スラリー処理
本発明は、無機スラリー処理用組成物および本組成物を用いて無機スラリーを処理する方法に関し、該スラリーを実質的に均一な相中に保つ。本組成物はＴＨＰ＋塩ならびに：
（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；
（ｉｉ）不飽和酸のホスホン酸化オリゴマー；
（ｉｉｉ）不飽和酸のホモポリマー；および
（ｉｖ）ポリリン酸
からなる群から選択される分散剤
を含む。該ＴＨＰ＋塩は、好ましくはＴＨＰＳである。
（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；
（ｉｉ）不飽和酸のホスホン酸化オリゴマー；
（ｉｉｉ）不飽和酸のホモポリマー；および
（ｉｖ）ポリリン酸
からなる群から選択される分散剤
を含む。該ＴＨＰ＋塩は、好ましくはＴＨＰＳである。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機スラリー処理用組成物に関し、該組成物を用いて無機スラリーを処理する方法にも関し、該スラリーを実質的に均一な相中に保つ。
【０００２】
本発明は、特に炭酸カルシウム主体のスラリーに言及して、この中でも特に製紙プロセスにおいて使用されるものに言及して、本明細書中において記載されるが、これに限定されるものとして解釈されるべきではない。
【背景技術】
【０００３】
大部分の無機スラリーは、約７０重量％〜８０重量％の固形分を含有する。多くの無機スラリー、特に炭酸カルシウム主体のものは、バクテリアの混入に対して敏感であることが知られており、このような混入を最小限に抑えるために、該スラリーに１種以上の殺菌活性物質を加えることが、実施されてきた。
【０００４】
リン含有化合物、特にテトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（ＴＨＰ＋塩）は、効果的な殺菌剤であることが知られている。本出願人により実施された実験作業によれば、例えば、炭酸カルシウム主体のスラリーへのテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩（ＴＨＰＳ）溶液の添加により、バクテリア数が２時間で１０４個に抑えられるようになることが、示されている。
【０００５】
しかしながら、スラリーへのＴＨＰＳのみの添加が結果的に、該スラリーの瞬時の不均一な濃縮および凝集を引き起こすことも、知られている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本出願人は、ＴＨＰ＋塩および分散剤を含む組成物の使用が、バクテリアの混入に対する継続的な保存性を提供することを見出したが、一方同時に、該スラリーは実質的に均一な相中に保たれる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
従って、第１の態様において、本発明は無機スラリー処理用組成物を提供し、本組成物は：（ａ）テトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；
（ｉｉ）不飽和酸のホスホン酸化オリゴマー；
（ｉｉｉ）不飽和酸のホモポリマー；および
（ｉｖ）ポリリン酸
からなる群から選択される分散剤
を含む。
【０００８】
本発明によれば、該ＴＨＰ＋塩は、好ましくはテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩である。
【０００９】
あるいは、該ＴＨＰ＋塩は、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、同リン酸塩、同硝酸塩、または同蓚酸塩であってもよい。
【００１０】
（ｂ）（ｉ）タイプの分散剤の好ましい例は、ニトリロトリス（メチレンリン酸）のナトリウム塩、特に四ナトリウム塩のような、１つの３級窒素原子を持つ化合物である。
【００１１】
（ｂ）（ｉｉ）タイプの分散剤の好ましい例は、一般式Ｈ（ＣＨ２ＯＭ．ＣＨ２ＯＭ）ｎＰＯ３Ｍ２を持つオリゴマーであるものを包含し、式中、Ｍが、該オリゴマーが水に溶けるようなカチオン種であり、ｎが、１より大きな数である。
【００１２】
他の適切なオリゴマーは、本出願人の欧州特許第０ ４９１ ３９１号明細書に開示されるものである。
【００１３】
（ｂ）（ｉｉｉ）タイプの分散剤の好ましい例は、アクリル酸ホモポリマーであり、特に２０００〜５０００の範囲の分子量を持つホモポリマーである。
【００１４】
（ｂ）（ｉｖ）タイプの分散剤の好ましい例は、トリポリリン酸ナトリウムを包含する。
【００１５】
第２の態様において、本発明は無機スラリー処理方法を提供し、該スラリーを実質的に均一な相中に保ち、本方法は、本発明の第１の態様による組成物の有効量の、該スラリーへの添加を含む。
【００１６】
該無機スラリーは例えば、炭酸カルシウム主体のスラリーを含んでよい。
【００１７】
あるいは、該無機スラリーは、顔料スラリー、粘土スラリー、またはセメントスラリーを含んでよい。
【００１８】
好ましくは、前記組成物中における分散剤に対するＴＨＰ＋塩の比は（活性成分として）約２：１である。
【００１９】
適切には、該組成物は、該スラリー重量に基づいて１０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの範囲の量、例えば、該スラリー重量に基づいて約７５０ｐｐｍにて、該スラリーへと加えられてよい。
【実施例】
【００２０】
本発明を、以下の実施例により、例示する。
【００２１】
これら実施例において、Ｓｅｔａｃａｒｂとして商業上知られている７５％炭酸カルシウムスラリーを：
実施例１：ＴＨＰ＋塩のみ
実施例２：ＴＨＰ＋塩および（ｂ）（ｉ）タイプの分散剤
実施例３：ＴＨＰ＋塩および（ｂ）（ｉｉ）タイプの分散剤
を用いて、処理した。
【００２２】
使用された各添加剤の量およびその結果を、以下の表に記す。
【００２３】
【表１】
【００２４】
表の注釈
（ａ）テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩水溶液（約７５％）、ＴＯＬＣＩＤＥ（登録商標）−ＰＳ７５として市販。
（ｂ）（ｉ）ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）四ナトリウム塩水溶液、ＢＲＩＱＵＥＳＴ（登録商標）３０１−３２Ｓとして市販。
（ｂ）（ｉｉ）ポリアクリル酸ホモポリマー、分子量２０００〜５０００、ＢＥＶＡＬＯＩＤ（登録商標）２１１として市販。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機スラリー処理用組成物に関し、該組成物を用いて無機スラリーを処理する方法にも関し、該スラリーを実質的に均一な相中に保つ。
【０００２】
本発明は、特に炭酸カルシウム主体のスラリーに言及して、この中でも特に製紙プロセスにおいて使用されるものに言及して、本明細書中において記載されるが、これに限定されるものとして解釈されるべきではない。
【背景技術】
【０００３】
大部分の無機スラリーは、約７０重量％〜８０重量％の固形分を含有する。多くの無機スラリー、特に炭酸カルシウム主体のものは、バクテリアの混入に対して敏感であることが知られており、このような混入を最小限に抑えるために、該スラリーに１種以上の殺菌活性物質を加えることが、実施されてきた。
【０００４】
リン含有化合物、特にテトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（ＴＨＰ＋塩）は、効果的な殺菌剤であることが知られている。本出願人により実施された実験作業によれば、例えば、炭酸カルシウム主体のスラリーへのテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩（ＴＨＰＳ）溶液の添加により、バクテリア数が２時間で１０４個に抑えられるようになることが、示されている。
【０００５】
しかしながら、スラリーへのＴＨＰＳのみの添加が結果的に、該スラリーの瞬時の不均一な濃縮および凝集を引き起こすことも、知られている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本出願人は、ＴＨＰ＋塩および分散剤を含む組成物の使用が、バクテリアの混入に対する継続的な保存性を提供することを見出したが、一方同時に、該スラリーは実質的に均一な相中に保たれる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
従って、第１の態様において、本発明は無機スラリー処理用組成物を提供し、本組成物は：（ａ）テトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；
（ｉｉ）不飽和酸のホスホン酸化オリゴマー；
（ｉｉｉ）不飽和酸のホモポリマー；および
（ｉｖ）ポリリン酸
からなる群から選択される分散剤
を含む。
【０００８】
本発明によれば、該ＴＨＰ＋塩は、好ましくはテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩である。
【０００９】
あるいは、該ＴＨＰ＋塩は、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、同リン酸塩、同硝酸塩、または同蓚酸塩であってもよい。
【００１０】
（ｂ）（ｉ）タイプの分散剤の好ましい例は、ニトリロトリス（メチレンリン酸）のナトリウム塩、特に四ナトリウム塩のような、１つの３級窒素原子を持つ化合物である。
【００１１】
（ｂ）（ｉｉ）タイプの分散剤の好ましい例は、一般式Ｈ（ＣＨ２ＯＭ．ＣＨ２ＯＭ）ｎＰＯ３Ｍ２を持つオリゴマーであるものを包含し、式中、Ｍが、該オリゴマーが水に溶けるようなカチオン種であり、ｎが、１より大きな数である。
【００１２】
他の適切なオリゴマーは、本出願人の欧州特許第０ ４９１ ３９１号明細書に開示されるものである。
【００１３】
（ｂ）（ｉｉｉ）タイプの分散剤の好ましい例は、アクリル酸ホモポリマーであり、特に２０００〜５０００の範囲の分子量を持つホモポリマーである。
【００１４】
（ｂ）（ｉｖ）タイプの分散剤の好ましい例は、トリポリリン酸ナトリウムを包含する。
【００１５】
第２の態様において、本発明は無機スラリー処理方法を提供し、該スラリーを実質的に均一な相中に保ち、本方法は、本発明の第１の態様による組成物の有効量の、該スラリーへの添加を含む。
【００１６】
該無機スラリーは例えば、炭酸カルシウム主体のスラリーを含んでよい。
【００１７】
あるいは、該無機スラリーは、顔料スラリー、粘土スラリー、またはセメントスラリーを含んでよい。
【００１８】
好ましくは、前記組成物中における分散剤に対するＴＨＰ＋塩の比は（活性成分として）約２：１である。
【００１９】
適切には、該組成物は、該スラリー重量に基づいて１０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの範囲の量、例えば、該スラリー重量に基づいて約７５０ｐｐｍにて、該スラリーへと加えられてよい。
【実施例】
【００２０】
本発明を、以下の実施例により、例示する。
【００２１】
これら実施例において、Ｓｅｔａｃａｒｂとして商業上知られている７５％炭酸カルシウムスラリーを：
実施例１：ＴＨＰ＋塩のみ
実施例２：ＴＨＰ＋塩および（ｂ）（ｉ）タイプの分散剤
実施例３：ＴＨＰ＋塩および（ｂ）（ｉｉ）タイプの分散剤
を用いて、処理した。
【００２２】
使用された各添加剤の量およびその結果を、以下の表に記す。
【００２３】
【表１】
【００２４】
表の注釈
（ａ）テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩水溶液（約７５％）、ＴＯＬＣＩＤＥ（登録商標）−ＰＳ７５として市販。
（ｂ）（ｉ）ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）四ナトリウム塩水溶液、ＢＲＩＱＵＥＳＴ（登録商標）３０１−３２Ｓとして市販。
（ｂ）（ｉｉ）ポリアクリル酸ホモポリマー、分子量２０００〜５０００、ＢＥＶＡＬＯＩＤ（登録商標）２１１として市販。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）テトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；
（ｉｉ）不飽和酸のホスホン酸化オリゴマー；
（ｉｉｉ）不飽和酸のホモポリマー；および
（ｉｖ）ポリリン酸
からなる群から選択される分散剤
を含む、無機スラリー処理用組成物。
【請求項２】
前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、同リン酸塩、同硝酸塩、または同蓚酸塩である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
分散剤（ｂ（ｉ））が、１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
分散剤（ｂ（ｉ））が、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）のナトリウム塩である、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
前記塩が、四ナトリウム塩である、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
分散剤（ｂ（ｉｉ））が、マレイン酸のホスホン酸化オリゴマーである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記オリゴマーが、一般式Ｈ（ＣＨ２ＯＭ．ＣＨ２ＯＭ）ｎＰＯ３Ｍ２を持ち、式中、Ｍが、該オリゴマーが水に溶けるようなカチオン種であり、ｎが、１より大きな数である、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
分散剤（ｂ（ｉｉｉ））が、アクリル酸のホモポリマーである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ホモポリマーが、２０００〜５０００の範囲の分子量を持つ、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
分散剤（ｂ（ｉｖ））が、ナトリウムトリポリリン酸である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
無機スラリー処理方法であって、該スラリーを実質的に均一な相中に保ち、該スラリーへの請求項１〜１１のいずれか１項に記載の組成物の有効量の添加を含む方法。
【請求項１３】
前記組成物中における分散剤に対するＴＨＰ＋塩の比が（活性成分として）約２：１である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記組成物が、前記スラリー重量に基づいて１０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの範囲の量にて、該スラリーへと加えられる、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記組成物が、前記スラリー重量に基づいて約７５０ｐｐｍの量にて、該スラリーへと加えられる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記スラリーが、炭酸カルシウム主体のスラリーを含む、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記スラリーが、顔料スラリー、粘土スラリー、またはセメントスラリーを含む、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
実施例に関連して本明細書中において実質的に記載される、無機スラリー処理方法。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウムリン酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硝酸塩、およびテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム蓚酸塩から選択されるテトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；および
（ｉｉ）不飽和酸のホモポリマー
からなる群から選択される分散剤
を含む、無機スラリー処理用組成物の使用であって、該スラリーを実質的に均一な相中に保ち、該スラリーをバクテリアの混入に対して保存するための使用。
【請求項２】
前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩である、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、同リン酸塩、同硝酸塩、または同蓚酸塩である、請求項１に記載の使用。
【請求項４】
分散剤（ｂ（ｉ））が、１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の使用。
【請求項５】
分散剤（ｂ（ｉ））が、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）のナトリウム塩である、請求項４に記載の使用。
【請求項６】
前記塩が、四ナトリウム塩である、請求項５に記載の使用。
【請求項７】
分散剤（ｂ（ｉｉ））が、アクリル酸のホモポリマーである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の使用。
【請求項８】
前記ホモポリマーが、２０００〜５０００の範囲の分子量を持つ、請求項７に記載の使用。
【請求項９】
有効量の前記組成物が、前記スラリーへと添加される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１０】
前記組成物中における分散剤に対するＴＨＰ＋塩の比が（活性成分として）約２：１である、請求項９に記載の使用。
【請求項１１】
前記組成物が、前記スラリー重量に基づいて１０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの範囲の量にて、該スラリーへと加えられる、請求項９または１０に記載の使用。
【請求項１２】
前記組成物が、前記スラリー重量に基づいて約７５０ｐｐｍの量にて、該スラリーへと加えられる、請求項１１に記載の使用。
【請求項１３】
前記スラリーが、炭酸カルシウム主体のスラリーを含む、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１４】
前記スラリーが、顔料スラリー、粘土スラリー、またはセメントスラリーを含む、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１５】
（ａ）テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウムリン酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硝酸塩、およびテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム蓚酸塩から選択されるテトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）の四ナトリウム塩である分散剤
を含む、無機スラリー処理用組成物。
【請求項１６】
（ａ）テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウムリン酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硝酸塩、およびテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム蓚酸塩から選択されるテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）２，０００〜５，０００の範囲の分子量を持つアクリル酸ホモポリマーである分散剤
を含む、無機スラリー処理用組成物。
【請求項１７】
前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩である、請求項１５または１６に記載の組成物。
【請求項１８】
無機スラリー処理方法であって、該スラリーを実質的に均一な相中に保ち、該スラリーをバクテリアの混入に対して保存するための、該スラリーへの請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の組成物の有効量の添加を含む方法。
【請求項１】
（ａ）テトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；
（ｉｉ）不飽和酸のホスホン酸化オリゴマー；
（ｉｉｉ）不飽和酸のホモポリマー；および
（ｉｖ）ポリリン酸
からなる群から選択される分散剤
を含む、無機スラリー処理用組成物。
【請求項２】
前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、同リン酸塩、同硝酸塩、または同蓚酸塩である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
分散剤（ｂ（ｉ））が、１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
分散剤（ｂ（ｉ））が、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）のナトリウム塩である、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
前記塩が、四ナトリウム塩である、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
分散剤（ｂ（ｉｉ））が、マレイン酸のホスホン酸化オリゴマーである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記オリゴマーが、一般式Ｈ（ＣＨ２ＯＭ．ＣＨ２ＯＭ）ｎＰＯ３Ｍ２を持ち、式中、Ｍが、該オリゴマーが水に溶けるようなカチオン種であり、ｎが、１より大きな数である、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
分散剤（ｂ（ｉｉｉ））が、アクリル酸のホモポリマーである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ホモポリマーが、２０００〜５０００の範囲の分子量を持つ、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
分散剤（ｂ（ｉｖ））が、ナトリウムトリポリリン酸である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
無機スラリー処理方法であって、該スラリーを実質的に均一な相中に保ち、該スラリーへの請求項１〜１１のいずれか１項に記載の組成物の有効量の添加を含む方法。
【請求項１３】
前記組成物中における分散剤に対するＴＨＰ＋塩の比が（活性成分として）約２：１である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記組成物が、前記スラリー重量に基づいて１０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの範囲の量にて、該スラリーへと加えられる、請求項１２または１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記組成物が、前記スラリー重量に基づいて約７５０ｐｐｍの量にて、該スラリーへと加えられる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記スラリーが、炭酸カルシウム主体のスラリーを含む、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記スラリーが、顔料スラリー、粘土スラリー、またはセメントスラリーを含む、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
実施例に関連して本明細書中において実質的に記載される、無機スラリー処理方法。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウムリン酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硝酸塩、およびテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム蓚酸塩から選択されるテトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）（ｉ）少なくとも１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物；および
（ｉｉ）不飽和酸のホモポリマー
からなる群から選択される分散剤
を含む、無機スラリー処理用組成物の使用であって、該スラリーを実質的に均一な相中に保ち、該スラリーをバクテリアの混入に対して保存するための使用。
【請求項２】
前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩である、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、同リン酸塩、同硝酸塩、または同蓚酸塩である、請求項１に記載の使用。
【請求項４】
分散剤（ｂ（ｉ））が、１つの３級窒素原子を含有するホスホン酸化化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の使用。
【請求項５】
分散剤（ｂ（ｉ））が、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）のナトリウム塩である、請求項４に記載の使用。
【請求項６】
前記塩が、四ナトリウム塩である、請求項５に記載の使用。
【請求項７】
分散剤（ｂ（ｉｉ））が、アクリル酸のホモポリマーである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の使用。
【請求項８】
前記ホモポリマーが、２０００〜５０００の範囲の分子量を持つ、請求項７に記載の使用。
【請求項９】
有効量の前記組成物が、前記スラリーへと添加される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１０】
前記組成物中における分散剤に対するＴＨＰ＋塩の比が（活性成分として）約２：１である、請求項９に記載の使用。
【請求項１１】
前記組成物が、前記スラリー重量に基づいて１０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの範囲の量にて、該スラリーへと加えられる、請求項９または１０に記載の使用。
【請求項１２】
前記組成物が、前記スラリー重量に基づいて約７５０ｐｐｍの量にて、該スラリーへと加えられる、請求項１１に記載の使用。
【請求項１３】
前記スラリーが、炭酸カルシウム主体のスラリーを含む、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１４】
前記スラリーが、顔料スラリー、粘土スラリー、またはセメントスラリーを含む、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の使用。
【請求項１５】
（ａ）テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウムリン酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硝酸塩、およびテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム蓚酸塩から選択されるテトラキス（ヒドロキシ有機）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）の四ナトリウム塩である分散剤
を含む、無機スラリー処理用組成物。
【請求項１６】
（ａ）テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウムリン酸塩、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硝酸塩、およびテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム蓚酸塩から選択されるテトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム塩（以降ＴＨＰ＋塩）；ならびに
（ｂ）２，０００〜５，０００の範囲の分子量を持つアクリル酸ホモポリマーである分散剤
を含む、無機スラリー処理用組成物。
【請求項１７】
前記ＴＨＰ＋塩が、テトラキス（ヒドロキシメチル）ホスホニウム硫酸塩である、請求項１５または１６に記載の組成物。
【請求項１８】
無機スラリー処理方法であって、該スラリーを実質的に均一な相中に保ち、該スラリーをバクテリアの混入に対して保存するための、該スラリーへの請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の組成物の有効量の添加を含む方法。
【公表番号】特表２００６−５２１１９４（Ｐ２００６−５２１１９４Ａ）
【公表日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５０２１８３（Ｐ２００６−５０２１８３）
【出願日】平成１６年１月１２日（２００４．１．１２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＧＢ２００４／００００５６
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０６６７３１
【国際公開日】平成１６年８月１２日（２００４．８．１２）
【出願人】（５０２３２６９２３）ローディア コンシューマー スペシャルティーズ リミテッド (2)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年１月１２日（２００４．１．１２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＧＢ２００４／００００５６
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０６６７３１
【国際公開日】平成１６年８月１２日（２００４．８．１２）
【出願人】（５０２３２６９２３）ローディア コンシューマー スペシャルティーズ リミテッド (2)
【Ｆターム（参考）】
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