第２の電極２２、２４、アブレーション材料のカップ２６、および末広ノズル３０を備えたプラズマガン２０であって、第１および第２電極２２、２４間にかけられたパルス電位により、アーク３２が生成され、アーク３２がカップ２６の一部を加熱しアブレーションして高圧で高い導電プラズマすなわちアブレーションプラズマ３４が生成される。 （もっと読む）

本発明は、真空下で基板を対象材料で被膜するべくカソードとして接続される対象からアーク放電を起こしてプラズマを形成するアノードに係る。本発明の目的は、必要なプラント工学上の労力を実質的に増加させることなく少なくとも被膜率を向上させることのできる手段による可能性を提供することである。本発明による、カソードとして接続された対象からアーク放電を起こすことでプラズマを形成するアノードは、その後、既知の方法により対象からある距離を隔てて配置される。同時に、アノード棒がアノード上の対象表面に平行に先ず配置される。加えて、帯状部材は、アノード上に間隙により互いから隔てられて形成される。その後、帯状部材が、アノード棒から基板の方向へ向かい表面に被膜される。この結果、形成されたプラズマは、アノードの帯状部材の２つの対向する面の間に封入される。 （もっと読む）

本発明は、カソード３２の蒸発表面３３上でアーク放電を生成するために、リング形状の磁場源２と、カソード３２としての蒸発材料３１を備えたカソード本体３とを有する真空アーク蒸発源１に関する。カソード本体３は、軸線方向において、カソード底部３４によって第１の軸線方向に、また蒸発表面３３によって第２の軸線方向に制限されており、リング形状の磁場源２は、蒸発表面３３の面法線３００に平行又は反平行に極性を有するように、且つ蒸発表面３３の面法線３００に同心になるように配置されている。本発明によれば、磁場振幅リング４が、蒸発表面３３から遠い側で、カソード底部３４の正面に、第２の予め指定された距離Ａ２に配置される。さらに、本発明は、アーク蒸発源１を有するアーク蒸発チャンバ１０に関する。
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【課題】プラズマガンにおいて、真空アーク放電により発生させるプラズマの有効量を減退させることなく、プラズマに混入するドロップレットを効率的に除去でき、しかも簡易かつ安価にドロップレット除去部を構成でき、高純度プラズマによる成膜等の表面処理精度の向上を図ることのできるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】プラズマガン陰極４０７の周辺は、外囲部材４２０によって包囲され、外囲部材４２０の内側には、ドロップレットを捕集する捕集部材４１１を複数個、多層状に構成したドロップレット除去装置４０６が設けられている。外囲部材４２０、捕集部材４１１及びプラズマ進行路４０２は、アーク電源４０９との接続関係がなく、電気的に中性の浮遊状態に保持されているプラズマ生成装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】陽極に形成された反応生成物を取り除くことができるシートプラズマ装置を提供する。
【解決手段】本発明のシートプラズマ装置１００は、内部を減圧可能な減圧容器６０と、プラズマガン１０と、減圧容器の内部においてプラズマを受ける平板状の陽極５１と、減圧容器の一部を成すように形成され、その内部に円柱状のプラズマ２２を流動させかつこの円柱状のプラズマをシート状のプラズマ２７に変形させるシートプラズマ変形槽２０と、減圧容器の一部を成すように形成された成膜槽３０と、陽極を回転させる回転機構７５と、陽極の背後にかつ円柱状のプラズマの中心軸２２Ａ上に配置された永久磁石５２と、シート状のプラズマと離れた位置に陽極の前面に対向するように配置された清掃部材７６と、清掃部材を陽極に押し付ける押付機構８１と、清掃部材とシート状のプラズマとの間に配置された遮蔽板８２と、を備える。 （もっと読む）

【目的】 基材に施す塗膜の焼成処理をプラズマを用いて低温処理する場合に、焼成膜の脆性化を生じず良好な膜質の成膜処理を行うことのできる進行プラズマ成膜方法及びプラズマ成膜装置を提供することである。
【構成】本発明に係るプラズマ成膜は、成膜材により基材面に表面膜Ｌを形成した基材Ｗをプラズマ形成用電極（高圧電極及び低圧電極）に挟まれない位置に設置し、表面膜Ｌの膜面に向けて進行する進行プラズマＰを流通させ、照射することにより表面膜Ｌを焼成する進行プラズマ成膜方法に基づき行われる。 （もっと読む）

【目的】平坦面や曲面で構成された形状だけでなく、中空状等、被加工物がどのような形状であっても、均一な膜形成を行え、プラズマ処理膜の品質向上を図ることのできるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。
【構成】プラズマ処理部Ａ１内には、孔又は溝を有したワークが配置され、プラズマ導入路Ａ２２からのプラズマＰ１は、孔又は溝の深さ方向がプラズマ直進方向ＤＰに対応するように導入される。ワーク物体の中空軸がプラズマＰ１の直進方向ＤＰの中心軸に略対応してワークＷ１が設置されている。ワークＷ１への上記プラズマＰ１の直進導入構成と、５ｅＶ以上の高イオンエネルギーを持つイオンを含んだ真空アークプラズマを使用して、孔又は溝の内面に均一な膜形成を高精度に行うことができる。 （もっと読む）