スリットノズル洗浄装置
【課題】 スリットノズルの洗浄及び乾燥までに要する時間を短縮させることができるスリットノズル洗浄装置を提供する 。
【解決手段】 スリットノズル６の長手方向に沿って移動可能とされたスリットノズル洗浄装置１０において、スリットノズル６に洗浄液を噴出する洗浄液噴出口１９を備えた洗浄液供給部１７と、スリットノズル６に付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材１６と、エア噴出口（２３，２３）を備えた乾燥部１８とが順に設けられている構成とする。
【解決手段】 スリットノズル６の長手方向に沿って移動可能とされたスリットノズル洗浄装置１０において、スリットノズル６に洗浄液を噴出する洗浄液噴出口１９を備えた洗浄液供給部１７と、スリットノズル６に付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材１６と、エア噴出口（２３，２３）を備えた乾燥部１８とが順に設けられている構成とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スリットノズルの長手方向に沿って移動しつつ、スリットノズルの吐出口廻りを洗浄するスリットノズル洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板等の基板上にレジスト膜やカラーフィルタとなる塗布液を一定幅で塗布する装置として従来からスリットノズルが用いられている。スリットノズルを用いれば塗布液の無駄をなくし且つ効率的に塗布を行えるが、幅広となる分ノズル先端の周辺部に塗布液の回り込み量も多く、これが乾燥すると大量の異物発生の原因となる。
【０００３】
そこで、特許文献１では、スリットノズルの長手方向に沿って移動する洗浄部に、洗浄液の噴出口とガスの噴出口を形成した構造が開示されている（図１２参照）。
【０００４】
また、特許文献２では、洗浄装置のＶ字状をなす受け面にノズルの下端部を臨ませ、この受け面に設けたリンスノズルからスリット近傍に洗浄液を噴出して洗浄する構造が開示されている（図８参照）。
【０００５】
また特許文献３では、スリットノズルの移動方向の終端部近傍に、プリディスペンス部、洗浄部及びディップ部を配置した構成が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−２６２１２７号公報
【特許文献２】特開平７−３２８５１５号公報
【特許文献３】特開２００５−２７０８４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、特許文献１では、洗浄装置がスリットノズルの長手方向に沿って移動しながら洗浄を行うが、洗浄装置のＶ字状をなす受け面において、下方に連続して洗浄ノズルが設けられ、上方に連続してガスノズルが設けられているため（図１２参照）、スリットノズルの長手方向に沿って洗浄装置が往復動することで洗浄と乾燥とを行うことが推測される。この場合、例えば往動の際に洗浄液を噴出して復動の際にガスで乾燥させることになるため、洗浄から乾燥までに要する時間が長くなってしまう。
【０００８】
また、特許文献２及び特許文献３に開示される装置では、洗浄装置がスリットノズル下端部全体を同時に洗浄するため、均一な洗浄を行うことが難しく且つ大量の洗浄液を必要とする。
【０００９】
上述した点に鑑み、本発明は、スリットノズルの洗浄及び乾燥までに要する時間を短縮させることができるスリットノズル洗浄装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係るスリットノズル洗浄装置は、スリットノズルの長手方向に沿って移動可能とされ、スリットノズルに洗浄液を噴出する洗浄液噴出口を備えた洗浄液供給部と、スリットノズルに付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材と、エア噴出口を備えた乾燥部とが順に設けられている構成とする。
【００１１】
本発明に係るスリットノズル洗浄装置によれば、スリットノズルの長手方向に沿って移動可能とされ、スリットノズルに洗浄液を噴出する洗浄液噴出口を備えた洗浄液供給部と、スリットノズルに付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材と、エア噴出口を備えた乾燥部とが順に設けられているので、洗浄装置がスリットノズルに沿って往動する間に洗浄、拭き取り及び乾燥までが完了する。これにより、例えばスリットノズルに沿って往復することで洗浄更には乾燥までが完了する構成の洗浄装置の場合に比べて、洗浄に要する時間を大幅に短縮させることができる。
【００１２】
上述したスリットノズルの洗浄装置では、乾燥部に設けたエア噴出口とは別に、洗浄液供給部にエア噴出口を設けることもできる、これにより、例えば洗浄液噴出口から噴出された洗浄液を下方に導くことも可能になり、洗浄液に一方向（下向き）の流れをつくることができる。従って洗浄効率を高めることができると共に洗浄液が周囲に飛び散ることを防ぐこともできる。
またこの構成において、洗浄液供給部に設けられたエア噴出口と乾燥部に設けられたエア噴出口とを長手方向において連続した構成とすることもできる。これにより、エア供給配管を１本にすることもでき装置構成を簡略化できる。
【００１３】
また、上述したスリットノズルの洗浄装置では、洗浄液噴出口の形状として、スリットノズルの長手方向に直行する方向を長軸方向とした長口（縦長）とすることもできる。これにより、スリットノズルにおいて洗浄液があたる面積を広げることができ、洗浄液による洗浄効果を更に高めることができる。従って、洗浄装置の長手方向へ沿った移動スピードを高めることも可能になり、例えば洗浄液を削減が可能になる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のスリットノズル洗浄装置によれば、洗浄時間を大幅に短縮させることが可能になる。従って、半導体製造装置をはじめとする液体塗布装置のノズルを洗浄する装置において、特に塗布液の凝固が問題となる装置に用いられて好適であり、洗浄作業頻度が低減することによる製造ライン全体の処理効率を向上させることが期待される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
図１は本発明に係るスリットノズル洗浄装置を適用した塗布装置の平面図、図２は図１に示した塗布装置の側面図、図３は同洗浄装置の全体斜視図、図４は同洗浄装置の全体斜視図である。
【００１６】
図１及び図２に示すように、塗布装置は基台１に一対の平行なレール（２，２）が設けられ、これらレール（２，２）の中間位置となる基台１上面の中央に基板Ｗの載置ステージ３が固定されている。そしてこの基板載置ステージ３を跨ぐように移動機構（４，４）がレール（２，２）間に走行可能に架け渡され、これら移動機構（４，４）間には前後にビーム（５，５）が架設されており、平面視で枠状をなすフレームが構成されている。更にビーム（５，５）の中間で移動機構（４，４）間に昇降装置を介してスリットノズル６が取り付けられている。
【００１７】
このような構成の塗布装置においては、本実施の形態のスリットノズル洗浄装置１０が基台１の一端側に配置されている。この洗浄装置１０は、基台１の幅方向に設けられたレール１１にプレート１２が係合され、プレート１２上に設けた洗浄用ブロック１３がスリットノズル６の長手方向に沿って往復動可能とされている。
【００１８】
洗浄用ブロック１３は、図３及び図４に示すように側面視でＶ字状をなす左右の受け面（１４，１４）が形成され、底部に洗浄液の排出口１５が形成されている。
【００１９】
そして、本実施の形態においては特に、このＶ字状をなす左右の受け面（１４，１４）に、洗浄液供給部１７、拭き取り部材１６、乾燥部１８が順に設けられている。
具体的には、洗浄装置１０が実際に移動した際に、先ずは洗浄、次に拭き取り、さらには乾燥が順に行われるような配置順であれば構わない。従って、洗浄装置１０のスタート位置を図３に示すような状態とし図中矢印方向（ＸからＹ）に移動させる場合は、図４に示すように左右の受け面（１４，１４）手前側から順に洗浄液供給部１７、拭き取り部材１６、乾燥部１８を設けるようにしている。つまり、洗浄装置１０の進行方向を基準として、拭き取り部材１６の前段に洗浄液供給部１７が設けられ、拭き取り部材１６の後段に乾燥部１８が設けられている。これにより、洗浄装置１０が実際に移動した場合は、行きだけの移動でスリットノズル６に対して洗浄、拭き取り、乾燥を順に行うことができる。
【００２０】
なお、洗浄装置１０のスタート位置を図３に示す場合から逆とした場合は（ＹからＸ）、左右の受け面（１４，１４）において、拭き取り部材１６を挟んでの洗浄液供給部１７と乾燥部１８の配置位置が図４に示す状態から逆となる。
【００２１】
洗浄液供給部１７は、Ｖ字状をなす左右の受け面（１４，１４）にスリットノズル６に洗浄液を噴出する洗浄液噴出口１９が複数設けられている。図示の例では左右にそれぞれ２つの口を設けているが、噴出口１９の個数はこれに限定されない。
【００２２】
洗浄液噴出口１９は、その形状がスリットノズル６の長手方向に直行する方向を長軸方向とした長口（縦長形状）とされている。これにより、スリットノズル６の吐出口近傍の広範囲にわたって洗浄液を強く当てることができ、洗浄効率を向上させることができる。そしてこのように洗浄効果が向上したことから、洗浄装置１０の長手方向へ沿った移動スピードも高めることも可能になり例えば洗浄液削減も可能になる。
【００２３】
また洗浄液噴出口１９の上方にはエア噴出口（２０，２０）が開口されている。これにより、スリットノズル６が洗浄装置１０のＶ字状をなす左右の受け面（１４，１４）内に収まった状態で実際にエアを噴出させた場合、洗浄液噴出口１９から下方の排出口１５へと向かう一方向（下方）のエアの流れを形成することができ、スリットノズル（例えばスリットノズルの吐出口の廻り）６に付着した洗浄液が上方へ舞い上がることなく下方の排出口１５へと導くことができる。
【００２４】
拭き取り部材１６は、左右の受け面（１４，１４）の長さ方向の略中間位置に設けられており、例えばスリットノズル（スリットノズルの吐出口の廻り）６に付着した洗浄液を拭き取るためのものである。拭き取り部材１６としては、例えばフェルトやスポンジ等を用いることができる。なお、拭き取り部材１６は、Ｖ字状をなす左右の受け面（１４，１４）において下方（排出口１５の近傍）に設けられている。
なお、図４に示す場合では、排出口１５を挟んで左右の拭き取り部材（１６，１６）は長さ方向に若干ずらして取り付けられている。即ち左右対象に取り付けないことでスリットノズル６を拭き取る際の干渉を防いでいる。
【００２５】
乾燥部１８では左右の受け面（１４，１４）の上方にスリット状に形成された乾燥用のエア噴出口（２３，２３）が開口している。これにより、スリットノズル（例えばスリットノズルの吐出口の廻り）６にエアを吹きかけることができ、スリットノズル６を乾燥させることができる。
【００２６】
なお、本実施の形態のスリットノズル洗浄装置１０では、上述した洗浄液噴出口１９の上方に設けられた洗浄液供給部１７のエア噴出口（２０，２０）と、乾燥部１８の上方に設けられたエア噴出口（２３，２３）とを連続せず独立して設け、別々のエア供給管２１，２２を用いて異なる圧力のエア（後述するように乾燥部１８での噴出圧を大きくする）を供給するようにしているが、それぞれのエア噴出口が連続した構成とすることもできる。この場合は、エア供給配管を１本にすることができ装置構造を簡素化することができる。
【００２７】
因みに本実施の形態のようにそれぞれのエア噴出口を独立して設けた場合は、例えば洗浄液供給部１７のエア噴出口（２０，２０）からのエアの噴出圧は、洗浄液噴出口１９から噴出される洗浄液に方向性をもたせる程度の小さいエア圧とし、乾燥部１８のエア噴出口（２３，２３）からのエア噴出圧は、乾燥を促すために大きいエア圧とすることができる。すなわちエア圧をそれぞれで調整することが可能になる。
【００２８】
なお、洗浄液供給部１７のエア噴出口（２０，２０）及び乾燥部のエア噴出口（２３，２３）を連続させた場合はもちろんであるが、本実施の形態のようにそれぞれが独立して設けられている場合であっても、図４に示すように、Ｖ字状をなす左右の受け面（１４，１４）において拭き取り部材１６の上方にはエア噴出口は延在している。しかしエア噴出口の形状、長さ、形成位置等はこれに限定されない。
【００２９】
また、本実施の形態のスリットノズル洗浄装置１０では、Ｖ字状をなす左右の受け面（１４，１４）に対して、スリットノズル６の高さ位置を垂直方向で変えることもできる。これにより、スリットノズル６に対して例えば拭き取り部材を接触させることなく移動でき、スリットノズル６に対して洗浄と乾燥のみを行うこともできる。
【００３０】
次に、スリットノズル洗浄装置の実際の動作を説明する。
塗布が終了したスリットノズル６の下端の吐出口を洗浄するには、先ず、洗浄装置１０を図１に示すスタート位置に待機させておき、移動機構４によってスリットノズル６を洗浄装置１０の上方まで移動させる。
【００３１】
次いで、スリットノズル６を下降させて、下端の吐出口を拭き取り部材（１６，１６）に当接させる。この後、洗浄液噴出口１９から洗浄液をスリットノズル６の吐出口廻りに吹き付けると共にエア噴出口２０からエアを噴出させた状態で、噴出洗浄装置１０をレール１１に沿って一端から他端に向けて（ＸからＹ）移動させる。
これにより、スリットノズル６の洗浄液供給部１７に臨む部分は洗浄液により洗浄され、洗浄された部分は洗浄装置１０が移動することで拭き取り部材（１６，１６）によって拭き取られ、更に洗浄液が拭き取られた部分は洗浄装置１０が移動することで乾燥部１８に臨みエアにより乾燥される。
【００３２】
このように本実施の形態のスリットノズル洗浄装置１０によれば、スリットノズル６に沿った行きだけの移動だけで、スリットノズル６の吐出口廻りを洗浄及び乾燥させることが可能になり、例えば行き及び帰りの移動により洗浄及び乾燥を行う洗浄装置の場合に比べて洗浄時間を大幅に短縮することができる。
【００３３】
上述した実施の形態のスリットノズル洗浄装置１０では、拭き取り部材（１６，１６）としてフェルトやスポンジを用いた場合を説明したが、これ以外にもゴムや樹脂等を用いることもできる。
【００３４】
なお、本発明は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明に係る洗浄装置を適用した塗布装置の平面図。
【図２】図１に示した塗布装置の側面図。
【図３】同洗浄装置の全体斜視図。
【図４】同洗浄装置の全体斜視図。
【符号の説明】
【００３６】
１…基台、２…レール、３…基板載置ステージ、４…移動機構、５…ビーム、６…スリットノズル、１０…洗浄装置、１１…レール、１２…プレート、１３…洗浄用ブロック、１４…受け面、１５…排出口、１６…拭き取り部材、１７…洗浄液供給部、１８…乾燥部、１９…洗浄液噴出口、２０…エア噴出口（洗浄液供給部）、２１，２２…エア供給管、２３…エア噴出口（乾燥部）、Ｗ…基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スリットノズルの長手方向に沿って移動しつつ、スリットノズルの吐出口廻りを洗浄するスリットノズル洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板等の基板上にレジスト膜やカラーフィルタとなる塗布液を一定幅で塗布する装置として従来からスリットノズルが用いられている。スリットノズルを用いれば塗布液の無駄をなくし且つ効率的に塗布を行えるが、幅広となる分ノズル先端の周辺部に塗布液の回り込み量も多く、これが乾燥すると大量の異物発生の原因となる。
【０００３】
そこで、特許文献１では、スリットノズルの長手方向に沿って移動する洗浄部に、洗浄液の噴出口とガスの噴出口を形成した構造が開示されている（図１２参照）。
【０００４】
また、特許文献２では、洗浄装置のＶ字状をなす受け面にノズルの下端部を臨ませ、この受け面に設けたリンスノズルからスリット近傍に洗浄液を噴出して洗浄する構造が開示されている（図８参照）。
【０００５】
また特許文献３では、スリットノズルの移動方向の終端部近傍に、プリディスペンス部、洗浄部及びディップ部を配置した構成が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−２６２１２７号公報
【特許文献２】特開平７−３２８５１５号公報
【特許文献３】特開２００５−２７０８４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、特許文献１では、洗浄装置がスリットノズルの長手方向に沿って移動しながら洗浄を行うが、洗浄装置のＶ字状をなす受け面において、下方に連続して洗浄ノズルが設けられ、上方に連続してガスノズルが設けられているため（図１２参照）、スリットノズルの長手方向に沿って洗浄装置が往復動することで洗浄と乾燥とを行うことが推測される。この場合、例えば往動の際に洗浄液を噴出して復動の際にガスで乾燥させることになるため、洗浄から乾燥までに要する時間が長くなってしまう。
【０００８】
また、特許文献２及び特許文献３に開示される装置では、洗浄装置がスリットノズル下端部全体を同時に洗浄するため、均一な洗浄を行うことが難しく且つ大量の洗浄液を必要とする。
【０００９】
上述した点に鑑み、本発明は、スリットノズルの洗浄及び乾燥までに要する時間を短縮させることができるスリットノズル洗浄装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係るスリットノズル洗浄装置は、スリットノズルの長手方向に沿って移動可能とされ、スリットノズルに洗浄液を噴出する洗浄液噴出口を備えた洗浄液供給部と、スリットノズルに付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材と、エア噴出口を備えた乾燥部とが順に設けられている構成とする。
【００１１】
本発明に係るスリットノズル洗浄装置によれば、スリットノズルの長手方向に沿って移動可能とされ、スリットノズルに洗浄液を噴出する洗浄液噴出口を備えた洗浄液供給部と、スリットノズルに付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材と、エア噴出口を備えた乾燥部とが順に設けられているので、洗浄装置がスリットノズルに沿って往動する間に洗浄、拭き取り及び乾燥までが完了する。これにより、例えばスリットノズルに沿って往復することで洗浄更には乾燥までが完了する構成の洗浄装置の場合に比べて、洗浄に要する時間を大幅に短縮させることができる。
【００１２】
上述したスリットノズルの洗浄装置では、乾燥部に設けたエア噴出口とは別に、洗浄液供給部にエア噴出口を設けることもできる、これにより、例えば洗浄液噴出口から噴出された洗浄液を下方に導くことも可能になり、洗浄液に一方向（下向き）の流れをつくることができる。従って洗浄効率を高めることができると共に洗浄液が周囲に飛び散ることを防ぐこともできる。
またこの構成において、洗浄液供給部に設けられたエア噴出口と乾燥部に設けられたエア噴出口とを長手方向において連続した構成とすることもできる。これにより、エア供給配管を１本にすることもでき装置構成を簡略化できる。
【００１３】
また、上述したスリットノズルの洗浄装置では、洗浄液噴出口の形状として、スリットノズルの長手方向に直行する方向を長軸方向とした長口（縦長）とすることもできる。これにより、スリットノズルにおいて洗浄液があたる面積を広げることができ、洗浄液による洗浄効果を更に高めることができる。従って、洗浄装置の長手方向へ沿った移動スピードを高めることも可能になり、例えば洗浄液を削減が可能になる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のスリットノズル洗浄装置によれば、洗浄時間を大幅に短縮させることが可能になる。従って、半導体製造装置をはじめとする液体塗布装置のノズルを洗浄する装置において、特に塗布液の凝固が問題となる装置に用いられて好適であり、洗浄作業頻度が低減することによる製造ライン全体の処理効率を向上させることが期待される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
図１は本発明に係るスリットノズル洗浄装置を適用した塗布装置の平面図、図２は図１に示した塗布装置の側面図、図３は同洗浄装置の全体斜視図、図４は同洗浄装置の全体斜視図である。
【００１６】
図１及び図２に示すように、塗布装置は基台１に一対の平行なレール（２，２）が設けられ、これらレール（２，２）の中間位置となる基台１上面の中央に基板Ｗの載置ステージ３が固定されている。そしてこの基板載置ステージ３を跨ぐように移動機構（４，４）がレール（２，２）間に走行可能に架け渡され、これら移動機構（４，４）間には前後にビーム（５，５）が架設されており、平面視で枠状をなすフレームが構成されている。更にビーム（５，５）の中間で移動機構（４，４）間に昇降装置を介してスリットノズル６が取り付けられている。
【００１７】
このような構成の塗布装置においては、本実施の形態のスリットノズル洗浄装置１０が基台１の一端側に配置されている。この洗浄装置１０は、基台１の幅方向に設けられたレール１１にプレート１２が係合され、プレート１２上に設けた洗浄用ブロック１３がスリットノズル６の長手方向に沿って往復動可能とされている。
【００１８】
洗浄用ブロック１３は、図３及び図４に示すように側面視でＶ字状をなす左右の受け面（１４，１４）が形成され、底部に洗浄液の排出口１５が形成されている。
【００１９】
そして、本実施の形態においては特に、このＶ字状をなす左右の受け面（１４，１４）に、洗浄液供給部１７、拭き取り部材１６、乾燥部１８が順に設けられている。
具体的には、洗浄装置１０が実際に移動した際に、先ずは洗浄、次に拭き取り、さらには乾燥が順に行われるような配置順であれば構わない。従って、洗浄装置１０のスタート位置を図３に示すような状態とし図中矢印方向（ＸからＹ）に移動させる場合は、図４に示すように左右の受け面（１４，１４）手前側から順に洗浄液供給部１７、拭き取り部材１６、乾燥部１８を設けるようにしている。つまり、洗浄装置１０の進行方向を基準として、拭き取り部材１６の前段に洗浄液供給部１７が設けられ、拭き取り部材１６の後段に乾燥部１８が設けられている。これにより、洗浄装置１０が実際に移動した場合は、行きだけの移動でスリットノズル６に対して洗浄、拭き取り、乾燥を順に行うことができる。
【００２０】
なお、洗浄装置１０のスタート位置を図３に示す場合から逆とした場合は（ＹからＸ）、左右の受け面（１４，１４）において、拭き取り部材１６を挟んでの洗浄液供給部１７と乾燥部１８の配置位置が図４に示す状態から逆となる。
【００２１】
洗浄液供給部１７は、Ｖ字状をなす左右の受け面（１４，１４）にスリットノズル６に洗浄液を噴出する洗浄液噴出口１９が複数設けられている。図示の例では左右にそれぞれ２つの口を設けているが、噴出口１９の個数はこれに限定されない。
【００２２】
洗浄液噴出口１９は、その形状がスリットノズル６の長手方向に直行する方向を長軸方向とした長口（縦長形状）とされている。これにより、スリットノズル６の吐出口近傍の広範囲にわたって洗浄液を強く当てることができ、洗浄効率を向上させることができる。そしてこのように洗浄効果が向上したことから、洗浄装置１０の長手方向へ沿った移動スピードも高めることも可能になり例えば洗浄液削減も可能になる。
【００２３】
また洗浄液噴出口１９の上方にはエア噴出口（２０，２０）が開口されている。これにより、スリットノズル６が洗浄装置１０のＶ字状をなす左右の受け面（１４，１４）内に収まった状態で実際にエアを噴出させた場合、洗浄液噴出口１９から下方の排出口１５へと向かう一方向（下方）のエアの流れを形成することができ、スリットノズル（例えばスリットノズルの吐出口の廻り）６に付着した洗浄液が上方へ舞い上がることなく下方の排出口１５へと導くことができる。
【００２４】
拭き取り部材１６は、左右の受け面（１４，１４）の長さ方向の略中間位置に設けられており、例えばスリットノズル（スリットノズルの吐出口の廻り）６に付着した洗浄液を拭き取るためのものである。拭き取り部材１６としては、例えばフェルトやスポンジ等を用いることができる。なお、拭き取り部材１６は、Ｖ字状をなす左右の受け面（１４，１４）において下方（排出口１５の近傍）に設けられている。
なお、図４に示す場合では、排出口１５を挟んで左右の拭き取り部材（１６，１６）は長さ方向に若干ずらして取り付けられている。即ち左右対象に取り付けないことでスリットノズル６を拭き取る際の干渉を防いでいる。
【００２５】
乾燥部１８では左右の受け面（１４，１４）の上方にスリット状に形成された乾燥用のエア噴出口（２３，２３）が開口している。これにより、スリットノズル（例えばスリットノズルの吐出口の廻り）６にエアを吹きかけることができ、スリットノズル６を乾燥させることができる。
【００２６】
なお、本実施の形態のスリットノズル洗浄装置１０では、上述した洗浄液噴出口１９の上方に設けられた洗浄液供給部１７のエア噴出口（２０，２０）と、乾燥部１８の上方に設けられたエア噴出口（２３，２３）とを連続せず独立して設け、別々のエア供給管２１，２２を用いて異なる圧力のエア（後述するように乾燥部１８での噴出圧を大きくする）を供給するようにしているが、それぞれのエア噴出口が連続した構成とすることもできる。この場合は、エア供給配管を１本にすることができ装置構造を簡素化することができる。
【００２７】
因みに本実施の形態のようにそれぞれのエア噴出口を独立して設けた場合は、例えば洗浄液供給部１７のエア噴出口（２０，２０）からのエアの噴出圧は、洗浄液噴出口１９から噴出される洗浄液に方向性をもたせる程度の小さいエア圧とし、乾燥部１８のエア噴出口（２３，２３）からのエア噴出圧は、乾燥を促すために大きいエア圧とすることができる。すなわちエア圧をそれぞれで調整することが可能になる。
【００２８】
なお、洗浄液供給部１７のエア噴出口（２０，２０）及び乾燥部のエア噴出口（２３，２３）を連続させた場合はもちろんであるが、本実施の形態のようにそれぞれが独立して設けられている場合であっても、図４に示すように、Ｖ字状をなす左右の受け面（１４，１４）において拭き取り部材１６の上方にはエア噴出口は延在している。しかしエア噴出口の形状、長さ、形成位置等はこれに限定されない。
【００２９】
また、本実施の形態のスリットノズル洗浄装置１０では、Ｖ字状をなす左右の受け面（１４，１４）に対して、スリットノズル６の高さ位置を垂直方向で変えることもできる。これにより、スリットノズル６に対して例えば拭き取り部材を接触させることなく移動でき、スリットノズル６に対して洗浄と乾燥のみを行うこともできる。
【００３０】
次に、スリットノズル洗浄装置の実際の動作を説明する。
塗布が終了したスリットノズル６の下端の吐出口を洗浄するには、先ず、洗浄装置１０を図１に示すスタート位置に待機させておき、移動機構４によってスリットノズル６を洗浄装置１０の上方まで移動させる。
【００３１】
次いで、スリットノズル６を下降させて、下端の吐出口を拭き取り部材（１６，１６）に当接させる。この後、洗浄液噴出口１９から洗浄液をスリットノズル６の吐出口廻りに吹き付けると共にエア噴出口２０からエアを噴出させた状態で、噴出洗浄装置１０をレール１１に沿って一端から他端に向けて（ＸからＹ）移動させる。
これにより、スリットノズル６の洗浄液供給部１７に臨む部分は洗浄液により洗浄され、洗浄された部分は洗浄装置１０が移動することで拭き取り部材（１６，１６）によって拭き取られ、更に洗浄液が拭き取られた部分は洗浄装置１０が移動することで乾燥部１８に臨みエアにより乾燥される。
【００３２】
このように本実施の形態のスリットノズル洗浄装置１０によれば、スリットノズル６に沿った行きだけの移動だけで、スリットノズル６の吐出口廻りを洗浄及び乾燥させることが可能になり、例えば行き及び帰りの移動により洗浄及び乾燥を行う洗浄装置の場合に比べて洗浄時間を大幅に短縮することができる。
【００３３】
上述した実施の形態のスリットノズル洗浄装置１０では、拭き取り部材（１６，１６）としてフェルトやスポンジを用いた場合を説明したが、これ以外にもゴムや樹脂等を用いることもできる。
【００３４】
なお、本発明は上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明に係る洗浄装置を適用した塗布装置の平面図。
【図２】図１に示した塗布装置の側面図。
【図３】同洗浄装置の全体斜視図。
【図４】同洗浄装置の全体斜視図。
【符号の説明】
【００３６】
１…基台、２…レール、３…基板載置ステージ、４…移動機構、５…ビーム、６…スリットノズル、１０…洗浄装置、１１…レール、１２…プレート、１３…洗浄用ブロック、１４…受け面、１５…排出口、１６…拭き取り部材、１７…洗浄液供給部、１８…乾燥部、１９…洗浄液噴出口、２０…エア噴出口（洗浄液供給部）、２１，２２…エア供給管、２３…エア噴出口（乾燥部）、Ｗ…基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スリットノズルの長手方向に沿って移動可能とされたスリットノズル洗浄装置において、スリットノズルに洗浄液を噴出する洗浄液噴出口を備えた洗浄液供給部と、前記スリットノズルに付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材と、エア噴出口を備えた乾燥部とが順に設けられていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄装置の進行方向を基準として、前記拭き取り部材の前段に前記洗浄液供給部が設けられ、前記拭き取り部材の後段に前記乾燥部が設けられていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【請求項３】
請求項１に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄液供給部にはエア噴出口が設けられていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【請求項４】
請求項３に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄液供給部のエア噴出口と前記乾燥部のエア噴出口とは長手方向において連続して形成されていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【請求項５】
請求項１に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄液噴出口はスリットノズルの長手方向に直行する方向を長軸方向とした長口であることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【請求項６】
請求項１に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄液供給口、前記拭き取り部材、前記乾燥部のエア供給口は、前記スリットノズルの下端部が臨むＶ字状受け面を構成する左右傾斜面に設けられていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【請求項１】
スリットノズルの長手方向に沿って移動可能とされたスリットノズル洗浄装置において、スリットノズルに洗浄液を噴出する洗浄液噴出口を備えた洗浄液供給部と、前記スリットノズルに付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材と、エア噴出口を備えた乾燥部とが順に設けられていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄装置の進行方向を基準として、前記拭き取り部材の前段に前記洗浄液供給部が設けられ、前記拭き取り部材の後段に前記乾燥部が設けられていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【請求項３】
請求項１に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄液供給部にはエア噴出口が設けられていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【請求項４】
請求項３に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄液供給部のエア噴出口と前記乾燥部のエア噴出口とは長手方向において連続して形成されていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【請求項５】
請求項１に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄液噴出口はスリットノズルの長手方向に直行する方向を長軸方向とした長口であることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【請求項６】
請求項１に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄液供給口、前記拭き取り部材、前記乾燥部のエア供給口は、前記スリットノズルの下端部が臨むＶ字状受け面を構成する左右傾斜面に設けられていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００７−２３７１２２（Ｐ２００７−２３７１２２Ａ）
【公開日】平成１９年９月２０日（２００７．９．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−６６４０４（Ｐ２００６−６６４０４）
【出願日】平成１８年３月１０日（２００６．３．１０）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月２０日（２００７．９．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年３月１０日（２００６．３．１０）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】
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