【課題】アークフラッシュを消去する際に使用するためのアブレーションプラズマガンを提供すること。
【解決手段】アブレーションプラズマガン（１００）は、第１の直径（１１０）を有する第１の部分（１０６）と、第１の直径（１１０）より大きな第２の直径（１１２）を有する第２の部分（１０８）とを含み、チャンバ（１０４）は、第１の部分（１０６）および第２の部分（１０８）によって画定される。 （もっと読む）

【課題】回路保護装置を提供する。
【解決手段】回路保護装置（１００）は、所与の軸に沿って融蝕性プラズマ（５３２）を放出するように構成されたプラズマ銃（５００）と、複数の電極（２５８）とを含み、各々の電極（２５８）は回路のそれぞれ導体に電気結合され、また各々の電極（２５８）は、該電極が前記軸からほぼ等距離に位置決めされるように前記軸に対してほぼ垂直な平面に沿って配列される。 （もっと読む）

【課題】部品組付け性およびコスト面での改良がなされたプラズマガンを提供する。
【解決手段】第１中間電極21および第２中間電極22の第１電極取付基体26および第２電極取付基体27において、それらの各胴部29，29の外周面に環状の第１磁石35および第２磁石36をそれぞれ嵌着する。第１中間電極21と第２中間電極22との間に配置された絶縁部材23は、第１磁石35と第２磁石36との間に位置する絶縁本体部37から第１被嵌部38および第２被嵌部39を軸方向に一体に突設し、これらの第１被嵌部38および第２被嵌部39を第１磁石35および第２磁石36の外周面上にそれぞれ被嵌する。そして、第１電極取付基体26および第２電極取付基体27の各フランジ部28，28を締結部材25で相互に締結する。 （もっと読む）

【課題】燃料の改質及び難分解性ガスの化学処理を行うための、反応効率が高いプラズマ反応器を提供する。
【解決手段】被処理気体の流入口６３、流入気体が移動しながら熱を吸収する吸熱路６４、ならびに気体の排出口６２とを有する反応炉６１と、前記反応炉の内部にプラズマを形成させるための電極７０と、熱を吸収した前記被処理気体と液状燃料とを混合させる混合チャンバ６７と、混合チャンバで生成される混合燃料が反応炉内に供給される流入ホール６８、とを含んで構成されるプラズマ反応器であって、前記電極は円錐形状を有し、前記流入ホールは電極基部近傍に設置され、流入した混合燃料が電極の外周面に沿って回転流を形成して進行する、プラズマ反応器。 （もっと読む）

【課題】 真空チャンバ内のメンテナンスが容易で、電磁コイル等の磁気コイルの劣化が小さく、ランニングコストが安い装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラズマ輸送室２を広くすることを可能にするため、誘導磁場発生部８の少なくとも一部を真空チャンバ１内に取り込むとともに、該誘導磁場発生部８を構成する磁気コイル７をプラズマ輸送室２内に設けた大気空間部６a内に配置するようにした。 （もっと読む）

【課題】回転プラズマによるプラズマ処理を安定且つ制御可能にして、プラズマ処理の品質を向上させることのできるプラズマ流生成方法、プラズマ処理方法、プラズマ発生装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】４象限Ｚ１〜Ｚ４における各周波数は７、１５、６、２０Ｈｚに設定されている。この周波数可変により、４分割された回転角領域におけるプラズマの回転速度を異ならせることができる。プラズマＰ２とＰ４の周回速度がプラズマＰ１とＰ３よりも速くなっているため、円軌道Ｃを描きながらプラズマＰ１からＰ２、Ｐ３、Ｐ４に周期的に変速回転する回転プラズマを照射して、第１象限Ｚ１〜第４象限Ｚ４において均一な成膜処理を施す。 （もっと読む）

【課題】応答時間が改善され、費用効果の高い改善されたアークフラッシュ防止機構を有するプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】管状空間１４４および長手軸ａを画定し、長手軸ａに沿った本体長さＢＬを有する環状本体１４２を含むアーク緩和デバイスである。電極１４６は管状空間１４４内に共軸で配置することができる。電極１４６は本体長さＢＬの少なくとも約５０％である電極長さＥＬだけ環状本体１４２内に延びることができ、環状本体１４２の内径ＢＤの約５０％以下の直径Ｄ２を有することができる。アブレーション材料部分１５２は環状本体１４２と電極１４６との間に配置することができる。環状本体１４２および電極１４６は、アークが環状本体１４２と電極１４６との間に存在するとき、アブレーション材料部分１５２がアブレーションを受け、それによってプラズマを生成する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ電位を、プローブ計測器に頼ることなく、質量分析器を応用して、イオン種の分析と併せて計測でき、質量分析とプラズマ電位計測の双方を行える割りには安価に済むプラズマ電位計測方法及び装置を提供する。
【解決手段】プラズマ２中のイオンの質量分析を行える質量分析器３（又は１９）と該プラズマとの間に少なくとも二つの異なる電圧をそれぞれ印加して各電圧Ｖｂごとに、他の電圧の場合と同一のイオンを検出できる、該質量分析器に応じた質量分析条件Ｘを求め、得られた各電圧Ｖｂと質量分析条件Ｘのデータに、式Ｖｂ＝ａＸ² −Ｖｐ（Ｖｐはプラズマ電位）を回帰式として該回帰式を最小二乗法を用いてフィッティングすることにより、該式におけるａ及びＶｐをそれぞれ算出することで、該プラズマ電位Ｖｐを求め、併せてイオン種を同定するためのａを求めるプラズマ電位計測方法及び装置。該方法を実施するためのプログラム及びそれを記録した記録媒体Ｍ１（Ｍ２）。 （もっと読む）

【課題】膜中にマクロパーティクル等の混入のない、平滑で、密着性が高い薄膜を生成することができ、低コストでかつメンテナンス性も優れた装置を提供することを目的とする。
【解決手段】真空アーク放電によって陰極を蒸発させて陰極物質を含むプラズマを生成する真空アーク蒸発源と、基体を収容され真空排気される真空室と、外部に磁場形成手段を有する湾曲状プラズマ輸送管とを備えた薄膜形成装置において、前記プラズマ輸送手段の内壁に、多孔質部材と針金状芯材とから構成されるパーティクル除去手段を配設したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ストライカによる接触作用を長期に亘って安定的に行わせて、ターゲット材料を最大限に利用可能にし、且つ生成プラズマの高品質化を実現することのできるストライカ式プラズマ発生装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供することである。
【解決手段】プラズマ処理の開始により、ストライカアームの回動動作に移り（ステップＳ２、Ｓ３）、陰極２にストライカチップ３５が当接した後もサーボモータ４０が駆動し続けて回動動作が継続していく。ストライカアームに加わる負荷量が所定値を超える反転条件が成立すると、モータ４０に逆転駆動を指示し、ストライカチップ３５を陰極２から離反させる（ステップＳ４、Ｓ５）。 （もっと読む）