【課題】被成膜物の表面近傍での磁場の拡散を抑制し被成膜物の表面近傍に所定の磁場を確保し、表面近傍に到達するプラズマ粒子量を増加させることによって成膜速度を向上させる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜チャンバの側面に一組以上のプラズマ進行管が接続されており、該プラズマ進行管の進行方向に対し被成膜物が垂直に配置されており、プラズマ源より発生したプラズマ粒子が被成膜物の表面に照射されることによって被成膜物の表面に薄膜が形成される。前記プラズマ進行管は、接続されている成膜チャンバより内部に配置されている被成膜物に向かって延出する内部プラズマ導出管に連接され、当該内部プラズマ導出管の外周に内部プラズマ制御用コイルが配置されている。 （もっと読む）

【課題】単一のスパッタリングチャンバを用いて基板に形成された開口部内へのＡｌ材料の埋め込みを適切に行えるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置１００は、スパッタリングチャンバ３０と、カソードユニット４１およびアノードＡ間の放電によりプラズマを形成可能なプラズマガン４０と、プラズマガン４０から放出されたプラズマ２２を磁界の作用によりシート状に変形可能な磁界発生手段２４Ａ、２４Ｂと、を備える。シートプラズマ２７は、スパッタリングチャンバ３０内の基板３４ＢとＡｌターゲット３５Ｂとの間を通過するように誘導され、シートプラズマ２７中の荷電粒子によってＡｌターゲット３５ＢからスパッタリングされたＡｌ材料が基板３４Ｂの開口部に堆積する際に、Ａｌ堆積膜２００のカバレッジ性が、プラズマ放電電流ＩＤ、ターゲットバイアス電圧ＶＢ、および、ターゲット−基板間距離Ｌに基づいて調整される。 （もっと読む）

【課題】 狭い箇所にある被処理物や、小さな被処理面に対しても効率的な表面処理が可能なプラズマ表面処理装置を提供する。
【解決手段】 内側電極２と外側電極１との間の放電空間８に圧力気体を供給し、放電空間内で発生したアーク放電によって生成したプラズマを噴出口７ａから噴出させるプラズマ表面処理装置において、上記圧力気体の流れ方向を基準にして、内側電極２の下流側端部２ａより噴出口７ａ側に放電空間８を形成するとともに、この放電空間８には上記外側電極１と電気的に接続された導電性ノズル７を接続し、この導電性ノズル７の先端を上記噴出口７ａとする一方、上記内側電極２の先端から導電性ノズル７の基端までの長さを、内側電極と導電性ノズル内との間でアーク放電可能な距離にし、かつ上記導電性ノズル７の基端から噴出口７ａまでの長さを、上記アーク放電が噴出口７ａから出ない距離にした。 （もっと読む）

【課題】電極の摩耗量に合わせた必要最小電圧でプラズマアークを発生させて電極寿命の向上を図る。
【解決手段】両電極間にプラズマアーク発生用電圧Ｔ、Ｋを印加させてプラズマアークを発生させるプラズマ発生方法。本発明方法では、プラズマアーク発生用電圧Ｔ、Ｋを初期電圧値Ｔ１、Ｋ１から徐々に増加させて行き、プラズマアークが発生した時点で、プラズマアーク発生用電圧Ｔ、Ｋの増加を停止する。プラズマアークが発生していないと検出された時には、前記プラズマアーク発生用電圧Ｔ、Ｋを更に増加させる。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの数が極めて少ない良質の薄膜を形成できる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】プラズマ発生部１０においてアーク放電にともなって発生したプラズマは、プラズマ分離部４０において斜め磁場により進行方向が曲げられ、パーティクルと分離される。そして、プラズマ移送部６０を介して成膜チャンバ３０に入り、基板３１上に膜を形成する。プラズマ移送部６０は、プラズマ分離部側接続部６２と、成膜チャンバ側接続部６７と、それらの間のパーティクル分離部６３とに分離されている。プラズマ分離部側接続部６２には−５Ｖ〜−１５Ｖの電圧が印加され、パーティクル分離部４３には接地電圧又は正の電圧が印加される。プラズマ中に含まれる正の電荷を有するパーティクルは、電気的引力によりプラズマから分離され、筺体内側のフィン６４２等に捕捉される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置におけるドロップレット捕獲用の環状リブ上に形成されたプラズマ流由来の堆積物が、プラズマ発生部へ落下して短絡を起こすことを防止する。
【解決手段】ドロップレット捕集用の環状リブ４０を複数のリブ片に分割することにより、プラズマ流の物質の凝集により前記環状リブ上に形成する堆積物９０の、形成当初からの細分化が達成される。この堆積物の細分化により、この堆積物が破片９１としてプラズマ発生部１０に落下する際に、この破片が陰極１１と前記プラズマ発生部の壁面１３の間に設けられる溝部１４に入り込み、前記陰極と前記壁面の電気短絡が防止される。 （もっと読む）

【課題】拡散プラズマにより陽極内壁に付着、堆積した堆積物が剥落して陰極と陽極間を短絡することを防止することができる陽極壁多分割型プラズマ発生装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供することである。
【解決手段】陰極２と陽極３の間で発生したプラズマＰが陰極２より前方に向けて放出され、拡散する際、拡散物質４１が電極筒体内壁に再結晶化して付着、堆積して、カーボンフレーク４０として剥落する。電極筒体内壁を縦横の溝３７、３８によってマトリクス状に多分割されている。多数の突部３５の堆積物分離作用により、拡散プラズマが陽極３に付着、堆積しても、堆積物が微細化され、大型乃至長尺状の堆積物が生じない。小片の突部３９から微細片としてのカーボンフレーク４０が剥落して、堆積物が剥落して陰極２と陽極３に跨って架橋することがなく、両極間の短絡現象の発生を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ電流が真空容器内のグランド電位のものに流れる現象を抑制し、安定して成膜を行うことのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】プラズマガンのプラズマ室1は、成膜室10に連結され、連結部側から順に、陽極4、中間電極3および陰極2が配置されている。陽極4と成膜室10との間には、グランド電位のグリッド5が備えられている。これにより、プラズマ電流の一部は、グランド電位のグリッド5に流れるため、成膜室内のグランド電位の物体にプラズマ電流が流れるのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】励起発光を従来より長時間に亘って持続させることが可能な発光装置及び発光分光分析装置に関する。
【解決手段】本発明の発光装置１００によれば、プラズマ生成装置５００にて生成されたプラズマ雰囲気中に粉体供給装置１０から粉体を連続供給して励起発光を連続して起こさせることで、従来より長時間に亘って励起発光を持続させることができる。また、粉体供給装置１０から排出された粉体の周囲を、プラズマ雰囲気を生成するガスで包囲した状態で１対の電極Ｅａ，Ｅｂ間に供給することができるので、プラズマのエネルギーを効率よく粉体に付与して励起発光させることができる。 （もっと読む）

【課題】 主電極からカソードマウントへの伝熱を抑制するための伝熱抑制構造を備えた利便性に優れる圧力勾配型プラズマガンを提供すること。
【解決手段】 圧力勾配型プラズマガン１００が、主電極１７と、前記主電極をその第１の部分が少なくとも包囲して該第１の部分が前記主電極を少なくとも保護する電極保護部１８ａ，２０と、前記電極保護部の第２の部分がその主面に連結され該主面が前記第２の部分を支持することで前記第１の部分を間接的に支持することにより前記主電極を間接的に支持する電極支持部１０と、を備え、前記電極保護部の第２の部分に、前記主電極から前記電極支持部への伝熱を抑制する伝熱抑制構造２１ａ，２１ｂが設けられている。 （もっと読む）