【課題】騒音が小さく、エネルギー浪費量が少なく、再汚染の可能性が低く、幅広の鋼板に適用可能であり、かつ長期間の連続使用にも耐えられる板表面の液体除去装置及び鋼板表面の液体の除去方法を提供する。
【解決手段】板表面１１ａに付着した液体１２を吸収可能な多孔質弾性体層２がロール面３ａに備えられた水切ロール３と、多孔質弾性体層２を押し潰すように水切ロール３に押し当てられる絞りロール４と、を具備しており、絞りロール４によって多孔質弾性体層２から絞り出された液体１２が、絞りロール４及び水切ロール３の回転軸方向に沿って排出されるように構成された鋼板表面の液体除去装置１を採用する。 （もっと読む）

【課題】システム全体の構造の簡略化、小型化を図り、ワーク表裏面の水分を確実に除去して歩留まりや生産性の向上を可能にする。
【解決手段】高圧エアを噴射ノズルからワークＷの一面方向に噴射させる噴射ユニット２０２Ａ，２０２Ｂ、及び、ワークＷの一面に到達した高圧エアを吸引ノズルから吸引する吸引ユニット２０３Ａ，２０３Ｂを有する水切りヘッド２００Ａ，２００Ｂと、高圧エアを噴射ユニットに供給する供給側エア流路１０３，１０６Ａ，１０６Ｂと、吸引した高圧エアを回収する回収側エア流路１０７Ａ，１０７Ｂ，１０８と、ワークＷを搬送する手段と、を備え、ワークＷが水切りヘッド２００Ａ，２００Ｂの近傍を順次通過するように搬送することにより、高圧エアによってワークＷの表裏面から引き剥がされた水分を高圧エアと共に、前記吸引ノズル及び回収側エア流路を介して回収する。 （もっと読む）

【課題】 しつこい汚れに対しても、生地を傷めることなく比較的短時間でクリーニングできるようにする。
【解決手段】 ベッド１のある場所において、そのスプリングマットレス２の表面を作業者ｈが持ち運び可能な吸引装置で吸引して塵・埃を除去し、その塵・埃が除去されたスプリングマットレス２の表面に洗浄剤を散布し、その洗浄剤が散布されたスプリングマットレス２の表面に作業者ｈが持ち運び可能なスチーム洗浄機５でスチーム５ａを噴射し、そのスチーム５ａが噴射されたスプリングマットレス２の表面にハンドポリシャー６で振動を繰り返し加えて汚れを分解し、その汚れが分解されたスプリングマットレス２の表面を作業者ｈが持ち運び可能な汚水吸引装置で吸引して汚水を除去し、その汚水が除去されたスプリングマットレス２の表面を作業者ｈが持ち運び可能な乾燥装置で赤外線を照射して乾燥する。 （もっと読む）

【課題】排気効率およびスペース効率を改善し、液切り乾燥直後の乾いた基板にミストが付着するのを十全に防止する。
【解決手段】上部および下部エアナイフ１２２Ｕ，１２２Ｌがそれらの間を通過する基板Ｇに対してナイフ状の鋭利な高圧エア流を吹き付けることにより、両エアナイフ１２２Ｕ，１２２Ｌの上流側の空間に多量のミストが発生する。基板Ｇの上で発生したミストの大部分は、下流側のＦＦＵ１３６から隙間Ｋを通って廻ってくる空気および入口１１８から入ってくる空気と一緒に上部排気口１２４に吸い込まれる。基板Ｇの下で発生したミストは、その全部がＦＦＵ１３６から廻ってくる空気および入口１１８から入ってくる空気と一緒に下部排気口１２６，１２８に吸い込まれる。 （もっと読む）

【課題】基板の表面の洗浄エリアに基板の回転速度とロール洗浄部材の回転速度の相対速度がゼロとなる点（領域）が存在しても、基板の表面をその全域に亘ってより均一に洗浄できるようにする。
【解決手段】基板Ｗの直径方向に沿って延びるロール洗浄部材１６を基板Ｗの表面に接触させつつ、ロール洗浄部材１６と基板Ｗを共に回転させて基板Ｗの表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、ロール洗浄部材１６及び基板Ｗの少なくとも一方の回転速度または基板の回転方向をスクラブ洗浄処理中に変更する。 （もっと読む）

【課題】複数のエアノズルの位置調整を、簡単な操作で精度良く確実に行うことができるようにする。
【解決手段】エア吹き付け装置１００は、複数のエアノズル１０３を有し、エアノズル１０３の先端が同心円上に配置される。そしてエアノズル１０３の先端と同心円の中心との半径方向の距離を一括して変更するエアノズル位置変更機構を有する。エアノズル位置変更機構は、回動プレート１０７が外力により回動することにより、エアノズル１０３を固定する複数のノズル固定ブロック１０２が同心円の半径方向に移動し、エアノズル１０３の先端と同心円の中心との半径方向の距離を一括して変更する。 （もっと読む）

【課題】ハニカム構造体封口用マスクを良好に洗浄することが可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る洗浄方法は、上面１ａから下面１ｂにかけて厚さ方向Ｄ１に貫通している複数の貫通孔５を有するマスク１の洗浄方法であって、マスク１を厚さ方向Ｄ１に直交する搬送方向Ｄ２に搬送する工程と、搬送されるマスク１の上面１ａ及び下面１ｂに対し、厚さ方向Ｄ１に対して搬送方向Ｄ２の上流側に傾斜する方向Ｄ６に洗浄液３４を供給する洗浄工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】洗浄起因の不良を抑制した電子写真用ローラの製造方法、および、円筒体表面の液体を効率的に除去することのできる乾燥方法を提供する。
【解決手段】芯金と、芯金の両端部の周面以外の周面を被覆する１層以上の弾性層とを有する電子写真用ローラの製造方法であって、（１）芯金の周面に形成した弾性層の周面を液体で洗浄する工程と、（２）弾性層の周面を乾燥させる工程と、を有し、工程（２）が、弾性層の周囲に気体の渦流を生じさせることにより、弾性層の周面に付着した液体を除去する工程を含む。液体で洗浄された円筒体の周囲に、円筒体と同心に気体の渦流を生じさせて、該円筒体の周面に付着した液体を除去する工程を有する円筒体の乾燥方法。 （もっと読む）

【課題】ハニカム構造体封口用マスクを良好に洗浄することが可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る洗浄方法は、上面１ａから下面１ｂにかけて厚さ方向Ｄ１に貫通している複数の貫通孔５を有するマスク１の洗浄方法であって、マスク１を厚さ方向Ｄ１に直交する搬送方向Ｄ２に搬送する工程と、搬送されるマスク１の洗浄面３（上面１ａ及び下面１ｂ）に洗浄液１４が供給された状態で、洗浄面３と平行かつ搬送方向Ｄ２と交差する方向Ｄ３に延びる軸回りに回転するローラブラシ１２ａ，１２ｂのブラシ１２ｃを洗浄面３に接触させる洗浄工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】容器を確実に洗浄することが可能な洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置１００は、容器Ｃの洗浄に関連した第１の処理（本洗浄処理）を実行するために開閉自在に設けられた開口１２２、１２４を有する密閉可能な本洗浄室１２０と、本洗浄室１２０から隔離して配置され、容器Ｃの洗浄に関連した第２の処理（乾燥処理）を実行するために開閉自在に設けられた開口１３２を有する密閉可能な第乾燥室１３０（１３０Ａ、１３０Ｂ、１３０Ｃ）と、各処理室の開口１３２を介して、本洗浄室１２０の内部に搬入された容器Ｃを乾燥室１３０の内部に移送するロボット１５０と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の欠陥の発生が極めて少ないフォトマスク関連基板を得られる洗浄方法及び洗浄装置提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスク関連基板の洗浄方法において、少なくとも、前記フォトマスク関連基板の表面の異物をあらかじめ除去する前処理工程と、該前処理工程の後に前記フォトマスク関連基板にＵＶ光を照射するＵＶ照射工程と、該ＵＶ照射工程の後に前記フォトマスク関連基板を湿式で洗浄する湿式洗浄工程とを行うことを特徴とするフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 エアシステムによりパイプから内容物を除去するための方法。
【解決手段】 この方法は、内容物がパイプ内で移動を開始するまで高圧且つ低速でエアシステムにより空気を供給するステップと、パイプから内容物の大部分が除去されるまで、低圧且つ高速でエアシステムにより空気を供給するステップと、実質的に残りの内容物全部がパイプから除去されるまで、低圧且つ高速で空気の供給を引き続き行うステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】 パターン部材上に固形物が残存することのない塵の除去を可能とするパターン部材洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
【解決手段】 基板上にパターンが形成されたパターン部材に付着した塵を除去するパターン部材洗浄方法であって、前記パターン部材のパターン形成面に、冷却により固化可能な液状塵除去材料を付与する工程、前記液状塵除去材料を冷却し、固体又はゲル状の塵除去層を形成する工程、及び前記塵除去層を、前記パターン部材に付着した塵とともに除去する工程を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】イオン系コンタミが少なく、かつ乾燥不良が起きず、その結果ヘッド浮上量が微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】磁気情報記録媒体用ガラス基板を保管ケースに保管する公知を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記保管ケースは、電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いてリンスされることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に炭酸ガスを浸透溶解させて調整したものであることが好ましい。また、前記電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液は、水に水素ガスを浸透溶解させ、ｐＨを９〜１０に調整したものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板の処理に使用される処理液の消費量を低減すること。
【解決手段】基板処理装置は、処理液を吸収可能で弾性変形可能なスポンジ４１と、スポンジ４１に処理液を供給する貯留槽４０と、基板Ｗを保持する基板搬送ロボット２１とを含む。基板搬送ロボット２１は、スポンジ４１と基板Ｗとを相対移動させてスポンジ４１と基板Ｗの下面とを接触させることにより、スポンジ４１に吸収されている処理液を基板Ｗの下面に供給させる。 （もっと読む）

【課題】回収された廃プラスチックシートの束を搬送しながら確実に平面状に広げることのできる処理機構を提案すること。
【解決手段】廃プラスチックシートの処理機構２０では、巻き取り束２７の状態から引き出された廃プラスチックシート２３の表面中央部分に沿ってノズル３６から水を流すことにより水流３７を形成し、廃プラスチックシート２３の中央部分をガイドベース２２の上面２２ａに押し付けた状態で搬送する。この結果、廃プラスチックシート２３は、水流３７によってセンタリングされながら左ベルトコンベアー３１、右ベルトコンベアー３２によって搬送されるので、これらのベルトコンベアー３１、３２によって確実に左右に平面状に押し広げられる。 （もっと読む）

【課題】高い液体除去機能が発揮されると共に、耐摩耗性に優れたロール、及びそのロールを搭載した洗浄装置を提供する。
【解決手段】鋼板、非鉄金属板、樹脂板、あるいはフィルム状の被洗浄面に付着した水分、油分、あるいは薬品成分等の液体を除去、搾取、洗浄する為のロール１において、前記ロール１はロール部２及び台座３を有し、前記台座３は前記ロール部２が外周に形成される本体部７、及び前記本体部７の両端に連接される継ぎ手部Ａ８及び継ぎ手部Ｂ９を有し、前記ロール部２は不織布１７からなる複数の概円環状のロール片４ａ、４ｂが積層されて形成されてあると共に、前記不織布１７は多数の極細繊維２１が束状に形成された繊維束２２と、前記繊維束２２を結合する高分子弾性体２７を有し、前記極細繊維２１は長繊維である。 （もっと読む）

【課題】トンネル式洗浄機において、流体排気通路で洗浄機の各チャンバからの均等な蒸気排気を容易にし、各チャンバからの熱損失を最小限にするため最適化される。
【解決手段】トンネル式洗浄機には、トンネル式洗浄機のチャンバを分離する間隔を保つ二重壁カーテンが含まれ、チャンバ間およびトンネル式洗浄機外への流体および熱移動が防止される。二重壁カーテンにはトンネル式洗浄機の操作の間にカーテンが互いに粘着することを抑制する表面が含まれる。またトンネル式洗浄機には種々の寸法の物品に対し乾燥効率を均等にする空気マニホールドが含まれる。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の飛散による弊害を少なくできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】搬入部２に搬入された被洗浄物を第一の洗浄部４、第二の洗浄部５、第三の洗浄部６、第一の乾燥部７、待機部８、第二の乾燥部９及び搬出部３に順次搬送する搬送部69を備える。第一の洗浄部４、第二の洗浄部５、第三の洗浄部６、第一の乾燥部７、待機部８、第二の乾燥部９及び搬出部３の高さＨを、順次高く配置する。パイプＰを支持して上段側に持ち上げて移す第一の搬送台70などの搬送部69を設ける。第一の洗浄部４で発生したパイプＰの汚れがその上方にある第二の洗浄部５に飛散することを阻止でき、第二の洗浄部５で発生したパイプＰの汚れがその上方にある第三の洗浄部６に飛散することを阻止できるなどによって、パイプが絶えることなく各工程が同期して連続的に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】簡便安価な構成で効率よく洗浄作業を行うことができる電子部品実装設備用の洗浄ツールおよび洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】部品実装装置に用いられる吸着ノズル１０などを洗浄する電子部品実装設備用の洗浄ツール２０を、作業者が把持して操作可能な本体部２１と、本体部２１の先端に設けられ２流体３１が噴射される噴射ノズル２５と、本体部２１に接続され噴射ノズル２５と切替バルブ２６を介して接続された液体タンク２８とを備え、洗浄水３０の粒子３０ａを圧縮空気２３ａに混合した２流体３１を被洗浄物である吸着ノズル１０に対して噴射する構成とする。これにより、簡便安価な構成で効率よく洗浄作業を行うことができる。 （もっと読む）