【目的】平坦面や曲面で構成された形状だけでなく、中空状等、被加工物がどのような形状であっても、均一な膜形成を行え、プラズマ処理膜の品質向上を図ることのできるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。
【構成】プラズマ処理部Ａ１内には、孔又は溝を有したワークが配置され、プラズマ導入路Ａ２２からのプラズマＰ１は、孔又は溝の深さ方向がプラズマ直進方向ＤＰに対応するように導入される。ワーク物体の中空軸がプラズマＰ１の直進方向ＤＰの中心軸に略対応してワークＷ１が設置されている。ワークＷ１への上記プラズマＰ１の直進導入構成と、５ｅＶ以上の高イオンエネルギーを持つイオンを含んだ真空アークプラズマを使用して、孔又は溝の内面に均一な膜形成を高精度に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマの噴出口に設けられた絶縁管がプラズマの熱により損傷されるのを防止することのできるプラズマガンを提供する。
【解決手段】プラズマを生成する陰極部１ａ、１ｆ、１ｇ及び陰極部で生成されたプラズマ６を対象方向に吐出しつつ、対象からの反射電子を電源に帰還させる帰還電極部を有するプラズマガンにおいて、帰還電極部は、プラズマの出口が形成されたフレーム１ｅと、プラズマの出口の表面を電気的に絶縁する絶縁管１ｈと、絶縁管の対象方向の末端に向かってガスが吐出されるように形成されたガス流路部とを備えるように構成した。ガス流路部は、プラズマの出口と接続する孔を有してフレームの上記対象方向とは反対側の内側面に付着されてフレームの内側面に流路空間を形成する蓋部９３と、ガス注入通路９１と、複数のガス吐出通路９２とを含む。 （もっと読む）

特に導体路（２）の基板（４）への穏やかなスプレー成形を可能にするために、スプレーランス（６）内において、３０００Ｋよりも低いプラズマ温度を備えた低温のプラズマ（２２）が製造され、キャリアガス（Ｔ）によってスプレーランス（６）内に粉末（Ｐ）を供給し、粉末（Ｐ）を端部側の流出開口（１６）に案内し、流出開口（１６）において流出し、基板（４）に衝突する。
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【課題】スタート後に比較的少ないガス流量でアークに移行することができるとともに、ガス流量の調整範囲を少なくすることができ、脈動現象やアークの消滅を生じることなく、安定したアークを維持する。
【解決手段】中空電極４のガス通路のうち、ガス噴出口５ａの先端からガス供給側の一定長さ範囲の領域を断面積が小さいプラズマ発生域とし、さらにそのガス供給側の領域をガス通路断面積がガス噴出口部よりも大きく、プラズマ発生域の圧力変動を抑制するプラズマ発生域抑制部とする。 （もっと読む）

本発明は、２つのプラズマ生成電極（１０３、１０６）と、１ＭＨｚよりも高い共振周波数を有する直列共振器を備え、２つの端子と仕切り（１３２）で囲まれた伝導コイル（１１２）を備えたコンデンサ（１１１）を備える装置（１１０）であり、コンデンサ及びコイルは直列に配置され、電極はコンデンサの各端子に接続されており、スパークプラグの仕切りの半径に対する比は０．５６に等しいことを特徴とする装置を提案する。本発明により、コイル（１１２）の半径を仕切り（１３２）の半径に調節することで、上記装置のＱ係数を最適化することが可能になる。
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【目的】プラズマに混入するドロップレットを効率的に除去し、しかも簡易かつ安価にドロップレット除去部を構成でき、高純度プラズマによる成膜等の表面処理精度の向上を図ることのできるプラズマ生成装置を提供することである。
【構成】プラズマ進行路５には、プラズマの発生時に陰極４から副生するドロップレットを除去するドロップレット除去部が配置されている。このドロップレット除去部は、プラズマ進行路５を形成する拡径管３と、拡径管３のプラズマ導入側始端に連接された導入側縮径管３４と、拡径管３のプラズマ排出側終端に連接された排出側縮径管３９と、拡径管３の始端及び終端に形成された段差部４０とから構成される。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、グロー放電からアーク放電への移行を的確に行うことができ、また、アーク放電により発生したプラズマが安定してから成膜動作を行うことができるプラズマ成膜システムを提供することを目的とする。
【解決手段】カソード１５を有するプラズマガン１と、アノード４６と、カソード１５とアノード４６との間を流れるプラズマをシート状に変形するシートプラズマ変形機構１１０と、ターゲット３７及び基板３３と、を有するプラズマ成膜装置１０１と、ターゲット３７とアノード４６との間の電圧を検出する第１電圧検出器１０２と、制御装置１０６と、カソード１５に電圧を印加する主電源１０７と、を備え、制御装置１０６は、前記第１電圧検出器で検出された電圧の変化率に基づき、主電源１０７によってカソード１５とアノード４６との間に印加する電圧値を変更する、プラズマ成膜システム。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、アノードの清掃を容易に行うことができ、また、生産効率が高いプラズマ成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】容器１０１と、プラズマを発生させるプラズマガン１と、プラズマを受けるアノード４８と、容器１０１の一部を成しその内部に成膜空間４２を有する成膜室４と、アノード４８と成膜空間４２との間に設けられ、容器１０１の内部空間のアノード４８に対向する位置に進出し及びそこから退避することにより、アノード４８に対して成膜空間４２を遮蔽及び開放し、かつ、放電電極として機能する遮蔽部材５２と、遮蔽部材５２を進出及び退避するよう駆動するための駆動機構５３と、アノード４８と遮蔽部材５２との間に放電によりプラズマを発生するための電圧を印加する電源３６と、を備える、プラズマ成膜装置。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、プラズマとターゲット及び／又は基板との間の距離を制御することにより、効率よくスパッタすることができ、基板に所望の膜厚を形成することができるプラズマ成膜システムを提供することを目的とする。
【解決手段】カソード１５と、アノード４６と、カソード１５とアノード４６との間を流れるプラズマをシート状に変形するシートプラズマ変形機構１１０と、ターゲット３７及び基板３３と、を有するプラズマ成膜装置１０１と、ターゲット３７とアノード４６との間の電圧を検出する第１電圧検出器１０２と、ターゲット３７をプラズマが流れる方向に対して垂直方向に移動させる第１駆動機構１０４と、制御装置１０６と、を備え、制御装置１０６は、第１電圧検出器１０２で検出された電圧値に基づき第１駆動機構１０４を駆動させることによりターゲット３７の位置を調整する、プラズマ成膜システム。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、アノードの清掃を容易に行うことができるプラズマ成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】容器１０１と、容器１０１の内部にプラズマを発生させるプラズマガン１と、容器１０１の内部においてプラズマを受けるアノード５０と、プラズマガン１で発生したプラズマをアノード５０の側へ流動させるプラズマ流動機構２１と、容器１０１の一部を成すように形成された成膜室４と、容器１０１にプラズマが通過するように設けられたプラズマ通過口５４と、プラズマ通過口５４を開閉するための開閉部材４８と、開閉部材４８がプラズマ通過口５４を容器１０１の外側から開閉することが可能なように開閉部材４８を支持する支持機構５１と、を備え、アノード５０が開閉部材４８のプラズマ通過口５４に面する面に設けられている、プラズマ成膜装置。 （もっと読む）