光学活性なジアミン誘導体およびその製造方法
【課題】活性化血液凝固第Ｘａ因子の阻害作用を示し、血栓性疾患の予防・治療薬として有用な化合物の中間体として有用なシクロヘキサノール誘導体の合成方法を提供する。
【解決手段】特定構造を有するシクロヘキサンエポキシド誘導体を、溶媒中、アンモニア水またはアンモニアの炭素数１〜４のアルコール溶液にて処理した後、次いで、ジ（炭素数１〜６のアルキル）ジカルボネートにて処理することを特徴とする、式（ＩＩ）
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｙは−ＣＯＲを示す。）で表される化合物の製造方法。
【解決手段】特定構造を有するシクロヘキサンエポキシド誘導体を、溶媒中、アンモニア水またはアンモニアの炭素数１〜４のアルコール溶液にて処理した後、次いで、ジ（炭素数１〜６のアルキル）ジカルボネートにて処理することを特徴とする、式（ＩＩ）
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｙは−ＣＯＲを示す。）で表される化合物の製造方法。
Notice: Undefined index: DEJ in /mnt/www/gzt_disp.php on line 298
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
（式中、Ｙは−ＣＯＲを示し、ここでＲは炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、アンモニア水またはアンモニアの炭素数１〜４のアルコール溶液にて処理した後、次いで、ジ（炭素数１〜６のアルキル）ジカルボネートにて処理することを特徴とする、式（ＩＩ）
【化２】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｙは前記に同じ。）
で表される化合物の製造方法。
【請求項２】
Ｒが炭素数１〜８のアルコキシ基である請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
Ｒがエトキシ基である請求項１記載の製造方法。
【請求項４】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項１〜３のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項５】
式（ＩＩ）
【化３】
（式中、Ｙは−ＣＯＲを示し、ここでＲは炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示し、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示す。）
で表される化合物に、溶媒中、塩基存在下、式（ＩＩＩ）
Ｒ2ＳＯ2Ｘ （ＩＩＩ）
（式中、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、またはハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、カルバモイル基もしくはシアノ基を有することもあるフェニル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
で表される化合物を反応させることを特徴とする、式（ＩＶ）
【化４】
（式中、Ｙ、Ｒ1およびＲ2は前記に同じ。）
で表される化合物の製造方法。
【請求項６】
Ｒが炭素数１〜８のアルコキシ基である請求項５記載の製造方法。
【請求項７】
Ｒがエトキシ基である請求項５記載の製造方法。
【請求項８】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項５〜７のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項９】
Ｒ2が炭素数１〜６のアルキル基である請求項５〜８のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１０】
Ｒ2がメチル基である請求項５〜８のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１１】
Ｘが塩素原子である請求項５〜１０のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１２】
塩基が３級アミン類である請求項５〜１１のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１３】
塩基がトリエチルアミンである請求項５〜１１のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１４】
式（ＩＶ）
【化５】
（式中、Ｙは−ＣＯＲを示し、ここでＲは炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示し、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、またはハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、カルバモイル基もしくはシアノ基を有することもあるフェニル基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、相関移動触媒の存在下または非存在下、アジ化物にて処理することを特徴とする、式（Ｖ）
【化６】
（式中、ＹおよびＲ1は前記に同じ。）
で表される化合物の製造方法。
【請求項１５】
Ｒが炭素数１〜８のアルコキシ基である請求項１４記載の製造方法。
【請求項１６】
Ｒがエトキシ基である請求項１４記載の製造方法。
【請求項１７】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項１４〜１６のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１８】
アジ化物がアジ化ナトリウムである請求項１４〜１７のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１９】
相関移動触媒がテトラブチルアンモニウムクロリドである請求項１４〜１８のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項２０】
相関移動触媒がドデシルピリジニウムクロリドである請求項１４〜１８のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項２１】
式（Ｖ−Ｉ）
【化７】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、金属触媒および水素源の存在下、水素化分解を行なうことを特徴とする、式（ＶＩ−Ｉ）
【化８】
（式中、Ｒ1およびＲ3は前記に同じ。）
で表される化合物またはその塩の製造方法。
【請求項２２】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項２１記載の製造方法。
【請求項２３】
水素源がギ酸またはその塩である請求項２１または２２記載の製造方法。
【請求項２４】
水素源がギ酸アンモニウムである請求項２１または２２記載の製造方法。
【請求項２５】
式（Ｖ−ＩＩ）
【化９】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ4は炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、金属触媒および水素源の存在下、水素化分解を行なうことを特徴とする、式（ＶＩ−ＩＩ）
【化１０】
（式中、Ｒ1およびＲ4は前記に同じ。）
で表される化合物またはその塩の製造方法。
【請求項２６】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項２５記載の製造方法。
【請求項２７】
Ｒ4が炭素数１〜８のアルコキシ基である請求項２５または２６記載の製造方法。
【請求項２８】
Ｒ4がエトキシ基である請求項２５または２６記載の製造方法。
【請求項２９】
化合物（ＶＩ−ＩＩ）がシュウ酸塩である請求項２５〜２８のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項３０】
水素源がギ酸またはその塩である請求項２５〜２９のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項３１】
水素源がギ酸アンモニウムである請求項２５〜２９のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項３２】
式（ＶＩ−ＩＩ）
【化１１】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ4は炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示す。）
で表される化合物またはその塩を、溶媒中、塩基存在下、ベンジロキシカルボニルハライドにて処理することを特徴とする、式（ＶＩＩ）
【化１２】
（式中、Ｒ1およびＲ4は前記に同じ。）
で表される化合物の製造方法。
【請求項３３】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項３２記載の製造方法。
【請求項３４】
Ｒ4が炭素数１〜８のアルコキシ基である請求項３２または３３記載の製造方法。
【請求項３５】
Ｒ4がエトキシ基である請求項３２または３３記載の製造方法。
【請求項３６】
化合物（ＶＩ−ＩＩ）がシュウ酸塩である請求項３２〜３５のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項３７】
式（ＶＩＩ）
【化１３】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ4は炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示す。）
で表される化合物を、塩基にて処理した後、（１）ヒドラジンと縮合後、得られたカルボヒドラジドを酸の存在下または非存在下、アシル化剤によりアシル等価体へ誘導後、脱水剤の存在下または非存在下、処理するか、または（２）アンモニアと縮合後、得られたカルボアミドを脱水剤と処理しニトリルへ誘導後、ヒドロキシアミンと処理し、アミドキシムへ誘導後、脱水剤または酸の存在下または非存在下、アシル化剤と処理することを特徴とする、式（ＶＩＩＩ）
【化１４】
（式中、Ｒ1は前記に同じ。Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物の製造方法。
【請求項３８】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項３７記載の製造方法。
【請求項３９】
式（ＶＩＩＩ）
【化１５】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、金属触媒および水素源の存在下、水素化分解を行なうことを特徴とする、式（ＶＩ−Ｉ）
【化１６】
（式中、Ｒ1およびＲ3は前記に同じ。）
で表される化合物またはその塩の製造方法。
【請求項４０】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項３９記載の製造方法。
【請求項４１】
式（Ｉ'）
【化１７】
（式中、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物。
【請求項４２】
式（ＩＩ'）
【化１８】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物。
【請求項４３】
式（ＩＶ'）
【化１９】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、またはハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、カルバモイル基もしくはシアノ基を有することもあるフェニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物。
【請求項４４】
式（Ｖ'）
【化２０】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物。
【請求項４５】
式（Ｖ−Ｉ）
【化２１】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、金属触媒および水素源の存在下、水素化分解を行い、得られる式（ＶＩ−Ｉ）
【化２２】
（式中、Ｒ1およびＲ3は前記に同じ。）
で表される化合物またはその塩に、式（ＩＸ）
Ｑ3−Ｔ1−ＯＨ （ＩＸ）
（式中、Ｑ3は置換基を有することもあるアリール基、置換基を有することもあるアリールアルケニル基、置換基を有することもあるアリールアルキニル基、置換基を有することもあるヘテロアリール基、置換基を有することもあるヘテロアリールアルケニル基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示し、基Ｔ1は、カルボニル基、スルホニル基、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ（Ｒ'）−（基中、Ｒ'は水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ1−Ｎ（Ｒ"）−（基中、Ａ1は置換基を有することもある炭素数１〜５のアルキレン基を示し、Ｒ"は水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ2−Ｃ（＝Ｏ）−（基中、Ａ2は単結合または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ3−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−（基中、Ａ3は炭素数１〜５のアルキレン基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝ＮＯＲa）−Ｎ（Ｒb）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝ＮＯＲa）−Ｎ（Ｒb）−（基中、Ｒaは水素原子、アルキル基またはアルカノイル基を示し、Ｒbは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ＝Ｎ−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ＝Ｎ−、基−Ｃ（＝ＮＯＲC）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒd）−（基中、ＲCは水素原子、アルキル基、アルカノイル基、アリール基またはアラルキル基を示し、Ｒdは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｎ−Ｎ（Ｒe）（Ｒf））−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒg）−（基中、ＲeおよびＲfは各々独立して、水素原子、アルキル基、アルカノイル基、アルキル（チオカルボニル）基を示し、Ｒgは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨＣ（＝Ｓ）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＳＯ2−、基−ＳＯ2−ＮＨ−、基−Ｃ（＝ＮＣＮ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｏ）−またはチオカルボニル基を示す。）
で表される化合物またはその塩を反応させ、次いで、得られる式（Ｘ）
【化２３】
（式中、Ｒ1、Ｒ3、基Ｔ1及びＱ3は前記と同じ。）
で表される化合物の保護基を脱保護した後、式（ＸＩＩ）
Ｑ1−Ｑ2−ＣＯＯＨ （ＸＩＩ）
（式中、Ｑ1は、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の５〜６員の環状炭化水素基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の５〜７員の複素環式基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、または置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示し；
Ｑ2は、単結合、直鎖状もしくは分枝状の炭素数１〜６のアルキレン基、直鎖状もしくは分枝状の炭素数２〜６のアルケニレン基、直鎖状もしくは分枝状の炭素数２〜６のアルキニレン基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の５〜６員の環状炭化水素基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の５〜７員の複素環式基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、または置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示す。）
で表されるカルボン酸またはその塩を反応させることを特徴とする、式（Ａ）
【化２４】
（式中、Ｒ3、基Ｔ1、Ｑ1〜Ｑ3は前記と同じ。）
で表される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物の製造方法。
【請求項４６】
式（ＶＩＩＩ）
【化２５】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、金属触媒および水素源の存在下、水素化分解を行ない、得られる式（ＶＩ−Ｉ）
【化２６】
（式中、Ｒ1およびＲ3は前記に同じ。）
で表される化合物またはその塩に、式（ＩＸ）
Ｑ3−Ｔ1−ＯＨ （ＩＸ）
（式中、Ｑ3は置換基を有することもあるアリール基、置換基を有することもあるアリールアルケニル基、置換基を有することもあるアリールアルキニル基、置換基を有することもあるヘテロアリール基、置換基を有することもあるヘテロアリールアルケニル基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示し、基Ｔ1は、カルボニル基、スルホニル基、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ（Ｒ'）−（基中、Ｒ'は水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ1−Ｎ（Ｒ"）−（基中、Ａ1は置換基を有することもある炭素数１〜５のアルキレン基を示し、Ｒ"は水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ2−Ｃ（＝Ｏ）−（基中、Ａ2は単結合または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ3−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−（基中、Ａ3は炭素数１〜５のアルキレン基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝ＮＯＲa）−Ｎ（Ｒb）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝ＮＯＲa）−Ｎ（Ｒb）−（基中、Ｒaは水素原子、アルキル基またはアルカノイル基を示し、Ｒbは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ＝Ｎ−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ＝Ｎ−、基−Ｃ（＝ＮＯＲC）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒd）−（基中、ＲCは水素原子、アルキル基、アルカノイル基、アリール基またはアラルキル基を示し、Ｒdは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｎ−Ｎ（Ｒe）（Ｒf））−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒg）−（基中、ＲeおよびＲfは各々独立して、水素原子、アルキル基、アルカノイル基、アルキル（チオカルボニル）基を示し、Ｒgは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨＣ（＝Ｓ）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＳＯ2−、基−ＳＯ2−ＮＨ−、基−Ｃ（＝ＮＣＮ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｏ）−またはチオカルボニル基を示す。）
で表される化合物またはその塩を反応させ、次いで、得られる式（Ｘ）
【化２７】
（式中、Ｒ1、Ｒ3、基Ｔ1及びＱ3は前記と同じ。）
で表される化合物の保護基を脱保護した後、式（ＸＩＩ）
Ｑ1−Ｑ2−ＣＯＯＨ （ＸＩＩ）
（式中、Ｑ1は、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の５〜６員の環状炭化水素基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の５〜７員の複素環式基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、または置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示し；
Ｑ2は、単結合、直鎖状もしくは分枝状の炭素数１〜６のアルキレン基、直鎖状もしくは分枝状の炭素数２〜６のアルケニレン基、直鎖状もしくは分枝状の炭素数２〜６のアルキニレン基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の５〜６員の環状炭化水素基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の５〜７員の複素環式基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、または置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示す。）
で表されるカルボン酸またはその塩を反応させることを特徴とする、式（Ａ）
【化２８】
（式中、Ｒ3、基Ｔ1、Ｑ1〜Ｑ3は前記と同じ。）
で表される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物の製造方法。
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
（式中、Ｙは−ＣＯＲを示し、ここでＲは炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、アンモニア水またはアンモニアの炭素数１〜４のアルコール溶液にて処理した後、次いで、ジ（炭素数１〜６のアルキル）ジカルボネートにて処理することを特徴とする、式（ＩＩ）
【化２】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｙは前記に同じ。）
で表される化合物の製造方法。
【請求項２】
Ｒが炭素数１〜８のアルコキシ基である請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
Ｒがエトキシ基である請求項１記載の製造方法。
【請求項４】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項１〜３のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項５】
式（ＩＩ）
【化３】
（式中、Ｙは−ＣＯＲを示し、ここでＲは炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示し、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示す。）
で表される化合物に、溶媒中、塩基存在下、式（ＩＩＩ）
Ｒ2ＳＯ2Ｘ （ＩＩＩ）
（式中、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、またはハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、カルバモイル基もしくはシアノ基を有することもあるフェニル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
で表される化合物を反応させることを特徴とする、式（ＩＶ）
【化４】
（式中、Ｙ、Ｒ1およびＲ2は前記に同じ。）
で表される化合物の製造方法。
【請求項６】
Ｒが炭素数１〜８のアルコキシ基である請求項５記載の製造方法。
【請求項７】
Ｒがエトキシ基である請求項５記載の製造方法。
【請求項８】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項５〜７のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項９】
Ｒ2が炭素数１〜６のアルキル基である請求項５〜８のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１０】
Ｒ2がメチル基である請求項５〜８のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１１】
Ｘが塩素原子である請求項５〜１０のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１２】
塩基が３級アミン類である請求項５〜１１のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１３】
塩基がトリエチルアミンである請求項５〜１１のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１４】
式（ＩＶ）
【化５】
（式中、Ｙは−ＣＯＲを示し、ここでＲは炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示し、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、またはハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、カルバモイル基もしくはシアノ基を有することもあるフェニル基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、相関移動触媒の存在下または非存在下、アジ化物にて処理することを特徴とする、式（Ｖ）
【化６】
（式中、ＹおよびＲ1は前記に同じ。）
で表される化合物の製造方法。
【請求項１５】
Ｒが炭素数１〜８のアルコキシ基である請求項１４記載の製造方法。
【請求項１６】
Ｒがエトキシ基である請求項１４記載の製造方法。
【請求項１７】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項１４〜１６のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１８】
アジ化物がアジ化ナトリウムである請求項１４〜１７のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項１９】
相関移動触媒がテトラブチルアンモニウムクロリドである請求項１４〜１８のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項２０】
相関移動触媒がドデシルピリジニウムクロリドである請求項１４〜１８のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項２１】
式（Ｖ−Ｉ）
【化７】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、金属触媒および水素源の存在下、水素化分解を行なうことを特徴とする、式（ＶＩ−Ｉ）
【化８】
（式中、Ｒ1およびＲ3は前記に同じ。）
で表される化合物またはその塩の製造方法。
【請求項２２】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項２１記載の製造方法。
【請求項２３】
水素源がギ酸またはその塩である請求項２１または２２記載の製造方法。
【請求項２４】
水素源がギ酸アンモニウムである請求項２１または２２記載の製造方法。
【請求項２５】
式（Ｖ−ＩＩ）
【化９】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ4は炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、金属触媒および水素源の存在下、水素化分解を行なうことを特徴とする、式（ＶＩ−ＩＩ）
【化１０】
（式中、Ｒ1およびＲ4は前記に同じ。）
で表される化合物またはその塩の製造方法。
【請求項２６】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項２５記載の製造方法。
【請求項２７】
Ｒ4が炭素数１〜８のアルコキシ基である請求項２５または２６記載の製造方法。
【請求項２８】
Ｒ4がエトキシ基である請求項２５または２６記載の製造方法。
【請求項２９】
化合物（ＶＩ−ＩＩ）がシュウ酸塩である請求項２５〜２８のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項３０】
水素源がギ酸またはその塩である請求項２５〜２９のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項３１】
水素源がギ酸アンモニウムである請求項２５〜２９のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項３２】
式（ＶＩ−ＩＩ）
【化１１】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ4は炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示す。）
で表される化合物またはその塩を、溶媒中、塩基存在下、ベンジロキシカルボニルハライドにて処理することを特徴とする、式（ＶＩＩ）
【化１２】
（式中、Ｒ1およびＲ4は前記に同じ。）
で表される化合物の製造方法。
【請求項３３】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項３２記載の製造方法。
【請求項３４】
Ｒ4が炭素数１〜８のアルコキシ基である請求項３２または３３記載の製造方法。
【請求項３５】
Ｒ4がエトキシ基である請求項３２または３３記載の製造方法。
【請求項３６】
化合物（ＶＩ−ＩＩ）がシュウ酸塩である請求項３２〜３５のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項３７】
式（ＶＩＩ）
【化１３】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ4は炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、炭素数２〜８のアルケニルオキシ基または炭素数７〜２６のアラルキルオキシ基を示す。）
で表される化合物を、塩基にて処理した後、（１）ヒドラジンと縮合後、得られたカルボヒドラジドを酸の存在下または非存在下、アシル化剤によりアシル等価体へ誘導後、脱水剤の存在下または非存在下、処理するか、または（２）アンモニアと縮合後、得られたカルボアミドを脱水剤と処理しニトリルへ誘導後、ヒドロキシアミンと処理し、アミドキシムへ誘導後、脱水剤または酸の存在下または非存在下、アシル化剤と処理することを特徴とする、式（ＶＩＩＩ）
【化１４】
（式中、Ｒ1は前記に同じ。Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物の製造方法。
【請求項３８】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項３７記載の製造方法。
【請求項３９】
式（ＶＩＩＩ）
【化１５】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、金属触媒および水素源の存在下、水素化分解を行なうことを特徴とする、式（ＶＩ−Ｉ）
【化１６】
（式中、Ｒ1およびＲ3は前記に同じ。）
で表される化合物またはその塩の製造方法。
【請求項４０】
Ｒ1がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である請求項３９記載の製造方法。
【請求項４１】
式（Ｉ'）
【化１７】
（式中、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物。
【請求項４２】
式（ＩＩ'）
【化１８】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物。
【請求項４３】
式（ＩＶ'）
【化１９】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、またはハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、カルバモイル基もしくはシアノ基を有することもあるフェニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物。
【請求項４４】
式（Ｖ'）
【化２０】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物。
【請求項４５】
式（Ｖ−Ｉ）
【化２１】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、金属触媒および水素源の存在下、水素化分解を行い、得られる式（ＶＩ−Ｉ）
【化２２】
（式中、Ｒ1およびＲ3は前記に同じ。）
で表される化合物またはその塩に、式（ＩＸ）
Ｑ3−Ｔ1−ＯＨ （ＩＸ）
（式中、Ｑ3は置換基を有することもあるアリール基、置換基を有することもあるアリールアルケニル基、置換基を有することもあるアリールアルキニル基、置換基を有することもあるヘテロアリール基、置換基を有することもあるヘテロアリールアルケニル基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示し、基Ｔ1は、カルボニル基、スルホニル基、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ（Ｒ'）−（基中、Ｒ'は水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ1−Ｎ（Ｒ"）−（基中、Ａ1は置換基を有することもある炭素数１〜５のアルキレン基を示し、Ｒ"は水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ2−Ｃ（＝Ｏ）−（基中、Ａ2は単結合または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ3−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−（基中、Ａ3は炭素数１〜５のアルキレン基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝ＮＯＲa）−Ｎ（Ｒb）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝ＮＯＲa）−Ｎ（Ｒb）−（基中、Ｒaは水素原子、アルキル基またはアルカノイル基を示し、Ｒbは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ＝Ｎ−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ＝Ｎ−、基−Ｃ（＝ＮＯＲC）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒd）−（基中、ＲCは水素原子、アルキル基、アルカノイル基、アリール基またはアラルキル基を示し、Ｒdは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｎ−Ｎ（Ｒe）（Ｒf））−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒg）−（基中、ＲeおよびＲfは各々独立して、水素原子、アルキル基、アルカノイル基、アルキル（チオカルボニル）基を示し、Ｒgは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨＣ（＝Ｓ）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＳＯ2−、基−ＳＯ2−ＮＨ−、基−Ｃ（＝ＮＣＮ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｏ）−またはチオカルボニル基を示す。）
で表される化合物またはその塩を反応させ、次いで、得られる式（Ｘ）
【化２３】
（式中、Ｒ1、Ｒ3、基Ｔ1及びＱ3は前記と同じ。）
で表される化合物の保護基を脱保護した後、式（ＸＩＩ）
Ｑ1−Ｑ2−ＣＯＯＨ （ＸＩＩ）
（式中、Ｑ1は、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の５〜６員の環状炭化水素基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の５〜７員の複素環式基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、または置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示し；
Ｑ2は、単結合、直鎖状もしくは分枝状の炭素数１〜６のアルキレン基、直鎖状もしくは分枝状の炭素数２〜６のアルケニレン基、直鎖状もしくは分枝状の炭素数２〜６のアルキニレン基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の５〜６員の環状炭化水素基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の５〜７員の複素環式基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、または置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示す。）
で表されるカルボン酸またはその塩を反応させることを特徴とする、式（Ａ）
【化２４】
（式中、Ｒ3、基Ｔ1、Ｑ1〜Ｑ3は前記と同じ。）
で表される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物の製造方法。
【請求項４６】
式（ＶＩＩＩ）
【化２５】
（式中、Ｒ1は炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ3はオキサジアゾリル基を示す。）
で表される化合物を、溶媒中、金属触媒および水素源の存在下、水素化分解を行ない、得られる式（ＶＩ−Ｉ）
【化２６】
（式中、Ｒ1およびＲ3は前記に同じ。）
で表される化合物またはその塩に、式（ＩＸ）
Ｑ3−Ｔ1−ＯＨ （ＩＸ）
（式中、Ｑ3は置換基を有することもあるアリール基、置換基を有することもあるアリールアルケニル基、置換基を有することもあるアリールアルキニル基、置換基を有することもあるヘテロアリール基、置換基を有することもあるヘテロアリールアルケニル基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示し、基Ｔ1は、カルボニル基、スルホニル基、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ（Ｒ'）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ（Ｒ'）−（基中、Ｒ'は水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ1−Ｎ（Ｒ"）−（基中、Ａ1は置換基を有することもある炭素数１〜５のアルキレン基を示し、Ｒ"は水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＮＨ−、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ2−Ｃ（＝Ｏ）−（基中、Ａ2は単結合または炭素数１〜５のアルキレン基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ3−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−（基中、Ａ3は炭素数１〜５のアルキレン基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝ＮＯＲa）−Ｎ（Ｒb）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝ＮＯＲa）−Ｎ（Ｒb）−（基中、Ｒaは水素原子、アルキル基またはアルカノイル基を示し、Ｒbは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ＝Ｎ−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｎ＝Ｎ−、基−Ｃ（＝ＮＯＲC）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒd）−（基中、ＲCは水素原子、アルキル基、アルカノイル基、アリール基またはアラルキル基を示し、Ｒdは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｎ−Ｎ（Ｒe）（Ｒf））−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒg）−（基中、ＲeおよびＲfは各々独立して、水素原子、アルキル基、アルカノイル基、アルキル（チオカルボニル）基を示し、Ｒgは水素原子、水酸基、アルキル基またはアルコキシ基を示す。）、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｓ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−ＮＨＣ（＝Ｓ）−、基−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＳＯ2−、基−ＳＯ2−ＮＨ−、基−Ｃ（＝ＮＣＮ）−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、基−Ｃ（＝Ｓ）−Ｃ（＝Ｏ）−またはチオカルボニル基を示す。）
で表される化合物またはその塩を反応させ、次いで、得られる式（Ｘ）
【化２７】
（式中、Ｒ1、Ｒ3、基Ｔ1及びＱ3は前記と同じ。）
で表される化合物の保護基を脱保護した後、式（ＸＩＩ）
Ｑ1−Ｑ2−ＣＯＯＨ （ＸＩＩ）
（式中、Ｑ1は、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の５〜６員の環状炭化水素基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の５〜７員の複素環式基、置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、または置換基を有することもある飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示し；
Ｑ2は、単結合、直鎖状もしくは分枝状の炭素数１〜６のアルキレン基、直鎖状もしくは分枝状の炭素数２〜６のアルケニレン基、直鎖状もしくは分枝状の炭素数２〜６のアルキニレン基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の５〜６員の環状炭化水素基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の５〜７員の複素環式基、置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合炭化水素基、または置換基を有することもある２価の飽和もしくは不飽和の２環性または３環性の縮合複素環式基を示す。）
で表されるカルボン酸またはその塩を反応させることを特徴とする、式（Ａ）
【化２８】
（式中、Ｒ3、基Ｔ1、Ｑ1〜Ｑ3は前記と同じ。）
で表される化合物、その塩またはそれらの溶媒和物の製造方法。
【公開番号】特開２０１０−２４８１８８（Ｐ２０１０−２４８１８８Ａ）
【公開日】平成２２年１１月４日（２０１０．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−８８５０５（Ｐ２０１０−８８５０５）
【出願日】平成２２年４月７日（２０１０．４．７）
【分割の表示】特願２００７−５３５５７０（Ｐ２００７−５３５５７０）の分割
【原出願日】平成１８年９月１５日（２００６．９．１５）
【出願人】（３０７０１０１６６）第一三共株式会社 (196)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月４日（２０１０．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月７日（２０１０．４．７）
【分割の表示】特願２００７−５３５５７０（Ｐ２００７−５３５５７０）の分割
【原出願日】平成１８年９月１５日（２００６．９．１５）
【出願人】（３０７０１０１６６）第一三共株式会社 (196)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]