α−ガラクトセラミドアナログ、その製造方法、その方法において有用な中間体化合物、及びそれを含有する医薬組成物
本発明は、α−ガラクトセラミドアナログ、その製造方法、これらの方法において有用な中間体化合物に関する。本発明は、α−ガラクトセラミドアナログを含有する医薬組成物にも関する。本発明の製造方法は、簡単なメタセシス反応によって、α−ガラクトセラミドアナログを合成することができる不飽和中間体化合物の使用を包含する。本発明のα−ガラクトセラミドアナログは、医薬組成物、特に抗癌性を有する医薬組成物の有効成分として有用である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、α−ガラクトセラミドアナログ、その製造方法、及びその製造方法において有用な中間体化合物に関する。本発明は、これらのα−ガラクトセラミドアナログを含有する医薬組成物にも関する。
【背景技術】
【０００２】
熱帯の海綿であるアゲラスフィン等の海産物由来の糖脂質リガンドは、Ｔリンパ球の特定の系統である、ＮＫＴ細胞の活性化因子として記述されている。
【０００３】
最近では、ＮＫＴ細胞が、多発性硬化症、自己免疫性糖尿病、及び幾つかの細菌感染症又はウイルス感染症等の様々な生理病理学的プロセスにおける免疫応答の主要因子であることが示されている。ＮＫＴ細胞は抗腫瘍防御にも関与すると考えられている。
【０００４】
海綿から抽出された糖脂質は、ｉｎ ｖｉｖｏでの抗腫瘍活性及び免疫調節活性があるため大変興味深い。アゲラス属の海綿から単離したアゲラスフィンは、ネズミのＢ１６黒色腫細胞に対して高い活性を示している。これらすべてのアゲラスフィンは、α−アノマー配置を有する。その毒性は低く、また免疫刺激性が高い。これらのアゲラスフィンは、最初に知られた天然のα−ガラクトセラミドである。
【０００５】
１つのα−ガラクトシルセラミドアナログである、ＫＲＮ７０００が合成されており、現在、抗癌薬としての臨床試験が行われている。
【０００６】
アゲラス・マウリチアヌス（Agelas mauritianus）海綿から単離された抗腫瘍活性及び免疫刺激活性を有するアゲラスフィンの例は、以下の式：
【０００７】
【化１】
【０００８】
を有する。
【０００９】
現在、臨床試験が行われている合成糖脂質α−ガラクトシルセラミドアナログである、ＫＲＮ７０００は、以下の式：
【００１０】
【化２】
【００１１】
を有する。
【００１２】
上記式から把握することができるように、ＫＲＮ７０００は、セラミドのアシル鎖の２’位にヒドロキシル基が存在しない点で、天然のアゲラスフィンとは異なる。
【００１３】
最近の研究により、Ｔｈ１／Ｔｈ２バランスに対する、「切断された（truncated）スフィンゴシン（sphingosin）」を有する化合物、すなわち、種々の長さの脂肪鎖を有する化合物の薬理効果が記述されている。
【００１４】
これらの研究によって、このタイプのガラクトセラミドアナログの生物活性に対して影響を有すると考えられる幾つかのパラメータを多少は正確に実証できるようになっている。
【００１５】
したがって、これらのガラクトセラミドアナログは、グリコシド結合によってセラミド部分と結合したガラクトシル環を含む分子として記述することができる。ＫＮＲ７０００において、グリコシド結合はＯ原子である。セラミド部分はアシル鎖とスフィンゴシル残基とを含む。
【００１６】
ガラクトシルセラミドアナログの生物活性に関して重要なものとして記述される第１のパラメータは、その立体配置である。実際、α−アノマー配置が活性に必要であると考えられるが、β−アナログも、抗ウイルス感染及び抗マラリア感染等の生物学的標的に対する候補物質である。
【００１７】
重要なものとして記述される第２のパラメータは、糖の性質である。２’’位にヒドロキシル基を有するガラクトシル環が最も適切な糖であると考えられる。
【００１８】
重要なものとして記述される第３のパラメータは、グリコシド結合である。ガラクトセラミドに天然に存在するアノマー酸素は、生物活性を有する主要な部位の１つである。ＫＲＮ７０００アナログに関して、アノマー酸素を炭素で置換することによって、顕著に、抗癌化合物としての活性が４倍〜１００倍高いＣ−ガラクトシルセラミド化合物を得る研究も幾つか行われている。
【００１９】
その重要性について研究されている第４のパラメータは、アシル鎖である。天然の化合物中に元々存在する２’位のヒドロキシルは、標的活性には有用でないことが示されており、ＫＮＲ７０００中には存在しない。しかしながら、このアシル鎖は、蛍光体化合物を繋ぐために修飾してもよく、又は鎖長を変化させることによって改変してもよい。
【００２０】
実際、これらすべての研究により、スフィンゴシル残基がおそらく、ガラクトセラミドアナログの活性を有する代表的部分（masterpiece）の１つであることが示されているため、研究は、ガラクトセラミドアナログのこの部分に焦点を当てている。
【００２１】
これまでに為された研究によれば、スフィンゴシル鎖の３位及び４位の２つの隣接したヒドロキシル基の存在がヒトモデルでは必須である。例えば、非特許文献１の中で、ヒトモデルで活性を有するためには、スフィンゴシル塩基の４位のヒドロキシル基の存在が必須であることが報告されている。
【００２２】
同様に、スフィンゴシル残基の脂肪鎖の長さ、及び不飽和の有無が、生物活性の選択性に大きな影響を与えることが示されている。重要な変形形態は、この脂肪鎖の長さに関する変形形態に由来し得ることも示されている。
【００２３】
これらの結果は最近になって、非特許文献２により結晶学的研究で確認されている。
【００２４】
この検討では、ヒトＣＤ１ｄ受容体と３位及び２’’位のヒドロキシル基との相互作用が示される。
【００２５】
さらに、α−ガラクトシルセラミドアナログに関してこれまでに行われたすべての研究において、α−ガラクトシルセラミドアナログは、最初にセラミド又はスフィンゴシル残基を製造した後、活性化したガラクトシル供与体のα位でグリコシドカップリングを実行することから成る方法によって合成されている。
【００２６】
この方法は、糖に組み込む前に修飾する必要がある各スフィンゴシル残基の事前合成を包含する。その後、グリコシドカップリング前又はこのグリコシドカップリング後（ガラクトシルスフィンガニン鎖から出発する）のいずれかでアシル鎖を導入することができる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００２７】
【非特許文献１】Laurent BROSSAY他（and al.）、「Journal of Immunology」５１２４頁〜５１２８頁（１９９８年）で発表された、「最前線：ＣＤ１拘束性ＮＫＴ細胞によるガラクトシルセラミド再結合の構造的要件（Cutting edges: Structural Requirements for Galactosylceramide Recombination by CD1-restricted NKT cells）」と題する論文
【非特許文献２】Koch, M.; Stronge, V. S.; Shepherd, D.; Gadola, S. D.; Mathew, B.; Ritter, G.; Fersht, A. R.; Besra, G. S.; Schmidt, R. R.; Jones, E. Y.; Cerundolo, V. Nat Immunol 2005, 6, 819-826
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００２８】
先行技術に存在する固定観念とは対照的に、本発明は第１に、文献のデータがあるにも関わらず、スフィンガニン鎖の４位にヒドロキシル基を有しないα−ガラクトシルセラミドアナログ（ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログ）が、ヒトモデルにおいて優れた生物活性を有する化合物になるという驚くべき発見に基づいており、また、本発明は第２に、エチレン性、すなわち、不飽和化合物を使用してα−ガラクトシルセラミドアナログを製造する方法を提供する。このエチレン性化合物のおかげで、スフィンゴシン鎖を有する広範なα−ガラクトセラミドアナログを、合成又は市販の飽和アルキル鎖のフラグメントとの簡単なメタセシス反応によって合成することができる。
【００２９】
本発明の方法を用いることにより、不飽和官能基を有する任意の残基（分枝アルキル鎖、芳香族鎖、複素環鎖、糖．．．）を、この中間体生成物のアグリコン不飽和鎖の末端に組み込むことができる。
【００３０】
こうして、この方法により、異なるグリコシド前駆体からコンビナトリアル（combinatory）ケミストリーによって多数の異なるアナログを製造することができる。
【００３１】
したがって、本発明は、以下の式Ｉ：
【００３２】
【化３】
【００３３】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１はＨ、又はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ（isotertbutyloxycarboxy）基（Ｂｏｃ）、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）、アリルオキシカルボニル基（Ａｌｏｃ）、９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（Ｔｅｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジル基（Ｔｒｏｃ）、ベンジル基（Ｂｎ）、ジフェニルメチル基（Ｄｐｍ）、トリチル基（Ｔｒ）、９−フェニルフルオレニル基（ＰｈＦｌ）、アリル基、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ１はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）又はベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）又は９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）であり、
Ｒ５はＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）、アセテート基（Ａｃ）であり、より好ましくは、Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル（terbutyldiphenylsilyl）基（ＴＢＤＰＳ）であり、
Ｒ１及びＲ５はＮ，Ｏ−アセタール基等の保護基、好ましくはオキサゾリジン基又はオキサゾリン基を一緒に形成することができ、
Ｒ２はＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ２はベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基又はシクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ２はベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であるか、又は異なり、且つＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基又はシクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３及びＲ４はイソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、ベンジリデン基、メシチルメチレン基、ｐ−メトキシベンジリデン基、メチレン基、ジフェニルメチレン基、イソプロピリデン基又はディスポーク（dispoke）基等のＯ，Ｏ−アセタール基を一緒に形成することができ、且つ
Ｒ４及びＲ６はベンジリデン又はパラメトキシベンジリデン基等のＯ，Ｏ−アセタール基を一緒に形成することができる）
を有する化合物を提供する。
【００３４】
この式Ｉの化合物は、本発明の主題でもある異なるα−ガラクトセラミド化合物を合成する方法の実行を可能にする中間体の１つである。
【００３５】
この中間体化合物により、スフィンゴシル残基の３位にヒドロキシル基を１つだけ有するα−ガラクトセラミドアナログ（ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログ）を合成することができる。しかし、このスフィンゴシル残基の３位及び４位の両方にヒドロキシル基を有するα−ガラクトセラミドアナログ（ＫＲＮ７０００のアナログ）も合成することができる。
【００３６】
さらに、この式Ｉの中間体化合物により、Ｏ、Ｓ、（ＳＯ）、（ＳＯ２）又はＮＨであり得るグリコシド結合を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造することができる。好ましくは、これらの製造では、式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基、好ましくはベンジル基である）の化合物から出発する。
【００３７】
上記式Ｉ（式中、ＸはＯ、Ｓ又はＮＨである）の化合物を製造する本発明による方法は、
（ａ）以下の式Ｉ−１：
【００３８】
【化４】
【００３９】
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６は同一であり、且つベンジル基である）
の化合物を準備する工程と、
（ｂ）式Ｉ−１の化合物と、式Ｉ−２：
【００４０】
【化５】
【００４１】
（式中、
ＸはＯＨ、ＳＨ、又はＮＨ２であり、
Ｒ１はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）であり、且つ
Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）である）
の化合物とをオシド（osidic）カップリングさせる工程と、
を含む。
【００４２】
式Ｉ−２（式中、Ｒ５はＨである）の化合物を得るために、例えば、テトラブチルアンモニウム（Tetrabultylamonium）フルオリド（ＴＢＡＦ）を用いて脱保護を実行する。
【００４３】
式Ｉ−２の化合物は、本発明の主題でもある方法によって得ることができる。
【００４４】
上記式Ｉ−２の化合物を製造する本発明による方法は、
ａ）ＢＦ３・ＯＥｔ２等の触媒の存在下、グリシンエチルエステル（glycinethylester）塩酸塩と（＋）−（１Ｒ，２Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−ピナノンとをイミノ化反応させる工程と、
ｂ）好ましくはトリイソプロピルオキシチタン等のチタン触媒、及びトリエチルアミンの存在下、工程ａ）で得られたイミノエステルとアクロレインとを不斉アルドール反応させる工程と、
を含む。
【００４５】
式Ｉ（式中、ＸはＳである）の化合物を製造する別の強力な方法は、
（ａ）以下の式Ｉ−３：
【００４６】
【化６】
【００４７】
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基である）
の化合物を準備する工程と、
（ｂ）式Ｉ−３の化合物をＮａＨ、ＣＳ２で処理し、且つ塩化パラ−ニトロベンゾイルを加えて、１−チオ−パラ−ニトロベンゾイルエステルを得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られたグリコシルエステルを、例えば、ナトリウムメタノラート（ＭｅＯ−Ｎａ＋）又は炭酸セシウム又は炭酸カリウムでけん化する工程と、
（ｄ）式Ｉ−２：
【００４８】
【化７】
【００４９】
（式中、
Ｘは脱離基であり、好ましくは、ＸはＯ−メシル基、Ｏ−トリフレート基、Ｏ−トシル基、Ｃｌ基、Ｂｒ基、又はＩ基である）
のスフィンゴシル化合物で求核置換する工程と、
を含む。
【００５０】
このプロセスでは、工程（ｃ）及び工程（ｄ）を同時に実行する。
【００５１】
ＫＲＮ７０００のα−ガラクトセラミドアナログを得るために、式Ｉの化合物又は本発明の主題でもある他の中間体化合物から出発してもよい。本発明の主題であるこの第２の中間体化合物は、以下の式ＩＩ：
【００５２】
【化８】
【００５３】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１はＨ、又はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）、アリルオキシカルボニル基（Ａｌｏｃ）、９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（Ｔｅｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジル基（Ｔｒｏｃ）、ベンジル基（Ｂｎ）、ジフェニルメチル基（Ｄｐｍ）、トリチル基（Ｔｒ）、９−フェニルフルオレニル基（ＰｈＦｌ）、アリル基、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ１はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）又はベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）又は９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）であり、
Ｒ５及びＲ８は独立して、Ｈ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基、イソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、ベンジリデン基、メシチルメチレン基、ｐ−メトキシベンジリデン基、メチレン基、ジフェニルメチレン基、イソプロピリデン基若しくはディスポーク基等のＯ，Ｏ−アセタール基であり、好ましくは、Ｒ５及びＲ８はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）、アセテート基（Ａｃ）であり、より好ましくは、Ｒ５及びＲ８はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）であり、
Ｒ１及びＲ５はＮ，Ｏ−アセタール基等の保護基、好ましくはオキサゾリジン基又はオキサゾリン基を一緒に形成することができ、
Ｒ２はＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ２はベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基又はシクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ２はベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３、Ｒ４、及びＲ６は同一であるか、又は異なり、且つＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３及びＲ４は、イソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、ベンジリデン基、メシチルメチレン基、ｐ−メトキシベンジリデン基、メチレン基、ジフェニルメチレン基、イソプロピリデン基又はディスポーク基等のＯ，Ｏ−アセタール基を一緒に形成することができ、且つ
Ｒ４及びＲ６はベンジリデン又はパラメトキシベンジリデン基等のＯ，Ｏ−アセタール基を一緒に形成することができる）
を有する化合物である。
【００５４】
式Ｉの化合物と同様に、好ましくは、式ＩＩの化合物から本発明のＫＲＮ７０００のアナログを製造する場合、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６が保護基、好ましくはベンジル基であり、且つＲ１が保護基、好ましくはＢｏｃ基である式ＩＩの化合物から出発する。
【００５５】
式ＩＩの化合物を製造するために、本発明は、以下の方法を提供する。
【００５６】
上記式Ｉの化合物から出発する場合、式ＩＩ（式中、ＸはＯ又はＮＨである）の化合物を製造する本発明の方法は、式Ｉ（式中、ＸはＯ又はＮＨである）の化合物を準備する工程と、存在する場合、この化合物のＯＨ基を、好ましくはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）又はアセテート基（Ａｃ）の中から選択される保護基で保護する工程とを含む。その後、保護された化合物をエポキシ化することにより、以下の式ＩＩ−１：
【００５７】
【化９】
【００５８】
（式中、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は式Ｉの出発化合物と同様である）
の化合物が得られる。
【００５９】
次に、有機アセチレン化合物をこの式ＩＩ−１の化合物に加えることにより、以下の式ＩＩ−２：
【００６０】
【化１０】
【００６１】
の化合物を得ることができる。
【００６２】
次に、式ＩＩ−２の化合物を部分的に水素化することにより、式ＩＩ（式中、Ｒ８はＨである）の化合物が得られる。最後に、必要に応じて、「有機合成における保護基（Protection Groups in Organic Synthesis）」John Wiley and Sonsに開示されている方法等の当業者に既知の方法によって、この部分水素化後にＲ８を導入することにより、式ＩＩ（式中、Ｒ８はＨとは異なる）の化合物が得られる。
【００６３】
例えば、Ｒ８は、ＴＢＤＰＳ基又はベンジル基である場合、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中、ＴＢＤＰＳＣｌ又はＢｎＣｌ、及びイミダゾールを使用して導入することができる。
【００６４】
式ＩＩ（式中、ＸはＳＯ又はＳ（Ｏ２）である）の化合物を製造する本発明の方法は、式Ｉの化合物（この式Ｉの化合物中、ＸはＳである）を製造する工程と、仮に存在する場合、この式Ｉの化合物のＯＨ基を、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基又はベンジル基又はアセテート基で保護する工程と、ＯＨ基を保護した式Ｉの化合物のエポキシ化反応及び酸化反応を同時に実行して、酸化度に応じて、以下の式ＩＩ−１ａ及び式ＩＩ−１ｂ：
【００６５】
【化１１】
【００６６】
の化合物を得る工程とを含む。
【００６７】
式ＩＩ−１ａの化合物のみを得る場合及び式ＩＩ−１ｂの化合物が望まれる場合は、得られた式ＩＩ−１ａの化合物を酸化する補助的な工程を実行する。
【００６８】
次に、有機アセチレン化合物を式ＩＩ−１ａ又は式ＩＩ−１ｂの化合物に加えることにより、それぞれ以下の式ＩＩ−２ａ及び式ＩＩ−２ｂ：
【００６９】
【化１２】
【００７０】
の化合物が得られる。
【００７１】
最後に、式ＩＩ−２ａ及び式ＩＩ−２ｂの化合物を部分的に水素化することにより、式ＩＩ（式中、ＸはＳ（Ｏ）又はＳ（Ｏ２）である）の化合物が得られる。
【００７２】
しかし、式ＩＩ（式中、ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり得る）の化合物を製造する別の方法は、
（ａ）式Ｉの化合物、又はこの式Ｉの化合物を得る上記方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）存在する場合、この化合物のＯＨ基を、好ましくはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）又はアセテート基（Ａｃ）で保護する工程と、
（ｃ）ＸがＯ若しくはＮＨである場合、工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化し、又はＸがＳ（Ｏ）若しくはＳ（Ｏ）２である場合、工程（ｂ）で得られた化合物を酸化及びエポキシ化し、それにより以下の式ＩＩ−１：
【００７３】
【化１３】
【００７４】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）式ＩＩ−１の化合物を、グリニャール反応剤又は他の有機アリル試薬で開環することにより、式ＩＩの化合物を得る工程と、
を含む。
【００７５】
式Ｉの化合物により、所望の生物活性を有するα−ガラクトシルセラミドアナログ、すなわち、ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログ（スフィンゴシル鎖の３位で保護されるか、又は保護されないヒドロキシル基が１つだけ）及びＫＲＮ７０００のジヒドロキシル化α−ガラクトシルセラミドアナログ（スフィンゴシル鎖の３位及び４位にヒドロキシル基を有し、これらのヒドロキシル基は保護されるか、又は保護されない）を得ることができ、特に短期間で且つ融通の利く合成方法によって、さらに好収率を達成することが可能である。
【００７６】
したがって、当該技術分野に存在する固定観念に反して、以下に示すように、生物活性、特に、免疫刺激効果と結果的に抗腫瘍性活性とを有する、ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログは、特に、以下の式ＩＩＩ：
【００７７】
【化１４】
【００７８】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ２１はＯＨ又はＦ又はＮＨ２であり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、且つ
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、以下の基：
【００７９】
【化１５】
【００８０】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７又はＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【００８１】
【化１６】
【００８２】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
のα−ガラクトシルセラミドアナログである。
【００８３】
本発明の特に好ましいα−ガラクトセラミド化合物は、以下の式ＩＩＩ−Ａ：
【００８４】
【化１７】
【００８５】
の化合物である。
【００８６】
本発明の別の特に好ましい４−デオキシ−α−ガラクトセラミド化合物は、以下の式ＩＩＩ−Ｂ：
【００８７】
【化１８】
【００８８】
を有する化合物である。
【００８９】
本発明のさらに別の特に好ましい４−デオキシ−α−ガラクトセラミド化合物は、以下の式ＩＩＩ−Ｃ：
【００９０】
【化１９】
【００９１】
の化合物である。
【００９２】
しかし、本発明の別の特に好ましい４−デオキシ−α−ガラクトセラミド化合物は、以下の式ＩＩＩ−Ｄ：
【００９３】
【化２０】
【００９４】
の化合物である。
【００９５】
本発明のさらに別の特に好ましい４−デオキシ−α−ガラクトセラミド化合物は、以下の式ＩＩＩ−Ｅ：
【００９６】
【化２１】
【００９７】
の化合物である。
【００９８】
上記式ＩＩＩ−Ａ〜式ＩＩＩ−Ｅの化合物に対応するが、Ｒ２１がＦ又はＮＨ２である化合物も、本発明の特に好ましい化合物である。
【００９９】
特に、以下の式ＩＩＩ−Ｆ１〜式ＩＩＩ−Ｇ５の化合物が好ましい：
【０１００】
【化２２】
【０１０１】
【化２３】
【０１０２】
【化２４】
【０１０３】
【化２５】
【０１０４】
他の好ましい式ＩＩＩの化合物は、Ｒ１１が式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１がＨ又はアセチル基である化合物である。
【０１０５】
実際、これらの化合物は細胞膜を通過し、プロアポトーシス性を有する。
【０１０６】
特に、以下の式ＩＩＩ−Ｈ１〜式ＩＩＩ−Ｋ５の化合物が好ましい化合物である：
【０１０７】
【化２６】
【０１０８】
【化２７】
【０１０９】
【化２８】
【０１１０】
【化２９】
【０１１１】
【化３０】
【０１１２】
これらの化合物を製造する本発明による方法は、既に製造されている式Ｉの化合物、又は上記されている方法に従って製造する式Ｉの化合物を使用する方法である。
【０１１３】
式ＩＩＩを有する本発明の４−デオキシ−α−ガラクトセラミドアナログを製造する方法は、
（ａ）既に製造されている式Ｉ（式中、Ｒ５は、好ましくはＨである）の化合物、又はこの化合物を製造する上記方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）式ＩＩＩの化合物において、Ｒ２１がＦである場合、式Ｉの化合物をフッ素化する工程、又はＲ２１がＮＨ２である場合、式Ｉの化合物を、アジ化ナトリウムの存在下、ルイス酸又はアゾジカルボン酸ジイソプロピル（ＤＩＡＤ）若しくはジエチルアゾカルボキシレート（ＤＥＡＤ）等のミツノブ活性化剤により活性化する工程であって、それにより式Ｉの化合物のアジドアナログを得る工程と、
（ｃ）この式Ｉの化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【０１１４】
【化３１】
【０１１５】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
のエチレン性化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｄ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ）工程（ｄ）で得られた化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１１６】
【化３２】
【０１１７】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｆ）Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５がベンジル保護基である場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によって二重結合及び保護基を除去する工程と、
を含む。
【０１１８】
この工程で、式ＩＩＩ（式中、Ｒ１１はＨであり、且つＲ２１はＯＨである）の化合物が得られる。
【０１１９】
式ＩＩＩ（式中、Ｒ１１はＨとは異なり、且つＲ２１はＯＨである）の化合物を得るために、これらの化合物を製造する方法は、工程（ａ）、工程（ｃ）と、その後の
（ｆ’）スフィンゴシル鎖の３位のアルコールをＴＢＤＰＳで選択的に保護する工程を含み、次いで、上記の工程（ｄ）、工程（ｅ）、工程（ｆ）と、その後の
（ｇ’）例えば、ピリジン中、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）及び（４−ジ（メチルアミノ）ピリジン）（ＤＭＡＰ）の存在下、ガラクトシル環のＲ１１基を導入する工程と、
（ｈ’）Ｒ５の保護基を除去する工程と、
を実行する。
【０１２０】
Ｒ１１がＨとは異なり、且つＲ２１がＮＨ２である場合、工程（ａ）〜工程（ｅ）と、その後の
（ｆ’）アジド基をアミン基へと選択的に還元する工程と、
（ｇ’）アミン基をＢｏｃで保護する工程と、
（ｈ’）ピリジン中、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）及び４−ジ（メチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下、ガラクトシル環のＲ１１を導入する工程と、
（ｉ’）ＮＨ−Ｂｏｃ基を脱保護する工程と、
を実行する。
【０１２１】
なお、式ＩＩＩの化合物を製造する上記方法では、ＯＲ５と表記するスフィンゴシル鎖の３位に置換基を有する化合物から出発するが、最終生成物における対応する置換基はＲ２１である必要がある。したがって、上記の記述及び特許請求の範囲を含む以下の文章において、「Ｒ２１が、〜である場合」という用語は、「最終生成物においてＲ２１が、〜である必要がある場合」を意味する。同様に、「Ｒ１１が、〜である場合」という用語は、「最終生成物においてＲ１１が、〜である必要がある場合」を意味する。
【０１２２】
式Ｉの化合物から出発して、本発明は、スフィンゴシル鎖の３位のヒドロキシル基がアセトン（a cetone）基で置き換えられたα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法も提供する。
【０１２３】
この化合物は、以下の式ＩＶ：
【０１２４】
【化３３】
【０１２５】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、
【０１２６】
【化３４】
【０１２７】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７アルキル鎖若しくはＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【０１２８】
【化３５】
【０１２９】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する。
【０１３０】
これらの式ＩＶのα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法は、
（ａ）式Ｉの化合物を準備する工程、又は上記方法によって式Ｉの化合物を製造する工程と、
（ｂ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【０１３１】
【化３６】
【０１３２】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）遷移金属錯体の媒介によりアリルアルコールをケトンへと異性化させる工程と、
（ｄ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１３３】
【化３７】
【０１３４】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをアミド化反応させる工程と、
（ｆ）保護基を除去する工程と、
を含む。
【０１３５】
Ｒ９がＣＨ３である場合、式ＩＶの化合物は、式ＩＩＩの化合物との接触時に、交差メタセシス（methatesis）カップリング反応の副生成物として直接得られる。
【０１３６】
しかし、既述したように、保護されたか、又は保護されていないヒドロキシル基をスフィンゴシル鎖の３位及び４位の両方に含むα−ガラクトセラミドアナログも、本発明の方法によって製造することができる。
【０１３７】
より正確には、本発明は、以下の式Ｖ：
【０１３８】
【化３８】
【０１３９】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ５及びＲ８はＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、Ｃ３〜Ｃ７アルキル鎖及びＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であって、
【０１４０】
【化３９】
【０１４１】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等のヘテロアリールを含有してもよく、又はＲ９は以下の式：
【０１４２】
【化４０】
【０１４３】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法であって、
（ａ）式ＩＩの化合物、又は本発明の方法によって得られる式ＩＩの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【０１４４】
【化４１】
【０１４５】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｄ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１４６】
【化４２】
【０１４７】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｅ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、式Ｖ（式中、Ｒ５、Ｒ８及びＲ１１はＨである）の化合物を得る工程と、
を含む、方法に関する。
【０１４８】
しかし、式Ｖ（式中、Ｒ１１はＨとは異なり、且つＲ５及びＲ８はＨである）の化合物を得るために、工程（ｃ）〜工程（ｅ）は、以下の工程（ｃ’）〜工程（ｈ’）：
（ｃ’）Ｒ５及びＲ８がＨである場合、スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを保護する工程と、
（ｄ’）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ’）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１４９】
【化４３】
【０１５０】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｆ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを除去する工程と、
（ｇ’）Ｒ１１を導入する工程と、
（ｈ’）スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを脱保護する工程と、
で置き換えられる。
【０１５１】
しかし、式Ｖの化合物はまた、式Ｉ（式中、Ｒ５はＨである）の中間体化合物から出発して製造してもよい。
【０１５２】
この場合、上記で定義した式Ｖの化合物を製造する方法は、
（ａ）式Ｉの化合物を準備する工程、又は上記方法によって式ＩＩの化合物を製造する工程と、
（ｂ）工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化して、以下の式ＩＩ−１：
【０１５３】
【化４４】
【０１５４】
の化合物を得る工程と、
（ｃ）有機アセチレン化合物を式ＩＩ−１の化合物に加えて、以下の式ＩＩ−２：
【０１５５】
【化４５】
【０１５６】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）式ＩＩ−２の化合物を部分的に水素化する工程と、
（ｅ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【０１５７】
【化４６】
【０１５８】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｆ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｇ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１５９】
【化４７】
【０１６０】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｈ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、式Ｖ（式中、Ｒ５、Ｒ８及びＲ１１はＨである）の化合物を得る工程と、
を含む。
【０１６１】
しかし、式Ｖ（Ｒ１１はＨとは異なり、且つＲ５、Ｒ８はＨである）の化合物を得るために、上記の工程（ａ）〜工程（ｃ）と、その後の
（ｄ’）Ｒ５及びＲ８がＨである場合、スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを保護する工程と、その後の上記の工程（ｄ）〜工程（ｇ）と、その後の
（ｉ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを除去する工程と、
（ｊ’）Ｒ１１を導入する工程と、
（ｋ’）スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを脱保護する工程と、
を実行する。
【０１６２】
明らかに、本発明のさらなる目的は、以下の式Ｖ：
【０１６３】
【化４８】
【０１６４】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ２１はＯＨ又はＦ又はＮＨ２であり、
Ｒ８はＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、Ｃ３〜Ｃ７アルキル鎖及びＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であって、
【０１６５】
【化４９】
【０１６６】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等のヘテロアリールを含有してもよく、
又はＲ９は以下の式：
【０１６７】
【化５０】
【０１６８】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨであり、
但し、Ｘ＝Ｏである場合、Ｒ８はＨではない）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログである。
【０１６９】
天然α−ガラクトセラミド又は合成α−ガラクトセラミドＫＲＮ７０００の多数のアナログを非常に容易且つ簡単に製造することを可能とする式Ｉ又は式ＩＩの中間体化合物を使用することにより、２つのガラクトシル（galatosyl）分子を含むα−ガラクトセラミド化合物を製造することができる。
【０１７０】
したがって、本発明のさらなる目的は、以下の式ＶＩ：
【０１７１】
【化５１】
【０１７２】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）、ＮＨであり、
Ｒ５は上記で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１４は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基、又は以下の式：
【０１７３】
【化５２】
【０１７４】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法である。
【０１７５】
以下の式：
【０１７６】
【化５３】
【０１７７】
の鎖は、式ＶＩの化合物のアミノ官能基の間に環状化合物を導入するのに特に有用且つ有益である。
【０１７８】
式ＶＩの化合物の２つのアミノの官能基の間に環状基を有するかかる化合物は、その生物学的潜在性（potentiality）のため、また、不斉触媒（catalysis）又はクリプタンド（l cryptand）錯体のリガンドとして特に興味深い。
【０１７９】
式ＶＩの化合物を製造する本発明の方法は、
（ａ）既に製造されている式Ｉの化合物、又は本発明の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物同士を交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｄ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１８０】
【化５４】
【０１８１】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｅ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去する工程であって、式ＶＩ（式中、Ｒ１１はＨである）の化合物を得る工程と、
を含む。
【０１８２】
得られる式ＶＩの化合物が、Ｈとは異なるＲ１１基を有する必要がある場合、上記の工程（ａ）及び工程（ｂ）と、その後の以下の工程（ｃ’）：
（ｃ’）スフィンゴシル鎖の３位の２つのアルコールを保護する工程と、その後の工程（ｃ）〜工程（ｄ）と、その後の
（ｄ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを除去する工程と、
（ｇ’）糖部分のＲ１１を導入する工程と、
（ｈ’）スフィンゴシル鎖の３位のアルコールを脱保護する工程と、
を実行する。
【０１８３】
上記式ＶＩの化合物の範囲内である特に好ましい化合物は、以下の式ＶＩ−Ａ：
【０１８４】
【化５５】
【０１８５】
を有する化合物である。
【０１８６】
２つのグリコシル糖を有し、且つ式ＩＩの化合物から得られる、すなわち、スフィンゴシル鎖の３位及び４位の両方にヒドロキシル基を有するスフィンゴシル鎖を含む化合物も、本発明の目的である。それらは、以下の式ＶＩＩ：
【０１８７】
【化５６】
【０１８８】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ２１はＯＨ又はＦ又はＮＨ２であり、
Ｒ８はＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１４は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基、又は以下の式：
【０１８９】
【化５７】
【０１９０】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログである。
【０１９１】
Ｒ１４が天然原子を含有する直鎖又は分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である場合、好ましくは、このＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖は、スフィンゴシル鎖の２つのアミノ官能基の間に環状化合物を形成するのに有用である、以下の式：
【０１９２】
【化５８】
【０１９３】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
を有する。
【０１９４】
最終生成物においてＲ２１がＯＨである必要がある（Ｒ２１は以下のＯＲ５で表記される）式ＶＩＩの化合物は、
（ａ）式ＩＩの化合物を準備する工程、又は本発明の方法によってこの化合物を製造する工程と、
（ｂ）この化合物同士を交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｄ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１９５】
【化５９】
式ＩＩＩ−２
【０１９６】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｅ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、式ＶＩＩ（式中、Ｒ１１はＨである）の化合物を得る工程と、
を含む、方法によって式ＩＩの化合物から直接得ることができる。
【０１９７】
式ＶＩＩ（式中、Ｒ１１はＨとは異なり、且つＲ５及びＲ８はＨである）の化合物を得るために、上記工程（ａ）と、その後の以下の工程（ｃ’）：
（ｃ’）スフィンゴシル基の３位及び４位のアルコールを保護する工程と、
を実行し、次に、
上記の工程（ｃ）〜工程（ｄ）を実行した後、以下の工程（ｅ’）、工程（ｆ’）及び工程（ｇ’）：
（ｅ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを除去する工程と、
（ｆ’）糖部分のＲ１１を導入する工程と、
（ｇ’）３位のアルコールを脱保護する工程と、
を実行する。
【０１９８】
本発明のすべての製造方法において、保護基の除去は、「有機合成における保護基」John Wiley & Sonsに記載されている方法等の既知の方法によって実行する。
【０１９９】
例えば、ベンジル基を除去するために、化合物を、メタノール、エタノール、２−プロパノール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等の脱ベンジル化反応に関与しない溶媒中、触媒（例えば、Ｐｄ−Ｃ、Ｐｄ（ＯＨ）２、ＰｔＯ２等）の存在下、室温で撹拌する。
【０２００】
しかし、当業者には明確に想起されるように、式ＩＩの化合物から出発して得ることもできる。
【０２０１】
式ＩＩＩ、式ＩＶ、式Ｖ、式ＶＩ及び式ＶＩＩの化合物は、ヒトモデルで生物活性があり、医薬組成物の有効成分として特に有用なものとなっている。したがって、本発明の他の目的は、少なくとも１つの式ＩＩＩ〜式ＶＩＩの化合物と薬学的に許容される担体とを含む、医薬組成物である。
【０２０２】
同様に、本発明のさらなる目的は、式ＩＩＩ〜式ＶＩＩの化合物を製造する本発明による工程によって得られる少なくとも１つの化合物と薬学的に許容される担体とを含有する、医薬組成物である。
【０２０３】
添付の図面に言及する以下の記述を解釈することで、本発明はより理解されるとともに、本発明の他の特徴及び利点がより明確になる。
【図面の簡単な説明】
【０２０４】
【図１】ａ）ＮＫＴｉのポリクローナル集団単独である、ＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｂ）ＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｃ）０．１μｇ／ｍｌの合成対照α−ガラクトシルセラミドＫＲＮ７０００を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｄ）１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｅ）１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴによるＩＬ−４の産生を示す図である。
【図２】ａ）ＮＫＴｉのポリクローナル集団単独である、ＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｂ）ＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｃ）０．１μｇ／ｍｌの合成対照α−ガラクトシルセラミドＫＲＮ７０００を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｄ）０．１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｅ）１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴによるＩＦＮ−γの産生を示す図である。
【図３】ａ）ＮＫＴｉのポリクローナル集団単独である、ＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｂ）ＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｃ）０．１μｇ／ｍｌの合成対照α−ガラクトシルセラミドＫＲＮ７０００を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｄ）０．１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｅ）１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴによるＴＮＦ−αの産生を示す図である。
【図４】ポリクローナルＭＡＤ１１細胞及びモノクローナル非自己反応性１９Ｓ−３細胞における、０．５μｇ／ｍｌ〜５０μｇ／ｍｌの濃度での、図４中ＶＬ３３５と表記する式ＩＩＩ−Ａの化合物によるα−ＴＮＦの刺激を示す図である。
【図５】ポリクローナルＭＡＤ１１細胞及びモノクローナル非自己反応性１９Ｓ−３細胞における、０．５μｇ／ｍｌ〜５０μｇ／ｍｌの濃度での、図５中ＶＬ３３８と表記する式ＩＩＩ−Ｄの化合物によるα−ＴＮＦの刺激を示す図である。
【図６】ポリクローナルＭＡＤ１１細胞及びモノクローナル非自己反応性１９Ｓ−３細胞における、０．５μｇ／ｍｌ〜５０μｇ／ｍｌの濃度での、図６中ＶＬ３５１と表記する式ＩＩＩ−Ｃの化合物によるα−ＴＮＦの刺激を示す図である。
【図７】ポリクローナルＭＡＤ１１細胞及びモノクローナル非自己反応性１９Ｓ−３細胞における、０．５μｇ／ｍｌ〜５０μｇ／ｍｌの濃度での、図７中ＶＬ３６７と表記する式ＩＩＩ−Ｄの化合物によるα−ＴＮＦの刺激を示す図である。
【図８】ＰＢＬ細胞に対する、高濃度（１０μｇ／ｍｌ、２５μｇ／ｍｌ及び５０μｇ／ｍｌ）の、図８中３３５と表記する式ＩＩＩ−Ａの化合物、図８中３３８と表記する式ＩＩＩ−Ｂの化合物、図８中３５１と表記する式ＩＩＩ−Ｃの化合物、図８中３６７と表記する式ＩＩＩ−Ｄの化合物によるα−ＴＮＦの刺激を示す図である。
【図９】対照化合物、すなわち、ロスコビチン、タキソール（登録商標）、ドキソルビシン及びフルオロウラシル（Fluorouracyl）と比較した、３つの腫瘍性細胞に対する、式ＩＩＩ−Ａ〜式ＩＩＩ−Ｄの化合物の細胞毒性試験の結果を示す図である。
【図１０】多発性骨髄腫細胞に対する、式ＩＩＩ−Ａ〜式ＩＩＩ−Ｄの化合物の毒性及び図１０中対照と表記するブランクとしての溶媒ＤＭＳＯ単独の毒性を示す図である。
【図１１】腫瘍性ナマルバ細胞における、μｇ／ｍｌの、図１１中３３５と表記する式ＩＩＩ−Ａの化合物及びＧｂ３によるα−ＴＮＦの刺激の比較を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０２０５】
当然のことながら、以下に示す実施例は決して、記載する特定の実施形態に本発明を限定しない。
【実施例】
【０２０６】
材料及び方法
通常の方法
水の影響を受ける反応は、火炎乾燥した（flame-dried）ガラス器具内でアルゴン雰囲気下で実施した。すべての溶媒は試薬グレードであった。ＴＨＦは、アルゴン下でナトリウム／ベンゾフェノンから新たに蒸留した。Ｅｔ２Ｏは、アルゴン下でナトリウムから新たに蒸留した。ＭｅＯＨ及びＤＣＭは、アルゴン下で水素化カルシウムから新たに蒸留した。ＤＭＦは、使用前にアルゴン下で蒸留した。
【０２０７】
融点
融点は、Kofferの加熱システムを備えるＲＣＨ（C. Reichert）顕微鏡で測定した。
【０２０８】
クロマトグラフィ
すべての反応は、薄層クロマトグラフィ（Ｋｉｅ−ｓｅｌｇｅｌ ６０Ｆ２５４ MERCKアルミニウムシート）でモニタリングした。
【０２０９】
シリカゲル６０ ＡＣＣ ４０μｍ〜６３μｍ（Carbo-erba reactifs−ＳＤＳ）でフラッシュカラムクロマトグラフィを実施した。
【０２１０】
旋光度測定
旋光度値は、Ｎａランプ照射下、Perkin Elmerの３４１旋光計で１００ｍｍのセル中で測定した。
【０２１１】
赤外分光法
ＩＲスペクトルは、BRUCKNERのＶｅｃｔｏｒ ２２分光計を用いて記録した。波数はｃｍ−１で示す。
【０２１２】
核磁気共鳴分光法
ＮＭＲスペクトルは、残留溶媒を内部標準として、３００ＭＨｚ（１Ｈ）及び７５ＭＨｚ（１３Ｃ）でBRUCKNERのＡｖａｎｃｅ ３００を用いて記録した。カップリング定数はヘルツで表す。シグナルの多重度は、ｓ（一重線（singulet））、ｄ（二重線）、ｔ（三重線）、ｑ（四重線）、ｍ（多重線）、ｂｓ（幅広い一重線）、ｄｄ（二重線の二重線）、ｄｔ（三重線の二重線）．．．と略記する。
【０２１３】
実施例１：式Ｉの化合物の合成：
１）式Ｉ−１の２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシルフルオリドの合成
【０２１４】
【化６０】
【０２１５】
式Ｉ−３の１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチルガラクトピラノース７の合成
アルゴン下０℃で無水ＣＨ２Ｃｌ２及びピリジン（６０ｍＬ／１００ｍＬ）の混合物に溶解したＤ−ガラクトース（２０ｇ、１１１ｍｍｏｌ、１当量）に、４−ジメチルアミノピリジン（１．３４ｇ、１１ｍｍｏｌ、０．１当量）を加え、無水酢酸（５９．８ｍＬ、６３２．７ｍｍｏｌ、５．７当量）を滴下した。混合物を２４時間加熱還流した。ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させ、粗生成物をＣＨＣｌ３（２００ｍＬ）で希釈し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で洗浄した。有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。粗生成物（３９．０ｇ、９０％）を次工程に用いた。
【０２１６】
【化６１】
【０２１７】
フェニル２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−チオ−β−Ｄ−ガラクトピラノシド８の合成
アルゴン下室温でベンゼン（４３０ｍＬ）に溶解した粗生成物７に、チオフェノール（２０．４ｍＬ、２００ｍｍｏｌ、２当量）及び四塩化スズ（１０．６ｍＬ、９０ｍｍｏｌ、０．９当量）を加えた。溶液を２時間加熱還流した。褐色の混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３００ｍＬ）で中和し、ＣＨ２Ｃｌ２（１５０ｍＬ）で希釈した。水層をＣＨ２Ｃｌ２（３×１００ｍＬ）で抽出した。集めた有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ６０：４０）で精製することにより、８を黄色のオイルとして得た（３４．５ｇ、７８％）。
【０２１８】
【化６２】
【０２１９】
フェニル１−チオ−β−Ｄ−ガラクトピラノシド９の合成
アルゴン下無水ＭｅＯＨ（８００ｍＬ）に溶解した８（３１．７ｇ、７２．０７ｍｍｏｌ、１当量）に、ナトリウムメタノラート（１７．３ｇ、３０２．７ｍｍｏｌ、４．２当量）を加えた。１時間撹拌した後、アンバーライトＩＲ １２０（３００ｇ）を加え、混合物をｐＨ＝７まで１５分間撹拌した。溶液をアルミナを通して濾過した。ケーキをＭｅＯＨ（１５０ｍＬ）で洗浄し、有機層を濃縮した。粗生成物を次工程に用いた。
【０２２０】
【化６３】
【０２２１】
フェニル２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−１−チオ−β−Ｄ−ガラクトピラノシド１０の合成
アルゴン下０℃で無水ＤＭＦ（１５００ｍＬ）に溶解した粗生成物９（７２．１ｍｍｏｌ、１当量）に、水素化ナトリウム（１０．７ｇ、４４６．８ｍｍｏｌ、６．２当量）を加えた。１５分後、臭化ベンジル（５４ｍＬ、４５４ｍｍｏｌ、６．３当量）及び触媒量のヨウ化カリウムを滴下した。混合物を室温で３時間撹拌し、水（５００ｍＬ）及びＥｔ２Ｏ（６００ｍＬ）で希釈した。水相をＥｔ２Ｏ（３×３００ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９０：１０）で精製することにより、１０を粘稠性のあるシロップとして得た（２７．５ｇ、２工程を通じて６０％）。
【０２２２】
【化６４】
【０２２３】
２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシルフルオリド１１の合成
アルゴン下−１５℃の１０（１０．０ｇ、１５．８２ｍｍｏｌ、１当量）の無水ＣＨ２Ｃｌ２（１９１ｍＬ）溶液に、三フッ化ジエチルアミノ硫黄（３．１４ｍＬ、２３．７３ｍｍｏｌ、１．５当量）を加え、２分後、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３．６６ｇ、２０．５７ｍｍｏｌ、１．３当量）を加えた。−１５℃で３０分間撹拌した後、反応物をＣＨ２Ｃｌ２（４２０ｍＬ）で希釈し、冷飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１９５ｍＬ）に注いだ。有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９４：６）で精製することにより、１１を粘稠性のあるシロップとして得た（６．３ｇ、７３％）。
【０２２４】
【化６５】
【０２２５】
２）式Ｉ−２の（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−３−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル）−ペント−４−エン−１−オールの合成
【０２２６】
【化６６】
【０２２７】
上記スキームに示すように、エナンチオピュアなスフィンゴシン６が、６工程、合計収率１７％で得られる。この合成は、触媒量のＢＦ３・ＯＥｔ２を使用する、アンモニアで中和した後のグリシンエチルエステル塩酸塩と、（＋）−（１Ｒ，２Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−ピナノンとの間のイミノ化反応で開始する。得られる生成物１は優れた収率で得られる。次に、チタン塩及びトリエチルアミンの存在下でのイミノエステル１とアクロレインとの不斉アルドール反応により、所望のアリルアルコール２が比較的好収率で、且つ９８：２超の優れたジアステレオ異性体比で得られる。キラル補助基を酸加水分解した後、アミノ基及びアルコール基をそれぞれ、標準的な条件下、Ｂｏｃ基及びＴＢＤＰＳ基で保護する。こうして、エステル官能基の還元後、標的のスフィンゴシン６が得られる。
【０２２８】
より正確には、式Ｉ−２の化合物は以下のようにして得られる。
【０２２９】
エチル［１α，２β，５α］−１−［（２−（２Ｒ）−ヒドロキシ−２，６，６，−トリメチルビシクロ［３．１．１］ヘプト−３−イリデン）アミノ］エタノエート１
グリシンエチルエステル塩酸塩（１６．６ｇ、１１８．９ｍｍｏｌ、２当量）をベンゼン９３ｍＬに溶解し、１５分間アンモニアガスで中和した。アンモニウム塩を濾過によって除去し、溶液を（＋）−（１Ｒ，２Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−ピナノン（１０ｇ、５９．４４ｍｍｏｌ、１当量）に加えた。触媒量の三フッ化ホウ素ジエチルエーテラートを加え、得られた溶液をディーン・スターク装置で４時間加熱還流した。そのまま処理せずに、ベンゼンを蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ５０：５０）で精製することにより、イミン１を黄色のオイルとして得た（１４．２ｇ、９４％）。
【０２３０】
【化６７】
【０２３１】
アルドール反応生成物（aldolisation）２
アルゴン下０℃で無水ＣＨ２Ｃｌ２（２６ｍＬ）に溶解したイミノグリシネート１（１４．２ｇ、５６．０１ｍｍｏｌ、１．３当量）の溶液に、無水ＣＨ２Ｃｌ２（４２ｍＬ）中のクロロチタニウムトリイソプロポキシド（１４．６０ｇ、５６．０１ｍｍｏｌ、１．３当量）を加えた。無水ＣＨ２Ｃｌ２（２１ｍＬ）に溶解したアクロレイン（２．９６ｍＬ、４３．０９ｍｍｏｌ、１当量）を加えると、色が黄色から橙色へと変化した。最後に、トリエチルアミン（１３．２ｍＬ、９４．８０ｍｍｏｌ、２．２当量）を加えると、沈殿物が生じた。反応物を０℃で４時間撹拌し、飽和食塩水（brine：ブライン）（３００ｍＬ）を加えて希釈した。混合物をＥｔＯＡｃ（６００ｍＬ）及び水（５００ｍＬ）で希釈し、セライトを通して濾過した。ケーキをＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で洗浄した。水溶液をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。集めた有機抽出物をＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ：５０／５０）で精製することにより、エチルエステル及びイソプロピルエステルの２５／７５の比での混合物をオイルとして得た（８．４ｇ、６０％）。
【０２３２】
イソプロピル｛１Ｒ−［１α，２β，３（２Ｒ，３Ｒ），５α］｝−３−ヒドロキシ−２−[（２−ヒドロキシ−２，６，６，−トリメチルビシクロ（trimethylbicclo）［３．１．１］ヘプト−３−イリデン）アミノ］ペント−４−エノエート
【０２３３】
【化６８】
【０２３４】
エチル｛１Ｒ−［１α，２β，３（２Ｒ，３Ｒ），５α］｝−３−ヒドロキシ−２−［（２−ヒドロキシ−２，６，６，−トリメチルビシクロ［３．１．１］ヘプト−３−イリデン）アミノ］ペント−４−エノエート
【０２３５】
【化６９】
【０２３６】
化合物５の製造
イミン３の酸加水分解
イミン２（８．４ｇ、２６．０ｍｍｏｌ、１当量）をＴＨＦ（４６ｍＬ）に溶解し、１．０Ｍ ＨＣｌ水溶液（１８２ｍＬ、１８２ｍｍｏｌ、７当量）を加えた。混合物を室温で３日間撹拌した。ＴＨＦ及び水を一部蒸発させ、粗生成物をそのまま次工程に用いた。
【０２３７】
【化７０】
【０２３８】
Ｂｏｃ基４によるアミンの保護
アミン３（２６．０ｍｍｏｌ）をアルゴン下０℃でＤＭＦ（９３ｍＬ）に溶解した後、ＤＭＦ（９３ｍＬ）に溶解したトリエチルアミン（５７．９ｍＬ、４１６．５ｍｍｏｌ、１６当量）及びジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（１１．９ｇ、５４．７ｍｍｏｌ、２．１当量）を加えた。混合物を室温で２４時間撹拌した後、水（４５０ｍＬ）を加え、Ｅｔ２Ｏ（２５０ｍＬ）で希釈した。水相をＥｔ２Ｏ（３×１００ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。粗生成物を次工程に用いた。
【０２３９】
【化７１】
【０２４０】
シリル基５によるアルコールの保護
エステル４（２６．０３ｍｍｏｌ）をアルゴン下室温でＤＭＦ（７３ｍＬ）に溶解した後、イミダゾール（４．４３ｇ、６５．０８ｍｍｏｌ、２．５当量）及びｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルクロリド（８．５９ｇ、３１．２４ｍｍｏｌ、１．２当量）を加えた。混合物を室温で２４時間撹拌した後、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（２５０ｍＬ）を加え、Ｅｔ２Ｏ（２５０ｍＬ）で希釈した。水相をＥｔ２Ｏ（２×１２５ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、シリカを通して濾過することにより、過剰のＤＭＦを除去し、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９５：５）で精製することにより、シリル副生成物と５との混合物を得た（１１．２ｇ）。
【０２４１】
【化７２】
【０２４２】
エステル基６の還元
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−３−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル）−ペント−４−エン−１−オール
先の粗混合物をアルゴン下０℃で無水Ｅｔ２Ｏ（１２８ｍＬ）に溶解した。この溶液に、蒸留メタノール（２．２２ｍＬ、５４．６５ｍｍｏｌ、７当量）及びＴＨＦ中２Ｍの水素化ホウ素リチウム（２７ｍＬ、５４．６５ｍｍｏｌ、７当量）を加えた。反応混合物を２４時間かけて室温まで昇温させ、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（２００ｍＬ）を加えて希釈し、ＥｔＯＡｃ（３００ｍＬ）で希釈した。水相をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８０：２０）で精製することにより、６をシロップとして得た（３．５ｇ、４工程を通じて３０％）。
【０２４３】
【化７３】
【０２４４】
３）式Ｉ−１の化合物と上記工程２で得られた式Ｉ−２の化合物とのグリコシドカップリング
【０２４５】
【化７４】
【０２４６】
式Ｉ−１及び式−Ｉ−２の化合物を、塩化スズ及び過塩素酸銀の存在下、０℃でともに反応させた。このグリコシドカップリングにより、アノマー１２とアノマー１２βとの混合物を１．６／１の比で得た。これら２つの化合物をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィで分離した。ＴＢＡＦによるＴＢＤＰＳ基の脱保護を異性体１２に対して実行することにより、１３（式Ｉの化合物）を得た。
【０２４７】
より正確には、以下の工程を実行する。
【０２４８】
（３Ｒ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−５−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−３−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル）ペント−１−エン−３−オール１２
モレキュラーシーブ（３０ｇ）を真空下６００℃で２時間撹拌し、アルゴン下０℃に置いた。塩化スズ（４．４１ｇ、２３．２４ｍｍｏｌ、３当量）及び過塩素酸銀（５．２５ｇ、２３．２４ｍｍｏｌ、３当量）を無水ＴＨＦ（５４ｍＬ）に溶解した。混合物を暗所でアルゴン下０℃で２．５時間撹拌した。無水Ｅｔ２Ｏ（８４ｍＬ）に溶解したスフィンゴシン６（３．５３ｇ、７．７５ｍｍｏｌ、１当量）の溶液に、無水Ｅｔ２Ｏ（９９ｍＬ）に溶解したフルオロ糖１１（６．２９ｇ、１１．６１ｍｍｏｌ、１．５当量）を加えた。混合物をカニューレによってルイス酸溶液に加えた。得られた溶液を０℃で２０分間撹拌した。混合物をセライトを通して濾過し、ケーキをＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ）で洗浄した。有機層を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（３×１００ｍＬ）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９２：８）で精製することにより、１２をシロップとして得た（２．５ｇ、３３％）。
【０２４９】
【化７５】
【０２５０】
（３Ｒ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−５−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ペント−１−エン−４−オール１３
室温でＴＨＦ（１１ｍＬ）に溶解した１２（２．５１ｇ、２．５６ｍｍｏｌ、１当量）に、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物（２．０２ｇ、６．４１ｍｍｏｌ、２．５当量）を加えた。混合物を室温で１６時間撹拌し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（３０ｍＬ）で希釈した。水層をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ６５：３５）で精製することにより、１３を白色の固体として得た（１．６ｇ、８５％）。
【０２５１】
【化７６】
【０２５２】
実施例２：式ＩＩＩ−Ａの化合物の合成
【０２５３】
【化７７】
【０２５４】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプタデカ−４−エン−３−オール１４
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（４．６ｍＬ）に溶解した１３（式Ｉの化合物）（４５０ｍｇ、０．６０８ｍｍｏｌ、１当量）に、テトラデセン（１．６ｍＬ、６．０８ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（２６ｍｇ、０．０３０ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を１７時間加熱還流した。テトラデセン（１．６ｍＬ、６．０８ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（２６ｍｇ、０．０３０ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加え、溶液の撹拌を７時間継続した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８５：１５）で精製することにより、１４をオイルとして得た（２５０ｍｇ、４５％）。
【０２５５】
【化７８】
【０２５６】
Ｂｏｃ１５の脱保護
１４（１３０ｍｇ、０．１４３ｍｍｏｌ、１当量）を無水ＴＨＦ（２４ｍＬ）に溶解し、ＴＬＣ上で出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０２５７】
４−ｐ−ニトロフェニルヘキサコサノエート１６の製造
アルゴン下室温でＣＨ２Ｃｌ２（６ｍＬ）に溶解したヘキサコサン酸（２００ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ、１当量）に、ｐ−ニトロフェノール（７０ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ、１当量）、ＤＣＣ（１０４ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ、１当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジン（６ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ、０．１当量）を加えた。混合物を暗所で１６時間撹拌した。反応物をシリカゲルを通して濾過し、濾液を濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＣＨ２Ｃｌ２ ７５：２５）で精製することにより、１６を白色の固体として得た（２１５ｍｇ、８３％）。
【０２５８】
【化７９】
【０２５９】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（Ｎ−ヘキサコサノイルアミノ）−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプタデカ−４−エン−３−オール１７
アルゴン下室温でＴＨＦ（５．７ｍＬ）に溶解した塩酸塩１５（０．１４３ｍｍｏｌ、１当量）に、１６（７４ｍｇ、０．１４３ｍｍｏｌ、１当量）、トリエチルアミン（２４μＬ、０．１７２ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加えた。混合物を１６時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）で希釈した。水層をＥｔ２Ｏ（２×１５ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８６：１４）で精製することにより、１７を白色のオイルとして得た（７５ｍｇ、２工程を通じて４４％）。
【０２６０】
【化８０】
【０２６１】
（２Ｓ，３Ｒ）−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−２−ヘキサコサノイルアミノヘプタデカン−３−オール１８ 式ＩＩＩ−Ａの化合物
室温でＭｅＯＨ（４．７ｍＬ）及びＴＨＦ（２．３ｍＬ）に溶解した１７（６４ｍｇ、０．０５４ｍｍｏｌ、１当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（６４ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。３．５日後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３の組合せで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ １００：０〜９５：５）で精製することにより、白色の固体（３０ｍｇ、６７％）を得た。
【０２６２】
【化８１】
【０２６３】
実施例３：式ＩＩＩ−Ｂの化合物の合成
【０２６４】
【化８２】
【０２６５】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ノン−４−エン−３−オール１９
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（４ｍＬ）に溶解した１３（３００ｍｇ、０．４０５ｍｍｏｌ、１当量）に、ヘキサ−１−エン（５０２μＬ、４．０５ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（１７ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を２４時間加熱還流した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクラマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８０：２０）で精製することにより、１９を白色の固体として得た（２４０ｍｇ、７５％）。
【０２６６】
【化８３】
【０２６７】
Ｂｏｃの脱保護２０
１９（２３８ｍｇ、０．２９９ｍｍｏｌ、１当量）を無水ＴＨＦ（２１ｍＬ）に溶解し、ＴＬＣ上で出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０２６８】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（Ｎ−ヘキサコサノイルアミノ）−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ノン−４−エン−３−オール２１
アルゴン下室温でＴＨＦ（１１．９ｍＬ）に溶解した塩酸塩２０（０．２９９ｍｍｏｌ、１当量）に、１６（１５５ｍｇ、０．２９９ｍｍｏｌ、１当量）、トリエチルアミン（５０μＬ、０．３５９ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加えた。混合物を２７時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（２０ｍＬ）で希釈した。水層をＥｔ２Ｏ（２×２０ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ７８：２２）で精製することにより、２１を白色のオイルとして得た（１８５ｍｇ、２工程を通じて５８％）。
【０２６９】
【化８４】
【０２７０】
（２Ｓ，３Ｒ）−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−２−ヘキサコサノイルアミノナン−３−オール２２：式ＩＩＩ−Ｂの化合物
室温でＭｅＯＨ（１３ｍＬ）及びＴＨＦ（６．５ｍＬ）に溶解した２１（１６２ｍｇ、０．１５１ｍｍｏｌ、１当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（１６２ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。３日後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３の組合せで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ ９５：５〜８５：１５）で精製することにより、白色の固体を得た（５６ｍｇ、５２％）。
【０２７１】
【化８５】
【０２７２】
実施例４：式ＩＩＩ−Ｃの化合物の合成
【０２７３】
【化８６】
【０２７４】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−７，７−ジメチル−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）オクト−４−エン−３−オール２３
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（５．５ｍＬ）に溶解した１３（４１０ｍｇ、０．５５４ｍｍｏｌ、１当量）に、４，４−ジメチルペント−１−エン（７９８μＬ、５．５４ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（２４ｍｇ、０．０２８ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を１２時間加熱還流した。４，４−ジメチルペント−１−エン（７９８μＬ、５．５４ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（２４ｍｇ、０．０２８ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加え、溶液の撹拌を１２時間継続した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８２：１８）で精製することにより、２３を白色のオイルとして得た（２３３ｍｇ、５２％）。
【０２７５】
【化８７】
【０２７６】
Ｂｏｃの脱保護２４
２３（２６２ｍｇ、０．３２４ｍｍｏｌ、１当量）を無水ＴＨＦ（２３ｍＬ）に溶解し、ＴＬＣ上で出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０２７７】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（Ｎ−ヘキサコサノイルアミノ）−７，７−ジメチル−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）オクト−４−エン−３−オール２５
アルゴン下室温でＴＨＦ（１３ｍＬ）に溶解した塩酸塩２４（０．３２４ｍｍｏｌ、１当量）に、１６（１６７ｍｇ、０．３２４ｍｍｏｌ、１当量）、トリエチルアミン（５４μＬ、０．３８９ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加えた。混合物を２０時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（２０ｍＬ）で希釈した。水層をＥｔ２Ｏ（２×２０ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８０：２０）で精製することにより、２５を白色のろうとして得た（２２９ｍｇ、２工程を通じて６５％）。
【０２７８】
【化８８】
【０２７９】
（２Ｓ，３Ｒ）−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−２−ヘキサコサノイルアミノ−７，７−ジメチルオクタン−３−オール２６−式ＩＩＩ−Ｃの化合物
室温でＭｅＯＨ（１６ｍＬ）及びＴＨＦ（８ｍＬ）に溶解した２５（２０６ｍｇ、０．１８９ｍｍｏｌ、１当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（２０６ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。３．５日後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３の組合せで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ ９９：１〜９５：５）で精製することにより、白色の固体を得た（３６ｍｇ、２６％）。
【０２８０】
【化８９】
【０２８１】
実施例５：式ＩＩＩ−Ｄの化合物の合成
【０２８２】
【化９０】
【０２８３】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−７−フェニル−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプト−４−エン−オール２７
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（４ｍＬ）に溶解した１３（３００ｍｇ、０．４０５ｍｍｏｌ、１当量）に、４−フェニル−ブト−１−エン（６０８μＬ、４．０５ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（１３ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を２４時間加熱還流した。４−フェニル−ブト−１−エン（６０８μＬ、４．０５ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ（１３ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加え、溶液の撹拌を３６時間継続した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８１：１９）で精製することにより、２７を白色のオイルとして得た（１４０ｍｇ、４１％）。
【０２８４】
【化９１】
【０２８５】
Ｂｏｃの脱保護２８
２７（１３７ｍｇ、０．１６２ｍｍｏｌ、１当量）を無水ＴＨＦ（１１．５ｍＬ）に溶解し、ＴＬＣ上で出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０２８６】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（Ｎ−ヘキサコサノイルアミノ）−７−フェニル−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプト−４−エン−３−オール２９
アルゴン下室温でＴＨＦ（６．５ｍＬ）に溶解した塩酸塩２８（０．１６２ｍｍｏｌ、１当量）に、１６（８４ｍｇ、０．１６２ｍｍｏｌ、１当量）、トリエチルアミン（２７μＬ、０．１９４ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加えた。混合物を１６時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）で希釈した。水層をＥｔ２Ｏ（２×１０ｍＬ）及びＣＨＣｌ３（２×１０ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ７６：２４）で精製することにより、２９を白色の粉末として得た（８３ｍｇ、２工程を通じて４６％）。
【０２８７】
【化９２】
【０２８８】
（２Ｓ，３Ｒ）−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−２−ヘキサコサノイルアミノ−７−フェニルヘプタン−３−オール３０−式ＩＩＩ−Ｄの化合物
室温でＭｅＯＨ（６ｍＬ）及びＴＨＦ（３ｍＬ）に溶解した２９（７９ｍｇ、０．０７０ｍｍｏｌ、１当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（４０ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。１７時間後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３の組合せで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ ９９：１〜９５：５）で精製することにより、白色の固体を得た（３９ｍｇ、７２％）。
【０２８９】
【化９３】
【０２９０】
実施例６：式ＶＩの二量体の合成
【０２９１】
【化９４】
【０２９２】
（２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ，７Ｓ）−２，７−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−１，８−ジ（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）オクト−４−エン−３，６−ジオール３１
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（１．３ｍＬ）に溶解した１３（１００ｍｇ、０．１３５ｍｍｏｌ、１当量）に、Ｇｒｕｂｂｓ−Ｈｏｖｅｙｄａ ＩＩ（４ｍｇ、０．００７ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を１６時間加熱還流した。Ｇｒｕｂｂｓ−Ｈｏｖｅｙｄａ ＩＩ（４ｍｇ、０．００７ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加え、溶液の撹拌を３日間継続した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ６０：４０）で精製することにより、３１を褐色のオイルとして得た（６１ｍｇ、３１％）。
【０２９３】
【化９５】
【０２９４】
Ｂｏｃの脱保護３２
３１（１２５ｍｇ、０．０８６ｍｍｏｌ、１当量）を無水ＴＨＦ（１２ｍＬ）に溶解し、ＴＬＣ上で出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０２９５】
（２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ，７Ｓ）−２，７−（ジ−Ｎ−ヘキサコサノイルアミノ）−１，８−ジ（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）オクト−４−エン−３，６−ジオール３３
アルゴン下室温でＴＨＦ（６．８ｍＬ）に溶解した塩酸塩３１（０．０８６ｍｍｏｌ、１当量）に、１６（８９ｍｇ、０．１７２ｍｍｏｌ、２当量）、トリエチルアミン（２９μＬ、０．２０６ｍｍｏｌ、２．４当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加えた。混合物を１９時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）で希釈した。水層をＣＨＣｌ３（２×１５ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ ９９：１）で精製することにより、３３を白色の粉末として得た（１００ｍｇ、２工程を通じて５８％）。
【０２９６】
【化９６】
【０２９７】
実施例７：式ＩＩＩ−Ｅの化合物の合成
【０２９８】
【化９７】
【０２９９】
炭素数５のスフィンゴイド鎖を有するＫＲＮ７００のアナログ３５α（式ＩＩＩ−Ｅの化合物）を、中間体１３から３工程で合成した。Ｂｏｃ保護基を除去し、ＴＨＦ還流下、ジメチルアミノピリジン及びトリエチルアミンの存在下、ｐ−ニトロフェニルヘキサコサノエート１６でアミノ基をアシル化することにより、ガラクトシルセラミド３４αが得られ、これを脱保護することにより、所期のアナログ３５αを得た。
【０３００】
より正確には、上記化合物は以下のようにして得られる。
【０３０１】
（３Ｒ，４Ｓ）−４−（ヘキサコサノイルアミノ）−５−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ペント−１−エン−３−オール３４α
【０３０２】
【化９８】
【０３０３】
誘導体１３（１２９ｍｇ、０．１７４ｍｍｏｌ、１．０当量）を無水ＴＨＦ（１０ｍＬ）に溶解し、出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０３０４】
アルゴン下室温でＴＨＦ（７ｍＬ）に溶解した塩酸塩（０．１７４ｍｍｏｌ、１．０当量）に、１６（９０ｍｇ、０．１７４ｍｍｏｌ、１．０当量）、トリエチルアミン（２９μＬ、０．２０９ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量のＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジンを加えた。混合物を１４時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で希釈した。水層をＥｔ２Ｏで抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ７５：２５）で精製することにより、３４αを無色の固体として得た（１１０ｍｇ、２工程を通じて６６％）。
【０３０５】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ヘキサコサノイルアミノ）−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ペンタン−３−オール３５α
【０３０６】
【化９９】
【０３０７】
室温でＭｅＯＨ（３．３ｍＬ）及びＴＨＦ（１．６ｍＬ）に溶解した化合物３４α（６０ｍｇ、０．０５９ｍｍｏｌ、１．０当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（４０ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。２４時間後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ）で精製することにより、３５αを得た。
【０３０８】
実施例８：式ＩＩＩ−Ａの化合物のフッ素化アナログである化合物ＩＩＩ−Ｆの合成
【０３０９】
【化１００】
【０３１０】
−７８℃でジクロロメタン中ＤＡＳＴ（三フッ化ジエチルアミノ硫黄（Diethylaminosulfure））試薬で１３（式Ｉ）を処理すると、所期の３−フルオロ誘導体３６αは収率３２％でしか得られず、一緒にオキサゾリジノン３７αが収率６２％で形成された。室温での同一の反応条件により、３−フルオロ−誘導体３６αが反応の主生成物として収率４７％で、オキサゾリジノン３７αが３５％で得られた。
【０３１１】
フッ素原子の存在は、ＮＭＲ分析によって証明され（Ｃ３に関しては、２ＪＨ３−Ｆ＝５３Ｈｚ及び１ＪＣ−Ｆ＝１７３Ｈｚ、Ｃ２及びＣ４に関してはそれぞれ、２ＪＣ−Ｆ＝２６Ｈｚ及び１９Ｈｚ）、以下のフッ素化アナログの絶対配置３（Ｒ）は、化合物３６αに対するＸ線解析によって固体状態で帰属した。
【０３１２】
【化１０１】
【０３１３】
フッ化誘導体３６αを、Ｇｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒の存在下、テトラデセンとのメタセシス交差カップリング反応に用いることにより、８３％の３−フルオロ−４−デオキシ−α−ガラクトシルスフィンゴイド３８αを得た。次に、Ｂｏｃ保護基を脱保護した後、ＴＨＦ還流下、ジメチルアミノピリジン及びトリエチルアミンの存在下でｐ−ニトロフェニルヘキサコサノエート１６でアシル化することにより、フルオロガラクトシルセラミド３９αを、３工程を通じて収率２８％で得た。３９αの接触水素化により、ＫＲＮ７０００の最終３−フルオロ−４−デオキシアナログ４０を得た。
【０３１４】
より正確には、式ＩＩＩ−Ｆの化合物は以下のようにして得た。
【０３１５】
（３Ｒ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−３−フルオロ−５−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ペント−１−エン３６α
【０３１６】
【化１０２】
【０３１７】
アルゴン下−７８℃でＣＨ２Ｃｌ２（３ｍＬ）に溶解した三フッ化ジエチルアミノ硫黄（５９μＬ、０．５４ｍｍｏｌ、１．２当量）に、アルコール１３（２６９ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ、１．０当量）を加えた。混合物を１０分間撹拌し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（５ｍＬ）で希釈した。水層をＣＨ２Ｃｌ２（３×５ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９０：１０）で精製することにより、３６αを白色の固体として（８６ｍｇ、３２％）、また、オキサゾリジノン３７αを無色のオイルとして得た（１５０ｍｇ、６２％）。
【０３１８】
【化１０３】
【０３１９】
４−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシルメチル）−５−ビニル−１，３−オキサゾリジン−（３Ｈ）−２−オン３７α
【０３２０】
【化１０４】
【０３２１】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−３−フルオロ−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプタデカ−４−エン３８α
【０３２２】
【化１０５】
【０３２３】
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（１ｍＬ）に溶解したフッ素化体３６α（９６ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ、１．０当量）に、テトラデセン（３３０μＬ、１．３ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（５ｍｇ、６μｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を２４時間加熱還流した。テトラデセン（３３０μＬ、１．３ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（５ｍｇ、６μｍｏｌ、０．０５当量）を加え、溶液の撹拌を４時間継続した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９０：１０）で精製することにより、３８αを無色のオイルとして得た（９８ｍｇ、８３％）。
【０３２４】
【化１０６】
【０３２５】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ヘキサコサノイルアミノ）−３−フルオロ−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプタデカ−４−エン３９α
【０３２６】
【化１０７】
【０３２７】
誘導体３８α（１５５ｍｇ、０．１７０ｍｍｏｌ、１．０当量）を無水ＴＨＦ（１２ｍＬ）に溶解し、出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０３２８】
アルゴン下室温でＴＨＦ（７ｍＬ）に溶解した塩酸塩（０．１７０ｍｍｏｌ、１．０当量）に、１６（８８ｍｇ、０．１７０ｍｍｏｌ、１．０当量）、トリエチルアミン（２９μＬ、０．２０４ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量のＮ，Ｎ’−ジメチル−４−アミノピリジンを加えた。混合物を１４時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液液で希釈した。水層をＥｔ２Ｏで抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９０：１０）で精製することにより、３９αを白色のろうとして得た。
【０３２９】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヘキサコサノイルアミノ−３−フルオロ−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプタデカン４０α
【０３３０】
【化１０８】
【０３３１】
室温でＭｅＯＨ（４．７ｍＬ）及びＴＨＦ（２．３ｍＬ）に溶解した化合物３９α（７０ｍｇ、０．０８４ｍｍｏｌ、１．０当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（６５ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。２４時間後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ）で精製することにより、４０αを得た。
【０３３２】
実施例９：本発明の化合物の生物学的特性の評価
本発明の化合物の生物学的特性は以下のように評価した：
【０３３３】
細胞培養
ＨｅＬａ細胞は、１９５１年に頸部腫瘍細胞から樹立された。トランスフェクトしたＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞は、Mitchell Kronenberg（ラ・ホーヤ・アレルギー免疫研究所（La Jolla Institute for Allergy and Immunology））（カリフォルニア州ラ・ホーヤ）によって親切にも提供された。これらの細胞は、１０％ウシ胎児血清（ＦＢＳ）（Eurobio）、２ｍＭのＬ−グルタミン（Invitrogen）、０．５ＵＩ／ｍｌのペニシリン及び０．５ｍｇ／ｍｌのストレプトマイシン（Invitrogen）を補充した１０００ｍｇ／ｍｌのグルコース（Biowest）を含有するＤＭＥＭ培地中で維持した。
【０３３４】
Ｗｅｈｉ １６４クローン１３細胞は、メチルコラントレンの注射によって誘導したＢａｌｂ／ｃマウスの線維肉腫から樹立された。これらの細胞は、１０％ ＦＢＳ、２ｍＭのＬ−グルタミン、０．５ＵＩ／ｍｌのペニシリン及び０．５ｍｇ／ｍｌのストレプトマイシンを補充したＲＰＭＩ培地（Biowest）（以下、ＣＭと称する）中で維持した。
【０３３５】
末梢血中単核細胞（ＰＢＭＣ）を、フィコール密度勾配遠心（LMS Eurobio）によって分離し、合成α−ガラクトシルセラミド（ＫＲＮ７０００）を添加した未成熟樹状細胞と１週間インキュベートした。ＮＫＴ細胞を、抗Ｖα２４モノクローナル抗体及び抗Ｖβ１１モノクローナル抗体（Beckman Coulter）を使用して、ＰＢＭＣから磁気細胞分離によってポジティブ選択した。１０％ ＦＢＳ、２ｍＭのＬ−グルタミン、０．５ＵＩ／ｍｌのペニシリン、０．５ｍｇ／ｍｌのストレプトマイシン及び３００Ｕ／ｍｌの組換えインターロイキン２（ＩＬ−２）（Chiron）を補充したＲＰＭＩ培地中に、ＮＫＴ細胞を広げ、維持した。
【０３３６】
サイトカイン放出アッセイ
糖脂質を固体形態で入手し、ＤＭＳＯ中に懸濁し、２回の連続的なインキュベーション（最初に５６℃で１０分間、その後、３７℃で少なくとも１時間）で可溶化した。
【０３３７】
ＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞を、３７℃で１６時間、様々な濃度の糖脂質とともにインキュベートし、ＣＭで３回洗浄した。ＣＭ中で２回洗浄してＩＬ−２を除去したＮＫＴ細胞をＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞に加えた。インターフェロン（ＩＦＮ）−γ及びＩＬ−４の産生に関してはＣＭ １５０μｌで、又は腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）−α産生に関しては１００μｌで、１５０００個のＮＫＴ細胞を３００００個のＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞と６時間インキュベートした（３連）。次に、上清を２回洗浄し、サイトカイン濃度評価まで−８０℃で保存した。
【０３３８】
上清中に放出されたＴＮＦ−αの量は、Ｗｅｈｉ １６４細胞毒性アッセイ（Hoffmann他, 1997）によって推定した。
【０３３９】
上清中のＩＦＮ−γ及びＩＬ−４の量は、それぞれＢＤ ＯｐｔｉＥＩＡ ＩＦＮ−γセット及びＢＤ ＯｐｔｉＥＩＡ ＩＬ−４セット（BD Biosciences）を用いて、ＥＬＩＳＡ（酵素結合免疫吸着アッセイ）によって評価した。試験は、供給業者の指示書に従って実施した。
【０３４０】
式ＩＩＩ−Ａの化合物を用いて実行した生物学的試験の結果
【０３４１】
【化１０９】
【０３４２】
式ＩＩＩ−Ａの化合物を用いて実行した試験の結果を図１〜図３に示すが、ここで、式ＩＩＩ−Ａの化合物はＶＬ３３５と表記する。
【０３４３】
ＮＫＴｉ細胞活性化は、３つのサイトカイン：腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）−α、インターフェロン（ＩＦＮ）−γ及びインターロイキン（ＩＬ）−４の産生によって評価する。単独での、又はＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞を添加した後の、又は様々な濃度の糖脂質ＫＲＮ７０００若しくは本発明の式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５と表記する）の化合物を用いたＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞を添加した後の、ＮＫＴｉ ＭＡＤ１１（ポリクローナル集団）によるサイトカイン産生を評価した。
【０３４４】
図１〜図３から把握することができるように、０．１μｇ／ｍｌの式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄとインキュベートした後のＮＫＴｉ ＭＡＤ１１によるサイトカインの産生は、０．１μｇ／ｍｌの合成対照α−ガラクトシルセラミドＫＲＮ７０００を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄとインキュベートした後のＮＫＴｉ ＭＡＤ１１によるサイトカインの産生を上回った。
【０３４５】
式ＩＩＩ−Ａ〜式ＩＩＩ−Ｄの化合物を用いて実行した相補的な生物学的試験の結果
この部では、図中で表記した本発明の化合物の表記を括弧内に示す。例えば、図中でＶＬ３３５又は３３５と表記する式ＩＩＩ−Ａの化合物は、以下の本明細書中、式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５）又は（３３５）の化合物と表記する。
【０３４６】
ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログ、すなわち、式ＩＩＩ−Ａ〜式ＩＩＩＩ−Ｄの化合物が自己反応性及び非自己反応性のｉＮＫＴリンパ球を活性化する能力を評価した。
【０３４７】
ｉＮＫＴ細胞の自己反応性は、外因性の（exogen）ガラクトシルセラミドアナログの存在下又は非存在下で、ＣＤ１ｄ受容体を発現するヒト腫瘍細胞に対して活性化される能力と定義されている。非自己反応性クローンを刺激するために使用した提示細胞は、ＣＤ１ｄ遺伝子でトランスフェクトしたＨｅＬａ細胞（図４〜図８）及びＰＢＬ細胞（末梢血リンパ球）（図９）に対応する。
【０３４８】
ＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞の自己反応性によって達成されるベースラインシグナルからの応答を見分けるために、提示細胞として使用するＰＢＬに関して自己反応性クローンの刺激を検討した。刺激効果は、培養上清（surnagent culture）中のα−ＴＮＦの産生によって評価した。刺激の最大値は、対照として使用するフィトヘマグルチニン（ＰＨＡ）によるｉＮＫＴ刺激の後に放出されるα−ＴＮＦの量によって証明した。バックグラウンドノイズは、ＣＤ１ｄ提示細胞の非存在下及びα−ガラクトシルセラミド基質（substrat）の非存在下で検出可能なα−ＴＮＦの量によって評価した。
【０３４９】
第１段階では、式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５、図４）、式ＩＩＩ−Ｂ（ＶＬ３３８、図５）、式ＩＩＩ−Ｃ（ＶＬ３５１、図６）及び式ＩＩＩ−Ｄ（ＶＬ３６７、図７）のα−ガラクトシルセラミドアナログを用いたＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ提示細胞からの非自己反応性ｉＮＫＴ細胞の刺激を評価した。結果から、式ＩＩＩ−Ａの化合物（ＶＬ３３５、ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログ）は、試験した最低の濃度（０．０５μｇ／ｍｌ）であっても、ＰＨＡ刺激レベルと比較して、α−ＴＮＦ放出の最大値を誘導することが既に可能であることが示される。同一の実験条件において、同様の最大刺激は、式ＩＩＩ−Ｄ（ＶＬ３６７）の化合物によっても誘導された。式ＩＩＩ−Ｃ（ＶＬ３５１）及び式ＩＩＩ−Ｂ（ＶＬ３３８）の化合物の存在下では、５０μｇ／ｍｌの最大濃度でも、α−ＴＮＦ産生の有意な刺激は誘導されなかった。
【０３５０】
これらの結果によって初めて、式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５）の化合物の４−デオキシＫＲＮ７０００アナログがヒト非自己反応性ｉＮＫＴリンパ球によってほぼ認識されることが明確に示された。７炭素短いスフィンゴイド（sphingoide）塩基の末端位にフェニル基を有する式ＩＩＩ−Ｄ（ＶＬ３６７）の化合物はまた、式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５）の化合物よりも２００倍高い濃度であっても、リンパ球応答の最大値を誘導することが可能である。予想通り、式ＩＩＩ−Ｂ（ＶＬ３３８、Ｔｈ２優位性（orientation）のＯＣＨの４−デオキシアナログ）の化合物及び嵩高いｔｅｒｔ−ブチル（terbutyl）末端基を有する式ＩＩＩ−Ｃ（ＶＬ３５１）の化合物は、高濃度であっても、非自己反応性ヒト細胞からのα−ＴＮＦ放出を刺激しないと考えられる。
【０３５１】
本発明者らの検討の第２部では、４−デオキシＫＲＮ７０００アナログがヒトの自己反応性又は非自己反応性のクローンを刺激する能力を、ＰＢＬに１０μｇ／ｍｌ、２５μｇ／ｍｌ及び５０μｇ／ｍｌのα−ガラクトシルセラミド（galactosylcermide）アナログを添加し、ｉＮＫＴ非自己反応性のＭＡＤ１１細胞及び１９Ｓ−３細胞及び自己反応性の１９Ｓ−９細胞株及び２１Ｓ−２１細胞株と共培養することによって比較した（図８）。
【０３５２】
式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５）及び式ＩＩＩ−Ｄ（ＶＬ３６７）のアナログに関しては、再度、有意な刺激が得られた。しかしながら、依然として自己反応性クローンの反応性は、非自己反応性クローンの２倍〜３倍である。そのように試験した高濃度での刺激レベルの低下（lost）は、培養条件でのＰＢＬ細胞に対する細胞毒性の出現に起因する可能性がある。同一の実験条件において、式ＩＩＩ−Ｂ（ＶＬ３３８）及び式ＩＩＩ−Ｃ（ＶＬ３５１）の化合物は、自己反応性クローンを弱く刺激することができたと考えられるが、非自己反応性のクローン又は細胞株の活性化には効果がない。
【０３５３】
式ＩＩ−Ａ、式ＩＩＩ−Ｂ、式ＩＩＩ−Ｃ及び式ＩＩＩ−Ｄの４−デオキシアナログの細胞毒性を、４つの腫瘍性細胞株：Ｃａｃｏ、Ｈｕｈ７、Ｆｉｂｒｏｂｌａｓｔｅ（図９）及び多発性骨髄腫（図１０）で測定した。結果から、式ＩＩＩ−Ａ、式ＩＩＩ−Ｂ、式ＩＩＩ−Ｃの化合物の、Ｃａｃｏ細胞に対する１０μＭを超える濃度での弱い細胞毒性、及び式ＩＩＩ−Ｂ及び式ＩＩＩ−Ｃの化合物の、Ｆｉｂｒｏｂｌａｓｔｅ細胞株に対する２０μＭを超える濃度での弱い細胞毒性が示される。多発性骨髄腫細胞に対するアナログの効果は全く観察されなかった。
【０３５４】
ＣＤ１ｄ受容体の存在下又は非存在下でＧｂ３又は式ＩＩＩ−Ａ（３３５）の化合物を添加した場合のＴＮＦの産生を比較するために、ヒト腫瘍性ナマルバ提示細胞を用いて、ＨｅＬａの、非自己反応性のＭＡＤ１１細胞及び１９Ｓ−３細胞並びに自己反応性の１９Ｓ−９細胞株及び２１Ｓ−２１細胞株に関して最後の検討を実行した。結果から、自己反応性細胞株及び非反応性細胞株の両方に対する、式ＩＩＩ−Ａの化合物の正の刺激効果が明確に認められる（図１１）。
【０３５５】
これらの結果から、本発明の化合物は、対照ＫＲＮ７０００及び他の合成アナログと比較して、少なくとも同様、またさらには優れた免疫調節活性を有することが示される。これらの優れた活性により、本発明の化合物には、特に、抗癌プロセスの制御に関して高い関心がある。
【０３５６】
さらに、本発明の化合物は、非常に簡単な方法で、すなわち、ＫＲＮ７０００及びＴｈ２刺激性のＯＣＨとして既に記述されている他のアナログと比較して低コストで合成することができる。
【０３５７】
スフィンゴシル鎖の３位のアルコールが、フッ素（fluor）原子Ｆ又はアミン基ＮＨ２に置き換えられた式Ｖ及び式ＶＩＩの化合物は、明らかに好ましい本発明の化合物である。
【０３５８】
それらは、式ＩＩＩ（式中、Ｒ２１はＦ又はＮＨ２である）の前駆体から出発する以外は、スフィンゴシル鎖の３位にアルコールを有する式Ｖ及び式ＶＩＩの化合物と同様に合成される。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、α−ガラクトセラミドアナログ、その製造方法、及びその製造方法において有用な中間体化合物に関する。本発明は、これらのα−ガラクトセラミドアナログを含有する医薬組成物にも関する。
【背景技術】
【０００２】
熱帯の海綿であるアゲラスフィン等の海産物由来の糖脂質リガンドは、Ｔリンパ球の特定の系統である、ＮＫＴ細胞の活性化因子として記述されている。
【０００３】
最近では、ＮＫＴ細胞が、多発性硬化症、自己免疫性糖尿病、及び幾つかの細菌感染症又はウイルス感染症等の様々な生理病理学的プロセスにおける免疫応答の主要因子であることが示されている。ＮＫＴ細胞は抗腫瘍防御にも関与すると考えられている。
【０００４】
海綿から抽出された糖脂質は、ｉｎ ｖｉｖｏでの抗腫瘍活性及び免疫調節活性があるため大変興味深い。アゲラス属の海綿から単離したアゲラスフィンは、ネズミのＢ１６黒色腫細胞に対して高い活性を示している。これらすべてのアゲラスフィンは、α−アノマー配置を有する。その毒性は低く、また免疫刺激性が高い。これらのアゲラスフィンは、最初に知られた天然のα−ガラクトセラミドである。
【０００５】
１つのα−ガラクトシルセラミドアナログである、ＫＲＮ７０００が合成されており、現在、抗癌薬としての臨床試験が行われている。
【０００６】
アゲラス・マウリチアヌス（Agelas mauritianus）海綿から単離された抗腫瘍活性及び免疫刺激活性を有するアゲラスフィンの例は、以下の式：
【０００７】
【化１】
【０００８】
を有する。
【０００９】
現在、臨床試験が行われている合成糖脂質α−ガラクトシルセラミドアナログである、ＫＲＮ７０００は、以下の式：
【００１０】
【化２】
【００１１】
を有する。
【００１２】
上記式から把握することができるように、ＫＲＮ７０００は、セラミドのアシル鎖の２’位にヒドロキシル基が存在しない点で、天然のアゲラスフィンとは異なる。
【００１３】
最近の研究により、Ｔｈ１／Ｔｈ２バランスに対する、「切断された（truncated）スフィンゴシン（sphingosin）」を有する化合物、すなわち、種々の長さの脂肪鎖を有する化合物の薬理効果が記述されている。
【００１４】
これらの研究によって、このタイプのガラクトセラミドアナログの生物活性に対して影響を有すると考えられる幾つかのパラメータを多少は正確に実証できるようになっている。
【００１５】
したがって、これらのガラクトセラミドアナログは、グリコシド結合によってセラミド部分と結合したガラクトシル環を含む分子として記述することができる。ＫＮＲ７０００において、グリコシド結合はＯ原子である。セラミド部分はアシル鎖とスフィンゴシル残基とを含む。
【００１６】
ガラクトシルセラミドアナログの生物活性に関して重要なものとして記述される第１のパラメータは、その立体配置である。実際、α−アノマー配置が活性に必要であると考えられるが、β−アナログも、抗ウイルス感染及び抗マラリア感染等の生物学的標的に対する候補物質である。
【００１７】
重要なものとして記述される第２のパラメータは、糖の性質である。２’’位にヒドロキシル基を有するガラクトシル環が最も適切な糖であると考えられる。
【００１８】
重要なものとして記述される第３のパラメータは、グリコシド結合である。ガラクトセラミドに天然に存在するアノマー酸素は、生物活性を有する主要な部位の１つである。ＫＲＮ７０００アナログに関して、アノマー酸素を炭素で置換することによって、顕著に、抗癌化合物としての活性が４倍〜１００倍高いＣ−ガラクトシルセラミド化合物を得る研究も幾つか行われている。
【００１９】
その重要性について研究されている第４のパラメータは、アシル鎖である。天然の化合物中に元々存在する２’位のヒドロキシルは、標的活性には有用でないことが示されており、ＫＮＲ７０００中には存在しない。しかしながら、このアシル鎖は、蛍光体化合物を繋ぐために修飾してもよく、又は鎖長を変化させることによって改変してもよい。
【００２０】
実際、これらすべての研究により、スフィンゴシル残基がおそらく、ガラクトセラミドアナログの活性を有する代表的部分（masterpiece）の１つであることが示されているため、研究は、ガラクトセラミドアナログのこの部分に焦点を当てている。
【００２１】
これまでに為された研究によれば、スフィンゴシル鎖の３位及び４位の２つの隣接したヒドロキシル基の存在がヒトモデルでは必須である。例えば、非特許文献１の中で、ヒトモデルで活性を有するためには、スフィンゴシル塩基の４位のヒドロキシル基の存在が必須であることが報告されている。
【００２２】
同様に、スフィンゴシル残基の脂肪鎖の長さ、及び不飽和の有無が、生物活性の選択性に大きな影響を与えることが示されている。重要な変形形態は、この脂肪鎖の長さに関する変形形態に由来し得ることも示されている。
【００２３】
これらの結果は最近になって、非特許文献２により結晶学的研究で確認されている。
【００２４】
この検討では、ヒトＣＤ１ｄ受容体と３位及び２’’位のヒドロキシル基との相互作用が示される。
【００２５】
さらに、α−ガラクトシルセラミドアナログに関してこれまでに行われたすべての研究において、α−ガラクトシルセラミドアナログは、最初にセラミド又はスフィンゴシル残基を製造した後、活性化したガラクトシル供与体のα位でグリコシドカップリングを実行することから成る方法によって合成されている。
【００２６】
この方法は、糖に組み込む前に修飾する必要がある各スフィンゴシル残基の事前合成を包含する。その後、グリコシドカップリング前又はこのグリコシドカップリング後（ガラクトシルスフィンガニン鎖から出発する）のいずれかでアシル鎖を導入することができる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００２７】
【非特許文献１】Laurent BROSSAY他（and al.）、「Journal of Immunology」５１２４頁〜５１２８頁（１９９８年）で発表された、「最前線：ＣＤ１拘束性ＮＫＴ細胞によるガラクトシルセラミド再結合の構造的要件（Cutting edges: Structural Requirements for Galactosylceramide Recombination by CD1-restricted NKT cells）」と題する論文
【非特許文献２】Koch, M.; Stronge, V. S.; Shepherd, D.; Gadola, S. D.; Mathew, B.; Ritter, G.; Fersht, A. R.; Besra, G. S.; Schmidt, R. R.; Jones, E. Y.; Cerundolo, V. Nat Immunol 2005, 6, 819-826
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００２８】
先行技術に存在する固定観念とは対照的に、本発明は第１に、文献のデータがあるにも関わらず、スフィンガニン鎖の４位にヒドロキシル基を有しないα−ガラクトシルセラミドアナログ（ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログ）が、ヒトモデルにおいて優れた生物活性を有する化合物になるという驚くべき発見に基づいており、また、本発明は第２に、エチレン性、すなわち、不飽和化合物を使用してα−ガラクトシルセラミドアナログを製造する方法を提供する。このエチレン性化合物のおかげで、スフィンゴシン鎖を有する広範なα−ガラクトセラミドアナログを、合成又は市販の飽和アルキル鎖のフラグメントとの簡単なメタセシス反応によって合成することができる。
【００２９】
本発明の方法を用いることにより、不飽和官能基を有する任意の残基（分枝アルキル鎖、芳香族鎖、複素環鎖、糖．．．）を、この中間体生成物のアグリコン不飽和鎖の末端に組み込むことができる。
【００３０】
こうして、この方法により、異なるグリコシド前駆体からコンビナトリアル（combinatory）ケミストリーによって多数の異なるアナログを製造することができる。
【００３１】
したがって、本発明は、以下の式Ｉ：
【００３２】
【化３】
【００３３】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１はＨ、又はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ（isotertbutyloxycarboxy）基（Ｂｏｃ）、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）、アリルオキシカルボニル基（Ａｌｏｃ）、９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（Ｔｅｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジル基（Ｔｒｏｃ）、ベンジル基（Ｂｎ）、ジフェニルメチル基（Ｄｐｍ）、トリチル基（Ｔｒ）、９−フェニルフルオレニル基（ＰｈＦｌ）、アリル基、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ１はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）又はベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）又は９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）であり、
Ｒ５はＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）、アセテート基（Ａｃ）であり、より好ましくは、Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル（terbutyldiphenylsilyl）基（ＴＢＤＰＳ）であり、
Ｒ１及びＲ５はＮ，Ｏ−アセタール基等の保護基、好ましくはオキサゾリジン基又はオキサゾリン基を一緒に形成することができ、
Ｒ２はＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ２はベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基又はシクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ２はベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であるか、又は異なり、且つＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基又はシクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３及びＲ４はイソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、ベンジリデン基、メシチルメチレン基、ｐ−メトキシベンジリデン基、メチレン基、ジフェニルメチレン基、イソプロピリデン基又はディスポーク（dispoke）基等のＯ，Ｏ−アセタール基を一緒に形成することができ、且つ
Ｒ４及びＲ６はベンジリデン又はパラメトキシベンジリデン基等のＯ，Ｏ−アセタール基を一緒に形成することができる）
を有する化合物を提供する。
【００３４】
この式Ｉの化合物は、本発明の主題でもある異なるα−ガラクトセラミド化合物を合成する方法の実行を可能にする中間体の１つである。
【００３５】
この中間体化合物により、スフィンゴシル残基の３位にヒドロキシル基を１つだけ有するα−ガラクトセラミドアナログ（ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログ）を合成することができる。しかし、このスフィンゴシル残基の３位及び４位の両方にヒドロキシル基を有するα−ガラクトセラミドアナログ（ＫＲＮ７０００のアナログ）も合成することができる。
【００３６】
さらに、この式Ｉの中間体化合物により、Ｏ、Ｓ、（ＳＯ）、（ＳＯ２）又はＮＨであり得るグリコシド結合を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造することができる。好ましくは、これらの製造では、式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基、好ましくはベンジル基である）の化合物から出発する。
【００３７】
上記式Ｉ（式中、ＸはＯ、Ｓ又はＮＨである）の化合物を製造する本発明による方法は、
（ａ）以下の式Ｉ−１：
【００３８】
【化４】
【００３９】
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６は同一であり、且つベンジル基である）
の化合物を準備する工程と、
（ｂ）式Ｉ−１の化合物と、式Ｉ−２：
【００４０】
【化５】
【００４１】
（式中、
ＸはＯＨ、ＳＨ、又はＮＨ２であり、
Ｒ１はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）であり、且つ
Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）である）
の化合物とをオシド（osidic）カップリングさせる工程と、
を含む。
【００４２】
式Ｉ−２（式中、Ｒ５はＨである）の化合物を得るために、例えば、テトラブチルアンモニウム（Tetrabultylamonium）フルオリド（ＴＢＡＦ）を用いて脱保護を実行する。
【００４３】
式Ｉ−２の化合物は、本発明の主題でもある方法によって得ることができる。
【００４４】
上記式Ｉ−２の化合物を製造する本発明による方法は、
ａ）ＢＦ３・ＯＥｔ２等の触媒の存在下、グリシンエチルエステル（glycinethylester）塩酸塩と（＋）−（１Ｒ，２Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−ピナノンとをイミノ化反応させる工程と、
ｂ）好ましくはトリイソプロピルオキシチタン等のチタン触媒、及びトリエチルアミンの存在下、工程ａ）で得られたイミノエステルとアクロレインとを不斉アルドール反応させる工程と、
を含む。
【００４５】
式Ｉ（式中、ＸはＳである）の化合物を製造する別の強力な方法は、
（ａ）以下の式Ｉ−３：
【００４６】
【化６】
【００４７】
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基である）
の化合物を準備する工程と、
（ｂ）式Ｉ−３の化合物をＮａＨ、ＣＳ２で処理し、且つ塩化パラ−ニトロベンゾイルを加えて、１−チオ−パラ−ニトロベンゾイルエステルを得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られたグリコシルエステルを、例えば、ナトリウムメタノラート（ＭｅＯ−Ｎａ＋）又は炭酸セシウム又は炭酸カリウムでけん化する工程と、
（ｄ）式Ｉ−２：
【００４８】
【化７】
【００４９】
（式中、
Ｘは脱離基であり、好ましくは、ＸはＯ−メシル基、Ｏ−トリフレート基、Ｏ−トシル基、Ｃｌ基、Ｂｒ基、又はＩ基である）
のスフィンゴシル化合物で求核置換する工程と、
を含む。
【００５０】
このプロセスでは、工程（ｃ）及び工程（ｄ）を同時に実行する。
【００５１】
ＫＲＮ７０００のα−ガラクトセラミドアナログを得るために、式Ｉの化合物又は本発明の主題でもある他の中間体化合物から出発してもよい。本発明の主題であるこの第２の中間体化合物は、以下の式ＩＩ：
【００５２】
【化８】
【００５３】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１はＨ、又はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）、アリルオキシカルボニル基（Ａｌｏｃ）、９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（Ｔｅｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジル基（Ｔｒｏｃ）、ベンジル基（Ｂｎ）、ジフェニルメチル基（Ｄｐｍ）、トリチル基（Ｔｒ）、９−フェニルフルオレニル基（ＰｈＦｌ）、アリル基、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ１はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）又はベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）又は９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）であり、
Ｒ５及びＲ８は独立して、Ｈ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基、イソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、ベンジリデン基、メシチルメチレン基、ｐ−メトキシベンジリデン基、メチレン基、ジフェニルメチレン基、イソプロピリデン基若しくはディスポーク基等のＯ，Ｏ−アセタール基であり、好ましくは、Ｒ５及びＲ８はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）、アセテート基（Ａｃ）であり、より好ましくは、Ｒ５及びＲ８はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）であり、
Ｒ１及びＲ５はＮ，Ｏ−アセタール基等の保護基、好ましくはオキサゾリジン基又はオキサゾリン基を一緒に形成することができ、
Ｒ２はＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ２はベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基又はシクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ２はベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３、Ｒ４、及びＲ６は同一であるか、又は異なり、且つＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３及びＲ４は、イソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、ベンジリデン基、メシチルメチレン基、ｐ−メトキシベンジリデン基、メチレン基、ジフェニルメチレン基、イソプロピリデン基又はディスポーク基等のＯ，Ｏ−アセタール基を一緒に形成することができ、且つ
Ｒ４及びＲ６はベンジリデン又はパラメトキシベンジリデン基等のＯ，Ｏ−アセタール基を一緒に形成することができる）
を有する化合物である。
【００５４】
式Ｉの化合物と同様に、好ましくは、式ＩＩの化合物から本発明のＫＲＮ７０００のアナログを製造する場合、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６が保護基、好ましくはベンジル基であり、且つＲ１が保護基、好ましくはＢｏｃ基である式ＩＩの化合物から出発する。
【００５５】
式ＩＩの化合物を製造するために、本発明は、以下の方法を提供する。
【００５６】
上記式Ｉの化合物から出発する場合、式ＩＩ（式中、ＸはＯ又はＮＨである）の化合物を製造する本発明の方法は、式Ｉ（式中、ＸはＯ又はＮＨである）の化合物を準備する工程と、存在する場合、この化合物のＯＨ基を、好ましくはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）又はアセテート基（Ａｃ）の中から選択される保護基で保護する工程とを含む。その後、保護された化合物をエポキシ化することにより、以下の式ＩＩ−１：
【００５７】
【化９】
【００５８】
（式中、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は式Ｉの出発化合物と同様である）
の化合物が得られる。
【００５９】
次に、有機アセチレン化合物をこの式ＩＩ−１の化合物に加えることにより、以下の式ＩＩ−２：
【００６０】
【化１０】
【００６１】
の化合物を得ることができる。
【００６２】
次に、式ＩＩ−２の化合物を部分的に水素化することにより、式ＩＩ（式中、Ｒ８はＨである）の化合物が得られる。最後に、必要に応じて、「有機合成における保護基（Protection Groups in Organic Synthesis）」John Wiley and Sonsに開示されている方法等の当業者に既知の方法によって、この部分水素化後にＲ８を導入することにより、式ＩＩ（式中、Ｒ８はＨとは異なる）の化合物が得られる。
【００６３】
例えば、Ｒ８は、ＴＢＤＰＳ基又はベンジル基である場合、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中、ＴＢＤＰＳＣｌ又はＢｎＣｌ、及びイミダゾールを使用して導入することができる。
【００６４】
式ＩＩ（式中、ＸはＳＯ又はＳ（Ｏ２）である）の化合物を製造する本発明の方法は、式Ｉの化合物（この式Ｉの化合物中、ＸはＳである）を製造する工程と、仮に存在する場合、この式Ｉの化合物のＯＨ基を、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基又はベンジル基又はアセテート基で保護する工程と、ＯＨ基を保護した式Ｉの化合物のエポキシ化反応及び酸化反応を同時に実行して、酸化度に応じて、以下の式ＩＩ−１ａ及び式ＩＩ−１ｂ：
【００６５】
【化１１】
【００６６】
の化合物を得る工程とを含む。
【００６７】
式ＩＩ−１ａの化合物のみを得る場合及び式ＩＩ−１ｂの化合物が望まれる場合は、得られた式ＩＩ−１ａの化合物を酸化する補助的な工程を実行する。
【００６８】
次に、有機アセチレン化合物を式ＩＩ−１ａ又は式ＩＩ−１ｂの化合物に加えることにより、それぞれ以下の式ＩＩ−２ａ及び式ＩＩ−２ｂ：
【００６９】
【化１２】
【００７０】
の化合物が得られる。
【００７１】
最後に、式ＩＩ−２ａ及び式ＩＩ−２ｂの化合物を部分的に水素化することにより、式ＩＩ（式中、ＸはＳ（Ｏ）又はＳ（Ｏ２）である）の化合物が得られる。
【００７２】
しかし、式ＩＩ（式中、ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり得る）の化合物を製造する別の方法は、
（ａ）式Ｉの化合物、又はこの式Ｉの化合物を得る上記方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）存在する場合、この化合物のＯＨ基を、好ましくはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）又はアセテート基（Ａｃ）で保護する工程と、
（ｃ）ＸがＯ若しくはＮＨである場合、工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化し、又はＸがＳ（Ｏ）若しくはＳ（Ｏ）２である場合、工程（ｂ）で得られた化合物を酸化及びエポキシ化し、それにより以下の式ＩＩ−１：
【００７３】
【化１３】
【００７４】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）式ＩＩ−１の化合物を、グリニャール反応剤又は他の有機アリル試薬で開環することにより、式ＩＩの化合物を得る工程と、
を含む。
【００７５】
式Ｉの化合物により、所望の生物活性を有するα−ガラクトシルセラミドアナログ、すなわち、ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログ（スフィンゴシル鎖の３位で保護されるか、又は保護されないヒドロキシル基が１つだけ）及びＫＲＮ７０００のジヒドロキシル化α−ガラクトシルセラミドアナログ（スフィンゴシル鎖の３位及び４位にヒドロキシル基を有し、これらのヒドロキシル基は保護されるか、又は保護されない）を得ることができ、特に短期間で且つ融通の利く合成方法によって、さらに好収率を達成することが可能である。
【００７６】
したがって、当該技術分野に存在する固定観念に反して、以下に示すように、生物活性、特に、免疫刺激効果と結果的に抗腫瘍性活性とを有する、ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログは、特に、以下の式ＩＩＩ：
【００７７】
【化１４】
【００７８】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ２１はＯＨ又はＦ又はＮＨ２であり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、且つ
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、以下の基：
【００７９】
【化１５】
【００８０】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７又はＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【００８１】
【化１６】
【００８２】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
のα−ガラクトシルセラミドアナログである。
【００８３】
本発明の特に好ましいα−ガラクトセラミド化合物は、以下の式ＩＩＩ−Ａ：
【００８４】
【化１７】
【００８５】
の化合物である。
【００８６】
本発明の別の特に好ましい４−デオキシ−α−ガラクトセラミド化合物は、以下の式ＩＩＩ−Ｂ：
【００８７】
【化１８】
【００８８】
を有する化合物である。
【００８９】
本発明のさらに別の特に好ましい４−デオキシ−α−ガラクトセラミド化合物は、以下の式ＩＩＩ−Ｃ：
【００９０】
【化１９】
【００９１】
の化合物である。
【００９２】
しかし、本発明の別の特に好ましい４−デオキシ−α−ガラクトセラミド化合物は、以下の式ＩＩＩ−Ｄ：
【００９３】
【化２０】
【００９４】
の化合物である。
【００９５】
本発明のさらに別の特に好ましい４−デオキシ−α−ガラクトセラミド化合物は、以下の式ＩＩＩ−Ｅ：
【００９６】
【化２１】
【００９７】
の化合物である。
【００９８】
上記式ＩＩＩ−Ａ〜式ＩＩＩ−Ｅの化合物に対応するが、Ｒ２１がＦ又はＮＨ２である化合物も、本発明の特に好ましい化合物である。
【００９９】
特に、以下の式ＩＩＩ−Ｆ１〜式ＩＩＩ−Ｇ５の化合物が好ましい：
【０１００】
【化２２】
【０１０１】
【化２３】
【０１０２】
【化２４】
【０１０３】
【化２５】
【０１０４】
他の好ましい式ＩＩＩの化合物は、Ｒ１１が式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１がＨ又はアセチル基である化合物である。
【０１０５】
実際、これらの化合物は細胞膜を通過し、プロアポトーシス性を有する。
【０１０６】
特に、以下の式ＩＩＩ−Ｈ１〜式ＩＩＩ−Ｋ５の化合物が好ましい化合物である：
【０１０７】
【化２６】
【０１０８】
【化２７】
【０１０９】
【化２８】
【０１１０】
【化２９】
【０１１１】
【化３０】
【０１１２】
これらの化合物を製造する本発明による方法は、既に製造されている式Ｉの化合物、又は上記されている方法に従って製造する式Ｉの化合物を使用する方法である。
【０１１３】
式ＩＩＩを有する本発明の４−デオキシ−α−ガラクトセラミドアナログを製造する方法は、
（ａ）既に製造されている式Ｉ（式中、Ｒ５は、好ましくはＨである）の化合物、又はこの化合物を製造する上記方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）式ＩＩＩの化合物において、Ｒ２１がＦである場合、式Ｉの化合物をフッ素化する工程、又はＲ２１がＮＨ２である場合、式Ｉの化合物を、アジ化ナトリウムの存在下、ルイス酸又はアゾジカルボン酸ジイソプロピル（ＤＩＡＤ）若しくはジエチルアゾカルボキシレート（ＤＥＡＤ）等のミツノブ活性化剤により活性化する工程であって、それにより式Ｉの化合物のアジドアナログを得る工程と、
（ｃ）この式Ｉの化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【０１１４】
【化３１】
【０１１５】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
のエチレン性化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｄ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ）工程（ｄ）で得られた化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１１６】
【化３２】
【０１１７】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｆ）Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５がベンジル保護基である場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によって二重結合及び保護基を除去する工程と、
を含む。
【０１１８】
この工程で、式ＩＩＩ（式中、Ｒ１１はＨであり、且つＲ２１はＯＨである）の化合物が得られる。
【０１１９】
式ＩＩＩ（式中、Ｒ１１はＨとは異なり、且つＲ２１はＯＨである）の化合物を得るために、これらの化合物を製造する方法は、工程（ａ）、工程（ｃ）と、その後の
（ｆ’）スフィンゴシル鎖の３位のアルコールをＴＢＤＰＳで選択的に保護する工程を含み、次いで、上記の工程（ｄ）、工程（ｅ）、工程（ｆ）と、その後の
（ｇ’）例えば、ピリジン中、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）及び（４−ジ（メチルアミノ）ピリジン）（ＤＭＡＰ）の存在下、ガラクトシル環のＲ１１基を導入する工程と、
（ｈ’）Ｒ５の保護基を除去する工程と、
を実行する。
【０１２０】
Ｒ１１がＨとは異なり、且つＲ２１がＮＨ２である場合、工程（ａ）〜工程（ｅ）と、その後の
（ｆ’）アジド基をアミン基へと選択的に還元する工程と、
（ｇ’）アミン基をＢｏｃで保護する工程と、
（ｈ’）ピリジン中、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）及び４−ジ（メチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下、ガラクトシル環のＲ１１を導入する工程と、
（ｉ’）ＮＨ−Ｂｏｃ基を脱保護する工程と、
を実行する。
【０１２１】
なお、式ＩＩＩの化合物を製造する上記方法では、ＯＲ５と表記するスフィンゴシル鎖の３位に置換基を有する化合物から出発するが、最終生成物における対応する置換基はＲ２１である必要がある。したがって、上記の記述及び特許請求の範囲を含む以下の文章において、「Ｒ２１が、〜である場合」という用語は、「最終生成物においてＲ２１が、〜である必要がある場合」を意味する。同様に、「Ｒ１１が、〜である場合」という用語は、「最終生成物においてＲ１１が、〜である必要がある場合」を意味する。
【０１２２】
式Ｉの化合物から出発して、本発明は、スフィンゴシル鎖の３位のヒドロキシル基がアセトン（a cetone）基で置き換えられたα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法も提供する。
【０１２３】
この化合物は、以下の式ＩＶ：
【０１２４】
【化３３】
【０１２５】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、
【０１２６】
【化３４】
【０１２７】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７アルキル鎖若しくはＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【０１２８】
【化３５】
【０１２９】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する。
【０１３０】
これらの式ＩＶのα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法は、
（ａ）式Ｉの化合物を準備する工程、又は上記方法によって式Ｉの化合物を製造する工程と、
（ｂ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【０１３１】
【化３６】
【０１３２】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）遷移金属錯体の媒介によりアリルアルコールをケトンへと異性化させる工程と、
（ｄ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１３３】
【化３７】
【０１３４】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをアミド化反応させる工程と、
（ｆ）保護基を除去する工程と、
を含む。
【０１３５】
Ｒ９がＣＨ３である場合、式ＩＶの化合物は、式ＩＩＩの化合物との接触時に、交差メタセシス（methatesis）カップリング反応の副生成物として直接得られる。
【０１３６】
しかし、既述したように、保護されたか、又は保護されていないヒドロキシル基をスフィンゴシル鎖の３位及び４位の両方に含むα−ガラクトセラミドアナログも、本発明の方法によって製造することができる。
【０１３７】
より正確には、本発明は、以下の式Ｖ：
【０１３８】
【化３８】
【０１３９】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ５及びＲ８はＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、Ｃ３〜Ｃ７アルキル鎖及びＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であって、
【０１４０】
【化３９】
【０１４１】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等のヘテロアリールを含有してもよく、又はＲ９は以下の式：
【０１４２】
【化４０】
【０１４３】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法であって、
（ａ）式ＩＩの化合物、又は本発明の方法によって得られる式ＩＩの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【０１４４】
【化４１】
【０１４５】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｄ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１４６】
【化４２】
【０１４７】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｅ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、式Ｖ（式中、Ｒ５、Ｒ８及びＲ１１はＨである）の化合物を得る工程と、
を含む、方法に関する。
【０１４８】
しかし、式Ｖ（式中、Ｒ１１はＨとは異なり、且つＲ５及びＲ８はＨである）の化合物を得るために、工程（ｃ）〜工程（ｅ）は、以下の工程（ｃ’）〜工程（ｈ’）：
（ｃ’）Ｒ５及びＲ８がＨである場合、スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを保護する工程と、
（ｄ’）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ’）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１４９】
【化４３】
【０１５０】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｆ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを除去する工程と、
（ｇ’）Ｒ１１を導入する工程と、
（ｈ’）スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを脱保護する工程と、
で置き換えられる。
【０１５１】
しかし、式Ｖの化合物はまた、式Ｉ（式中、Ｒ５はＨである）の中間体化合物から出発して製造してもよい。
【０１５２】
この場合、上記で定義した式Ｖの化合物を製造する方法は、
（ａ）式Ｉの化合物を準備する工程、又は上記方法によって式ＩＩの化合物を製造する工程と、
（ｂ）工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化して、以下の式ＩＩ−１：
【０１５３】
【化４４】
【０１５４】
の化合物を得る工程と、
（ｃ）有機アセチレン化合物を式ＩＩ−１の化合物に加えて、以下の式ＩＩ−２：
【０１５５】
【化４５】
【０１５６】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）式ＩＩ−２の化合物を部分的に水素化する工程と、
（ｅ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【０１５７】
【化４６】
【０１５８】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｆ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｇ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１５９】
【化４７】
【０１６０】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｈ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、式Ｖ（式中、Ｒ５、Ｒ８及びＲ１１はＨである）の化合物を得る工程と、
を含む。
【０１６１】
しかし、式Ｖ（Ｒ１１はＨとは異なり、且つＲ５、Ｒ８はＨである）の化合物を得るために、上記の工程（ａ）〜工程（ｃ）と、その後の
（ｄ’）Ｒ５及びＲ８がＨである場合、スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを保護する工程と、その後の上記の工程（ｄ）〜工程（ｇ）と、その後の
（ｉ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを除去する工程と、
（ｊ’）Ｒ１１を導入する工程と、
（ｋ’）スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを脱保護する工程と、
を実行する。
【０１６２】
明らかに、本発明のさらなる目的は、以下の式Ｖ：
【０１６３】
【化４８】
【０１６４】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ２１はＯＨ又はＦ又はＮＨ２であり、
Ｒ８はＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、Ｃ３〜Ｃ７アルキル鎖及びＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であって、
【０１６５】
【化４９】
【０１６６】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等のヘテロアリールを含有してもよく、
又はＲ９は以下の式：
【０１６７】
【化５０】
【０１６８】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨであり、
但し、Ｘ＝Ｏである場合、Ｒ８はＨではない）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログである。
【０１６９】
天然α−ガラクトセラミド又は合成α−ガラクトセラミドＫＲＮ７０００の多数のアナログを非常に容易且つ簡単に製造することを可能とする式Ｉ又は式ＩＩの中間体化合物を使用することにより、２つのガラクトシル（galatosyl）分子を含むα−ガラクトセラミド化合物を製造することができる。
【０１７０】
したがって、本発明のさらなる目的は、以下の式ＶＩ：
【０１７１】
【化５１】
【０１７２】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）、ＮＨであり、
Ｒ５は上記で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１４は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基、又は以下の式：
【０１７３】
【化５２】
【０１７４】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法である。
【０１７５】
以下の式：
【０１７６】
【化５３】
【０１７７】
の鎖は、式ＶＩの化合物のアミノ官能基の間に環状化合物を導入するのに特に有用且つ有益である。
【０１７８】
式ＶＩの化合物の２つのアミノの官能基の間に環状基を有するかかる化合物は、その生物学的潜在性（potentiality）のため、また、不斉触媒（catalysis）又はクリプタンド（l cryptand）錯体のリガンドとして特に興味深い。
【０１７９】
式ＶＩの化合物を製造する本発明の方法は、
（ａ）既に製造されている式Ｉの化合物、又は本発明の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物同士を交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｄ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１８０】
【化５４】
【０１８１】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｅ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去する工程であって、式ＶＩ（式中、Ｒ１１はＨである）の化合物を得る工程と、
を含む。
【０１８２】
得られる式ＶＩの化合物が、Ｈとは異なるＲ１１基を有する必要がある場合、上記の工程（ａ）及び工程（ｂ）と、その後の以下の工程（ｃ’）：
（ｃ’）スフィンゴシル鎖の３位の２つのアルコールを保護する工程と、その後の工程（ｃ）〜工程（ｄ）と、その後の
（ｄ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを除去する工程と、
（ｇ’）糖部分のＲ１１を導入する工程と、
（ｈ’）スフィンゴシル鎖の３位のアルコールを脱保護する工程と、
を実行する。
【０１８３】
上記式ＶＩの化合物の範囲内である特に好ましい化合物は、以下の式ＶＩ−Ａ：
【０１８４】
【化５５】
【０１８５】
を有する化合物である。
【０１８６】
２つのグリコシル糖を有し、且つ式ＩＩの化合物から得られる、すなわち、スフィンゴシル鎖の３位及び４位の両方にヒドロキシル基を有するスフィンゴシル鎖を含む化合物も、本発明の目的である。それらは、以下の式ＶＩＩ：
【０１８７】
【化５６】
【０１８８】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ２１はＯＨ又はＦ又はＮＨ２であり、
Ｒ８はＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１４は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基、又は以下の式：
【０１８９】
【化５７】
【０１９０】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログである。
【０１９１】
Ｒ１４が天然原子を含有する直鎖又は分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である場合、好ましくは、このＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖は、スフィンゴシル鎖の２つのアミノ官能基の間に環状化合物を形成するのに有用である、以下の式：
【０１９２】
【化５８】
【０１９３】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
を有する。
【０１９４】
最終生成物においてＲ２１がＯＨである必要がある（Ｒ２１は以下のＯＲ５で表記される）式ＶＩＩの化合物は、
（ａ）式ＩＩの化合物を準備する工程、又は本発明の方法によってこの化合物を製造する工程と、
（ｂ）この化合物同士を交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｄ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【０１９５】
【化５９】
式ＩＩＩ−２
【０１９６】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３はＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基若しくは塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｅ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、式ＶＩＩ（式中、Ｒ１１はＨである）の化合物を得る工程と、
を含む、方法によって式ＩＩの化合物から直接得ることができる。
【０１９７】
式ＶＩＩ（式中、Ｒ１１はＨとは異なり、且つＲ５及びＲ８はＨである）の化合物を得るために、上記工程（ａ）と、その後の以下の工程（ｃ’）：
（ｃ’）スフィンゴシル基の３位及び４位のアルコールを保護する工程と、
を実行し、次に、
上記の工程（ｃ）〜工程（ｄ）を実行した後、以下の工程（ｅ’）、工程（ｆ’）及び工程（ｇ’）：
（ｅ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを除去する工程と、
（ｆ’）糖部分のＲ１１を導入する工程と、
（ｇ’）３位のアルコールを脱保護する工程と、
を実行する。
【０１９８】
本発明のすべての製造方法において、保護基の除去は、「有機合成における保護基」John Wiley & Sonsに記載されている方法等の既知の方法によって実行する。
【０１９９】
例えば、ベンジル基を除去するために、化合物を、メタノール、エタノール、２−プロパノール、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等の脱ベンジル化反応に関与しない溶媒中、触媒（例えば、Ｐｄ−Ｃ、Ｐｄ（ＯＨ）２、ＰｔＯ２等）の存在下、室温で撹拌する。
【０２００】
しかし、当業者には明確に想起されるように、式ＩＩの化合物から出発して得ることもできる。
【０２０１】
式ＩＩＩ、式ＩＶ、式Ｖ、式ＶＩ及び式ＶＩＩの化合物は、ヒトモデルで生物活性があり、医薬組成物の有効成分として特に有用なものとなっている。したがって、本発明の他の目的は、少なくとも１つの式ＩＩＩ〜式ＶＩＩの化合物と薬学的に許容される担体とを含む、医薬組成物である。
【０２０２】
同様に、本発明のさらなる目的は、式ＩＩＩ〜式ＶＩＩの化合物を製造する本発明による工程によって得られる少なくとも１つの化合物と薬学的に許容される担体とを含有する、医薬組成物である。
【０２０３】
添付の図面に言及する以下の記述を解釈することで、本発明はより理解されるとともに、本発明の他の特徴及び利点がより明確になる。
【図面の簡単な説明】
【０２０４】
【図１】ａ）ＮＫＴｉのポリクローナル集団単独である、ＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｂ）ＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｃ）０．１μｇ／ｍｌの合成対照α−ガラクトシルセラミドＫＲＮ７０００を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｄ）１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｅ）１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴによるＩＬ−４の産生を示す図である。
【図２】ａ）ＮＫＴｉのポリクローナル集団単独である、ＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｂ）ＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｃ）０．１μｇ／ｍｌの合成対照α−ガラクトシルセラミドＫＲＮ７０００を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｄ）０．１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｅ）１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴによるＩＦＮ−γの産生を示す図である。
【図３】ａ）ＮＫＴｉのポリクローナル集団単独である、ＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｂ）ＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｃ）０．１μｇ／ｍｌの合成対照α−ガラクトシルセラミドＫＲＮ７０００を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｄ）０．１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴ、 ｅ）１μｇ／ｍｌの本発明の式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞とインキュベーションした後のＭＡＤ１１のＮＫＴによるＴＮＦ−αの産生を示す図である。
【図４】ポリクローナルＭＡＤ１１細胞及びモノクローナル非自己反応性１９Ｓ−３細胞における、０．５μｇ／ｍｌ〜５０μｇ／ｍｌの濃度での、図４中ＶＬ３３５と表記する式ＩＩＩ−Ａの化合物によるα−ＴＮＦの刺激を示す図である。
【図５】ポリクローナルＭＡＤ１１細胞及びモノクローナル非自己反応性１９Ｓ−３細胞における、０．５μｇ／ｍｌ〜５０μｇ／ｍｌの濃度での、図５中ＶＬ３３８と表記する式ＩＩＩ−Ｄの化合物によるα−ＴＮＦの刺激を示す図である。
【図６】ポリクローナルＭＡＤ１１細胞及びモノクローナル非自己反応性１９Ｓ−３細胞における、０．５μｇ／ｍｌ〜５０μｇ／ｍｌの濃度での、図６中ＶＬ３５１と表記する式ＩＩＩ−Ｃの化合物によるα−ＴＮＦの刺激を示す図である。
【図７】ポリクローナルＭＡＤ１１細胞及びモノクローナル非自己反応性１９Ｓ−３細胞における、０．５μｇ／ｍｌ〜５０μｇ／ｍｌの濃度での、図７中ＶＬ３６７と表記する式ＩＩＩ−Ｄの化合物によるα−ＴＮＦの刺激を示す図である。
【図８】ＰＢＬ細胞に対する、高濃度（１０μｇ／ｍｌ、２５μｇ／ｍｌ及び５０μｇ／ｍｌ）の、図８中３３５と表記する式ＩＩＩ−Ａの化合物、図８中３３８と表記する式ＩＩＩ−Ｂの化合物、図８中３５１と表記する式ＩＩＩ−Ｃの化合物、図８中３６７と表記する式ＩＩＩ−Ｄの化合物によるα−ＴＮＦの刺激を示す図である。
【図９】対照化合物、すなわち、ロスコビチン、タキソール（登録商標）、ドキソルビシン及びフルオロウラシル（Fluorouracyl）と比較した、３つの腫瘍性細胞に対する、式ＩＩＩ−Ａ〜式ＩＩＩ−Ｄの化合物の細胞毒性試験の結果を示す図である。
【図１０】多発性骨髄腫細胞に対する、式ＩＩＩ−Ａ〜式ＩＩＩ−Ｄの化合物の毒性及び図１０中対照と表記するブランクとしての溶媒ＤＭＳＯ単独の毒性を示す図である。
【図１１】腫瘍性ナマルバ細胞における、μｇ／ｍｌの、図１１中３３５と表記する式ＩＩＩ−Ａの化合物及びＧｂ３によるα−ＴＮＦの刺激の比較を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０２０５】
当然のことながら、以下に示す実施例は決して、記載する特定の実施形態に本発明を限定しない。
【実施例】
【０２０６】
材料及び方法
通常の方法
水の影響を受ける反応は、火炎乾燥した（flame-dried）ガラス器具内でアルゴン雰囲気下で実施した。すべての溶媒は試薬グレードであった。ＴＨＦは、アルゴン下でナトリウム／ベンゾフェノンから新たに蒸留した。Ｅｔ２Ｏは、アルゴン下でナトリウムから新たに蒸留した。ＭｅＯＨ及びＤＣＭは、アルゴン下で水素化カルシウムから新たに蒸留した。ＤＭＦは、使用前にアルゴン下で蒸留した。
【０２０７】
融点
融点は、Kofferの加熱システムを備えるＲＣＨ（C. Reichert）顕微鏡で測定した。
【０２０８】
クロマトグラフィ
すべての反応は、薄層クロマトグラフィ（Ｋｉｅ−ｓｅｌｇｅｌ ６０Ｆ２５４ MERCKアルミニウムシート）でモニタリングした。
【０２０９】
シリカゲル６０ ＡＣＣ ４０μｍ〜６３μｍ（Carbo-erba reactifs−ＳＤＳ）でフラッシュカラムクロマトグラフィを実施した。
【０２１０】
旋光度測定
旋光度値は、Ｎａランプ照射下、Perkin Elmerの３４１旋光計で１００ｍｍのセル中で測定した。
【０２１１】
赤外分光法
ＩＲスペクトルは、BRUCKNERのＶｅｃｔｏｒ ２２分光計を用いて記録した。波数はｃｍ−１で示す。
【０２１２】
核磁気共鳴分光法
ＮＭＲスペクトルは、残留溶媒を内部標準として、３００ＭＨｚ（１Ｈ）及び７５ＭＨｚ（１３Ｃ）でBRUCKNERのＡｖａｎｃｅ ３００を用いて記録した。カップリング定数はヘルツで表す。シグナルの多重度は、ｓ（一重線（singulet））、ｄ（二重線）、ｔ（三重線）、ｑ（四重線）、ｍ（多重線）、ｂｓ（幅広い一重線）、ｄｄ（二重線の二重線）、ｄｔ（三重線の二重線）．．．と略記する。
【０２１３】
実施例１：式Ｉの化合物の合成：
１）式Ｉ−１の２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシルフルオリドの合成
【０２１４】
【化６０】
【０２１５】
式Ｉ−３の１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチルガラクトピラノース７の合成
アルゴン下０℃で無水ＣＨ２Ｃｌ２及びピリジン（６０ｍＬ／１００ｍＬ）の混合物に溶解したＤ−ガラクトース（２０ｇ、１１１ｍｍｏｌ、１当量）に、４−ジメチルアミノピリジン（１．３４ｇ、１１ｍｍｏｌ、０．１当量）を加え、無水酢酸（５９．８ｍＬ、６３２．７ｍｍｏｌ、５．７当量）を滴下した。混合物を２４時間加熱還流した。ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させ、粗生成物をＣＨＣｌ３（２００ｍＬ）で希釈し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で洗浄した。有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。粗生成物（３９．０ｇ、９０％）を次工程に用いた。
【０２１６】
【化６１】
【０２１７】
フェニル２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−チオ−β−Ｄ−ガラクトピラノシド８の合成
アルゴン下室温でベンゼン（４３０ｍＬ）に溶解した粗生成物７に、チオフェノール（２０．４ｍＬ、２００ｍｍｏｌ、２当量）及び四塩化スズ（１０．６ｍＬ、９０ｍｍｏｌ、０．９当量）を加えた。溶液を２時間加熱還流した。褐色の混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３００ｍＬ）で中和し、ＣＨ２Ｃｌ２（１５０ｍＬ）で希釈した。水層をＣＨ２Ｃｌ２（３×１００ｍＬ）で抽出した。集めた有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ６０：４０）で精製することにより、８を黄色のオイルとして得た（３４．５ｇ、７８％）。
【０２１８】
【化６２】
【０２１９】
フェニル１−チオ−β−Ｄ−ガラクトピラノシド９の合成
アルゴン下無水ＭｅＯＨ（８００ｍＬ）に溶解した８（３１．７ｇ、７２．０７ｍｍｏｌ、１当量）に、ナトリウムメタノラート（１７．３ｇ、３０２．７ｍｍｏｌ、４．２当量）を加えた。１時間撹拌した後、アンバーライトＩＲ １２０（３００ｇ）を加え、混合物をｐＨ＝７まで１５分間撹拌した。溶液をアルミナを通して濾過した。ケーキをＭｅＯＨ（１５０ｍＬ）で洗浄し、有機層を濃縮した。粗生成物を次工程に用いた。
【０２２０】
【化６３】
【０２２１】
フェニル２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−１−チオ−β−Ｄ−ガラクトピラノシド１０の合成
アルゴン下０℃で無水ＤＭＦ（１５００ｍＬ）に溶解した粗生成物９（７２．１ｍｍｏｌ、１当量）に、水素化ナトリウム（１０．７ｇ、４４６．８ｍｍｏｌ、６．２当量）を加えた。１５分後、臭化ベンジル（５４ｍＬ、４５４ｍｍｏｌ、６．３当量）及び触媒量のヨウ化カリウムを滴下した。混合物を室温で３時間撹拌し、水（５００ｍＬ）及びＥｔ２Ｏ（６００ｍＬ）で希釈した。水相をＥｔ２Ｏ（３×３００ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９０：１０）で精製することにより、１０を粘稠性のあるシロップとして得た（２７．５ｇ、２工程を通じて６０％）。
【０２２２】
【化６４】
【０２２３】
２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシルフルオリド１１の合成
アルゴン下−１５℃の１０（１０．０ｇ、１５．８２ｍｍｏｌ、１当量）の無水ＣＨ２Ｃｌ２（１９１ｍＬ）溶液に、三フッ化ジエチルアミノ硫黄（３．１４ｍＬ、２３．７３ｍｍｏｌ、１．５当量）を加え、２分後、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３．６６ｇ、２０．５７ｍｍｏｌ、１．３当量）を加えた。−１５℃で３０分間撹拌した後、反応物をＣＨ２Ｃｌ２（４２０ｍＬ）で希釈し、冷飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１９５ｍＬ）に注いだ。有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９４：６）で精製することにより、１１を粘稠性のあるシロップとして得た（６．３ｇ、７３％）。
【０２２４】
【化６５】
【０２２５】
２）式Ｉ−２の（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−３−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル）−ペント−４−エン−１−オールの合成
【０２２６】
【化６６】
【０２２７】
上記スキームに示すように、エナンチオピュアなスフィンゴシン６が、６工程、合計収率１７％で得られる。この合成は、触媒量のＢＦ３・ＯＥｔ２を使用する、アンモニアで中和した後のグリシンエチルエステル塩酸塩と、（＋）−（１Ｒ，２Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−ピナノンとの間のイミノ化反応で開始する。得られる生成物１は優れた収率で得られる。次に、チタン塩及びトリエチルアミンの存在下でのイミノエステル１とアクロレインとの不斉アルドール反応により、所望のアリルアルコール２が比較的好収率で、且つ９８：２超の優れたジアステレオ異性体比で得られる。キラル補助基を酸加水分解した後、アミノ基及びアルコール基をそれぞれ、標準的な条件下、Ｂｏｃ基及びＴＢＤＰＳ基で保護する。こうして、エステル官能基の還元後、標的のスフィンゴシン６が得られる。
【０２２８】
より正確には、式Ｉ−２の化合物は以下のようにして得られる。
【０２２９】
エチル［１α，２β，５α］−１−［（２−（２Ｒ）−ヒドロキシ−２，６，６，−トリメチルビシクロ［３．１．１］ヘプト−３−イリデン）アミノ］エタノエート１
グリシンエチルエステル塩酸塩（１６．６ｇ、１１８．９ｍｍｏｌ、２当量）をベンゼン９３ｍＬに溶解し、１５分間アンモニアガスで中和した。アンモニウム塩を濾過によって除去し、溶液を（＋）−（１Ｒ，２Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−ピナノン（１０ｇ、５９．４４ｍｍｏｌ、１当量）に加えた。触媒量の三フッ化ホウ素ジエチルエーテラートを加え、得られた溶液をディーン・スターク装置で４時間加熱還流した。そのまま処理せずに、ベンゼンを蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ５０：５０）で精製することにより、イミン１を黄色のオイルとして得た（１４．２ｇ、９４％）。
【０２３０】
【化６７】
【０２３１】
アルドール反応生成物（aldolisation）２
アルゴン下０℃で無水ＣＨ２Ｃｌ２（２６ｍＬ）に溶解したイミノグリシネート１（１４．２ｇ、５６．０１ｍｍｏｌ、１．３当量）の溶液に、無水ＣＨ２Ｃｌ２（４２ｍＬ）中のクロロチタニウムトリイソプロポキシド（１４．６０ｇ、５６．０１ｍｍｏｌ、１．３当量）を加えた。無水ＣＨ２Ｃｌ２（２１ｍＬ）に溶解したアクロレイン（２．９６ｍＬ、４３．０９ｍｍｏｌ、１当量）を加えると、色が黄色から橙色へと変化した。最後に、トリエチルアミン（１３．２ｍＬ、９４．８０ｍｍｏｌ、２．２当量）を加えると、沈殿物が生じた。反応物を０℃で４時間撹拌し、飽和食塩水（brine：ブライン）（３００ｍＬ）を加えて希釈した。混合物をＥｔＯＡｃ（６００ｍＬ）及び水（５００ｍＬ）で希釈し、セライトを通して濾過した。ケーキをＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で洗浄した。水溶液をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。集めた有機抽出物をＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ：５０／５０）で精製することにより、エチルエステル及びイソプロピルエステルの２５／７５の比での混合物をオイルとして得た（８．４ｇ、６０％）。
【０２３２】
イソプロピル｛１Ｒ−［１α，２β，３（２Ｒ，３Ｒ），５α］｝−３−ヒドロキシ−２−[（２−ヒドロキシ−２，６，６，−トリメチルビシクロ（trimethylbicclo）［３．１．１］ヘプト−３−イリデン）アミノ］ペント−４−エノエート
【０２３３】
【化６８】
【０２３４】
エチル｛１Ｒ−［１α，２β，３（２Ｒ，３Ｒ），５α］｝−３−ヒドロキシ−２−［（２−ヒドロキシ−２，６，６，−トリメチルビシクロ［３．１．１］ヘプト−３−イリデン）アミノ］ペント−４−エノエート
【０２３５】
【化６９】
【０２３６】
化合物５の製造
イミン３の酸加水分解
イミン２（８．４ｇ、２６．０ｍｍｏｌ、１当量）をＴＨＦ（４６ｍＬ）に溶解し、１．０Ｍ ＨＣｌ水溶液（１８２ｍＬ、１８２ｍｍｏｌ、７当量）を加えた。混合物を室温で３日間撹拌した。ＴＨＦ及び水を一部蒸発させ、粗生成物をそのまま次工程に用いた。
【０２３７】
【化７０】
【０２３８】
Ｂｏｃ基４によるアミンの保護
アミン３（２６．０ｍｍｏｌ）をアルゴン下０℃でＤＭＦ（９３ｍＬ）に溶解した後、ＤＭＦ（９３ｍＬ）に溶解したトリエチルアミン（５７．９ｍＬ、４１６．５ｍｍｏｌ、１６当量）及びジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（１１．９ｇ、５４．７ｍｍｏｌ、２．１当量）を加えた。混合物を室温で２４時間撹拌した後、水（４５０ｍＬ）を加え、Ｅｔ２Ｏ（２５０ｍＬ）で希釈した。水相をＥｔ２Ｏ（３×１００ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。粗生成物を次工程に用いた。
【０２３９】
【化７１】
【０２４０】
シリル基５によるアルコールの保護
エステル４（２６．０３ｍｍｏｌ）をアルゴン下室温でＤＭＦ（７３ｍＬ）に溶解した後、イミダゾール（４．４３ｇ、６５．０８ｍｍｏｌ、２．５当量）及びｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルクロリド（８．５９ｇ、３１．２４ｍｍｏｌ、１．２当量）を加えた。混合物を室温で２４時間撹拌した後、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（２５０ｍＬ）を加え、Ｅｔ２Ｏ（２５０ｍＬ）で希釈した。水相をＥｔ２Ｏ（２×１２５ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、シリカを通して濾過することにより、過剰のＤＭＦを除去し、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９５：５）で精製することにより、シリル副生成物と５との混合物を得た（１１．２ｇ）。
【０２４１】
【化７２】
【０２４２】
エステル基６の還元
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−３−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル）−ペント−４−エン−１−オール
先の粗混合物をアルゴン下０℃で無水Ｅｔ２Ｏ（１２８ｍＬ）に溶解した。この溶液に、蒸留メタノール（２．２２ｍＬ、５４．６５ｍｍｏｌ、７当量）及びＴＨＦ中２Ｍの水素化ホウ素リチウム（２７ｍＬ、５４．６５ｍｍｏｌ、７当量）を加えた。反応混合物を２４時間かけて室温まで昇温させ、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（２００ｍＬ）を加えて希釈し、ＥｔＯＡｃ（３００ｍＬ）で希釈した。水相をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８０：２０）で精製することにより、６をシロップとして得た（３．５ｇ、４工程を通じて３０％）。
【０２４３】
【化７３】
【０２４４】
３）式Ｉ−１の化合物と上記工程２で得られた式Ｉ−２の化合物とのグリコシドカップリング
【０２４５】
【化７４】
【０２４６】
式Ｉ−１及び式−Ｉ−２の化合物を、塩化スズ及び過塩素酸銀の存在下、０℃でともに反応させた。このグリコシドカップリングにより、アノマー１２とアノマー１２βとの混合物を１．６／１の比で得た。これら２つの化合物をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィで分離した。ＴＢＡＦによるＴＢＤＰＳ基の脱保護を異性体１２に対して実行することにより、１３（式Ｉの化合物）を得た。
【０２４７】
より正確には、以下の工程を実行する。
【０２４８】
（３Ｒ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−５−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−３−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル）ペント−１−エン−３−オール１２
モレキュラーシーブ（３０ｇ）を真空下６００℃で２時間撹拌し、アルゴン下０℃に置いた。塩化スズ（４．４１ｇ、２３．２４ｍｍｏｌ、３当量）及び過塩素酸銀（５．２５ｇ、２３．２４ｍｍｏｌ、３当量）を無水ＴＨＦ（５４ｍＬ）に溶解した。混合物を暗所でアルゴン下０℃で２．５時間撹拌した。無水Ｅｔ２Ｏ（８４ｍＬ）に溶解したスフィンゴシン６（３．５３ｇ、７．７５ｍｍｏｌ、１当量）の溶液に、無水Ｅｔ２Ｏ（９９ｍＬ）に溶解したフルオロ糖１１（６．２９ｇ、１１．６１ｍｍｏｌ、１．５当量）を加えた。混合物をカニューレによってルイス酸溶液に加えた。得られた溶液を０℃で２０分間撹拌した。混合物をセライトを通して濾過し、ケーキをＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ）で洗浄した。有機層を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（３×１００ｍＬ）で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９２：８）で精製することにより、１２をシロップとして得た（２．５ｇ、３３％）。
【０２４９】
【化７５】
【０２５０】
（３Ｒ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−５−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ペント−１−エン−４−オール１３
室温でＴＨＦ（１１ｍＬ）に溶解した１２（２．５１ｇ、２．５６ｍｍｏｌ、１当量）に、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物（２．０２ｇ、６．４１ｍｍｏｌ、２．５当量）を加えた。混合物を室温で１６時間撹拌し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（３０ｍＬ）で希釈した。水層をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ６５：３５）で精製することにより、１３を白色の固体として得た（１．６ｇ、８５％）。
【０２５１】
【化７６】
【０２５２】
実施例２：式ＩＩＩ−Ａの化合物の合成
【０２５３】
【化７７】
【０２５４】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプタデカ−４−エン−３−オール１４
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（４．６ｍＬ）に溶解した１３（式Ｉの化合物）（４５０ｍｇ、０．６０８ｍｍｏｌ、１当量）に、テトラデセン（１．６ｍＬ、６．０８ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（２６ｍｇ、０．０３０ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を１７時間加熱還流した。テトラデセン（１．６ｍＬ、６．０８ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（２６ｍｇ、０．０３０ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加え、溶液の撹拌を７時間継続した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８５：１５）で精製することにより、１４をオイルとして得た（２５０ｍｇ、４５％）。
【０２５５】
【化７８】
【０２５６】
Ｂｏｃ１５の脱保護
１４（１３０ｍｇ、０．１４３ｍｍｏｌ、１当量）を無水ＴＨＦ（２４ｍＬ）に溶解し、ＴＬＣ上で出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０２５７】
４−ｐ−ニトロフェニルヘキサコサノエート１６の製造
アルゴン下室温でＣＨ２Ｃｌ２（６ｍＬ）に溶解したヘキサコサン酸（２００ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ、１当量）に、ｐ−ニトロフェノール（７０ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ、１当量）、ＤＣＣ（１０４ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ、１当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジン（６ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ、０．１当量）を加えた。混合物を暗所で１６時間撹拌した。反応物をシリカゲルを通して濾過し、濾液を濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＣＨ２Ｃｌ２ ７５：２５）で精製することにより、１６を白色の固体として得た（２１５ｍｇ、８３％）。
【０２５８】
【化７９】
【０２５９】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（Ｎ−ヘキサコサノイルアミノ）−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプタデカ−４−エン−３−オール１７
アルゴン下室温でＴＨＦ（５．７ｍＬ）に溶解した塩酸塩１５（０．１４３ｍｍｏｌ、１当量）に、１６（７４ｍｇ、０．１４３ｍｍｏｌ、１当量）、トリエチルアミン（２４μＬ、０．１７２ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加えた。混合物を１６時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）で希釈した。水層をＥｔ２Ｏ（２×１５ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８６：１４）で精製することにより、１７を白色のオイルとして得た（７５ｍｇ、２工程を通じて４４％）。
【０２６０】
【化８０】
【０２６１】
（２Ｓ，３Ｒ）−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−２−ヘキサコサノイルアミノヘプタデカン−３−オール１８ 式ＩＩＩ−Ａの化合物
室温でＭｅＯＨ（４．７ｍＬ）及びＴＨＦ（２．３ｍＬ）に溶解した１７（６４ｍｇ、０．０５４ｍｍｏｌ、１当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（６４ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。３．５日後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３の組合せで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ １００：０〜９５：５）で精製することにより、白色の固体（３０ｍｇ、６７％）を得た。
【０２６２】
【化８１】
【０２６３】
実施例３：式ＩＩＩ−Ｂの化合物の合成
【０２６４】
【化８２】
【０２６５】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ノン−４−エン−３−オール１９
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（４ｍＬ）に溶解した１３（３００ｍｇ、０．４０５ｍｍｏｌ、１当量）に、ヘキサ−１−エン（５０２μＬ、４．０５ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（１７ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を２４時間加熱還流した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクラマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８０：２０）で精製することにより、１９を白色の固体として得た（２４０ｍｇ、７５％）。
【０２６６】
【化８３】
【０２６７】
Ｂｏｃの脱保護２０
１９（２３８ｍｇ、０．２９９ｍｍｏｌ、１当量）を無水ＴＨＦ（２１ｍＬ）に溶解し、ＴＬＣ上で出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０２６８】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（Ｎ−ヘキサコサノイルアミノ）−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ノン−４−エン−３−オール２１
アルゴン下室温でＴＨＦ（１１．９ｍＬ）に溶解した塩酸塩２０（０．２９９ｍｍｏｌ、１当量）に、１６（１５５ｍｇ、０．２９９ｍｍｏｌ、１当量）、トリエチルアミン（５０μＬ、０．３５９ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加えた。混合物を２７時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（２０ｍＬ）で希釈した。水層をＥｔ２Ｏ（２×２０ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ７８：２２）で精製することにより、２１を白色のオイルとして得た（１８５ｍｇ、２工程を通じて５８％）。
【０２６９】
【化８４】
【０２７０】
（２Ｓ，３Ｒ）−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−２−ヘキサコサノイルアミノナン−３−オール２２：式ＩＩＩ−Ｂの化合物
室温でＭｅＯＨ（１３ｍＬ）及びＴＨＦ（６．５ｍＬ）に溶解した２１（１６２ｍｇ、０．１５１ｍｍｏｌ、１当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（１６２ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。３日後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３の組合せで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ ９５：５〜８５：１５）で精製することにより、白色の固体を得た（５６ｍｇ、５２％）。
【０２７１】
【化８５】
【０２７２】
実施例４：式ＩＩＩ−Ｃの化合物の合成
【０２７３】
【化８６】
【０２７４】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−７，７−ジメチル−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）オクト−４−エン−３−オール２３
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（５．５ｍＬ）に溶解した１３（４１０ｍｇ、０．５５４ｍｍｏｌ、１当量）に、４，４−ジメチルペント−１−エン（７９８μＬ、５．５４ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（２４ｍｇ、０．０２８ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を１２時間加熱還流した。４，４−ジメチルペント−１−エン（７９８μＬ、５．５４ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（２４ｍｇ、０．０２８ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加え、溶液の撹拌を１２時間継続した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８２：１８）で精製することにより、２３を白色のオイルとして得た（２３３ｍｇ、５２％）。
【０２７５】
【化８７】
【０２７６】
Ｂｏｃの脱保護２４
２３（２６２ｍｇ、０．３２４ｍｍｏｌ、１当量）を無水ＴＨＦ（２３ｍＬ）に溶解し、ＴＬＣ上で出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０２７７】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（Ｎ−ヘキサコサノイルアミノ）−７，７−ジメチル−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）オクト−４−エン−３−オール２５
アルゴン下室温でＴＨＦ（１３ｍＬ）に溶解した塩酸塩２４（０．３２４ｍｍｏｌ、１当量）に、１６（１６７ｍｇ、０．３２４ｍｍｏｌ、１当量）、トリエチルアミン（５４μＬ、０．３８９ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加えた。混合物を２０時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（２０ｍＬ）で希釈した。水層をＥｔ２Ｏ（２×２０ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８０：２０）で精製することにより、２５を白色のろうとして得た（２２９ｍｇ、２工程を通じて６５％）。
【０２７８】
【化８８】
【０２７９】
（２Ｓ，３Ｒ）−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−２−ヘキサコサノイルアミノ−７，７−ジメチルオクタン−３−オール２６−式ＩＩＩ−Ｃの化合物
室温でＭｅＯＨ（１６ｍＬ）及びＴＨＦ（８ｍＬ）に溶解した２５（２０６ｍｇ、０．１８９ｍｍｏｌ、１当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（２０６ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。３．５日後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３の組合せで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ ９９：１〜９５：５）で精製することにより、白色の固体を得た（３６ｍｇ、２６％）。
【０２８０】
【化８９】
【０２８１】
実施例５：式ＩＩＩ−Ｄの化合物の合成
【０２８２】
【化９０】
【０２８３】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−７−フェニル−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプト−４−エン−オール２７
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（４ｍＬ）に溶解した１３（３００ｍｇ、０．４０５ｍｍｏｌ、１当量）に、４−フェニル−ブト−１−エン（６０８μＬ、４．０５ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（１３ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を２４時間加熱還流した。４−フェニル−ブト−１−エン（６０８μＬ、４．０５ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ（１３ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加え、溶液の撹拌を３６時間継続した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ８１：１９）で精製することにより、２７を白色のオイルとして得た（１４０ｍｇ、４１％）。
【０２８４】
【化９１】
【０２８５】
Ｂｏｃの脱保護２８
２７（１３７ｍｇ、０．１６２ｍｍｏｌ、１当量）を無水ＴＨＦ（１１．５ｍＬ）に溶解し、ＴＬＣ上で出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０２８６】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（Ｎ−ヘキサコサノイルアミノ）−７−フェニル−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプト−４−エン−３−オール２９
アルゴン下室温でＴＨＦ（６．５ｍＬ）に溶解した塩酸塩２８（０．１６２ｍｍｏｌ、１当量）に、１６（８４ｍｇ、０．１６２ｍｍｏｌ、１当量）、トリエチルアミン（２７μＬ、０．１９４ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加えた。混合物を１６時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）で希釈した。水層をＥｔ２Ｏ（２×１０ｍＬ）及びＣＨＣｌ３（２×１０ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ７６：２４）で精製することにより、２９を白色の粉末として得た（８３ｍｇ、２工程を通じて４６％）。
【０２８７】
【化９２】
【０２８８】
（２Ｓ，３Ｒ）−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）−２−ヘキサコサノイルアミノ−７−フェニルヘプタン−３−オール３０−式ＩＩＩ−Ｄの化合物
室温でＭｅＯＨ（６ｍＬ）及びＴＨＦ（３ｍＬ）に溶解した２９（７９ｍｇ、０．０７０ｍｍｏｌ、１当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（４０ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。１７時間後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３の組合せで洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ ９９：１〜９５：５）で精製することにより、白色の固体を得た（３９ｍｇ、７２％）。
【０２８９】
【化９３】
【０２９０】
実施例６：式ＶＩの二量体の合成
【０２９１】
【化９４】
【０２９２】
（２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ，７Ｓ）−２，７−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−１，８−ジ（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）オクト−４−エン−３，６−ジオール３１
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（１．３ｍＬ）に溶解した１３（１００ｍｇ、０．１３５ｍｍｏｌ、１当量）に、Ｇｒｕｂｂｓ−Ｈｏｖｅｙｄａ ＩＩ（４ｍｇ、０．００７ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を１６時間加熱還流した。Ｇｒｕｂｂｓ−Ｈｏｖｅｙｄａ ＩＩ（４ｍｇ、０．００７ｍｍｏｌ、０．０５当量）を加え、溶液の撹拌を３日間継続した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ６０：４０）で精製することにより、３１を褐色のオイルとして得た（６１ｍｇ、３１％）。
【０２９３】
【化９５】
【０２９４】
Ｂｏｃの脱保護３２
３１（１２５ｍｇ、０．０８６ｍｍｏｌ、１当量）を無水ＴＨＦ（１２ｍＬ）に溶解し、ＴＬＣ上で出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０２９５】
（２Ｓ，３Ｒ，６Ｒ，７Ｓ）−２，７−（ジ−Ｎ−ヘキサコサノイルアミノ）−１，８−ジ（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）オクト−４−エン−３，６−ジオール３３
アルゴン下室温でＴＨＦ（６．８ｍＬ）に溶解した塩酸塩３１（０．０８６ｍｍｏｌ、１当量）に、１６（８９ｍｇ、０．１７２ｍｍｏｌ、２当量）、トリエチルアミン（２９μＬ、０．２０６ｍｍｏｌ、２．４当量）及び触媒量の４−ジメチルアミノピリジンを加えた。混合物を１９時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）で希釈した。水層をＣＨＣｌ３（２×１５ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ ９９：１）で精製することにより、３３を白色の粉末として得た（１００ｍｇ、２工程を通じて５８％）。
【０２９６】
【化９６】
【０２９７】
実施例７：式ＩＩＩ−Ｅの化合物の合成
【０２９８】
【化９７】
【０２９９】
炭素数５のスフィンゴイド鎖を有するＫＲＮ７００のアナログ３５α（式ＩＩＩ−Ｅの化合物）を、中間体１３から３工程で合成した。Ｂｏｃ保護基を除去し、ＴＨＦ還流下、ジメチルアミノピリジン及びトリエチルアミンの存在下、ｐ−ニトロフェニルヘキサコサノエート１６でアミノ基をアシル化することにより、ガラクトシルセラミド３４αが得られ、これを脱保護することにより、所期のアナログ３５αを得た。
【０３００】
より正確には、上記化合物は以下のようにして得られる。
【０３０１】
（３Ｒ，４Ｓ）−４−（ヘキサコサノイルアミノ）−５−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ペント−１−エン−３−オール３４α
【０３０２】
【化９８】
【０３０３】
誘導体１３（１２９ｍｇ、０．１７４ｍｍｏｌ、１．０当量）を無水ＴＨＦ（１０ｍＬ）に溶解し、出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０３０４】
アルゴン下室温でＴＨＦ（７ｍＬ）に溶解した塩酸塩（０．１７４ｍｍｏｌ、１．０当量）に、１６（９０ｍｇ、０．１７４ｍｍｏｌ、１．０当量）、トリエチルアミン（２９μＬ、０．２０９ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量のＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジンを加えた。混合物を１４時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で希釈した。水層をＥｔ２Ｏで抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ７５：２５）で精製することにより、３４αを無色の固体として得た（１１０ｍｇ、２工程を通じて６６％）。
【０３０５】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ヘキサコサノイルアミノ）−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ペンタン−３−オール３５α
【０３０６】
【化９９】
【０３０７】
室温でＭｅＯＨ（３．３ｍＬ）及びＴＨＦ（１．６ｍＬ）に溶解した化合物３４α（６０ｍｇ、０．０５９ｍｍｏｌ、１．０当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（４０ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。２４時間後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ）で精製することにより、３５αを得た。
【０３０８】
実施例８：式ＩＩＩ−Ａの化合物のフッ素化アナログである化合物ＩＩＩ−Ｆの合成
【０３０９】
【化１００】
【０３１０】
−７８℃でジクロロメタン中ＤＡＳＴ（三フッ化ジエチルアミノ硫黄（Diethylaminosulfure））試薬で１３（式Ｉ）を処理すると、所期の３−フルオロ誘導体３６αは収率３２％でしか得られず、一緒にオキサゾリジノン３７αが収率６２％で形成された。室温での同一の反応条件により、３−フルオロ−誘導体３６αが反応の主生成物として収率４７％で、オキサゾリジノン３７αが３５％で得られた。
【０３１１】
フッ素原子の存在は、ＮＭＲ分析によって証明され（Ｃ３に関しては、２ＪＨ３−Ｆ＝５３Ｈｚ及び１ＪＣ−Ｆ＝１７３Ｈｚ、Ｃ２及びＣ４に関してはそれぞれ、２ＪＣ−Ｆ＝２６Ｈｚ及び１９Ｈｚ）、以下のフッ素化アナログの絶対配置３（Ｒ）は、化合物３６αに対するＸ線解析によって固体状態で帰属した。
【０３１２】
【化１０１】
【０３１３】
フッ化誘導体３６αを、Ｇｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒の存在下、テトラデセンとのメタセシス交差カップリング反応に用いることにより、８３％の３−フルオロ−４−デオキシ−α−ガラクトシルスフィンゴイド３８αを得た。次に、Ｂｏｃ保護基を脱保護した後、ＴＨＦ還流下、ジメチルアミノピリジン及びトリエチルアミンの存在下でｐ−ニトロフェニルヘキサコサノエート１６でアシル化することにより、フルオロガラクトシルセラミド３９αを、３工程を通じて収率２８％で得た。３９αの接触水素化により、ＫＲＮ７０００の最終３−フルオロ−４−デオキシアナログ４０を得た。
【０３１４】
より正確には、式ＩＩＩ−Ｆの化合物は以下のようにして得た。
【０３１５】
（３Ｒ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−３−フルオロ−５−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ペント−１−エン３６α
【０３１６】
【化１０２】
【０３１７】
アルゴン下−７８℃でＣＨ２Ｃｌ２（３ｍＬ）に溶解した三フッ化ジエチルアミノ硫黄（５９μＬ、０．５４ｍｍｏｌ、１．２当量）に、アルコール１３（２６９ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ、１．０当量）を加えた。混合物を１０分間撹拌し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（５ｍＬ）で希釈した。水層をＣＨ２Ｃｌ２（３×５ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９０：１０）で精製することにより、３６αを白色の固体として（８６ｍｇ、３２％）、また、オキサゾリジノン３７αを無色のオイルとして得た（１５０ｍｇ、６２％）。
【０３１８】
【化１０３】
【０３１９】
４−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシルメチル）−５−ビニル−１，３−オキサゾリジン−（３Ｈ）−２−オン３７α
【０３２０】
【化１０４】
【０３２１】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ）−３−フルオロ−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプタデカ−４−エン３８α
【０３２２】
【化１０５】
【０３２３】
アルゴン下室温で無水ＣＨ２Ｃｌ２（１ｍＬ）に溶解したフッ素化体３６α（９６ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ、１．０当量）に、テトラデセン（３３０μＬ、１．３ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（５ｍｇ、６μｍｏｌ、０．０５当量）を加えた。混合物を２４時間加熱還流した。テトラデセン（３３０μＬ、１．３ｍｍｏｌ、１０当量）及びＧｒｕｂｂｓ ＩＩ触媒（５ｍｇ、６μｍｏｌ、０．０５当量）を加え、溶液の撹拌を４時間継続した。そのまま処理せずに、ＣＨ２Ｃｌ２を蒸発させた。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９０：１０）で精製することにより、３８αを無色のオイルとして得た（９８ｍｇ、８３％）。
【０３２４】
【化１０６】
【０３２５】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−（ヘキサコサノイルアミノ）−３−フルオロ−１−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプタデカ−４−エン３９α
【０３２６】
【化１０７】
【０３２７】
誘導体３８α（１５５ｍｇ、０．１７０ｍｍｏｌ、１．０当量）を無水ＴＨＦ（１２ｍＬ）に溶解し、出発原料が完全になくなるまでＨＣｌガスをバブリングした。そのまま処理せずに、ＴＨＦを蒸発させ、粗生成物を次工程に用いた。
【０３２８】
アルゴン下室温でＴＨＦ（７ｍＬ）に溶解した塩酸塩（０．１７０ｍｍｏｌ、１．０当量）に、１６（８８ｍｇ、０．１７０ｍｍｏｌ、１．０当量）、トリエチルアミン（２９μＬ、０．２０４ｍｍｏｌ、１．２当量）及び触媒量のＮ，Ｎ’−ジメチル−４−アミノピリジンを加えた。混合物を１４時間加熱還流し、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液液で希釈した。水層をＥｔ２Ｏで抽出した。有機層を集め、ＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃縮した。シリカゲルフラッシュクロマトグラフィ（石油エーテル／ＥｔＯＡｃ ９０：１０）で精製することにより、３９αを白色のろうとして得た。
【０３２９】
（２Ｓ，３Ｒ）−２−ヘキサコサノイルアミノ−３−フルオロ−１−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）ヘプタデカン４０α
【０３３０】
【化１０８】
【０３３１】
室温でＭｅＯＨ（４．７ｍＬ）及びＴＨＦ（２．３ｍＬ）に溶解した化合物３９α（７０ｍｇ、０．０８４ｍｍｏｌ、１．０当量）に、パラジウム（１０％）活性炭（６５ｍｇ）を一度に加えた。混合物をＨ２下で撹拌した。２４時間後、混合物をセライトを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ及びＣＨＣｌ３で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル（ＣＨＣｌ３／ＭｅＯＨ）で精製することにより、４０αを得た。
【０３３２】
実施例９：本発明の化合物の生物学的特性の評価
本発明の化合物の生物学的特性は以下のように評価した：
【０３３３】
細胞培養
ＨｅＬａ細胞は、１９５１年に頸部腫瘍細胞から樹立された。トランスフェクトしたＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞は、Mitchell Kronenberg（ラ・ホーヤ・アレルギー免疫研究所（La Jolla Institute for Allergy and Immunology））（カリフォルニア州ラ・ホーヤ）によって親切にも提供された。これらの細胞は、１０％ウシ胎児血清（ＦＢＳ）（Eurobio）、２ｍＭのＬ−グルタミン（Invitrogen）、０．５ＵＩ／ｍｌのペニシリン及び０．５ｍｇ／ｍｌのストレプトマイシン（Invitrogen）を補充した１０００ｍｇ／ｍｌのグルコース（Biowest）を含有するＤＭＥＭ培地中で維持した。
【０３３４】
Ｗｅｈｉ １６４クローン１３細胞は、メチルコラントレンの注射によって誘導したＢａｌｂ／ｃマウスの線維肉腫から樹立された。これらの細胞は、１０％ ＦＢＳ、２ｍＭのＬ−グルタミン、０．５ＵＩ／ｍｌのペニシリン及び０．５ｍｇ／ｍｌのストレプトマイシンを補充したＲＰＭＩ培地（Biowest）（以下、ＣＭと称する）中で維持した。
【０３３５】
末梢血中単核細胞（ＰＢＭＣ）を、フィコール密度勾配遠心（LMS Eurobio）によって分離し、合成α−ガラクトシルセラミド（ＫＲＮ７０００）を添加した未成熟樹状細胞と１週間インキュベートした。ＮＫＴ細胞を、抗Ｖα２４モノクローナル抗体及び抗Ｖβ１１モノクローナル抗体（Beckman Coulter）を使用して、ＰＢＭＣから磁気細胞分離によってポジティブ選択した。１０％ ＦＢＳ、２ｍＭのＬ−グルタミン、０．５ＵＩ／ｍｌのペニシリン、０．５ｍｇ／ｍｌのストレプトマイシン及び３００Ｕ／ｍｌの組換えインターロイキン２（ＩＬ−２）（Chiron）を補充したＲＰＭＩ培地中に、ＮＫＴ細胞を広げ、維持した。
【０３３６】
サイトカイン放出アッセイ
糖脂質を固体形態で入手し、ＤＭＳＯ中に懸濁し、２回の連続的なインキュベーション（最初に５６℃で１０分間、その後、３７℃で少なくとも１時間）で可溶化した。
【０３３７】
ＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞を、３７℃で１６時間、様々な濃度の糖脂質とともにインキュベートし、ＣＭで３回洗浄した。ＣＭ中で２回洗浄してＩＬ−２を除去したＮＫＴ細胞をＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞に加えた。インターフェロン（ＩＦＮ）−γ及びＩＬ−４の産生に関してはＣＭ １５０μｌで、又は腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）−α産生に関しては１００μｌで、１５０００個のＮＫＴ細胞を３００００個のＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞と６時間インキュベートした（３連）。次に、上清を２回洗浄し、サイトカイン濃度評価まで−８０℃で保存した。
【０３３８】
上清中に放出されたＴＮＦ−αの量は、Ｗｅｈｉ １６４細胞毒性アッセイ（Hoffmann他, 1997）によって推定した。
【０３３９】
上清中のＩＦＮ−γ及びＩＬ−４の量は、それぞれＢＤ ＯｐｔｉＥＩＡ ＩＦＮ−γセット及びＢＤ ＯｐｔｉＥＩＡ ＩＬ−４セット（BD Biosciences）を用いて、ＥＬＩＳＡ（酵素結合免疫吸着アッセイ）によって評価した。試験は、供給業者の指示書に従って実施した。
【０３４０】
式ＩＩＩ−Ａの化合物を用いて実行した生物学的試験の結果
【０３４１】
【化１０９】
【０３４２】
式ＩＩＩ−Ａの化合物を用いて実行した試験の結果を図１〜図３に示すが、ここで、式ＩＩＩ−Ａの化合物はＶＬ３３５と表記する。
【０３４３】
ＮＫＴｉ細胞活性化は、３つのサイトカイン：腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）−α、インターフェロン（ＩＦＮ）−γ及びインターロイキン（ＩＬ）−４の産生によって評価する。単独での、又はＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞を添加した後の、又は様々な濃度の糖脂質ＫＲＮ７０００若しくは本発明の式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５と表記する）の化合物を用いたＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞を添加した後の、ＮＫＴｉ ＭＡＤ１１（ポリクローナル集団）によるサイトカイン産生を評価した。
【０３４４】
図１〜図３から把握することができるように、０．１μｇ／ｍｌの式ＩＩＩ−Ａの化合物を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄとインキュベートした後のＮＫＴｉ ＭＡＤ１１によるサイトカインの産生は、０．１μｇ／ｍｌの合成対照α−ガラクトシルセラミドＫＲＮ７０００を添加したＨｅＬａ−ＣＤ１ｄとインキュベートした後のＮＫＴｉ ＭＡＤ１１によるサイトカインの産生を上回った。
【０３４５】
式ＩＩＩ−Ａ〜式ＩＩＩ−Ｄの化合物を用いて実行した相補的な生物学的試験の結果
この部では、図中で表記した本発明の化合物の表記を括弧内に示す。例えば、図中でＶＬ３３５又は３３５と表記する式ＩＩＩ−Ａの化合物は、以下の本明細書中、式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５）又は（３３５）の化合物と表記する。
【０３４６】
ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログ、すなわち、式ＩＩＩ−Ａ〜式ＩＩＩＩ−Ｄの化合物が自己反応性及び非自己反応性のｉＮＫＴリンパ球を活性化する能力を評価した。
【０３４７】
ｉＮＫＴ細胞の自己反応性は、外因性の（exogen）ガラクトシルセラミドアナログの存在下又は非存在下で、ＣＤ１ｄ受容体を発現するヒト腫瘍細胞に対して活性化される能力と定義されている。非自己反応性クローンを刺激するために使用した提示細胞は、ＣＤ１ｄ遺伝子でトランスフェクトしたＨｅＬａ細胞（図４〜図８）及びＰＢＬ細胞（末梢血リンパ球）（図９）に対応する。
【０３４８】
ＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ細胞の自己反応性によって達成されるベースラインシグナルからの応答を見分けるために、提示細胞として使用するＰＢＬに関して自己反応性クローンの刺激を検討した。刺激効果は、培養上清（surnagent culture）中のα−ＴＮＦの産生によって評価した。刺激の最大値は、対照として使用するフィトヘマグルチニン（ＰＨＡ）によるｉＮＫＴ刺激の後に放出されるα−ＴＮＦの量によって証明した。バックグラウンドノイズは、ＣＤ１ｄ提示細胞の非存在下及びα−ガラクトシルセラミド基質（substrat）の非存在下で検出可能なα−ＴＮＦの量によって評価した。
【０３４９】
第１段階では、式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５、図４）、式ＩＩＩ−Ｂ（ＶＬ３３８、図５）、式ＩＩＩ−Ｃ（ＶＬ３５１、図６）及び式ＩＩＩ−Ｄ（ＶＬ３６７、図７）のα−ガラクトシルセラミドアナログを用いたＨｅＬａ−ＣＤ１ｄ提示細胞からの非自己反応性ｉＮＫＴ細胞の刺激を評価した。結果から、式ＩＩＩ−Ａの化合物（ＶＬ３３５、ＫＲＮ７０００の４−デオキシアナログ）は、試験した最低の濃度（０．０５μｇ／ｍｌ）であっても、ＰＨＡ刺激レベルと比較して、α−ＴＮＦ放出の最大値を誘導することが既に可能であることが示される。同一の実験条件において、同様の最大刺激は、式ＩＩＩ−Ｄ（ＶＬ３６７）の化合物によっても誘導された。式ＩＩＩ−Ｃ（ＶＬ３５１）及び式ＩＩＩ−Ｂ（ＶＬ３３８）の化合物の存在下では、５０μｇ／ｍｌの最大濃度でも、α−ＴＮＦ産生の有意な刺激は誘導されなかった。
【０３５０】
これらの結果によって初めて、式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５）の化合物の４−デオキシＫＲＮ７０００アナログがヒト非自己反応性ｉＮＫＴリンパ球によってほぼ認識されることが明確に示された。７炭素短いスフィンゴイド（sphingoide）塩基の末端位にフェニル基を有する式ＩＩＩ−Ｄ（ＶＬ３６７）の化合物はまた、式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５）の化合物よりも２００倍高い濃度であっても、リンパ球応答の最大値を誘導することが可能である。予想通り、式ＩＩＩ−Ｂ（ＶＬ３３８、Ｔｈ２優位性（orientation）のＯＣＨの４−デオキシアナログ）の化合物及び嵩高いｔｅｒｔ−ブチル（terbutyl）末端基を有する式ＩＩＩ−Ｃ（ＶＬ３５１）の化合物は、高濃度であっても、非自己反応性ヒト細胞からのα−ＴＮＦ放出を刺激しないと考えられる。
【０３５１】
本発明者らの検討の第２部では、４−デオキシＫＲＮ７０００アナログがヒトの自己反応性又は非自己反応性のクローンを刺激する能力を、ＰＢＬに１０μｇ／ｍｌ、２５μｇ／ｍｌ及び５０μｇ／ｍｌのα−ガラクトシルセラミド（galactosylcermide）アナログを添加し、ｉＮＫＴ非自己反応性のＭＡＤ１１細胞及び１９Ｓ−３細胞及び自己反応性の１９Ｓ−９細胞株及び２１Ｓ−２１細胞株と共培養することによって比較した（図８）。
【０３５２】
式ＩＩＩ−Ａ（ＶＬ３３５）及び式ＩＩＩ−Ｄ（ＶＬ３６７）のアナログに関しては、再度、有意な刺激が得られた。しかしながら、依然として自己反応性クローンの反応性は、非自己反応性クローンの２倍〜３倍である。そのように試験した高濃度での刺激レベルの低下（lost）は、培養条件でのＰＢＬ細胞に対する細胞毒性の出現に起因する可能性がある。同一の実験条件において、式ＩＩＩ−Ｂ（ＶＬ３３８）及び式ＩＩＩ−Ｃ（ＶＬ３５１）の化合物は、自己反応性クローンを弱く刺激することができたと考えられるが、非自己反応性のクローン又は細胞株の活性化には効果がない。
【０３５３】
式ＩＩ−Ａ、式ＩＩＩ−Ｂ、式ＩＩＩ−Ｃ及び式ＩＩＩ−Ｄの４−デオキシアナログの細胞毒性を、４つの腫瘍性細胞株：Ｃａｃｏ、Ｈｕｈ７、Ｆｉｂｒｏｂｌａｓｔｅ（図９）及び多発性骨髄腫（図１０）で測定した。結果から、式ＩＩＩ−Ａ、式ＩＩＩ−Ｂ、式ＩＩＩ−Ｃの化合物の、Ｃａｃｏ細胞に対する１０μＭを超える濃度での弱い細胞毒性、及び式ＩＩＩ−Ｂ及び式ＩＩＩ−Ｃの化合物の、Ｆｉｂｒｏｂｌａｓｔｅ細胞株に対する２０μＭを超える濃度での弱い細胞毒性が示される。多発性骨髄腫細胞に対するアナログの効果は全く観察されなかった。
【０３５４】
ＣＤ１ｄ受容体の存在下又は非存在下でＧｂ３又は式ＩＩＩ−Ａ（３３５）の化合物を添加した場合のＴＮＦの産生を比較するために、ヒト腫瘍性ナマルバ提示細胞を用いて、ＨｅＬａの、非自己反応性のＭＡＤ１１細胞及び１９Ｓ−３細胞並びに自己反応性の１９Ｓ−９細胞株及び２１Ｓ−２１細胞株に関して最後の検討を実行した。結果から、自己反応性細胞株及び非反応性細胞株の両方に対する、式ＩＩＩ−Ａの化合物の正の刺激効果が明確に認められる（図１１）。
【０３５５】
これらの結果から、本発明の化合物は、対照ＫＲＮ７０００及び他の合成アナログと比較して、少なくとも同様、またさらには優れた免疫調節活性を有することが示される。これらの優れた活性により、本発明の化合物には、特に、抗癌プロセスの制御に関して高い関心がある。
【０３５６】
さらに、本発明の化合物は、非常に簡単な方法で、すなわち、ＫＲＮ７０００及びＴｈ２刺激性のＯＣＨとして既に記述されている他のアナログと比較して低コストで合成することができる。
【０３５７】
スフィンゴシル鎖の３位のアルコールが、フッ素（fluor）原子Ｆ又はアミン基ＮＨ２に置き換えられた式Ｖ及び式ＶＩＩの化合物は、明らかに好ましい本発明の化合物である。
【０３５８】
それらは、式ＩＩＩ（式中、Ｒ２１はＦ又はＮＨ２である）の前駆体から出発する以外は、スフィンゴシル鎖の３位にアルコールを有する式Ｖ及び式ＶＩＩの化合物と同様に合成される。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の式Ｉ：
【化１】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１はＨ、又はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）、アリルオキシカルボニル基（Ａｌｏｃ）、９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（Ｔｅｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジル基（Ｔｒｏｃ）、ベンジル基（Ｂｎ）、ジフェニルメチル基（Ｄｐｍ）、トリチル基（Ｔｒ）、９−フェニルフルオレニル基（ＰｈＦｌ）、アリル基、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ１はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）又はベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）又は９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）であり、
Ｒ５はＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）、アセテート基（Ａｃ）であり、より好ましくは、Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）であり、
Ｒ１及びＲ５はＮ，Ｏ−アセタール基等の保護基、好ましくはオキサゾリジン基又はオキサゾリン基を一緒に形成することができ、
Ｒ２はＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ２は、ベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基又はシクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ２は、ベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３、Ｒ４、及びＲ６は同一であるか、又は異なり、且つＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３及びＲ４はイソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、ベンジリデン基、メシチルメチレン基、ｐ−メトキシベンジリデン基、メチレン基、ジフェニルメチレン基、イソプロピリデン基又はディスポーク基等のアセタール基を一緒に形成することができ、且つ
Ｒ４及びＲ６はベンジリデン基又はパラメトキシベンジリデン基を一緒に形成することができる）
を有する、化合物。
【請求項２】
請求項１に記載の式Ｉの化合物を製造する方法であって、
（ａ）以下の式Ｉ−１：
【化２】
（式中、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６は同一であり、且つベンジル基である）
の化合物を準備する工程と、
（ｂ）前記式Ｉ−１の化合物と、式Ｉ−２：
【化３】
（式中、
ＸはＯＨ、ＳＨ又はＮＨ２であり、
Ｒ１はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）であり、且つ
Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）である）
の化合物とをオシドカップリングさせる工程と、
を含む、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の式Ｉ（式中、ＸはＳである）の化合物を製造する方法であって、
（ａ）以下の式Ｉ−３：
【化４】
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基である）
の化合物を準備する工程と、
（ｂ）前記式Ｉ−３の化合物をＮａＨ、ＣＳ２で処理し、且つ塩化パラ−ニトロベンゾイルを加えて、１−チオ−パラ−ニトロベンゾイルエステルを得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られたグリコシルエステルをけん化する工程と、
（ｄ）式Ｉ−１のスフィンゴシル化合物で求核置換する工程と、
を含み、
工程ｂ）及び工程ｃ）を同時に実行する、方法。
【請求項４】
以下の式ＩＩ：
【化５】
（式中、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は請求項２又は３で定義したものであり、
Ｒ８は独立して、Ｈ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、
Ｒ５及びＲ８はアセタール基を一緒に形成することができ、
ＸはＯ又はＮＨである）
の化合物を製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）存在する場合、この化合物のＯＨ基をｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）又はアセテート基（Ａｃ）で保護する工程と、
（ｃ）前記工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化して、以下の式ＩＩ−１：
【化６】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）有機アセチレン化合物を前記式ＩＩ−１の化合物に加えて、以下の式ＩＩ−２：
【化７】
の化合物を得る工程と、
（ｅ）前記式ＩＩ−２の化合物を部分的に水素化して、式ＩＩの化合物を得る工程と、
（ｆ）必要に応じて、Ｈとは異なるＲ８を導入する工程と、
を含む、方法。
【請求項５】
以下の式ＩＩ：
【化８】
（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ８は請求項４で定義したものであり、
Ｒ５及びＲ８は独立して、Ｈ、又はイソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、ベンジリデン基、メシチルメチレン基、ｐ−メトキシベンジリデン基、メチレン基、ジフェニルメチレン基、イソプロピリデン基若しくはディスポーク基等のアセタール基であり、
ＸはＳＯ２又はＳＯである）
の化合物を製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基であり、且つＸはＳである）の化合物、又は請求項２に記載の方法によって得られる式Ｉ（式中、ＸはＳである）の化合物、又は請求項３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）存在する場合、この化合物のＯＨ基をｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）又はアセテート基（Ａｃ）で保護する工程と、
（ｃ）前記工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化して、以下の式ＩＩ−１：
【化９】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）有機アセチレン化合物を前記式ＩＩ−１の化合物に加えて、以下の式ＩＩ−２：
【化１０】
の化合物を得る工程と、
（ｅ）前記式ＩＩ−２の化合物を部分的に水素化する工程と、
（ｆ）必要に応じて、Ｈとは異なるＲ８を導入する工程と、
を含む、方法。
【請求項６】
以下の式ＩＩ：
【化１１】
（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８は請求項５で定義したものであり、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨである）
の化合物を製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）存在する場合、この化合物のＯＨ基を、好ましくはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）又はアセテート基（Ａｃ）で保護する工程と、
（ｃ）ＸがＯ若しくはＮＨである場合、前記工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化する工程、又はＸ＝Ｓ（Ｏ）若しくはＳ（Ｏ）２である場合、該工程（ｂ）で得られた化合物を酸化及びエポキシ化する工程であって、それにより、以下の式ＩＩ−１：
【化１２】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）前記式ＩＩ−１の化合物をグリニャール反応剤又は有機アリル試薬で開環して、前記式ＩＩの化合物を得る工程と、
（ｅ）必要に応じて、Ｈとは異なるＲ８を導入する工程と、
を含む、方法。
【請求項７】
以下の式ＩＩ：
【化１３】
（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ８は請求項５又は６で定義したものであり、且つ
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨである）
の化合物。
【請求項８】
以下の式ＩＩＩ：
【化１４】
（式中、
Ｒ２１はＯＨ、Ｆ又はＮＨ２であり、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、且つ
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、以下の基：
【化１５】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７アルキル鎖若しくはＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【化１６】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉ（式中、Ｒ５は、好ましくはＨである）の化合物を準備する工程と、
（ｂ）最終生成物においてＲ１１がＨとは異なる必要があり、且つ最終生成物においてＲ２１がＯＨである必要がある場合、スフィンゴシル鎖の３位のアルコールをＴＢＤＰＳ基等によって選択的に保護する工程、又は
（ｃ）前記式ＩＩＩの化合物においてＲ２１がＦである必要がある場合、前記式Ｉの化合物をフッ素化する工程、又は
（ｄ）最終生成物においてＲ２１がＮＨ２である必要がある場合、前記式Ｉの化合物を、アジ化ナトリウム存在下、ルイス酸又はアゾジカルボン酸ジイソプロピル（ＤＩＡＤ）若しくはアゾジカルボン酸ジエチル（ＤＥＡＤ）等のミツノブ剤により活性化し、それにより、前記式Ｉの化合物のアジドアナログを得る工程と、
（ｅ）この式Ｉの化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【化１７】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｆ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｇ）前記工程（ｆ）で得られた化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【化１８】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｈ）最終生成物において、Ｒ２１がＮＨ２である必要があり、且つＲ１１がＨと異なる必要がある場合、アジド基をアミン基へと選択的に還元し、該アミン基をＢｏｃ基等によって保護し、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によってガラクトシド残基の二重結合及び保護基を除去し、ピリジン中、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）及び４−ジ（メチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下等で、ガラクトシル環にＲ１１を導入した後、ＮＨ−Ｂｏｃ基を除去する工程、又は
（ｉ）最終生成物において、Ｒ２１がＯＨである必要があり、且つＲ１１がＨとは異なる必要がある場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によってガラクトシド残基の二重結合及び保護基を除去し、ピリジン中、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）及び４−ジ（メチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下等で、ガラクトシル環にＲ１１を導入し、且つスフィンゴシル鎖の３位のアルコールを脱保護する工程、又は
（ｊ）最終生成物において、Ｒ２１がＦである必要があり、且つＲ１１がＨである必要がある場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によって二重結合及び保護基を除去し、それにより、Ｒ２１がＦであり、且つＲ１１がＨである化合物を得る工程、又は
（ｋ）最終生成物において、Ｒ２１がＦである必要があり、且つＲ１１がＨとは異なる必要がある場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によってガラクトシド残基の二重結合及び保護基を除去し、Ｒ１１を導入し、それにより、Ｒ２１がＦであり、且つＲ１１がＨとは異なる化合物を得る工程、又は
（ｌ）最終生成物において、Ｒ１１がＨである必要があり、且つＲ２１がＯＨである必要がある場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によって二重結合及び保護基を除去する工程、又は
（ｍ）最終生成物において、Ｒ１１がＨである必要があり、且つＲ２１がＮＨ２である必要がある場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によって二重結合及び保護基を除去し、且つＮ３をＮＨ２に変換する工程と、
を含む、方法。
【請求項９】
以下の式ＩＩＩ：
【化１９】
（式中、
Ｒ２１はＯＨ、Ｆ又はＮＨであり、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、且つ
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、以下の基：
【化２０】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７アルキル鎖若しくはＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【化２１】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する、α−ガラクトセラミドアナログ。
【請求項１０】
以下の式ＩＩＩ−Ａ：
【化２２】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項１１】
以下の式ＩＩＩ−Ｂ：
【化２３】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項１２】
以下の式ＩＩＩ−Ｃ：
【化２４】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項１３】
以下の式ＩＩＩ−Ｄ：
【化２５】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項１４】
以下の式ＩＶ：
【化２６】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１１は、Ｈ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１は、Ｈ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、
【化２７】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７アルキル鎖又はＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【化２８】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
のα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は、保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【化２９】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）遷移金属錯体の媒介によりアリルアルコールをケトンへと異性化させる工程と、
（ｄ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【化３０】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｆ）保護基を除去する工程と、
（ｇ）必要に応じて、Ｈとは異なるＲ１１を導入する工程と、
を含む、方法。
【請求項１５】
以下の式ＩＶ：
【化３１】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、
【化３２】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７アルキル鎖若しくはＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【化３３】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
のα−ガラクトセラミドアナログ。
【請求項１６】
以下の式Ｖ：
【化３４】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ５及びＲ８は請求項５又は６で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、Ｃ３〜Ｃ７アルキル鎖及びＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であって、
【化３５】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等のヘテロアリールを含有してもよく、又はＲ９は以下の式：
【化３６】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法であって、
（ａ）請求項７に記載の式ＩＩの化合物、又は請求項５若しくは６に記載の方法によって得られる式ＩＩの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【化３７】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）アミノ基を脱保護する工程、又は
Ｒ１１がＨとは異なる場合、並びにＲ５及びＲ８がＨである場合、スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを保護した後、アミノ基を脱保護する工程と、
（ｄ）得られた化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【化３８】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｅ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して前記式Ｖ（式中、Ｒ１１はＨであり、且つＲ５及びＲ８はＨである）の化合物を得る工程、又は
（ｆ）Ｒ５及びＲ８がＨとは異なる場合、二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを選択的に除去する工程と、
（ｇ）Ｈとは異なるＲ１１を導入する工程と、
（ｈ）スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを脱保護して、前記式Ｖ（式中、Ｒ１１はＨではない）の化合物を得る工程と、
を含む、方法。
【請求項１７】
以下の式Ｖ：
【化３９】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ５及びＲ８は請求項５又は６で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、Ｃ３〜Ｃ７アルキル鎖及びＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であって、
【化４０】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等のヘテロアリールを含有してもよく、又はＲ９は以下の式：
【化４１】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する化合物を製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）ＸがＯ若しくはＮＨである場合、前記工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化する工程、又はＸがＳ（Ｏ）若しくはＳ（Ｏ）２である場合、前記工程（ｂ）で得られた化合物を酸化及びエポキシ化する工程であって、それにより、以下の式ＩＩ−１：
【化４２】
の化合物を得る工程と、
（ｃ）有機アセチレン化合物を前記式ＩＩ−１の化合物に加え、以下の式ＩＩ−２：
【化４３】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）前記式ＩＩ−２の化合物を部分的に水素化する工程と、
（ｅ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【化４４】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｆ）アミノ基を脱保護する工程、又は
Ｒ１１がＨとは異なる場合、並びにＲ５及びＲ８がＨである場合、スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを保護した後に、アミノ基を脱保護する工程と、
（ｇ）得られた化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【化４５】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｈ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、前記式Ｖ（式中、Ｒ１１、Ｒ５及びＲ８はＨである）の化合物を得る工程、又は
（ｉ）Ｒ５及びＲ８がＨとは異なる場合、二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを選択的に除去する工程と、
（ｊ）Ｈとは異なるＲ１１を導入する工程と、
（ｋ）スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを脱保護して、式Ｖ（式中、Ｒ１１はＨではない）の化合物を得る工程と、
を含む、方法。
【請求項１８】
以下の式Ｖ：
【化４６】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ２１はＯＨ又はＦ又はＮＨ２であり、
Ｒ８は請求項５又は６で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ又は式ＣｎＨ２ｎ＋２（１＜ｎ＜１５）の脂肪エステルであり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、Ｃ３〜Ｃ７アルキル鎖及びＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であって、
【化４７】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等のヘテロアリールを含有してもよく、又はＲ９は以下の式：
【化４８】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨであり、
但し、Ｘ＝Ｏである場合、Ｒ８はＨではない）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する、α−ガラクトセラミドアナログ。
【請求項１９】
以下の式ＶＩ：
【化４９】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）、ＮＨであり、
Ｒ５は請求項１で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１４は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であるか、又は以下の式：
【化５０】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物同士を交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）Ｒ５がＨとは異なる場合、スフィンゴシル鎖の３位のアルコールを保護する工程と、
（ｄ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ）得られた化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【化５１】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｅ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、前記式ＶＩ（式中、Ｒ１１はＨであり、且つＲ５はＨである）の化合物を得る工程、又は
（ｅ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基を除去する工程と、
（ｆ’）糖部分のＲ１１を導入する工程と、
（ｇ’）３位のアルコールを脱保護して、前記式ＶＩ（式中、Ｒ１１はＨとは異なる）の化合物を得る工程と、
を含む、方法。
【請求項２０】
以下の式ＶＩ：
【化５２】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）、ＮＨであり、
Ｒ５は請求項１で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又アセチル基であり、
Ｒ１４は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、又はＲ９は以下の式：
【化５３】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
の化合物。
【請求項２１】
以下の式ＶＩ−Ａ：
【化５４】
を有する、化合物。
【請求項２２】
以下の式ＶＩＩ：
【化５５】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、Ｒ５及びＲ８は請求項５又は６で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１４は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基、又は以下の式：
【化５６】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する化合物を製造する方法であって、
（ａ）請求項４に記載の式ＩＩの化合物、又は請求項４若しくは５若しくは６に記載の方法によって得られる式ＩＩの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物同士を交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）Ｒ１１がＨとは異なる場合、スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを保護する工程と、
（ｄ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ）この化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【化５７】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｆ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、前記式ＶＩＩ（式中、Ｒ１１、Ｒ５及びＲ８はＨである）の化合物を得る工程、又は
（ｆ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基を除去する工程と、
（ｇ’）糖部分のＲ１１を導入する工程と、
（ｈ’）３位のアルコールを脱保護して、前記式ＶＩＩ（式中、Ｒ１１はＨとは異なる）の化合物を得る工程と、
を含む、方法。
【請求項２３】
以下の式ＶＩＩ：
【化５８】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、且つＲ８は請求項５又は６で定義したものであり、
Ｒ２１はＯＨ又はＮＨ２又はＦであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１４は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基、又は以下の式：
【化５９】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する、α−ガラクトセラミドアナログ。
【請求項２４】
以下の式ＩＩＩ−Ｅ：
【化６０】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項２５】
以下の式ＩＩＩ−Ｆ１：
【化６１】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項２６】
以下の式ＩＩＩ−Ｆ２：
【化６２】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項２７】
以下の式ＩＩＩ−Ｆ３：
【化６３】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項２８】
以下の式ＩＩＩ−Ｆ４：
【化６４】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項２９】
以下の式ＩＩＩ−Ｆ５：
【化６５】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３０】
以下の式ＩＩＩ−Ｇ１：
【化６６】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３１】
以下の式ＩＩＩ−Ｇ２：
【化６７】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３２】
以下の式ＩＩＩ−Ｇ３：
【化６８】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３３】
以下の式ＩＩＩ−Ｇ４：
【化６９】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３４】
以下の式ＩＩＩ−Ｇ５：
【化７０】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３５】
以下の式ＩＩＩ−Ｈ１：
【化７１】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３６】
以下の式ＩＩＩ−Ｈ２：
【化７２】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３７】
以下の式ＩＩＩ−Ｈ３：
【化７３】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３８】
以下の式ＩＩＩ−Ｈ４：
【化７４】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３９】
以下の式ＩＩＩ−Ｈ５：
【化７５】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４０】
以下の式ＩＩＩ−Ｊ１：
【化７６】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４１】
以下の式ＩＩＩ−Ｊ２：
【化７７】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４２】
以下の式ＩＩＩ−Ｊ３：
【化７８】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４３】
以下の式ＩＩＩ−Ｊ４：
【化７９】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４４】
以下の式ＩＩＩ−Ｊ５：
【化８０】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４５】
以下の式ＩＩＩ−Ｋ１：
【化８１】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４６】
以下の式ＩＩＩ−Ｋ２：
【化８２】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４７】
以下の式ＩＩＩ−Ｋ３：
【化８３】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４８】
以下の式ＩＩＩ−Ｋ４：
【化８４】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４９】
以下の式ＩＩＩ−Ｋ５：
【化８５】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項５０】
請求項９〜１３、１５、２０、２１及び２３〜４９のいずれか一項に記載の少なくとも１つの化合物、又は請求項８、１４、１６、１７、１９、２１及び２２のいずれか一項に記載の方法によって得られる少なくとも１つの化合物と、薬学的に許容される担体とを含む、医薬組成物。
【請求項５１】
請求項１８に記載の少なくとも１つの化合物（式中、ＸがＯである場合、Ｒ８はＨではない）、又は請求項１９に記載の方法によって得られる少なくとも１つの化合物と、薬学的に許容される担体とを含む、医薬組成物。
【請求項５２】
請求項１０に記載の前記式ＩＩＩ−Ａの化合物と薬学的に許容される担体とを含む、医薬組成物。
【請求項１】
以下の式Ｉ：
【化１】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１はＨ、又はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）、アリルオキシカルボニル基（Ａｌｏｃ）、９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（Ｔｅｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジル基（Ｔｒｏｃ）、ベンジル基（Ｂｎ）、ジフェニルメチル基（Ｄｐｍ）、トリチル基（Ｔｒ）、９−フェニルフルオレニル基（ＰｈＦｌ）、アリル基、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ１はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）又はベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ）又は９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ）であり、
Ｒ５はＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）、アセテート基（Ａｃ）であり、より好ましくは、Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）であり、
Ｒ１及びＲ５はＮ，Ｏ−アセタール基等の保護基、好ましくはオキサゾリジン基又はオキサゾリン基を一緒に形成することができ、
Ｒ２はＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ２は、ベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基又はシクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ２は、ベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３、Ｒ４、及びＲ６は同一であるか、又は異なり、且つＨ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、トリチル基（Ｔｒ）、イソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基であり、より好ましくは、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基（Ｂｎ）であり、
Ｒ３及びＲ４はイソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、ベンジリデン基、メシチルメチレン基、ｐ−メトキシベンジリデン基、メチレン基、ジフェニルメチレン基、イソプロピリデン基又はディスポーク基等のアセタール基を一緒に形成することができ、且つ
Ｒ４及びＲ６はベンジリデン基又はパラメトキシベンジリデン基を一緒に形成することができる）
を有する、化合物。
【請求項２】
請求項１に記載の式Ｉの化合物を製造する方法であって、
（ａ）以下の式Ｉ−１：
【化２】
（式中、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６は同一であり、且つベンジル基である）
の化合物を準備する工程と、
（ｂ）前記式Ｉ−１の化合物と、式Ｉ−２：
【化３】
（式中、
ＸはＯＨ、ＳＨ又はＮＨ２であり、
Ｒ１はイソｔｅｒｔブチルオキシカルボキシ基（Ｂｏｃ）であり、且つ
Ｒ５はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）である）
の化合物とをオシドカップリングさせる工程と、
を含む、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の式Ｉ（式中、ＸはＳである）の化合物を製造する方法であって、
（ａ）以下の式Ｉ−３：
【化４】
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は同一であり、且つベンジル基である）
の化合物を準備する工程と、
（ｂ）前記式Ｉ−３の化合物をＮａＨ、ＣＳ２で処理し、且つ塩化パラ−ニトロベンゾイルを加えて、１−チオ−パラ−ニトロベンゾイルエステルを得る工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られたグリコシルエステルをけん化する工程と、
（ｄ）式Ｉ−１のスフィンゴシル化合物で求核置換する工程と、
を含み、
工程ｂ）及び工程ｃ）を同時に実行する、方法。
【請求項４】
以下の式ＩＩ：
【化５】
（式中、
Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は請求項２又は３で定義したものであり、
Ｒ８は独立して、Ｈ、又はトリメチルシリル基（ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（ＴＥＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基（ＴＢＳ）、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシリル基（ＴＩＰＳ）、ジエチルイソプロピルシリル基（ＤＥＩＰＳ）、テキシルジメチルシリル基（ＴＤＳ）、トリフェニルシリル基（ＴＰＳ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルシリル基（ＤＴＢＭＳ）、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基（Ｂｎ）、ｐ−メトキシベンジル基（ＰＭＢ）、３，４−ジメトキシベンジル基（ＤＭＢ）、トリチル基（Ｔｒ）、アリル基、メトキシメチル基（ＭＯＭ）、２−メトキシエトキシメチル基（ＭＥＭ）、ベンジルオキシメチル基（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基（ＰＭＢＭ）、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基（ＳＥＭ）、テトラヒドロピラニル基（ＴＨＰ）、メチルチオメチル基（ＭＴＭ）、アセテート基（Ａｃ）、ベンゾエート基（Ｂｚ）、ピバレート基（Ｐｖ）、メトキシアセテート基、クロロアセテート基、レブリネート基（Ｌｅｖ）、ベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−Ｃｂｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基（ＲＯ−ＣＯ２ＰＮＢ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｂｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｒｏｃ）、２−（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基（ＲＯ−Ｔｅｏｃ）、アリルオキシ基（ＲＯ−Ａｌｏｃ）等の保護基であり、
Ｒ５及びＲ８はアセタール基を一緒に形成することができ、
ＸはＯ又はＮＨである）
の化合物を製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）存在する場合、この化合物のＯＨ基をｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）又はアセテート基（Ａｃ）で保護する工程と、
（ｃ）前記工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化して、以下の式ＩＩ−１：
【化６】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）有機アセチレン化合物を前記式ＩＩ−１の化合物に加えて、以下の式ＩＩ−２：
【化７】
の化合物を得る工程と、
（ｅ）前記式ＩＩ−２の化合物を部分的に水素化して、式ＩＩの化合物を得る工程と、
（ｆ）必要に応じて、Ｈとは異なるＲ８を導入する工程と、
を含む、方法。
【請求項５】
以下の式ＩＩ：
【化８】
（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ８は請求項４で定義したものであり、
Ｒ５及びＲ８は独立して、Ｈ、又はイソプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、ベンジリデン基、メシチルメチレン基、ｐ−メトキシベンジリデン基、メチレン基、ジフェニルメチレン基、イソプロピリデン基若しくはディスポーク基等のアセタール基であり、
ＸはＳＯ２又はＳＯである）
の化合物を製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基であり、且つＸはＳである）の化合物、又は請求項２に記載の方法によって得られる式Ｉ（式中、ＸはＳである）の化合物、又は請求項３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）存在する場合、この化合物のＯＨ基をｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）又はアセテート基（Ａｃ）で保護する工程と、
（ｃ）前記工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化して、以下の式ＩＩ−１：
【化９】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）有機アセチレン化合物を前記式ＩＩ−１の化合物に加えて、以下の式ＩＩ−２：
【化１０】
の化合物を得る工程と、
（ｅ）前記式ＩＩ−２の化合物を部分的に水素化する工程と、
（ｆ）必要に応じて、Ｈとは異なるＲ８を導入する工程と、
を含む、方法。
【請求項６】
以下の式ＩＩ：
【化１１】
（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８は請求項５で定義したものであり、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨである）
の化合物を製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）存在する場合、この化合物のＯＨ基を、好ましくはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基（ＴＢＤＰＳ）、ベンジル基（Ｂｎ）又はアセテート基（Ａｃ）で保護する工程と、
（ｃ）ＸがＯ若しくはＮＨである場合、前記工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化する工程、又はＸ＝Ｓ（Ｏ）若しくはＳ（Ｏ）２である場合、該工程（ｂ）で得られた化合物を酸化及びエポキシ化する工程であって、それにより、以下の式ＩＩ−１：
【化１２】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）前記式ＩＩ−１の化合物をグリニャール反応剤又は有機アリル試薬で開環して、前記式ＩＩの化合物を得る工程と、
（ｅ）必要に応じて、Ｈとは異なるＲ８を導入する工程と、
を含む、方法。
【請求項７】
以下の式ＩＩ：
【化１３】
（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ８は請求項５又は６で定義したものであり、且つ
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨである）
の化合物。
【請求項８】
以下の式ＩＩＩ：
【化１４】
（式中、
Ｒ２１はＯＨ、Ｆ又はＮＨ２であり、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、且つ
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、以下の基：
【化１５】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７アルキル鎖若しくはＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【化１６】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉ（式中、Ｒ５は、好ましくはＨである）の化合物を準備する工程と、
（ｂ）最終生成物においてＲ１１がＨとは異なる必要があり、且つ最終生成物においてＲ２１がＯＨである必要がある場合、スフィンゴシル鎖の３位のアルコールをＴＢＤＰＳ基等によって選択的に保護する工程、又は
（ｃ）前記式ＩＩＩの化合物においてＲ２１がＦである必要がある場合、前記式Ｉの化合物をフッ素化する工程、又は
（ｄ）最終生成物においてＲ２１がＮＨ２である必要がある場合、前記式Ｉの化合物を、アジ化ナトリウム存在下、ルイス酸又はアゾジカルボン酸ジイソプロピル（ＤＩＡＤ）若しくはアゾジカルボン酸ジエチル（ＤＥＡＤ）等のミツノブ剤により活性化し、それにより、前記式Ｉの化合物のアジドアナログを得る工程と、
（ｅ）この式Ｉの化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【化１７】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｆ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｇ）前記工程（ｆ）で得られた化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【化１８】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｈ）最終生成物において、Ｒ２１がＮＨ２である必要があり、且つＲ１１がＨと異なる必要がある場合、アジド基をアミン基へと選択的に還元し、該アミン基をＢｏｃ基等によって保護し、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によってガラクトシド残基の二重結合及び保護基を除去し、ピリジン中、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）及び４−ジ（メチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下等で、ガラクトシル環にＲ１１を導入した後、ＮＨ−Ｂｏｃ基を除去する工程、又は
（ｉ）最終生成物において、Ｒ２１がＯＨである必要があり、且つＲ１１がＨとは異なる必要がある場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によってガラクトシド残基の二重結合及び保護基を除去し、ピリジン中、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）及び４−ジ（メチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下等で、ガラクトシル環にＲ１１を導入し、且つスフィンゴシル鎖の３位のアルコールを脱保護する工程、又は
（ｊ）最終生成物において、Ｒ２１がＦである必要があり、且つＲ１１がＨである必要がある場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によって二重結合及び保護基を除去し、それにより、Ｒ２１がＦであり、且つＲ１１がＨである化合物を得る工程、又は
（ｋ）最終生成物において、Ｒ２１がＦである必要があり、且つＲ１１がＨとは異なる必要がある場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によってガラクトシド残基の二重結合及び保護基を除去し、Ｒ１１を導入し、それにより、Ｒ２１がＦであり、且つＲ１１がＨとは異なる化合物を得る工程、又は
（ｌ）最終生成物において、Ｒ１１がＨである必要があり、且つＲ２１がＯＨである必要がある場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によって二重結合及び保護基を除去する工程、又は
（ｍ）最終生成物において、Ｒ１１がＨである必要があり、且つＲ２１がＮＨ２である必要がある場合、Ｈ２、Ｐｄ／Ｃによる水素化等の接触水素化等によって二重結合及び保護基を除去し、且つＮ３をＮＨ２に変換する工程と、
を含む、方法。
【請求項９】
以下の式ＩＩＩ：
【化１９】
（式中、
Ｒ２１はＯＨ、Ｆ又はＮＨであり、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、且つ
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、以下の基：
【化２０】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７アルキル鎖若しくはＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【化２１】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する、α−ガラクトセラミドアナログ。
【請求項１０】
以下の式ＩＩＩ−Ａ：
【化２２】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項１１】
以下の式ＩＩＩ−Ｂ：
【化２３】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項１２】
以下の式ＩＩＩ−Ｃ：
【化２４】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項１３】
以下の式ＩＩＩ−Ｄ：
【化２５】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項１４】
以下の式ＩＶ：
【化２６】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１１は、Ｈ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１は、Ｈ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、
【化２７】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７アルキル鎖又はＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【化２８】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
のα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は、保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【化２９】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）遷移金属錯体の媒介によりアリルアルコールをケトンへと異性化させる工程と、
（ｄ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−２：
【化３０】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物とをＮ−アシル化反応させる工程と、
（ｆ）保護基を除去する工程と、
（ｇ）必要に応じて、Ｈとは異なるＲ１１を導入する工程と、
を含む、方法。
【請求項１５】
以下の式ＩＶ：
【化３１】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、
【化３２】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等の少なくとも１つのヘテロアリール基を含有し得るＣ３〜Ｃ７アルキル鎖若しくはＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であるか、又はＲ９は以下の式：
【化３３】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
のα−ガラクトセラミドアナログ。
【請求項１６】
以下の式Ｖ：
【化３４】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ５及びＲ８は請求項５又は６で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、Ｃ３〜Ｃ７アルキル鎖及びＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であって、
【化３５】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等のヘテロアリールを含有してもよく、又はＲ９は以下の式：
【化３６】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法であって、
（ａ）請求項７に記載の式ＩＩの化合物、又は請求項５若しくは６に記載の方法によって得られる式ＩＩの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【化３７】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）アミノ基を脱保護する工程、又は
Ｒ１１がＨとは異なる場合、並びにＲ５及びＲ８がＨである場合、スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを保護した後、アミノ基を脱保護する工程と、
（ｄ）得られた化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【化３８】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｅ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して前記式Ｖ（式中、Ｒ１１はＨであり、且つＲ５及びＲ８はＨである）の化合物を得る工程、又は
（ｆ）Ｒ５及びＲ８がＨとは異なる場合、二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを選択的に除去する工程と、
（ｇ）Ｈとは異なるＲ１１を導入する工程と、
（ｈ）スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを脱保護して、前記式Ｖ（式中、Ｒ１１はＨではない）の化合物を得る工程と、
を含む、方法。
【請求項１７】
以下の式Ｖ：
【化３９】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ５及びＲ８は請求項５又は６で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、Ｃ３〜Ｃ７アルキル鎖及びＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であって、
【化４０】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等のヘテロアリールを含有してもよく、又はＲ９は以下の式：
【化４１】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨである）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する化合物を製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）ＸがＯ若しくはＮＨである場合、前記工程（ｂ）で得られた化合物をエポキシ化する工程、又はＸがＳ（Ｏ）若しくはＳ（Ｏ）２である場合、前記工程（ｂ）で得られた化合物を酸化及びエポキシ化する工程であって、それにより、以下の式ＩＩ−１：
【化４２】
の化合物を得る工程と、
（ｃ）有機アセチレン化合物を前記式ＩＩ−１の化合物に加え、以下の式ＩＩ−２：
【化４３】
の化合物を得る工程と、
（ｄ）前記式ＩＩ−２の化合物を部分的に水素化する工程と、
（ｅ）この化合物と、以下の式ＩＩＩ−１：
【化４４】
（式中、Ｒ９は上記で定義したものである）
の化合物とを交差メタセシス反応させる工程と、
（ｆ）アミノ基を脱保護する工程、又は
Ｒ１１がＨとは異なる場合、並びにＲ５及びＲ８がＨである場合、スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを保護した後に、アミノ基を脱保護する工程と、
（ｇ）得られた化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【化４５】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｈ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、前記式Ｖ（式中、Ｒ１１、Ｒ５及びＲ８はＨである）の化合物を得る工程、又は
（ｉ）Ｒ５及びＲ８がＨとは異なる場合、二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基のみを選択的に除去する工程と、
（ｊ）Ｈとは異なるＲ１１を導入する工程と、
（ｋ）スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを脱保護して、式Ｖ（式中、Ｒ１１はＨではない）の化合物を得る工程と、
を含む、方法。
【請求項１８】
以下の式Ｖ：
【化４６】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、
Ｒ２１はＯＨ又はＦ又はＮＨ２であり、
Ｒ８は請求項５又は６で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ又は式ＣｎＨ２ｎ＋２（１＜ｎ＜１５）の脂肪エステルであり、
Ｒ１０は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、
Ｒ９はＣＨ３、又は直鎖若しくは分枝若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖、好ましくは、Ｃ３〜Ｃ７アルキル鎖及びＣ１３〜Ｃ２０アルキル鎖であって、
【化４７】
（式中、Ｒ１２は優先的に、Ｈ又はＣＨ３又は直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ１０アルキル鎖である）
等のヘテロアリールを含有してもよく、又はＲ９は以下の式：
【化４８】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０、且つ
ＹはＯ、Ｓ又はＮＨであり、
但し、Ｘ＝Ｏである場合、Ｒ８はＨではない）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する、α−ガラクトセラミドアナログ。
【請求項１９】
以下の式ＶＩ：
【化４９】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）、ＮＨであり、
Ｒ５は請求項１で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１４は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であるか、又は以下の式：
【化５０】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有するα−ガラクトセラミドアナログを製造する方法であって、
（ａ）請求項１に記載の式Ｉ（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は保護基である）の化合物、又は請求項２若しくは３に記載の方法によって得られる式Ｉの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物同士を交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）Ｒ５がＨとは異なる場合、スフィンゴシル鎖の３位のアルコールを保護する工程と、
（ｄ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ）得られた化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【化５１】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｅ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、前記式ＶＩ（式中、Ｒ１１はＨであり、且つＲ５はＨである）の化合物を得る工程、又は
（ｅ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基を除去する工程と、
（ｆ’）糖部分のＲ１１を導入する工程と、
（ｇ’）３位のアルコールを脱保護して、前記式ＶＩ（式中、Ｒ１１はＨとは異なる）の化合物を得る工程と、
を含む、方法。
【請求項２０】
以下の式ＶＩ：
【化５２】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）、ＮＨであり、
Ｒ５は請求項１で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又アセチル基であり、
Ｒ１４は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基であり、又はＲ９は以下の式：
【化５３】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
の化合物。
【請求項２１】
以下の式ＶＩ−Ａ：
【化５４】
を有する、化合物。
【請求項２２】
以下の式ＶＩＩ：
【化５５】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、Ｒ５及びＲ８は請求項５又は６で定義したものであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１４は、置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基、又は以下の式：
【化５６】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する化合物を製造する方法であって、
（ａ）請求項４に記載の式ＩＩの化合物、又は請求項４若しくは５若しくは６に記載の方法によって得られる式ＩＩの化合物を準備する工程と、
（ｂ）この化合物同士を交差メタセシス反応させる工程と、
（ｃ）Ｒ１１がＨとは異なる場合、スフィンゴシル鎖の３位及び４位のアルコールを保護する工程と、
（ｄ）アミノ基を脱保護する工程と、
（ｅ）この化合物を、以下の式ＩＩＩ−２：
【化５７】
（式中、
Ｒ１０は上記で定義したものと同一であり、
Ｒ１３は独立して、ＯＨ、又はＯ−ｐ−ニトロフェノール基、Ｏ−Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド基、酸塩化物基等の活性化基、好ましくはＯ−ｐ−ニトロフェノール基である）
の化合物でＮ−アシル化する工程と、
（ｆ）二重結合を還元し、且つすべての保護基を除去して、前記式ＶＩＩ（式中、Ｒ１１、Ｒ５及びＲ８はＨである）の化合物を得る工程、又は
（ｆ’）二重結合を還元し、且つガラクトシル環（糖部分）の保護基を除去する工程と、
（ｇ’）糖部分のＲ１１を導入する工程と、
（ｈ’）３位のアルコールを脱保護して、前記式ＶＩＩ（式中、Ｒ１１はＨとは異なる）の化合物を得る工程と、
を含む、方法。
【請求項２３】
以下の式ＶＩＩ：
【化５８】
（式中、
ＸはＯ、Ｓ（Ｏ）、Ｓ（Ｏ２）又はＮＨであり、且つＲ８は請求項５又は６で定義したものであり、
Ｒ２１はＯＨ又はＮＨ２又はＦであり、
Ｒ１１はＨ、又は式Ｃ（＝Ｏ）Ｒ２０（式中、Ｒ２０は、好ましくは炭素数１以上１５以下の直鎖又は分枝、飽和又は不飽和のアルキル鎖である）を有する脂肪酸のエステルであり、より好ましくは、Ｒ１１はＨ又はアセチル基であり、
Ｒ１４は置換若しくは非置換のＣ１〜Ｃ３０アルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のアリールアルキル基、又は以下の式：
【化５９】
（式中、
０＜ｑ＜１０、
０＜ｘ＜３０、
０＜ｐ＜３０）
の鎖等のヘテロ原子を含有する直鎖若しくは分枝のＣ１〜Ｃ３０アルキル鎖である）
を有する、α−ガラクトセラミドアナログ。
【請求項２４】
以下の式ＩＩＩ−Ｅ：
【化６０】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項２５】
以下の式ＩＩＩ−Ｆ１：
【化６１】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項２６】
以下の式ＩＩＩ−Ｆ２：
【化６２】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項２７】
以下の式ＩＩＩ−Ｆ３：
【化６３】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項２８】
以下の式ＩＩＩ−Ｆ４：
【化６４】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項２９】
以下の式ＩＩＩ−Ｆ５：
【化６５】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３０】
以下の式ＩＩＩ−Ｇ１：
【化６６】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３１】
以下の式ＩＩＩ−Ｇ２：
【化６７】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３２】
以下の式ＩＩＩ−Ｇ３：
【化６８】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３３】
以下の式ＩＩＩ−Ｇ４：
【化６９】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３４】
以下の式ＩＩＩ−Ｇ５：
【化７０】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３５】
以下の式ＩＩＩ−Ｈ１：
【化７１】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３６】
以下の式ＩＩＩ−Ｈ２：
【化７２】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３７】
以下の式ＩＩＩ−Ｈ３：
【化７３】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３８】
以下の式ＩＩＩ−Ｈ４：
【化７４】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項３９】
以下の式ＩＩＩ−Ｈ５：
【化７５】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４０】
以下の式ＩＩＩ−Ｊ１：
【化７６】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４１】
以下の式ＩＩＩ−Ｊ２：
【化７７】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４２】
以下の式ＩＩＩ−Ｊ３：
【化７８】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４３】
以下の式ＩＩＩ−Ｊ４：
【化７９】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４４】
以下の式ＩＩＩ−Ｊ５：
【化８０】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４５】
以下の式ＩＩＩ−Ｋ１：
【化８１】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４６】
以下の式ＩＩＩ−Ｋ２：
【化８２】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４７】
以下の式ＩＩＩ−Ｋ３：
【化８３】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４８】
以下の式ＩＩＩ−Ｋ４：
【化８４】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項４９】
以下の式ＩＩＩ−Ｋ５：
【化８５】
を有する、請求項９に記載の化合物。
【請求項５０】
請求項９〜１３、１５、２０、２１及び２３〜４９のいずれか一項に記載の少なくとも１つの化合物、又は請求項８、１４、１６、１７、１９、２１及び２２のいずれか一項に記載の方法によって得られる少なくとも１つの化合物と、薬学的に許容される担体とを含む、医薬組成物。
【請求項５１】
請求項１８に記載の少なくとも１つの化合物（式中、ＸがＯである場合、Ｒ８はＨではない）、又は請求項１９に記載の方法によって得られる少なくとも１つの化合物と、薬学的に許容される担体とを含む、医薬組成物。
【請求項５２】
請求項１０に記載の前記式ＩＩＩ−Ａの化合物と薬学的に許容される担体とを含む、医薬組成物。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公表番号】特表２０１０−５０６８９８（Ｐ２０１０−５０６８９８Ａ）
【公表日】平成２２年３月４日（２０１０．３．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−５３２９１４（Ｐ２００９−５３２９１４）
【出願日】平成１９年１０月１８日（２００７．１０．１８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００７／００４２７０
【国際公開番号】ＷＯ２００８／０４７２４９
【国際公開日】平成２０年４月２４日（２００８．４．２４）
【出願人】（５０２２０５８４６）サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ シアンティフィク (154)
【出願人】（５００２８３１２５）ユニヴェルシテ パリ デカルト (8)
【氏名又は名称原語表記】ＵＮＩＶＥＲＳＩＴＥ ＰＡＲＩＳ ＤＥＳＣＡＲＴＥＳ
【住所又は居所原語表記】１２，ｒｕｅ ｄｅ ｌ’Ｅｃｏｌｅ ｄｅ Ｍｅｄｅｃｉｎｅ，Ｆ−７５００６ Ｐａｒｉｓ ＦＲＡＮＣＥ
【出願人】（５０９０００７４７）アンスティトゥー ナショナル ドゥ ラ サンテ エ ドゥ ラ レシェルシュ メディカル（イエヌエスエエールエム） (6)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２２年３月４日（２０１０．３．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１０月１８日（２００７．１０．１８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００７／００４２７０
【国際公開番号】ＷＯ２００８／０４７２４９
【国際公開日】平成２０年４月２４日（２００８．４．２４）
【出願人】（５０２２０５８４６）サントル ナショナル ドゥ ラ ルシェルシュ シアンティフィク (154)
【出願人】（５００２８３１２５）ユニヴェルシテ パリ デカルト (8)
【氏名又は名称原語表記】ＵＮＩＶＥＲＳＩＴＥ ＰＡＲＩＳ ＤＥＳＣＡＲＴＥＳ
【住所又は居所原語表記】１２，ｒｕｅ ｄｅ ｌ’Ｅｃｏｌｅ ｄｅ Ｍｅｄｅｃｉｎｅ，Ｆ−７５００６ Ｐａｒｉｓ ＦＲＡＮＣＥ
【出願人】（５０９０００７４７）アンスティトゥー ナショナル ドゥ ラ サンテ エ ドゥ ラ レシェルシュ メディカル（イエヌエスエエールエム） (6)
【Ｆターム（参考）】
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