インプリント用の転写フィルムの製造方法、及びインプリント用の転写フィルム
【課題】従来の塗布工程とインプリント工程の両立という技術的困難性を緩和し、且つ低粘度で流動性の高い塗布液を用いても幅方向の広がりを防止する。
【解決手段】微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、基材フィルム２の一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層１１を形成し、カバーフィルム６を貼合した後、パターン露光を施し、硬化性樹脂硬化部１２を設けることで幅方向のみならず加工流れ方向の塗膜流動も抑制することができ、より高い塗膜厚みの均一性を確保した状態でロール体に巻き取ってインプリント用の転写フィルム１０を製造する。更には、枚葉で供給されるインプリント用の転写フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、基材フィルム２の一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層１１を形成し、カバーフィルム６を貼合した後、パターン露光を施し、硬化性樹脂硬化部１２を設けることで幅方向のみならず加工流れ方向の塗膜流動も抑制することができ、より高い塗膜厚みの均一性を確保した状態でロール体に巻き取ってインプリント用の転写フィルム１０を製造する。更には、枚葉で供給されるインプリント用の転写フィルムの製造方法を提供する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法、及びインプリント用の転写フィルムに関するものである。
なお、本明細書での微細なパターンとは、微細凸凹形状からなる細線パターン及び図形パターンにおいて、１つの細線幅及び図形寸法が、約数十ｎｍ〜約数百μｍ程度のパターンを指す。
【背景技術】
【０００２】
インプリントは、安価に超微細凹凸形状加工が可能な技術として、近年半導体デバイス、フラットパネルディスプレイ等の光学フィルム部材、記録メディア、バイオ・医療関連など様々な分野での応用展開が試みられている。特に微細凹凸形状を持つフィルム状部材を連続的に製造する方法として、従来から下記のような方法が知られている（特許文献１〜４参照）。
【０００３】
特許文献１には、（１）カチオン重合反応性とラジカル重合反応性とを兼ね備えた樹脂組成物からなる被膜を支持体上に形成する工程、（２）前記被膜にナノスタンパを用いてパターンを転写する工程、及び（３）パターンが転写された被膜を硬化させて微細構造物を得る工程を含む微細構造物の製造方法が開示されている。
特許文献２には、インプリントモールドの凹凸形状を被転写体に転写するパターン形成方法において、前記被転写体上に複数箇所に光硬化性樹脂を滴下する工程と、前記インプリントモールドを被転写体上の光硬化性樹脂に押し付け、該光硬化性樹脂を押し広げてインプリントモールド内の凹部内に該光硬化性樹脂を充填する工程と、前記光硬化性樹脂を硬化させる工程と、前記インプリントモールドを前記光硬化性樹脂から離す工程と、を有し、前記インプリントモールドとして、形状，間隔の何れが異なる複数の凹凸パターンが形成されたパターン形成領域を有し、凹部の開口面積又は体積がほぼ一定であるモールドを用いることを特徴とするパターン形成方法が開示されている。
特許文献３には、被転写体とスタンパとを接触させて前記スタンパの表面形状を前記被転写体に転写するインプリント装置において、前記被転写体と前記スタンパとを、間隔をあけて保持する保持手段と、前記被転写体と前記スタンパとが配置されたチャンバを減圧する減圧手段と、前記被転写体と前記スタンパとの相対位置を合わせる位置合わせ手段と、を備えることを特徴とするインプリント装置が開示されている。なお、被転写体上には、光硬化性樹脂（被加工材料）が均一に点在するように塗布されている。
特許文献４には、基材と前記基材上に形成された被転写樹脂層とを有する被転写体を、円柱型のローラーの表面に沿わせ、前記ローラーを回転させながら、前記被転写樹脂層とナノ凹凸パターンを有する平板型モールドとを密着させる密着工程と、前記被転写樹脂層と前記平板型モールドとが密着している状態で、前記被転写樹脂層を固化する固化工程と、を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２６６６０８号公報
【特許文献２】特開２００９−００６６１９号公報
【特許文献３】特開２００８−０１２８５８号公報
【特許文献４】特開２００７−３３５６４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１〜４に記載の製造方法は、紫外線硬化樹脂の塗布から微細凹凸形状転写の工程（インプリント工程）において、塗布膜には微細凹凸形状を精度良く転写させるため樹脂の粘度を下げて流動性を持たせてあることから、塗布膜の両端部では樹脂が幅方向へ流れが広がり、厚みの均一性を一定に保つことが困難であった。
【０００６】
また、低粘度で流動性の高い塗布液の塗布方法としてスピンコート法、ディスペンス法、スリットコート法、スプレーコート法、ローラーコート法、またはインクジェット法などの公知の方法が用いられているが、均一に塗布するためには操作に熟練した技術を必要としている。このため、低粘度で流動性の高い紫外線硬化樹脂の塗布装置と、インプリントのための型押し装置（スタンパ）とを両方同時に、運転操作するには、技術的な困難さがあり、尚且つ両方の装置を連動させて連続的に凹凸パターンを製造するものであるため、両方の製造装置のいずれかに不具合があれば製造工程が停止してしまうという問題があった。
【０００７】
更に、塗布工程とインプリント工程が続いていることから、塗布膜単体での検査・評価が十分に行えず、例えば塗布膜に異物などが混入した場合、前記異物はそのままインプリント工程に持ち込まれることとなり、形状転写の不良や、最悪の場合スタンパ自身を傷付けてしまう不具合が生じる。スタンパが傷付いた場合、そのスタンパは微細凹凸形状を安定して形成することが不可能となるため、スタンパの交換が必要となるが、スタンパは非常に高価であり、その製造も容易ではないため、使用者にとってコスト面、及び時間的な面で大きな損失となる。
【０００８】
すなわち本発明の目的は、従来の塗布工程とインプリント工程の両立という技術的困難性を緩和し、且つ低粘度で流動性の高い塗布液を用いても幅方向の広がりを防止する、インプリント用の転写フィルムの製造方法、及びインプリント用の転写フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明では上記問題点を解決するために、低粘度で流動性の高い液状の硬化性樹脂の塗布工程と、インプリント工程とを分割し、硬化性樹脂の塗布膜としての検査・評価を十分に行なうことで上記不具合の発生を防止し、且つインプリント装置の運転操作者が、低粘度で流動性の高い硬化性樹脂の塗布装置の運転に習熟しないでも、インプリントができるように転写フィルムを用いる。また、前記転写フィルムには、低粘度で流動性の高い硬化性樹脂を用いても幅方向への広がりを防止し、且つ均一な塗布膜厚みを保持できるよう構造的特徴を持たせる。
【００１０】
請求項１に係る発明は、微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、少なくとも下記の（１）〜（３）の工程：（１）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する合成樹脂フィルムからなり、一方の面にエネルギー線を遮蔽する遮蔽パターンを形成した、長尺のマスク付カバーフィルムを準備する工程、（２）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層を形成する工程、（３）前記硬化性樹脂薄膜層の上に前記マスク付カバーフィルムを貼り合せ、前記マスク付カバーフィルム側からエネルギー線を照射して、前記マスク付カバーフィルムの前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成する工程、を含むことを特徴とするインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
【００１１】
請求項２に係る発明は、前記遮蔽パターンの形成は、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する塗料またはインキを印刷する方法、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう剥離（リフトオフ）法により形成する方法、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する樹脂シートまたは金属箔を貼り合せた後にフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、のいずれかの方法によるものであることを特徴とする請求項１に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項３に係る発明は、前記遮蔽パターンの形状は、前記マスク付カバーフィルムの長手方向に離間して複数配置された不連続パターン、もしくは前記マスク付カバーフィルムの長手方向に連続した連続パターンのいずれかであることを特徴とする請求項１または２に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項４に係る発明は、前記マスク付カバーフィルムにおいて、前記硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理がなされていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項５に係る発明は、更に、前記マスク付カバーフィルムの前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを長手方向に沿って切断するスリット工程、及び／又は該転写フィルムを横幅方向に沿って切断して行なう枚葉化工程を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
【００１２】
請求項６に係る発明は、微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、少なくとも下記の（１）〜（２）の工程：（１）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層を形成する工程、（２）前記硬化性樹脂薄膜層の上に長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する合成樹脂フィルムからなるカバーフィルムを貼り合せ、エネルギー線を遮蔽する遮蔽パターンを形成した連続露光装置を用いてエネルギー線を照射し、前記連続露光装置の前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成する工程、を含むことを特徴とするインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
【００１３】
請求項７に係る発明は、前記連続露光装置は、エネルギー線を透過する材質からなる円筒ドラムと、前記円筒ドラムの外周壁に設けられた遮蔽パターン部分と、前記円筒ドラム内部に配設された露光用光源とを備え、前記円筒ドラムに巻き付けられた透明基材に対して円筒ドラムの内側からエネルギー線を照射する装置であることを特徴とする請求項６に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項８に係る発明は、前記遮蔽パターンの形状は、前記円筒ドラムの円周方向に離間して複数配置された不連続パターン、もしくは前記円筒ドラムの円周方向に連続した連続パターンのいずれかであることを特徴とする請求項７に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項９に係る発明は、更に、前記連続露光装置の前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを長手方向に沿って切断するスリット工程、及び／又は該転写フィルムを横幅方向に沿って切断して行なう枚葉化工程を含むことを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項１０に係る発明は、前記カバーフィルムにおいて、前記硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理がなされていることを特徴とする請求項６〜９のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
【００１４】
請求項１１に係る発明は、微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムであって、透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、部分的に硬化された硬化性樹脂組成物の部分と未硬化の硬化性樹脂組成物の部分からなる硬化性樹脂薄膜層が形成されてなり、エネルギー線を遮蔽するパターンが形成された透明性を有する合成樹脂フィルムからなるマスク付カバーフィルムが積層されてなることを特徴とするインプリント用の転写フィルムである。
【００１５】
請求項１２に係る発明は、微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムであって、透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、エネルギー線を遮蔽するパターンが形成された連続露光装置により、部分的に硬化された硬化性樹脂組成物の部分と未硬化の硬化性樹脂組成物の部分からなる硬化性樹脂薄膜層が形成されてなり、透明性を有する合成樹脂フィルムからなるカバーフィルムが積層されてなることを特徴とするインプリント用の転写フィルムである。
【００１６】
請求項１３に係る発明は、ロール状で供給されるインプリント用の転写フィルムであることを特徴とする請求項１１または１２に記載のインプリント用の転写フィルムである。
請求項１４に係る発明は、長さ１〜１００００ｍの長尺状であって、ロール体に巻かれていることを特徴とする請求項１３に記載のインプリント用の転写フィルムである。
請求項１５に係る発明は、枚葉で供給されるインプリント用の転写フィルムであることを特徴とする請求項１１または１２に記載のインプリント用の転写フィルムである。
請求項１６に係る発明は、光学機能フィルム、半導体素子、精密機械部材、磁気記録媒体部材からなる群のいずれか一つを製造するのに用いられるものであることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムである。
請求項１７に係る発明は、前記基材フィルムには、インプリント装置のスタンパに位置合わせするための合せマークが２次元配置されてなることを特徴とする請求項１１〜１６のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムである。
【発明の効果】
【００１７】
上記本発明によれば、インプリント装置の運転操作者が、低粘度で流動性の高い硬化性樹脂の塗布装置の運転に習熟しないでも、インプリントができるように転写フィルムを供給することができる。また、硬化性樹脂薄膜層の段階で検査・評価を行えることから、インプリント工程への異物等の混入を事前にある程度抑制することができるため、高価なスタンパが傷付くリスクを低減できる。更に、硬化性樹脂薄膜層内に部分的に形成された非流動性のパターン硬化部位による堰の効果により、低粘度で流動性の高い硬化性樹脂の広がりを防止し、硬化性樹脂薄膜層の厚みを均一に保つことができる。
【００１８】
請求項１に係る発明によれば、硬化性樹脂薄膜層内をパターン硬化させることで、その間の流動性部位と連続する位置に非流動性部位を形成でき、堰としての機能を有するため、硬化性樹脂薄膜層の幅方向の広がりを防止できる。また、カバーフィルムを貼り合わせてエネルギー線を照射することで、酸素阻害を起こすような硬化性樹脂を用いても、酸素阻害による硬化不良を防止し、硬化を十分に行なうことができる。加えてカバーフィルムを貼合したまま転写フィルム製品とすることで、次工程までの期間中、硬化性樹脂薄膜層の表面に異物等が付着することを防止できるため、製品のクリーン度をより高く保つことができる。
【００１９】
請求項２または３に係る発明によれば、遮蔽パターンの形成方法または形状は必要とする遮蔽性能、コスト、カバーフィルムとの相性等を満たす方法であれば、上記種々の方法を自由に選択できる。
請求項４に係る発明によれば、カバーフィルムの硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理を施すことで、カバーフィルムを硬化性樹脂薄膜層から剥離する際、硬化性樹脂薄膜層の表面が荒れることによる厚みの不均一化を防止できる。
請求項５に係る発明によれば、１本の基材フィルムを多面取りにより複数本の転写フィルムに分けることで、生産性を向上することができる。
【００２０】
請求項６に係る発明によれば、請求項１に係る発明の効果に加えて、円筒ドラムに遮蔽パターンを形成することで、長さ１〜１００００ｍの長尺のカバーフィルムに対して遮蔽パターンを形成する工程を省略することができる。
【００２１】
請求項７または８に係る発明によれば、必要とするエネルギー線の透過性能、コスト等を満たす方法であれば、上記種々の方法を自由に選択できる。また、遮蔽パターンの形状は必要とする遮蔽性能、コスト、カバーフィルムとの相性等を満たす方法であれば、上記種々の方法を自由に選択できる。
請求項９に係る発明によれば、１本の基材フィルムを多面取りにより複数本の転写フィルムに分けることで、生産性を向上することができる。
請求項１０に係る発明によれば、カバーフィルムの硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理を施すことで、カバーフィルムを硬化性樹脂薄膜層から剥離する際、硬化性樹脂薄膜層の表面が荒れることによる厚みの不均一化を防止できる。
請求項１１〜１７に係る発明によれば、インプリント装置の運転操作者が、低粘度で流動性の高い硬化性樹脂の塗布装置の運転に習熟しないでも、インプリントができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】第１の実施形態による製造方法の代表例を示す概略図である。
【図２】第１の実施形態による製造方法により製造した転写フィルムの一例を示す概略図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図３】第１の実施形態による製造方法により製造した転写フィルムの別の一例を示す概略図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図４】第１の実施形態による製造方法により製造した転写フィルムの別の一例を示す概略図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。
【図５】第１の実施形態において、枚葉化工程を行なう製造方法の一例を示す概略図である。
【図６】第１の実施形態において多面取りに用いるカバーフィルムの一例を示す概略図である。
【図７】第１の実施形態において多面取りに用いるカバーフィルムの別の一例を示す概略図である。
【図８】第１の実施形態において多面取りに用いるカバーフィルムの別の一例を示す概略図である。
【図９】第１の実施形態において、さらに紫外線吸収フィルムの積層工程を加えた製造方法の代表例を示す概略図である。
【図１０】第２の実施形態による製造方法の代表例を示す概略図である。
【図１１】第２の実施形態で用いる円筒ドラムの一例を示す概略図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は展開図である。
【図１２】第２の実施形態で用いる円筒ドラムの別の一例を示す概略図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は展開図である。
【図１３】第２の実施形態で用いる円筒ドラムの別の一例を示す概略図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は展開図である。
【図１４】第２の実施形態による製造方法により製造した転写フィルムの一例を示す断面図である。
【図１５】本発明により製造される転写フィルムへインプリントを施す工程の代表例を示す概略図である。
【図１６】従来のインプリント製品製造工程の代表例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、好適な実施の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態における、インプリント用の転写フィルムの製造装置、及び製造工程の概要を示すものである。すなわち透明基材２を製造装置に供給する基材供給部１と、前記透明基材２に硬化性樹脂組成物を塗布する塗布装置３と、硬化性樹脂組成物中に有機溶媒等が含まれる場合、それを揮発除去する乾燥装置４と、マスク付カバーフィルム６を供給するカバーフィルム供給部５と、前記マスク付カバーフィルム６を紫外線硬化性樹脂組成物の塗布面に貼合するニップロール７と、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させる硬化装置としての紫外線照射装置８と、加工されたインプリント用転写フィルムを巻き取る巻取り部９とから構成される製造装置を用いてロール状転写フィルムが製造される。
【００２４】
基材供給部１はロール状に透明基材２が巻き取られたロール体と、そのロール体を保持する軸等により構成される。
【００２５】
ここで透明基材２に用いられる材質は、耐熱性、及び紫外線硬化性樹脂組成物の硬化を阻害する３５０ｎｍ〜４００ｎｍ近傍の紫外線領域に散乱・吸収が小さいものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスチレン、ポリアクリル酸塩、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリアミド、ナイロン、ポリイミド、トリアセチルセルロース（三酢酸セルロース）、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリメチルメタクリレート、ポリテトラフルオロエチレンやポリトリフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、セロファン、セルロース系フィルムなどを挙げることができる。これら材料は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
特に前記基材のうち、耐熱性、紫外線透過性、及び価格の面から、ポリエチレンテレフタレートを用いることが好ましい。
【００２６】
また、前記透明基材２の塗布面側、もしくは両面に易接着処理、コロナ処理、大気圧プラズマ処理などの表面処理がなされていることが好ましい。これらの表面処理は、予め透明基材２に施しておくことが好ましい。また、基材供給部１から透明基材２を繰り出して塗布装置３で硬化性樹脂組成物を塗布するまでの間にこれらの表面処理を施すこともできる。
【００２７】
なお、透明基材２の厚みは１６μｍ〜２００μｍを有することが好ましく、５０μｍ〜１５０μｍを有することが更に好ましい。透明基材２の厚みが薄過ぎるとハンドリング性が悪く、また、透明基材２の厚みが厚過ぎると、コスト面、ハンドリング性で不利である。
【００２８】
塗布装置３は、透明基材２上に硬化性樹脂組成物を均質に供給して塗布する手段を備えるものであればどういった装置でも良いが、連続的に硬化性樹脂組成物を透明基材２上に供給して塗布できるよう、硬化性樹脂組成物を貯蔵するタンク、送液ポンプ、配管、異物除去フィルター、コーターヘッドからなる構成を持つ装置が好ましい（図示なし）。コーターヘッドは、例えばダイコーターなどが好適である。
塗布装置３により、透明基材２の片面に硬化性樹脂薄膜層（塗布膜）が形成される。塗布装置３で塗布した直後の硬化性樹脂組成物は、未硬化でかつ液状であり、塗布に適した流動性を有する。
【００２９】
硬化性樹脂組成物は、インプリントに際して用いる硬化手段に応じて、紫外線硬化性樹脂組成物、電子線硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物等を適宜選択して用いることができる。
硬化性樹脂組成物は、紫外線、電子線、熱線等のエネルギー線により重合する重合性化合物を含有する。
例えば、３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の紫外線に対して硬化性を有する紫外線硬化性樹脂材料としては、重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）及び離型剤（Ｃ）を含有するものが好ましい。
重合性化合物（Ａ）としては、例えば、アクリル単量体、ウレタン（メタ）アクリレートやエポキシ（メタ）アクリレートのモノマーやオリゴマーを用いることができる。また、紫外線硬化性樹脂組成物の塗布液中には、反応希釈剤、光重合開始剤などを添加することが好ましい。
【００３０】
アクリル単量体としては、特に制限されるものではなく、目的に応じて適宜選択できるものであり、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリル酸アミド類が用いられる。なお、本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及びメタクリル酸の総称である。
（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
【００３１】
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のモノ（メタ）アクリレート。
１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート。
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタアエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート。
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のその他の（メタ）アクリレート。
前記（メタ）アクリルアミド類としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。具体的な商品名としては、ビームセット３７１（荒川化学工業社製）等が挙げられる。
これらアクリル単量体は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３２】
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンイソシアネートなどのポリイソシアネート類と、ヒドロキシ（メタ）アクリレートなどのヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを反応させることで得られる。また、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートジオール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリオール類と、前記イソシアネート類を反応させた、ポリマーもしくはオリゴマーと、ヒドロキシ（メタ）アクリレートなどのヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを反応させることで、多種多様なウレタン（メタ）アクリレートを得ることができる。
【００３３】
エポキシ（メタ）アクリレートは、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型プロピレンオキサイド付加物の末端グリシジルエーテル、フルオレンエポキシ樹脂などのエポキシ樹脂類と、（メタ）アクリル酸とを反応させて得ることができる。
【００３４】
光重合開始剤（Ｂ）としては、例えば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤等が挙げられる。
アセトフェノン系光重合開始剤：アセトフェノン、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）１’，１’，１’−トリクロロアセトフェノン、クロロアセトフェノン、２’，２’−ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２’−フェニルアセトフェノン、２−アミノアセトフェノン、ジアルキルアミノアセトフェノン等。
ベンゾイン系光重合開始剤：ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール等。
ベンゾフェノン系光重合開始剤：ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシプロピルベンゾフェノン、アクリルベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等。
チオキサントン系光重合開始剤：チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ジメチルチオキサントン等。
その他の光重合開始剤：α−アシルオキシムエステル、ベンジル−（ｏ−エトキシカルボニル）−α−モノオキシム、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、テトラメチルチウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ジアルキルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレート等。
【００３５】
紫外線硬化性樹脂材料中の重合開始剤の含有量は、重合性化合物の１００質量部に対して０．００１〜１０質量部であることが好ましく、０．０１〜１０質量部であることがより好ましく、０．１〜５質量部であることが特に好ましい。重合開始剤の含有量が０．００１質量部以上であれば、重合性化合物を短時間に重合でき、１０質量部以下であれば、重合開始剤の残渣が硬化物中に残存しにくい。
【００３６】
離型剤（Ｃ）としては、より離型性に優れる硬化物が得られることから、含フッ素界面活性剤を含むことが好ましい。さらには、フッ素含有量が１０〜７０質量％の含フッ素界面活性剤がより好ましく、フッ素含有量が１０〜４０質量％の含フッ素界面活性剤が特に好ましい。含フッ素界面活性剤は、水溶性であっても油溶性であってもよい。
含フッ素界面活性剤としては、アニオン性含フッ素界面活性剤、カチオン性含フッ素界面活性剤、両性含フッ素界面活性剤、ノニオン性含フッ素界面活性剤のいずれであってもよい。これらの中でも、硬化性樹脂材料における相溶性と、その硬化物における分散性が良好であることから、ノニオン性含フッ素界面活性剤が特に好ましい。
【００３７】
アニオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルカルボン酸塩、ポリフルオロアルキル燐酸エステル、またはポリフルオロアルキルスルホン酸塩が好ましい。カチオン性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１１１（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１４３（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１２０、メガファックＲ−３０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
カチオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルカルボン酸のトリメチルアンモニウム塩、またはポリフルオロアルキルスルホン酸アミドのトリメチルアンモニウム塩が好ましい。カチオン性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１２１（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１３４（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１５０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
両性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルベタインが好ましい。両性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１３２（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＸ−１７２（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１２０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
ノニオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルアミンオキサイド、またはポリフルオロアルキル・アルキレンオキサイド付加物が好ましい。ノニオン性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１４５（商品名、セイミケミカル社製）、サーフロンＳ−３９３（商品名、セイミケミカル社製）、サーフロンＫＨ−２０（商品名、セイミケミカル社製）、サーフロンＫＨ−４０（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１７０（商品名、スリーエム社製）、フロラードＦＣ−４３０（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１４１（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
【００３８】
紫外線硬化性樹脂組成物材料中の含フッ素界面活性剤の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物の全体を１００質量％とした際の０．０１〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。含フッ素界面活性剤の含有量が０．０１質量％以上であれば、離型性に優れた硬化物を確実に形成でき、１０質量％以下であれば、紫外線硬化性樹脂材料を容易に調製できる。
【００３９】
本発明の転写フィルムが、紫外線等を用いた光ナノインプリント法に用いられる場合には硬化性樹脂材料として放射線硬化性樹脂が用いられる。また、熱ナノインプリント法に用いられる場合には硬化性樹脂材料として熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂が用いられる。
熱ナノインプリント法における硬化性樹脂材料として、熱可塑性樹脂を用いる場合には、被転写材料である熱可塑性樹脂をガラス転移温度以上まで加熱し、軟化させた後、微細なパターンが形成されたスタンパを押し付け、冷却することで微細パターンが転写されるので、転写する際の加熱温度よりも低いガラス転移温度（Ｔｇ）を有する熱可塑性樹脂が好ましい。また、熱ナノインプリント法における硬化性樹脂材料として、熱硬化性樹脂を用いる場合には、被転写材料である熱硬化性樹脂としては、熱ナノインプリント法に対する適合性の点から、微細凹凸形状を圧縮成形等で転写する際の加熱温度よりも高いガラス転移温度（Ｔｇ）を有する熱硬化性樹脂が好ましい。
【００４０】
なお、硬化性樹脂組成物の塗布膜厚みは、３〜５０μｍの間にあることが好ましく、更に好ましくは１５〜３５μｍである。
塗布膜が薄すぎると、形状転写性が悪くなり、また、塗布膜が厚過ぎるとコスト面やロール体での経時安定性の点で不利である。
【００４１】
乾燥装置４は、透明基材２上に形成された硬化性樹脂組成物の塗布膜を加熱する手段と、乾燥装置内に空気を送る手段と、乾燥装置内の空気を排気する手段を備えている。
乾燥装置４は、硬化性樹脂組成物を硬化させる目的のものではなく、塗布膜は乾燥後もある程度の流動性を有し、液状ないしゲル状となっている。
【００４２】
カバーフィルム供給部５は、マスク付カバーフィルム６が巻き取られたロール体と、そのロール体を保持する軸等から構成される。
【００４３】
ニップロール７は、紫外線硬化性樹脂組成物の塗布膜が形成された透明基材２と、マスク付カバーフィルム６を挟み込む１対のロールからなり、両者を貼合する装置である。貼合のための加圧手段を備えることが好ましく、また、フィルムに対して均一な圧力をかけ易いよう、少なくとも一方のロールがゴム製であることが好ましい。
【００４４】
マスク付カバーフィルム６は、図２に示すように、エネルギー線を遮蔽（遮光）する遮蔽パターン（遮光パターン）６ａと、エネルギー線（紫外線）を透過する透過パターン６ｂを有する。すなわち、エネルギー線を透過可能な透明基材の片面または両面に遮蔽パターン６ａを形成し、遮蔽パターン６ａが形成されていない部分（透過部分）６ｂは、エネルギー線を透過するように構成する。
このように、紫外線硬化性樹脂の上をマスク付カバーフィルム６で覆って大気との接触を断った密閉状態で紫外線を照射することにより、酸素阻害を起こすような硬化性樹脂を用いても、酸素阻害による硬化不良を防止し、紫外線硬化性樹脂の硬化を十分に行なうことができる。
【００４５】
マスク付カバーフィルム６の基材に用いられる材質は、耐熱性、及び紫外線硬化性樹脂組成物の硬化を阻害する３５０ｎｍ〜４００ｎｍ近傍の紫外線領域に散乱・吸収が小さいものが好ましく、上記の透明基材２に用いられる材質として例示したものから選択することができる。マスク付カバーフィルム６の基材に用いられる材質は、透明基材２に用いられる材質と同じでも異なっても良い。特に、耐熱性、紫外線透過性、及び価格の面から、ポリエチレンテレフタレートを用いることが好ましい。
【００４６】
また、マスク付カバーフィルム６の硬化性樹脂薄膜層１１との貼合面に剥離処理がなされていることが好ましい。カバーフィルムの硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理を施すことで、カバーフィルムを硬化性樹脂薄膜層から剥離する際、硬化性樹脂薄膜層の表面が荒れることによる厚みの不均一化を防止できる。
剥離処理には、例えばシリコーン系やフッ素系の剥離剤の塗布等が挙げられる。
【００４７】
遮蔽パターンの形成は、エネルギー線を遮蔽する機能を有する塗料またはインキを印刷する方法、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう剥離（リフトオフ）法により形成する方法、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する樹脂シートまたは金属箔を貼り合せた後にフォトリソ法によりエッチングして形成する方法等が挙げられる。
【００４８】
図３に示すように、未硬化の硬化性樹脂薄膜層１１の上にマスク付カバーフィルム６を貼り合せ、マスク付カバーフィルム６側から紫外線を照射し、マスク付カバーフィルム６の遮蔽パターン（遮蔽部分）６ａが形成されていない部分（透過部分）６ｂにおいて紫外線を透過させて、硬化性樹脂硬化部１２を形成する。
【００４９】
本形態例において、硬化させるパターンは図２に示すように円形に限らず、図３に示すように多角形や、図４に示すようにストライプ状に硬化するよう遮光パターニングされたカバーフィルムを用いることも可能であり、遮光パターン形状は転写フィルムロールの用途等に応じて自由に選択することができる。
このようにパターン露光を施すことで図４のような連続パターンでは幅方向、図２、３のような不連続な遮蔽パターン６ａでは、硬化性樹脂硬化部１２が格子状となるため、幅方向のみならず加工流れ方向の塗膜流動も抑制することができ、より優れた塗膜厚みの均一性を確保することができる。
不連続な遮蔽パターン６ａの形状は、周囲が透過部分６ｂに囲まれる閉じた平面形状であれば特に限定されるものではなく、円形や多角形のほか、楕円形など各種形状とすることが可能である。
連続した遮蔽パターン６ａの形状は、図４の例では、遮蔽パターン６ａは長手方向にわたって均一幅であるが、遮蔽パターン６ａの幅が周期的、段階的あるいは連続的に変化する連続パターンとすることも可能である。
【００５０】
なお、インプリント用の転写フィルムをロール状で供給する代わりに、枚葉で供給する場合には、図２、３のような不連続パターンのマスク付カバーフィルム６を用いて遮蔽パターン６ａが形成されていない部分において硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを横幅方向に沿って切断する（切断線を符号１３に示す。）ことにより行なう枚葉化工程にて、枚葉の転写フィルムを作製することができる。枚葉の転写フィルムを作製するための切断（スリット）工程は、硬化性樹脂を部分硬化させて得た長尺の転写フィルムを巻取り部９に巻き取った後、改めてロール体から繰り出し行っても良い。
あるいは、巻取り部９を省略し、図５に示すように、硬化性樹脂を部分硬化させて得た長尺の転写フィルムを巻き取ることなく、例えばカッター９１により切断工程を行って枚葉の転写フィルム９２を製造することもできる。このようにして得られる枚葉の転写フィルム９２は、インプリントに使用される硬化性樹脂の未硬化部の周囲が、硬化性樹脂の硬化部で囲まれ、さらに硬化性樹脂が上下から基材フィルムとカバーフィルムとで挟まれるので、ロール状としなくても未硬化樹脂がはみ出すおそれがない。
【００５１】
また、図６〜８に示すように、遮蔽パターン６ａが形成されていない部分において硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを長手方向に沿って切断する（切断線を符号１４に示す。）スリット工程によって、同時に複数のロール体を巻き取り、生産性を向上することができる（多面取り）。多面取りでは、基材フィルム及びマスク付カバーフィルムの幅は、製品となる転写フィルムの幅の数倍（例えば、２面取りでは２倍以上、３面取りでは３倍以上）とする。
なお、多面取りと枚葉化を組み合わせ、長手方向に沿って切断した複数本の転写フィルムをそれぞれロール状に巻き取ることなく、転写フィルムの横幅方向に沿って切断して枚葉化することもできる。
【００５２】
紫外線照射装置８は、紫外線を発生させる光源部と、光源で発生する熱を除去する冷却装置を備える。
光源部は、紫外線硬化性樹脂組成物を十分に硬化させる紫外線照射量を得られるものであれば高圧水銀ランプやメタルハライドランプ等のランプ光源や、紫外線領域の発光ピークを持つ発光ダイオードなど自由に選択できる。
中でも紫外線硬化性樹脂組成物の硬化波長以外の波長の光を殆ど出さず、紫外線照射対象物への熱ダメージが少ない発光ダイオードタイプの光源が好適に用いられる。
【００５３】
紫外線照射装置８は、透明基材２の全面に紫外線を照射して、硬化性樹脂薄膜層の選択部のみにおいて硬化性樹脂を硬化させる。これにより、図２（ｂ）に示すように硬化性樹脂薄膜層は、未硬化部１１と硬化部１２を有するものとなる。なお、塗布装置３により塗布される硬化性樹脂が熱硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂である場合は、硬化装置として加熱硬化装置や電子線硬化装置を用いることができる。
操作の容易性から、紫外線硬化性樹脂と紫外線照射装置を用いることが好ましい。
【００５４】
巻取り部９は、上述の硬化性樹脂薄膜層１１が形成されたインプリント用転写フィルムをロール体に巻き取るための巻き取り軸と、ロール体製品の中心に来るコア材とから構成される。
本形態例で製造される転写フィルムは、コア材の周囲にインプリント用転写フィルムがマスク付カバーフィルムを貼合したままロール状に巻き取られたものであり、所望の長さの転写フィルムが巻き取られた後、巻き取り軸から取り外されて製品となる。
なお、マスク付カバーフィルムを貼合したままロール状または枚葉の製品とすることで、次工程までの期間中、硬化性樹脂薄膜層の表面に異物等が付着することを防止できるため、製品のクリーン度をより高く保つことができ、次工程の作業者が目視で硬化性樹脂薄膜層の未硬化部１１と硬化部１２を確認することができる。
【００５５】
本形態例においては、図９に示すように、巻取り部９において、転写フィルムとともに紫外線吸収フィルム１６を巻き込むことも可能である。図９では、紫外線吸収フィルム１６は、紫外線吸収フィルム供給部１５から供給され、ニップロール１７で基材フィルム２の裏面（塗布面の反対側の面）に貼合される。これにより、基材フィルム２が紫外線透過性で、インプリント用転写フィルムをロールから繰り出した後に外部の紫外線を受けることがあっても、塗布面側はマスク付カバーフィルム６の遮蔽パターン６ａによって、裏面側は紫外線吸収フィルム１６によって、硬化性樹脂薄膜層の未硬化部１１が外部の紫外線から確実に保護される。塗布面側のうち、マスク付カバーフィルム６の透過部分６ｂは紫外線透過性であるが、該透過部分６ｂの下の硬化性樹脂薄膜層の硬化部１２はインプリントの転写に使用されないので、インプリント工程に支障を生じることはない。
【００５６】
図１０は、本発明の第２の実施形態における、インプリント用の転写フィルムの製造装置、及び製造工程の概要を示すものである。
図１０に示す装置は、図１に示した基材供給部１、透明基材２、塗布装置３、乾燥装置４、カバーフィルム供給部５、カバーフィルム１８を紫外線硬化性樹脂組成物塗布面に貼合するニップロール７に加え、エネルギー線を遮蔽（遮光）する遮蔽パターン（遮光パターン）の無いカバーフィルム１８と紫外線照射装置８が組み込まれた円筒ドラム１９からなる。また、図１０の巻取り部９は、巻き取られるインプリント用転写フィルムに貼合されたカバーフィルムは相違するが、装置部分は図１の巻取り部９と同様である。
円筒ドラム１９は、紫外線照射装置８と、それらを保持する軸等からなる連続露光装置である。
【００５７】
円筒ドラム１９は、図１１に示すように、エネルギー線を遮蔽（遮光）する遮蔽パターン（遮光パターン）１９ａと、エネルギー線（紫外線）を透過する透過パターン１９ｂを有する。すなわち、エネルギー線を透過可能な円筒ドラム１９の片面または両面に遮蔽パターン１９ａを形成し、遮蔽パターン１９ａが形成されていない部分（透過部分）１９ｂは、エネルギー線を透過するように構成する。
基材フィルム２の幅方向両端の位置を符号２０で示す。円筒ドラム１９の円周方向（図１１（ｂ）の展開図では左右方向）は基材フィルム２の長手方向に対応する。
円筒ドラム１９は、連続的に移送される透明基材２と同じ速度で回転しているので、透明基材２の各部分が円筒ドラム１９に巻き付けられた箇所において露光される間、透明基材２に対する遮蔽パターン１９ａ及び透過パターン１９ｂがずれることがなく、所要時間の露光を継続することが可能である。
【００５８】
円筒ドラム１９の基材に用いられる材質は、耐熱性、及び紫外線硬化性樹脂組成物の硬化を阻害する３５０ｎｍ〜４００ｎｍ近傍の紫外線領域に散乱・吸収が小さいものが好適に用いられる。
【００５９】
遮蔽パターンの形成は、エネルギー線を遮蔽する機能を有する塗料またはインキを印刷する方法、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう剥離（リフトオフ）法により形成する方法、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する樹脂シートまたは金属箔を貼り合せた後にフォトリソ法によりエッチングして形成する方法等が挙げられる。
【００６０】
未硬化の硬化性樹脂薄膜層１１の上にカバーフィルム１８を貼り合せ、円筒ドラム１９上を通過する際にカバーフィルム１８側から紫外線を照射し、円筒ドラム１９の遮蔽パターン（遮蔽部分）１９ａが形成されていない部分（透過部分）１９ｂにおいて紫外線を透過させて、硬化性樹脂硬化部１２を形成する。これにより、図１４に示すように、遮光部分のないカバーフィルム１８が、硬化性樹脂薄膜層の未硬化部１１と硬化部１２の上を覆った転写フィルム１０を製造することができる。また、長尺のカバーフィルムに対して遮蔽パターンを形成する工程を省略することができるので、生産コストを削減することができる。
【００６１】
本形態例において、円筒ドラム１９における遮光パターン１９ａは、図１１に示すように円形に限らず、図１２に示すように多角形や、図１３に示すようにストライプ状に硬化するよう遮光パターニングされた円筒ドラムを用いることも可能であり、遮光パターン形状は転写フィルムロールの用途等に応じて自由に選択することができる。
このようにパターン露光を施すことで図１３のような連続パターンでは幅方向、図１１、１２のような不連続な遮蔽パターン１９ａでは、硬化性樹脂硬化部１２が格子状となるため、幅方向のみならず加工流れ方向の塗膜流動も抑制することができ、より高い塗膜厚みの均一性を確保することができる。不連続な遮蔽パターン１９ａを円筒ドラム１９の円周方向に配置する個数（図１１、１２では４個）は特に限定されず、１個でも複数個でも良い。
図１３に示すように遮蔽パターン１９ａが連続している場合は、円筒ドラム１９が回転しなくても、遮蔽パターン１９ａ及び透過パターン１９ｂがずれることがないので、円筒ドラム１９が固定されていても構わない。
不連続な遮蔽パターン１９ａの形状は、周囲が透過部分１９ｂに囲まれる閉じた平面形状であれば特に限定されるものではなく、円形や多角形のほか、楕円形など各種形状とすることが可能である。
連続した遮蔽パターン１９ａの形状は、図１３の例では、遮蔽パターン１９ａは長手方向にわたって均一幅であるが、遮蔽パターン１９ａの幅が周期的、段階的あるいは連続的に変化する連続パターンとすることも可能である。
【００６２】
また、図示はしていないが、第２の実施形態において、第１の実施形態と同様に、紫外線吸収フィルムの積層工程、多面取りのための長手方向スリット工程や、枚葉の転写フィルム製造のための横幅方向スリット工程を行なうことができる。紫外線吸収フィルムの積層工程を行なう場合、転写フィルム１０の裏面側のみならず、遮光パターンが形成されていないカバーフィルム１８の上にも紫外線吸収フィルムを積層することができる。横幅方向スリット工程を行なう場合、巻取り部９を設ける代わりに、図５に示すようにカッター９１等を設けて、枚葉の転写フィルム９２を製造することができる。
【００６３】
また、図示はしていないが、第１及び第２の実施形態において、塗布工程の前に透明基材２の塗布面の付着ゴミ、埃等を取り除くウェブクリーナーや、塗布面の外観検査をするオンライン検査装置や、製品の巻き取り工程を補助するタッチロール等が必要に応じて設置されていても良い。
本発明により提供される、ロール状で供給されるインプリント用の転写フィルムは、例えば、図１５に示すような連続式のインプリント装置に適用することができる。
また、本発明により提供される、枚葉で供給されるインプリント用の転写フィルムは、例えば、特許文献３に示されているようなステップ送り方式のインプリント装置に適用することができる。
【００６４】
上記実施形態により製造された、インプリント用ロール状転写フィルム１０は、図１５に示すようなインプリント装置により微細凹凸形状を転写することができる。
インプリント装置は、本発明により製造されたカバーフィルム６，１８付きの転写フィルム１０を供給するロール状転写フィルム供給部２１と、カバーフィルム６，１８を塗布面から剥離するバックロール２２と、剥離したカバーフィルム６，１８を巻き取るカバーフィルム巻取り部２３と、表面に微細凹凸形状を持つ金属製の微細凹凸形状転写ロール２４と、微細凹凸形状転写ロール２４に転写フィルム１０を押しつけるニップロール２５と、バックロール２６と、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させる紫外線照射装置８と、微細凹凸形状転写フィルム巻取り部２７からなる。
【００６５】
ロール状転写フィルム供給部２１は、インプリントの原料となるカバーフィルム６，１８付きの転写フィルム１０が巻き取られたロール体と、このロール体を保持する軸等からなる。
剥離装置２２は、カバーフィルム６，１８を剥離するロールである。
カバーフィルム巻取り部２３は、前記剥離装置２２にて剥離したカバーフィルム６，１８をロール体に巻き取るための巻き取り軸と、ロール体の中心に来るコア材とから構成される。
【００６６】
微細凹凸形状転写ロール２４は、最終的に形成したい微細凹凸形状とは反転した形状を有する金属製ロールである。また、微細凹凸形状転写ロール２４は、形状転写後に転写フィルム１０の剥離を容易にするため、剥離処理がなされているものが好適に用いられる。
【００６７】
ニップロール２５とバックロール２６は、転写フィルム１０を微細凹凸形状転写ロール２４に押しつけ、微細凹凸形状転写ロール２４の形状を転写フィルム１０に写し取ることができるよう、加圧手段を備えている。
【００６８】
紫外線照射装置８は、転写フィルム１０が微細凹凸形状転写ロール２４に押しつけられている間に紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、転写した微細凹凸形状を安定化させるために設けられている。
本発明の転写フィルムが熱ナノインプリント法に用いられる場合には、紫外線照射装置の代わりに加熱装置が設けられる。この場合、微細凹凸形状を圧縮成形等で転写しながら、転写フィルムの硬化性樹脂組成物を熱硬化させることで、インプリントを行なう。
【００６９】
微細凹凸形状転写フィルム巻取り部２７は、上述の微細凹凸形状が転写された転写フィルム１０をロール体に巻き取るための巻き取り軸と、ロール体製品の中心に来るコア材とから構成される。
【００７０】
図１６は、従来の微細凹凸形状転写フィルムを製造するための製造工程の概略を示した図である。
透明基材２の供給部１と、塗布装置３と、乾燥装置４と、微細凹凸形状転写ロール２４と、ニップロール２５と、バックロール２６と、微細凹凸形状転写フィルム巻取り部２７から構成される。
紫外線硬化性樹脂組成物の成膜工程（塗布・乾燥工程）と、微細凹凸形状転写工程とが連続して設置されており、熟練した技術を要する成膜工程、及び微細凹凸形状転写工程を同時に行なう必要があり、技術的な難易度が非常に高いものであった。
【符号の説明】
【００７１】
１…基材供給部、２…透明基材（透明性を有する基材フィルム）、３…塗布装置、４…乾燥装置、５…カバーフィルム供給部、６…マスク付カバーフィルム、６ａ…遮蔽パターン（遮光パターン）、６ｂ…透過部分（透過パターン）、７…ニップロール、８…紫外線照射装置、９…転写フィルムの巻取り部、１０…転写フィルム、１１…硬化性樹脂薄膜層の未硬化部、１２…硬化性樹脂薄膜層の硬化部、１３…枚葉切断時のスリット位置、１４…多面取り時のスリット位置、１５…紫外線吸収フィルム供給部、１６…紫外線吸収フィルム、１７…ニップロール、１８…カバーフィルム、１９…円筒ドラム、１９ａ…遮蔽部分（遮蔽パターン）、１９ｂ…透過部分（透過パターン）、２０…基材フィルムの位置、２１…ロール状転写フィルム供給部、２２…剥離装置（バックロール）、２３…カバーフィルム巻取り部、２４…微細凹凸形状転写ロール、２５…ニップロール、２６…バックロール、２７…インプリント製品巻取り部、９１…カッター、９２…枚葉の転写フィルム。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法、及びインプリント用の転写フィルムに関するものである。
なお、本明細書での微細なパターンとは、微細凸凹形状からなる細線パターン及び図形パターンにおいて、１つの細線幅及び図形寸法が、約数十ｎｍ〜約数百μｍ程度のパターンを指す。
【背景技術】
【０００２】
インプリントは、安価に超微細凹凸形状加工が可能な技術として、近年半導体デバイス、フラットパネルディスプレイ等の光学フィルム部材、記録メディア、バイオ・医療関連など様々な分野での応用展開が試みられている。特に微細凹凸形状を持つフィルム状部材を連続的に製造する方法として、従来から下記のような方法が知られている（特許文献１〜４参照）。
【０００３】
特許文献１には、（１）カチオン重合反応性とラジカル重合反応性とを兼ね備えた樹脂組成物からなる被膜を支持体上に形成する工程、（２）前記被膜にナノスタンパを用いてパターンを転写する工程、及び（３）パターンが転写された被膜を硬化させて微細構造物を得る工程を含む微細構造物の製造方法が開示されている。
特許文献２には、インプリントモールドの凹凸形状を被転写体に転写するパターン形成方法において、前記被転写体上に複数箇所に光硬化性樹脂を滴下する工程と、前記インプリントモールドを被転写体上の光硬化性樹脂に押し付け、該光硬化性樹脂を押し広げてインプリントモールド内の凹部内に該光硬化性樹脂を充填する工程と、前記光硬化性樹脂を硬化させる工程と、前記インプリントモールドを前記光硬化性樹脂から離す工程と、を有し、前記インプリントモールドとして、形状，間隔の何れが異なる複数の凹凸パターンが形成されたパターン形成領域を有し、凹部の開口面積又は体積がほぼ一定であるモールドを用いることを特徴とするパターン形成方法が開示されている。
特許文献３には、被転写体とスタンパとを接触させて前記スタンパの表面形状を前記被転写体に転写するインプリント装置において、前記被転写体と前記スタンパとを、間隔をあけて保持する保持手段と、前記被転写体と前記スタンパとが配置されたチャンバを減圧する減圧手段と、前記被転写体と前記スタンパとの相対位置を合わせる位置合わせ手段と、を備えることを特徴とするインプリント装置が開示されている。なお、被転写体上には、光硬化性樹脂（被加工材料）が均一に点在するように塗布されている。
特許文献４には、基材と前記基材上に形成された被転写樹脂層とを有する被転写体を、円柱型のローラーの表面に沿わせ、前記ローラーを回転させながら、前記被転写樹脂層とナノ凹凸パターンを有する平板型モールドとを密着させる密着工程と、前記被転写樹脂層と前記平板型モールドとが密着している状態で、前記被転写樹脂層を固化する固化工程と、を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２６６６０８号公報
【特許文献２】特開２００９−００６６１９号公報
【特許文献３】特開２００８−０１２８５８号公報
【特許文献４】特開２００７−３３５６４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１〜４に記載の製造方法は、紫外線硬化樹脂の塗布から微細凹凸形状転写の工程（インプリント工程）において、塗布膜には微細凹凸形状を精度良く転写させるため樹脂の粘度を下げて流動性を持たせてあることから、塗布膜の両端部では樹脂が幅方向へ流れが広がり、厚みの均一性を一定に保つことが困難であった。
【０００６】
また、低粘度で流動性の高い塗布液の塗布方法としてスピンコート法、ディスペンス法、スリットコート法、スプレーコート法、ローラーコート法、またはインクジェット法などの公知の方法が用いられているが、均一に塗布するためには操作に熟練した技術を必要としている。このため、低粘度で流動性の高い紫外線硬化樹脂の塗布装置と、インプリントのための型押し装置（スタンパ）とを両方同時に、運転操作するには、技術的な困難さがあり、尚且つ両方の装置を連動させて連続的に凹凸パターンを製造するものであるため、両方の製造装置のいずれかに不具合があれば製造工程が停止してしまうという問題があった。
【０００７】
更に、塗布工程とインプリント工程が続いていることから、塗布膜単体での検査・評価が十分に行えず、例えば塗布膜に異物などが混入した場合、前記異物はそのままインプリント工程に持ち込まれることとなり、形状転写の不良や、最悪の場合スタンパ自身を傷付けてしまう不具合が生じる。スタンパが傷付いた場合、そのスタンパは微細凹凸形状を安定して形成することが不可能となるため、スタンパの交換が必要となるが、スタンパは非常に高価であり、その製造も容易ではないため、使用者にとってコスト面、及び時間的な面で大きな損失となる。
【０００８】
すなわち本発明の目的は、従来の塗布工程とインプリント工程の両立という技術的困難性を緩和し、且つ低粘度で流動性の高い塗布液を用いても幅方向の広がりを防止する、インプリント用の転写フィルムの製造方法、及びインプリント用の転写フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明では上記問題点を解決するために、低粘度で流動性の高い液状の硬化性樹脂の塗布工程と、インプリント工程とを分割し、硬化性樹脂の塗布膜としての検査・評価を十分に行なうことで上記不具合の発生を防止し、且つインプリント装置の運転操作者が、低粘度で流動性の高い硬化性樹脂の塗布装置の運転に習熟しないでも、インプリントができるように転写フィルムを用いる。また、前記転写フィルムには、低粘度で流動性の高い硬化性樹脂を用いても幅方向への広がりを防止し、且つ均一な塗布膜厚みを保持できるよう構造的特徴を持たせる。
【００１０】
請求項１に係る発明は、微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、少なくとも下記の（１）〜（３）の工程：（１）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する合成樹脂フィルムからなり、一方の面にエネルギー線を遮蔽する遮蔽パターンを形成した、長尺のマスク付カバーフィルムを準備する工程、（２）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層を形成する工程、（３）前記硬化性樹脂薄膜層の上に前記マスク付カバーフィルムを貼り合せ、前記マスク付カバーフィルム側からエネルギー線を照射して、前記マスク付カバーフィルムの前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成する工程、を含むことを特徴とするインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
【００１１】
請求項２に係る発明は、前記遮蔽パターンの形成は、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する塗料またはインキを印刷する方法、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう剥離（リフトオフ）法により形成する方法、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する樹脂シートまたは金属箔を貼り合せた後にフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、のいずれかの方法によるものであることを特徴とする請求項１に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項３に係る発明は、前記遮蔽パターンの形状は、前記マスク付カバーフィルムの長手方向に離間して複数配置された不連続パターン、もしくは前記マスク付カバーフィルムの長手方向に連続した連続パターンのいずれかであることを特徴とする請求項１または２に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項４に係る発明は、前記マスク付カバーフィルムにおいて、前記硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理がなされていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項５に係る発明は、更に、前記マスク付カバーフィルムの前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを長手方向に沿って切断するスリット工程、及び／又は該転写フィルムを横幅方向に沿って切断して行なう枚葉化工程を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
【００１２】
請求項６に係る発明は、微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、少なくとも下記の（１）〜（２）の工程：（１）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層を形成する工程、（２）前記硬化性樹脂薄膜層の上に長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する合成樹脂フィルムからなるカバーフィルムを貼り合せ、エネルギー線を遮蔽する遮蔽パターンを形成した連続露光装置を用いてエネルギー線を照射し、前記連続露光装置の前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成する工程、を含むことを特徴とするインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
【００１３】
請求項７に係る発明は、前記連続露光装置は、エネルギー線を透過する材質からなる円筒ドラムと、前記円筒ドラムの外周壁に設けられた遮蔽パターン部分と、前記円筒ドラム内部に配設された露光用光源とを備え、前記円筒ドラムに巻き付けられた透明基材に対して円筒ドラムの内側からエネルギー線を照射する装置であることを特徴とする請求項６に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項８に係る発明は、前記遮蔽パターンの形状は、前記円筒ドラムの円周方向に離間して複数配置された不連続パターン、もしくは前記円筒ドラムの円周方向に連続した連続パターンのいずれかであることを特徴とする請求項７に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項９に係る発明は、更に、前記連続露光装置の前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを長手方向に沿って切断するスリット工程、及び／又は該転写フィルムを横幅方向に沿って切断して行なう枚葉化工程を含むことを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
請求項１０に係る発明は、前記カバーフィルムにおいて、前記硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理がなされていることを特徴とする請求項６〜９のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法である。
【００１４】
請求項１１に係る発明は、微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムであって、透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、部分的に硬化された硬化性樹脂組成物の部分と未硬化の硬化性樹脂組成物の部分からなる硬化性樹脂薄膜層が形成されてなり、エネルギー線を遮蔽するパターンが形成された透明性を有する合成樹脂フィルムからなるマスク付カバーフィルムが積層されてなることを特徴とするインプリント用の転写フィルムである。
【００１５】
請求項１２に係る発明は、微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムであって、透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、エネルギー線を遮蔽するパターンが形成された連続露光装置により、部分的に硬化された硬化性樹脂組成物の部分と未硬化の硬化性樹脂組成物の部分からなる硬化性樹脂薄膜層が形成されてなり、透明性を有する合成樹脂フィルムからなるカバーフィルムが積層されてなることを特徴とするインプリント用の転写フィルムである。
【００１６】
請求項１３に係る発明は、ロール状で供給されるインプリント用の転写フィルムであることを特徴とする請求項１１または１２に記載のインプリント用の転写フィルムである。
請求項１４に係る発明は、長さ１〜１００００ｍの長尺状であって、ロール体に巻かれていることを特徴とする請求項１３に記載のインプリント用の転写フィルムである。
請求項１５に係る発明は、枚葉で供給されるインプリント用の転写フィルムであることを特徴とする請求項１１または１２に記載のインプリント用の転写フィルムである。
請求項１６に係る発明は、光学機能フィルム、半導体素子、精密機械部材、磁気記録媒体部材からなる群のいずれか一つを製造するのに用いられるものであることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムである。
請求項１７に係る発明は、前記基材フィルムには、インプリント装置のスタンパに位置合わせするための合せマークが２次元配置されてなることを特徴とする請求項１１〜１６のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムである。
【発明の効果】
【００１７】
上記本発明によれば、インプリント装置の運転操作者が、低粘度で流動性の高い硬化性樹脂の塗布装置の運転に習熟しないでも、インプリントができるように転写フィルムを供給することができる。また、硬化性樹脂薄膜層の段階で検査・評価を行えることから、インプリント工程への異物等の混入を事前にある程度抑制することができるため、高価なスタンパが傷付くリスクを低減できる。更に、硬化性樹脂薄膜層内に部分的に形成された非流動性のパターン硬化部位による堰の効果により、低粘度で流動性の高い硬化性樹脂の広がりを防止し、硬化性樹脂薄膜層の厚みを均一に保つことができる。
【００１８】
請求項１に係る発明によれば、硬化性樹脂薄膜層内をパターン硬化させることで、その間の流動性部位と連続する位置に非流動性部位を形成でき、堰としての機能を有するため、硬化性樹脂薄膜層の幅方向の広がりを防止できる。また、カバーフィルムを貼り合わせてエネルギー線を照射することで、酸素阻害を起こすような硬化性樹脂を用いても、酸素阻害による硬化不良を防止し、硬化を十分に行なうことができる。加えてカバーフィルムを貼合したまま転写フィルム製品とすることで、次工程までの期間中、硬化性樹脂薄膜層の表面に異物等が付着することを防止できるため、製品のクリーン度をより高く保つことができる。
【００１９】
請求項２または３に係る発明によれば、遮蔽パターンの形成方法または形状は必要とする遮蔽性能、コスト、カバーフィルムとの相性等を満たす方法であれば、上記種々の方法を自由に選択できる。
請求項４に係る発明によれば、カバーフィルムの硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理を施すことで、カバーフィルムを硬化性樹脂薄膜層から剥離する際、硬化性樹脂薄膜層の表面が荒れることによる厚みの不均一化を防止できる。
請求項５に係る発明によれば、１本の基材フィルムを多面取りにより複数本の転写フィルムに分けることで、生産性を向上することができる。
【００２０】
請求項６に係る発明によれば、請求項１に係る発明の効果に加えて、円筒ドラムに遮蔽パターンを形成することで、長さ１〜１００００ｍの長尺のカバーフィルムに対して遮蔽パターンを形成する工程を省略することができる。
【００２１】
請求項７または８に係る発明によれば、必要とするエネルギー線の透過性能、コスト等を満たす方法であれば、上記種々の方法を自由に選択できる。また、遮蔽パターンの形状は必要とする遮蔽性能、コスト、カバーフィルムとの相性等を満たす方法であれば、上記種々の方法を自由に選択できる。
請求項９に係る発明によれば、１本の基材フィルムを多面取りにより複数本の転写フィルムに分けることで、生産性を向上することができる。
請求項１０に係る発明によれば、カバーフィルムの硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理を施すことで、カバーフィルムを硬化性樹脂薄膜層から剥離する際、硬化性樹脂薄膜層の表面が荒れることによる厚みの不均一化を防止できる。
請求項１１〜１７に係る発明によれば、インプリント装置の運転操作者が、低粘度で流動性の高い硬化性樹脂の塗布装置の運転に習熟しないでも、インプリントができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】第１の実施形態による製造方法の代表例を示す概略図である。
【図２】第１の実施形態による製造方法により製造した転写フィルムの一例を示す概略図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図３】第１の実施形態による製造方法により製造した転写フィルムの別の一例を示す概略図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図である。
【図４】第１の実施形態による製造方法により製造した転写フィルムの別の一例を示す概略図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図である。
【図５】第１の実施形態において、枚葉化工程を行なう製造方法の一例を示す概略図である。
【図６】第１の実施形態において多面取りに用いるカバーフィルムの一例を示す概略図である。
【図７】第１の実施形態において多面取りに用いるカバーフィルムの別の一例を示す概略図である。
【図８】第１の実施形態において多面取りに用いるカバーフィルムの別の一例を示す概略図である。
【図９】第１の実施形態において、さらに紫外線吸収フィルムの積層工程を加えた製造方法の代表例を示す概略図である。
【図１０】第２の実施形態による製造方法の代表例を示す概略図である。
【図１１】第２の実施形態で用いる円筒ドラムの一例を示す概略図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は展開図である。
【図１２】第２の実施形態で用いる円筒ドラムの別の一例を示す概略図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は展開図である。
【図１３】第２の実施形態で用いる円筒ドラムの別の一例を示す概略図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は展開図である。
【図１４】第２の実施形態による製造方法により製造した転写フィルムの一例を示す断面図である。
【図１５】本発明により製造される転写フィルムへインプリントを施す工程の代表例を示す概略図である。
【図１６】従来のインプリント製品製造工程の代表例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、好適な実施の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態における、インプリント用の転写フィルムの製造装置、及び製造工程の概要を示すものである。すなわち透明基材２を製造装置に供給する基材供給部１と、前記透明基材２に硬化性樹脂組成物を塗布する塗布装置３と、硬化性樹脂組成物中に有機溶媒等が含まれる場合、それを揮発除去する乾燥装置４と、マスク付カバーフィルム６を供給するカバーフィルム供給部５と、前記マスク付カバーフィルム６を紫外線硬化性樹脂組成物の塗布面に貼合するニップロール７と、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させる硬化装置としての紫外線照射装置８と、加工されたインプリント用転写フィルムを巻き取る巻取り部９とから構成される製造装置を用いてロール状転写フィルムが製造される。
【００２４】
基材供給部１はロール状に透明基材２が巻き取られたロール体と、そのロール体を保持する軸等により構成される。
【００２５】
ここで透明基材２に用いられる材質は、耐熱性、及び紫外線硬化性樹脂組成物の硬化を阻害する３５０ｎｍ〜４００ｎｍ近傍の紫外線領域に散乱・吸収が小さいものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスチレン、ポリアクリル酸塩、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリアミド、ナイロン、ポリイミド、トリアセチルセルロース（三酢酸セルロース）、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリメチルメタクリレート、ポリテトラフルオロエチレンやポリトリフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、セロファン、セルロース系フィルムなどを挙げることができる。これら材料は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
特に前記基材のうち、耐熱性、紫外線透過性、及び価格の面から、ポリエチレンテレフタレートを用いることが好ましい。
【００２６】
また、前記透明基材２の塗布面側、もしくは両面に易接着処理、コロナ処理、大気圧プラズマ処理などの表面処理がなされていることが好ましい。これらの表面処理は、予め透明基材２に施しておくことが好ましい。また、基材供給部１から透明基材２を繰り出して塗布装置３で硬化性樹脂組成物を塗布するまでの間にこれらの表面処理を施すこともできる。
【００２７】
なお、透明基材２の厚みは１６μｍ〜２００μｍを有することが好ましく、５０μｍ〜１５０μｍを有することが更に好ましい。透明基材２の厚みが薄過ぎるとハンドリング性が悪く、また、透明基材２の厚みが厚過ぎると、コスト面、ハンドリング性で不利である。
【００２８】
塗布装置３は、透明基材２上に硬化性樹脂組成物を均質に供給して塗布する手段を備えるものであればどういった装置でも良いが、連続的に硬化性樹脂組成物を透明基材２上に供給して塗布できるよう、硬化性樹脂組成物を貯蔵するタンク、送液ポンプ、配管、異物除去フィルター、コーターヘッドからなる構成を持つ装置が好ましい（図示なし）。コーターヘッドは、例えばダイコーターなどが好適である。
塗布装置３により、透明基材２の片面に硬化性樹脂薄膜層（塗布膜）が形成される。塗布装置３で塗布した直後の硬化性樹脂組成物は、未硬化でかつ液状であり、塗布に適した流動性を有する。
【００２９】
硬化性樹脂組成物は、インプリントに際して用いる硬化手段に応じて、紫外線硬化性樹脂組成物、電子線硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物等を適宜選択して用いることができる。
硬化性樹脂組成物は、紫外線、電子線、熱線等のエネルギー線により重合する重合性化合物を含有する。
例えば、３００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の紫外線に対して硬化性を有する紫外線硬化性樹脂材料としては、重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）及び離型剤（Ｃ）を含有するものが好ましい。
重合性化合物（Ａ）としては、例えば、アクリル単量体、ウレタン（メタ）アクリレートやエポキシ（メタ）アクリレートのモノマーやオリゴマーを用いることができる。また、紫外線硬化性樹脂組成物の塗布液中には、反応希釈剤、光重合開始剤などを添加することが好ましい。
【００３０】
アクリル単量体としては、特に制限されるものではなく、目的に応じて適宜選択できるものであり、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリル酸アミド類が用いられる。なお、本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸及びメタクリル酸の総称である。
（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、下記の化合物が挙げられる。
【００３１】
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のモノ（メタ）アクリレート。
１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート。
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタアエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート。
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のその他の（メタ）アクリレート。
前記（メタ）アクリルアミド類としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。具体的な商品名としては、ビームセット３７１（荒川化学工業社製）等が挙げられる。
これらアクリル単量体は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３２】
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンイソシアネートなどのポリイソシアネート類と、ヒドロキシ（メタ）アクリレートなどのヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを反応させることで得られる。また、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートジオール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリオール類と、前記イソシアネート類を反応させた、ポリマーもしくはオリゴマーと、ヒドロキシ（メタ）アクリレートなどのヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートを反応させることで、多種多様なウレタン（メタ）アクリレートを得ることができる。
【００３３】
エポキシ（メタ）アクリレートは、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型プロピレンオキサイド付加物の末端グリシジルエーテル、フルオレンエポキシ樹脂などのエポキシ樹脂類と、（メタ）アクリル酸とを反応させて得ることができる。
【００３４】
光重合開始剤（Ｂ）としては、例えば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤等が挙げられる。
アセトフェノン系光重合開始剤：アセトフェノン、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）１’，１’，１’−トリクロロアセトフェノン、クロロアセトフェノン、２’，２’−ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２’−フェニルアセトフェノン、２−アミノアセトフェノン、ジアルキルアミノアセトフェノン等。
ベンゾイン系光重合開始剤：ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール等。
ベンゾフェノン系光重合開始剤：ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシプロピルベンゾフェノン、アクリルベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等。
チオキサントン系光重合開始剤：チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ジメチルチオキサントン等。
その他の光重合開始剤：α−アシルオキシムエステル、ベンジル−（ｏ−エトキシカルボニル）−α−モノオキシム、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、テトラメチルチウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ジアルキルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレート等。
【００３５】
紫外線硬化性樹脂材料中の重合開始剤の含有量は、重合性化合物の１００質量部に対して０．００１〜１０質量部であることが好ましく、０．０１〜１０質量部であることがより好ましく、０．１〜５質量部であることが特に好ましい。重合開始剤の含有量が０．００１質量部以上であれば、重合性化合物を短時間に重合でき、１０質量部以下であれば、重合開始剤の残渣が硬化物中に残存しにくい。
【００３６】
離型剤（Ｃ）としては、より離型性に優れる硬化物が得られることから、含フッ素界面活性剤を含むことが好ましい。さらには、フッ素含有量が１０〜７０質量％の含フッ素界面活性剤がより好ましく、フッ素含有量が１０〜４０質量％の含フッ素界面活性剤が特に好ましい。含フッ素界面活性剤は、水溶性であっても油溶性であってもよい。
含フッ素界面活性剤としては、アニオン性含フッ素界面活性剤、カチオン性含フッ素界面活性剤、両性含フッ素界面活性剤、ノニオン性含フッ素界面活性剤のいずれであってもよい。これらの中でも、硬化性樹脂材料における相溶性と、その硬化物における分散性が良好であることから、ノニオン性含フッ素界面活性剤が特に好ましい。
【００３７】
アニオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルカルボン酸塩、ポリフルオロアルキル燐酸エステル、またはポリフルオロアルキルスルホン酸塩が好ましい。カチオン性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１１１（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１４３（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１２０、メガファックＲ−３０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
カチオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルカルボン酸のトリメチルアンモニウム塩、またはポリフルオロアルキルスルホン酸アミドのトリメチルアンモニウム塩が好ましい。カチオン性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１２１（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１３４（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１５０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
両性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルベタインが好ましい。両性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１３２（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＸ−１７２（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１２０（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
ノニオン性含フッ素界面活性剤としては、ポリフルオロアルキルアミンオキサイド、またはポリフルオロアルキル・アルキレンオキサイド付加物が好ましい。ノニオン性界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−１４５（商品名、セイミケミカル社製）、サーフロンＳ−３９３（商品名、セイミケミカル社製）、サーフロンＫＨ−２０（商品名、セイミケミカル社製）、サーフロンＫＨ−４０（商品名、セイミケミカル社製）、フロラードＦＣ−１７０（商品名、スリーエム社製）、フロラードＦＣ−４３０（商品名、スリーエム社製）、メガファックＦ−１４１（商品名、ＤＩＣ社製）等が挙げられる。
【００３８】
紫外線硬化性樹脂組成物材料中の含フッ素界面活性剤の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物の全体を１００質量％とした際の０．０１〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。含フッ素界面活性剤の含有量が０．０１質量％以上であれば、離型性に優れた硬化物を確実に形成でき、１０質量％以下であれば、紫外線硬化性樹脂材料を容易に調製できる。
【００３９】
本発明の転写フィルムが、紫外線等を用いた光ナノインプリント法に用いられる場合には硬化性樹脂材料として放射線硬化性樹脂が用いられる。また、熱ナノインプリント法に用いられる場合には硬化性樹脂材料として熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂が用いられる。
熱ナノインプリント法における硬化性樹脂材料として、熱可塑性樹脂を用いる場合には、被転写材料である熱可塑性樹脂をガラス転移温度以上まで加熱し、軟化させた後、微細なパターンが形成されたスタンパを押し付け、冷却することで微細パターンが転写されるので、転写する際の加熱温度よりも低いガラス転移温度（Ｔｇ）を有する熱可塑性樹脂が好ましい。また、熱ナノインプリント法における硬化性樹脂材料として、熱硬化性樹脂を用いる場合には、被転写材料である熱硬化性樹脂としては、熱ナノインプリント法に対する適合性の点から、微細凹凸形状を圧縮成形等で転写する際の加熱温度よりも高いガラス転移温度（Ｔｇ）を有する熱硬化性樹脂が好ましい。
【００４０】
なお、硬化性樹脂組成物の塗布膜厚みは、３〜５０μｍの間にあることが好ましく、更に好ましくは１５〜３５μｍである。
塗布膜が薄すぎると、形状転写性が悪くなり、また、塗布膜が厚過ぎるとコスト面やロール体での経時安定性の点で不利である。
【００４１】
乾燥装置４は、透明基材２上に形成された硬化性樹脂組成物の塗布膜を加熱する手段と、乾燥装置内に空気を送る手段と、乾燥装置内の空気を排気する手段を備えている。
乾燥装置４は、硬化性樹脂組成物を硬化させる目的のものではなく、塗布膜は乾燥後もある程度の流動性を有し、液状ないしゲル状となっている。
【００４２】
カバーフィルム供給部５は、マスク付カバーフィルム６が巻き取られたロール体と、そのロール体を保持する軸等から構成される。
【００４３】
ニップロール７は、紫外線硬化性樹脂組成物の塗布膜が形成された透明基材２と、マスク付カバーフィルム６を挟み込む１対のロールからなり、両者を貼合する装置である。貼合のための加圧手段を備えることが好ましく、また、フィルムに対して均一な圧力をかけ易いよう、少なくとも一方のロールがゴム製であることが好ましい。
【００４４】
マスク付カバーフィルム６は、図２に示すように、エネルギー線を遮蔽（遮光）する遮蔽パターン（遮光パターン）６ａと、エネルギー線（紫外線）を透過する透過パターン６ｂを有する。すなわち、エネルギー線を透過可能な透明基材の片面または両面に遮蔽パターン６ａを形成し、遮蔽パターン６ａが形成されていない部分（透過部分）６ｂは、エネルギー線を透過するように構成する。
このように、紫外線硬化性樹脂の上をマスク付カバーフィルム６で覆って大気との接触を断った密閉状態で紫外線を照射することにより、酸素阻害を起こすような硬化性樹脂を用いても、酸素阻害による硬化不良を防止し、紫外線硬化性樹脂の硬化を十分に行なうことができる。
【００４５】
マスク付カバーフィルム６の基材に用いられる材質は、耐熱性、及び紫外線硬化性樹脂組成物の硬化を阻害する３５０ｎｍ〜４００ｎｍ近傍の紫外線領域に散乱・吸収が小さいものが好ましく、上記の透明基材２に用いられる材質として例示したものから選択することができる。マスク付カバーフィルム６の基材に用いられる材質は、透明基材２に用いられる材質と同じでも異なっても良い。特に、耐熱性、紫外線透過性、及び価格の面から、ポリエチレンテレフタレートを用いることが好ましい。
【００４６】
また、マスク付カバーフィルム６の硬化性樹脂薄膜層１１との貼合面に剥離処理がなされていることが好ましい。カバーフィルムの硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理を施すことで、カバーフィルムを硬化性樹脂薄膜層から剥離する際、硬化性樹脂薄膜層の表面が荒れることによる厚みの不均一化を防止できる。
剥離処理には、例えばシリコーン系やフッ素系の剥離剤の塗布等が挙げられる。
【００４７】
遮蔽パターンの形成は、エネルギー線を遮蔽する機能を有する塗料またはインキを印刷する方法、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう剥離（リフトオフ）法により形成する方法、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する樹脂シートまたは金属箔を貼り合せた後にフォトリソ法によりエッチングして形成する方法等が挙げられる。
【００４８】
図３に示すように、未硬化の硬化性樹脂薄膜層１１の上にマスク付カバーフィルム６を貼り合せ、マスク付カバーフィルム６側から紫外線を照射し、マスク付カバーフィルム６の遮蔽パターン（遮蔽部分）６ａが形成されていない部分（透過部分）６ｂにおいて紫外線を透過させて、硬化性樹脂硬化部１２を形成する。
【００４９】
本形態例において、硬化させるパターンは図２に示すように円形に限らず、図３に示すように多角形や、図４に示すようにストライプ状に硬化するよう遮光パターニングされたカバーフィルムを用いることも可能であり、遮光パターン形状は転写フィルムロールの用途等に応じて自由に選択することができる。
このようにパターン露光を施すことで図４のような連続パターンでは幅方向、図２、３のような不連続な遮蔽パターン６ａでは、硬化性樹脂硬化部１２が格子状となるため、幅方向のみならず加工流れ方向の塗膜流動も抑制することができ、より優れた塗膜厚みの均一性を確保することができる。
不連続な遮蔽パターン６ａの形状は、周囲が透過部分６ｂに囲まれる閉じた平面形状であれば特に限定されるものではなく、円形や多角形のほか、楕円形など各種形状とすることが可能である。
連続した遮蔽パターン６ａの形状は、図４の例では、遮蔽パターン６ａは長手方向にわたって均一幅であるが、遮蔽パターン６ａの幅が周期的、段階的あるいは連続的に変化する連続パターンとすることも可能である。
【００５０】
なお、インプリント用の転写フィルムをロール状で供給する代わりに、枚葉で供給する場合には、図２、３のような不連続パターンのマスク付カバーフィルム６を用いて遮蔽パターン６ａが形成されていない部分において硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを横幅方向に沿って切断する（切断線を符号１３に示す。）ことにより行なう枚葉化工程にて、枚葉の転写フィルムを作製することができる。枚葉の転写フィルムを作製するための切断（スリット）工程は、硬化性樹脂を部分硬化させて得た長尺の転写フィルムを巻取り部９に巻き取った後、改めてロール体から繰り出し行っても良い。
あるいは、巻取り部９を省略し、図５に示すように、硬化性樹脂を部分硬化させて得た長尺の転写フィルムを巻き取ることなく、例えばカッター９１により切断工程を行って枚葉の転写フィルム９２を製造することもできる。このようにして得られる枚葉の転写フィルム９２は、インプリントに使用される硬化性樹脂の未硬化部の周囲が、硬化性樹脂の硬化部で囲まれ、さらに硬化性樹脂が上下から基材フィルムとカバーフィルムとで挟まれるので、ロール状としなくても未硬化樹脂がはみ出すおそれがない。
【００５１】
また、図６〜８に示すように、遮蔽パターン６ａが形成されていない部分において硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを長手方向に沿って切断する（切断線を符号１４に示す。）スリット工程によって、同時に複数のロール体を巻き取り、生産性を向上することができる（多面取り）。多面取りでは、基材フィルム及びマスク付カバーフィルムの幅は、製品となる転写フィルムの幅の数倍（例えば、２面取りでは２倍以上、３面取りでは３倍以上）とする。
なお、多面取りと枚葉化を組み合わせ、長手方向に沿って切断した複数本の転写フィルムをそれぞれロール状に巻き取ることなく、転写フィルムの横幅方向に沿って切断して枚葉化することもできる。
【００５２】
紫外線照射装置８は、紫外線を発生させる光源部と、光源で発生する熱を除去する冷却装置を備える。
光源部は、紫外線硬化性樹脂組成物を十分に硬化させる紫外線照射量を得られるものであれば高圧水銀ランプやメタルハライドランプ等のランプ光源や、紫外線領域の発光ピークを持つ発光ダイオードなど自由に選択できる。
中でも紫外線硬化性樹脂組成物の硬化波長以外の波長の光を殆ど出さず、紫外線照射対象物への熱ダメージが少ない発光ダイオードタイプの光源が好適に用いられる。
【００５３】
紫外線照射装置８は、透明基材２の全面に紫外線を照射して、硬化性樹脂薄膜層の選択部のみにおいて硬化性樹脂を硬化させる。これにより、図２（ｂ）に示すように硬化性樹脂薄膜層は、未硬化部１１と硬化部１２を有するものとなる。なお、塗布装置３により塗布される硬化性樹脂が熱硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂である場合は、硬化装置として加熱硬化装置や電子線硬化装置を用いることができる。
操作の容易性から、紫外線硬化性樹脂と紫外線照射装置を用いることが好ましい。
【００５４】
巻取り部９は、上述の硬化性樹脂薄膜層１１が形成されたインプリント用転写フィルムをロール体に巻き取るための巻き取り軸と、ロール体製品の中心に来るコア材とから構成される。
本形態例で製造される転写フィルムは、コア材の周囲にインプリント用転写フィルムがマスク付カバーフィルムを貼合したままロール状に巻き取られたものであり、所望の長さの転写フィルムが巻き取られた後、巻き取り軸から取り外されて製品となる。
なお、マスク付カバーフィルムを貼合したままロール状または枚葉の製品とすることで、次工程までの期間中、硬化性樹脂薄膜層の表面に異物等が付着することを防止できるため、製品のクリーン度をより高く保つことができ、次工程の作業者が目視で硬化性樹脂薄膜層の未硬化部１１と硬化部１２を確認することができる。
【００５５】
本形態例においては、図９に示すように、巻取り部９において、転写フィルムとともに紫外線吸収フィルム１６を巻き込むことも可能である。図９では、紫外線吸収フィルム１６は、紫外線吸収フィルム供給部１５から供給され、ニップロール１７で基材フィルム２の裏面（塗布面の反対側の面）に貼合される。これにより、基材フィルム２が紫外線透過性で、インプリント用転写フィルムをロールから繰り出した後に外部の紫外線を受けることがあっても、塗布面側はマスク付カバーフィルム６の遮蔽パターン６ａによって、裏面側は紫外線吸収フィルム１６によって、硬化性樹脂薄膜層の未硬化部１１が外部の紫外線から確実に保護される。塗布面側のうち、マスク付カバーフィルム６の透過部分６ｂは紫外線透過性であるが、該透過部分６ｂの下の硬化性樹脂薄膜層の硬化部１２はインプリントの転写に使用されないので、インプリント工程に支障を生じることはない。
【００５６】
図１０は、本発明の第２の実施形態における、インプリント用の転写フィルムの製造装置、及び製造工程の概要を示すものである。
図１０に示す装置は、図１に示した基材供給部１、透明基材２、塗布装置３、乾燥装置４、カバーフィルム供給部５、カバーフィルム１８を紫外線硬化性樹脂組成物塗布面に貼合するニップロール７に加え、エネルギー線を遮蔽（遮光）する遮蔽パターン（遮光パターン）の無いカバーフィルム１８と紫外線照射装置８が組み込まれた円筒ドラム１９からなる。また、図１０の巻取り部９は、巻き取られるインプリント用転写フィルムに貼合されたカバーフィルムは相違するが、装置部分は図１の巻取り部９と同様である。
円筒ドラム１９は、紫外線照射装置８と、それらを保持する軸等からなる連続露光装置である。
【００５７】
円筒ドラム１９は、図１１に示すように、エネルギー線を遮蔽（遮光）する遮蔽パターン（遮光パターン）１９ａと、エネルギー線（紫外線）を透過する透過パターン１９ｂを有する。すなわち、エネルギー線を透過可能な円筒ドラム１９の片面または両面に遮蔽パターン１９ａを形成し、遮蔽パターン１９ａが形成されていない部分（透過部分）１９ｂは、エネルギー線を透過するように構成する。
基材フィルム２の幅方向両端の位置を符号２０で示す。円筒ドラム１９の円周方向（図１１（ｂ）の展開図では左右方向）は基材フィルム２の長手方向に対応する。
円筒ドラム１９は、連続的に移送される透明基材２と同じ速度で回転しているので、透明基材２の各部分が円筒ドラム１９に巻き付けられた箇所において露光される間、透明基材２に対する遮蔽パターン１９ａ及び透過パターン１９ｂがずれることがなく、所要時間の露光を継続することが可能である。
【００５８】
円筒ドラム１９の基材に用いられる材質は、耐熱性、及び紫外線硬化性樹脂組成物の硬化を阻害する３５０ｎｍ〜４００ｎｍ近傍の紫外線領域に散乱・吸収が小さいものが好適に用いられる。
【００５９】
遮蔽パターンの形成は、エネルギー線を遮蔽する機能を有する塗料またはインキを印刷する方法、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう剥離（リフトオフ）法により形成する方法、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する樹脂シートまたは金属箔を貼り合せた後にフォトリソ法によりエッチングして形成する方法等が挙げられる。
【００６０】
未硬化の硬化性樹脂薄膜層１１の上にカバーフィルム１８を貼り合せ、円筒ドラム１９上を通過する際にカバーフィルム１８側から紫外線を照射し、円筒ドラム１９の遮蔽パターン（遮蔽部分）１９ａが形成されていない部分（透過部分）１９ｂにおいて紫外線を透過させて、硬化性樹脂硬化部１２を形成する。これにより、図１４に示すように、遮光部分のないカバーフィルム１８が、硬化性樹脂薄膜層の未硬化部１１と硬化部１２の上を覆った転写フィルム１０を製造することができる。また、長尺のカバーフィルムに対して遮蔽パターンを形成する工程を省略することができるので、生産コストを削減することができる。
【００６１】
本形態例において、円筒ドラム１９における遮光パターン１９ａは、図１１に示すように円形に限らず、図１２に示すように多角形や、図１３に示すようにストライプ状に硬化するよう遮光パターニングされた円筒ドラムを用いることも可能であり、遮光パターン形状は転写フィルムロールの用途等に応じて自由に選択することができる。
このようにパターン露光を施すことで図１３のような連続パターンでは幅方向、図１１、１２のような不連続な遮蔽パターン１９ａでは、硬化性樹脂硬化部１２が格子状となるため、幅方向のみならず加工流れ方向の塗膜流動も抑制することができ、より高い塗膜厚みの均一性を確保することができる。不連続な遮蔽パターン１９ａを円筒ドラム１９の円周方向に配置する個数（図１１、１２では４個）は特に限定されず、１個でも複数個でも良い。
図１３に示すように遮蔽パターン１９ａが連続している場合は、円筒ドラム１９が回転しなくても、遮蔽パターン１９ａ及び透過パターン１９ｂがずれることがないので、円筒ドラム１９が固定されていても構わない。
不連続な遮蔽パターン１９ａの形状は、周囲が透過部分１９ｂに囲まれる閉じた平面形状であれば特に限定されるものではなく、円形や多角形のほか、楕円形など各種形状とすることが可能である。
連続した遮蔽パターン１９ａの形状は、図１３の例では、遮蔽パターン１９ａは長手方向にわたって均一幅であるが、遮蔽パターン１９ａの幅が周期的、段階的あるいは連続的に変化する連続パターンとすることも可能である。
【００６２】
また、図示はしていないが、第２の実施形態において、第１の実施形態と同様に、紫外線吸収フィルムの積層工程、多面取りのための長手方向スリット工程や、枚葉の転写フィルム製造のための横幅方向スリット工程を行なうことができる。紫外線吸収フィルムの積層工程を行なう場合、転写フィルム１０の裏面側のみならず、遮光パターンが形成されていないカバーフィルム１８の上にも紫外線吸収フィルムを積層することができる。横幅方向スリット工程を行なう場合、巻取り部９を設ける代わりに、図５に示すようにカッター９１等を設けて、枚葉の転写フィルム９２を製造することができる。
【００６３】
また、図示はしていないが、第１及び第２の実施形態において、塗布工程の前に透明基材２の塗布面の付着ゴミ、埃等を取り除くウェブクリーナーや、塗布面の外観検査をするオンライン検査装置や、製品の巻き取り工程を補助するタッチロール等が必要に応じて設置されていても良い。
本発明により提供される、ロール状で供給されるインプリント用の転写フィルムは、例えば、図１５に示すような連続式のインプリント装置に適用することができる。
また、本発明により提供される、枚葉で供給されるインプリント用の転写フィルムは、例えば、特許文献３に示されているようなステップ送り方式のインプリント装置に適用することができる。
【００６４】
上記実施形態により製造された、インプリント用ロール状転写フィルム１０は、図１５に示すようなインプリント装置により微細凹凸形状を転写することができる。
インプリント装置は、本発明により製造されたカバーフィルム６，１８付きの転写フィルム１０を供給するロール状転写フィルム供給部２１と、カバーフィルム６，１８を塗布面から剥離するバックロール２２と、剥離したカバーフィルム６，１８を巻き取るカバーフィルム巻取り部２３と、表面に微細凹凸形状を持つ金属製の微細凹凸形状転写ロール２４と、微細凹凸形状転写ロール２４に転写フィルム１０を押しつけるニップロール２５と、バックロール２６と、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させる紫外線照射装置８と、微細凹凸形状転写フィルム巻取り部２７からなる。
【００６５】
ロール状転写フィルム供給部２１は、インプリントの原料となるカバーフィルム６，１８付きの転写フィルム１０が巻き取られたロール体と、このロール体を保持する軸等からなる。
剥離装置２２は、カバーフィルム６，１８を剥離するロールである。
カバーフィルム巻取り部２３は、前記剥離装置２２にて剥離したカバーフィルム６，１８をロール体に巻き取るための巻き取り軸と、ロール体の中心に来るコア材とから構成される。
【００６６】
微細凹凸形状転写ロール２４は、最終的に形成したい微細凹凸形状とは反転した形状を有する金属製ロールである。また、微細凹凸形状転写ロール２４は、形状転写後に転写フィルム１０の剥離を容易にするため、剥離処理がなされているものが好適に用いられる。
【００６７】
ニップロール２５とバックロール２６は、転写フィルム１０を微細凹凸形状転写ロール２４に押しつけ、微細凹凸形状転写ロール２４の形状を転写フィルム１０に写し取ることができるよう、加圧手段を備えている。
【００６８】
紫外線照射装置８は、転写フィルム１０が微細凹凸形状転写ロール２４に押しつけられている間に紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、転写した微細凹凸形状を安定化させるために設けられている。
本発明の転写フィルムが熱ナノインプリント法に用いられる場合には、紫外線照射装置の代わりに加熱装置が設けられる。この場合、微細凹凸形状を圧縮成形等で転写しながら、転写フィルムの硬化性樹脂組成物を熱硬化させることで、インプリントを行なう。
【００６９】
微細凹凸形状転写フィルム巻取り部２７は、上述の微細凹凸形状が転写された転写フィルム１０をロール体に巻き取るための巻き取り軸と、ロール体製品の中心に来るコア材とから構成される。
【００７０】
図１６は、従来の微細凹凸形状転写フィルムを製造するための製造工程の概略を示した図である。
透明基材２の供給部１と、塗布装置３と、乾燥装置４と、微細凹凸形状転写ロール２４と、ニップロール２５と、バックロール２６と、微細凹凸形状転写フィルム巻取り部２７から構成される。
紫外線硬化性樹脂組成物の成膜工程（塗布・乾燥工程）と、微細凹凸形状転写工程とが連続して設置されており、熟練した技術を要する成膜工程、及び微細凹凸形状転写工程を同時に行なう必要があり、技術的な難易度が非常に高いものであった。
【符号の説明】
【００７１】
１…基材供給部、２…透明基材（透明性を有する基材フィルム）、３…塗布装置、４…乾燥装置、５…カバーフィルム供給部、６…マスク付カバーフィルム、６ａ…遮蔽パターン（遮光パターン）、６ｂ…透過部分（透過パターン）、７…ニップロール、８…紫外線照射装置、９…転写フィルムの巻取り部、１０…転写フィルム、１１…硬化性樹脂薄膜層の未硬化部、１２…硬化性樹脂薄膜層の硬化部、１３…枚葉切断時のスリット位置、１４…多面取り時のスリット位置、１５…紫外線吸収フィルム供給部、１６…紫外線吸収フィルム、１７…ニップロール、１８…カバーフィルム、１９…円筒ドラム、１９ａ…遮蔽部分（遮蔽パターン）、１９ｂ…透過部分（透過パターン）、２０…基材フィルムの位置、２１…ロール状転写フィルム供給部、２２…剥離装置（バックロール）、２３…カバーフィルム巻取り部、２４…微細凹凸形状転写ロール、２５…ニップロール、２６…バックロール、２７…インプリント製品巻取り部、９１…カッター、９２…枚葉の転写フィルム。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、
少なくとも下記の（１）〜（３）の工程：
（１）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する合成樹脂フィルムからなり、一方の面にエネルギー線を遮蔽する遮蔽パターンを形成した、長尺のマスク付カバーフィルムを準備する工程、
（２）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層を形成する工程、
（３）前記硬化性樹脂薄膜層の上に前記マスク付カバーフィルムを貼り合せ、前記マスク付カバーフィルム側からエネルギー線を照射して、前記マスク付カバーフィルムの前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成する工程、
を含むことを特徴とするインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記遮蔽パターンの形成は、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する塗料またはインキを印刷する方法、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう剥離（リフトオフ）法により形成する方法、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する樹脂シートまたは金属箔を貼り合せた後にフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、のいずれかの方法によるものであることを特徴とする請求項１に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記遮蔽パターンの形状は、前記マスク付カバーフィルムの長手方向に離間して複数配置された不連続パターン、もしくは前記マスク付カバーフィルムの長手方向に連続した連続パターンのいずれかであることを特徴とする請求項１または２に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記マスク付カバーフィルムにおいて、前記硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理がなされていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項５】
更に、前記マスク付カバーフィルムの前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを長手方向に沿って切断するスリット工程、及び／又は該転写フィルムを横幅方向に沿って切断して行なう枚葉化工程を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項６】
微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、
少なくとも下記の（１）〜（２）の工程：
（１）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層を形成する工程、
（２）前記硬化性樹脂薄膜層の上に長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する合成樹脂フィルムからなるカバーフィルムを貼り合せ、エネルギー線を遮蔽する遮蔽パターンを形成した連続露光装置を用いてエネルギー線を照射し、前記連続露光装置の前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成する工程、
を含むことを特徴とするインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記連続露光装置は、エネルギー線を透過する材質からなる円筒ドラムと、前記円筒ドラムの外周壁に設けられた遮蔽パターン部分と、前記円筒ドラム内部に配設された露光用光源とを備え、前記円筒ドラムに巻き付けられた透明基材に対して円筒ドラムの内側からエネルギー線を照射する装置であることを特徴とする請求項６に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記遮蔽パターンの形状は、前記円筒ドラムの円周方向に離間して複数配置された不連続パターン、もしくは前記円筒ドラムの円周方向に連続した連続パターンのいずれかであることを特徴とする請求項７に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項９】
更に、前記連続露光装置の前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを長手方向に沿って切断するスリット工程、及び／又は該転写フィルムを横幅方向に沿って切断して行なう枚葉化工程を含むことを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記カバーフィルムにおいて、前記硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理がなされていることを特徴とする請求項６〜９のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項１１】
微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムであって、
透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、部分的に硬化された硬化性樹脂組成物の部分と未硬化の硬化性樹脂組成物の部分からなる硬化性樹脂薄膜層が形成されてなり、エネルギー線を遮蔽するパターンが形成された透明性を有する合成樹脂フィルムからなるマスク付カバーフィルムが積層されてなることを特徴とするインプリント用の転写フィルム。
【請求項１２】
微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムであって、
透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、エネルギー線を遮蔽するパターンが形成された連続露光装置により、部分的に硬化された硬化性樹脂組成物の部分と未硬化の硬化性樹脂組成物の部分からなる硬化性樹脂薄膜層が形成されてなり、透明性を有する合成樹脂フィルムからなるカバーフィルムが積層されてなることを特徴とするインプリント用の転写フィルム。
【請求項１３】
ロール状で供給されるインプリント用の転写フィルムであることを特徴とする請求項１１または１２に記載のインプリント用の転写フィルム。
【請求項１４】
長さ１〜１００００ｍの長尺状であって、ロール体に巻かれていることを特徴とする請求項１３に記載のインプリント用の転写フィルム。
【請求項１５】
枚葉で供給されるインプリント用の転写フィルムであることを特徴とする請求項１１または１２に記載のインプリント用の転写フィルム。
【請求項１６】
光学機能フィルム、半導体素子、精密機械部材、磁気記録媒体部材からなる群のいずれか一つを製造するのに用いられるものであることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルム。
【請求項１７】
前記基材フィルムには、インプリント装置のスタンパに位置合わせするための合せマークが２次元配置されてなることを特徴とする請求項１１〜１６のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルム。
【請求項１】
微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、
少なくとも下記の（１）〜（３）の工程：
（１）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する合成樹脂フィルムからなり、一方の面にエネルギー線を遮蔽する遮蔽パターンを形成した、長尺のマスク付カバーフィルムを準備する工程、
（２）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層を形成する工程、
（３）前記硬化性樹脂薄膜層の上に前記マスク付カバーフィルムを貼り合せ、前記マスク付カバーフィルム側からエネルギー線を照射して、前記マスク付カバーフィルムの前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成する工程、
を含むことを特徴とするインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記遮蔽パターンの形成は、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する塗料またはインキを印刷する方法、フォトレジストパターンまたは溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを遮蔽マスクとして用いて金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着を行った後に遮蔽マスクを除去して行なう剥離（リフトオフ）法により形成する方法、金属または金属酸化物のスパッタまたは真空蒸着により製膜された薄膜をフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、前記エネルギー線を遮蔽する機能を有する樹脂シートまたは金属箔を貼り合せた後にフォトリソ法によりエッチングして形成する方法、のいずれかの方法によるものであることを特徴とする請求項１に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記遮蔽パターンの形状は、前記マスク付カバーフィルムの長手方向に離間して複数配置された不連続パターン、もしくは前記マスク付カバーフィルムの長手方向に連続した連続パターンのいずれかであることを特徴とする請求項１または２に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記マスク付カバーフィルムにおいて、前記硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理がなされていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項５】
更に、前記マスク付カバーフィルムの前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを長手方向に沿って切断するスリット工程、及び／又は該転写フィルムを横幅方向に沿って切断して行なう枚葉化工程を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項６】
微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムの製造方法であって、
少なくとも下記の（１）〜（２）の工程：
（１）長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、未硬化で液状の硬化性樹脂組成物からなる硬化性樹脂薄膜層を形成する工程、
（２）前記硬化性樹脂薄膜層の上に長さ１〜１００００ｍの長尺の透明性を有する合成樹脂フィルムからなるカバーフィルムを貼り合せ、エネルギー線を遮蔽する遮蔽パターンを形成した連続露光装置を用いてエネルギー線を照射し、前記連続露光装置の前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成する工程、
を含むことを特徴とするインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記連続露光装置は、エネルギー線を透過する材質からなる円筒ドラムと、前記円筒ドラムの外周壁に設けられた遮蔽パターン部分と、前記円筒ドラム内部に配設された露光用光源とを備え、前記円筒ドラムに巻き付けられた透明基材に対して円筒ドラムの内側からエネルギー線を照射する装置であることを特徴とする請求項６に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記遮蔽パターンの形状は、前記円筒ドラムの円周方向に離間して複数配置された不連続パターン、もしくは前記円筒ドラムの円周方向に連続した連続パターンのいずれかであることを特徴とする請求項７に記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項９】
更に、前記連続露光装置の前記遮蔽パターンが形成されていない部分において前記硬化性樹脂を硬化させた転写フィルムを形成した後、硬化性樹脂を硬化させた部分において、該転写フィルムを長手方向に沿って切断するスリット工程、及び／又は該転写フィルムを横幅方向に沿って切断して行なう枚葉化工程を含むことを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記カバーフィルムにおいて、前記硬化性樹脂薄膜層との貼合面に剥離処理がなされていることを特徴とする請求項６〜９のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルムの製造方法。
【請求項１１】
微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムであって、
透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、部分的に硬化された硬化性樹脂組成物の部分と未硬化の硬化性樹脂組成物の部分からなる硬化性樹脂薄膜層が形成されてなり、エネルギー線を遮蔽するパターンが形成された透明性を有する合成樹脂フィルムからなるマスク付カバーフィルムが積層されてなることを特徴とするインプリント用の転写フィルム。
【請求項１２】
微細なパターンが形成されたスタンパと貼り合せた後、エネルギー線を照射して硬化性樹脂を硬化させてスタンパのパターンを転写するための、インプリント用の転写フィルムであって、
透明性を有する基材フィルムの一方の面上に、エネルギー線を遮蔽するパターンが形成された連続露光装置により、部分的に硬化された硬化性樹脂組成物の部分と未硬化の硬化性樹脂組成物の部分からなる硬化性樹脂薄膜層が形成されてなり、透明性を有する合成樹脂フィルムからなるカバーフィルムが積層されてなることを特徴とするインプリント用の転写フィルム。
【請求項１３】
ロール状で供給されるインプリント用の転写フィルムであることを特徴とする請求項１１または１２に記載のインプリント用の転写フィルム。
【請求項１４】
長さ１〜１００００ｍの長尺状であって、ロール体に巻かれていることを特徴とする請求項１３に記載のインプリント用の転写フィルム。
【請求項１５】
枚葉で供給されるインプリント用の転写フィルムであることを特徴とする請求項１１または１２に記載のインプリント用の転写フィルム。
【請求項１６】
光学機能フィルム、半導体素子、精密機械部材、磁気記録媒体部材からなる群のいずれか一つを製造するのに用いられるものであることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルム。
【請求項１７】
前記基材フィルムには、インプリント装置のスタンパに位置合わせするための合せマークが２次元配置されてなることを特徴とする請求項１１〜１６のいずれかに記載のインプリント用の転写フィルム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２０１０−２２５７８５（Ｐ２０１０−２２５７８５Ａ）
【公開日】平成２２年１０月７日（２０１０．１０．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−７０５９１（Ｐ２００９−７０５９１）
【出願日】平成２１年３月２３日（２００９．３．２３）
【出願人】（０００２２４１０１）藤森工業株式会社 (292)
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１０月７日（２０１０．１０．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月２３日（２００９．３．２３）
【出願人】（０００２２４１０１）藤森工業株式会社 (292)
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]