光学素子の製造方法および光学素子の製造システム

【課題】光学素子を精度よく成形することが可能な光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】光学素子の種類に応じて複数設定された照射光の照度分布を記憶装置に記憶
させておき、記憶装置に記憶された複数の照射光の照度分布の中から、成形に用いる照射
光の照度分布を選択し（ステップＳ１０１）、選択した照射光の照度分布が得られるよう
に照射装置の設定を行い（ステップＳ１０２）、設定を行った照射装置が照射する照射光
の実際の照度分布を測定し（ステップＳ１０３）、選択した照射光の照度分布と、測定し
た照射光の実際の照度分布とを比較し（ステップＳ１０４〜Ｓ１０５）、比較した結果に
基づいて、照射装置が照射する照射光の実際の照度分布が選択した照射光の照度分布とな
るように補正を行う（ステップＳ１０６）。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子の製造方法および製造システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学素子の製造には、紫外線硬化型樹脂を使用した成形加工がよく用いられる（例えば
、特許文献１を参照）。例えば、密着複層型の回折光学素子である位相フレネルレンズの
成形加工を行う場合、円盤状のガラス基板と該ガラス基板に近接させた成形型との間隙に
第１の樹脂材を充填し、紫外線を含む照射光を第１の樹脂材に照射して硬化させることに
より、回折格子を有する１層目の樹脂層を成形する。さらに、１層目の樹脂層と該１層目
の樹脂層に近接させた成形型との間隙に第１の樹脂材と屈折率の異なる第２の樹脂材を充
填し、紫外線を含む照射光を第２の樹脂材に照射して硬化させることにより、２層目の樹
脂層を成形する。これにより、密着複層型の回折光学素子を成形することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許４４１９６６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、紫外線硬化型樹脂に照射される照射光の照度分布にムラが生じると、成
形後の光学素子に照度ムラに応じた微小な変形が生じ、形状誤差の一因となっていた。
【０００５】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、光学素子を精度よく成形する
ことが可能な光学素子の製造方法および製造システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的達成のため、本発明に係る光学素子の製造方法は、成形型を当接させた
紫外線硬化型樹脂に対し紫外線を含む照射光を照射装置により照射して、前記紫外線硬化
型樹脂を硬化させることで光学素子の成形を行う光学素子の製造方法であって、前記光学
素子の種類に応じて複数設定された前記光学素子に対する照射光の照度分布を記憶装置に
記憶させ、前記記憶装置に記憶された前記複数の照射光の照度分布の中から、前記成形に
用いる照射光の照度分布を選択し、前記選択した前記照射光の照度分布が得られるように
前記照射装置の設定を行い、前記設定を行った前記照射装置が照射する照射光の実際の照
度分布を測定し、前記選択した前記照射光の照度分布と、前記測定した前記照射光の実際
の照度分布とを比較し、前記比較した結果に基づいて、前記照射装置が照射する前記照射
光の実際の照度分布が前記選択した前記照射光の照度分布となるように補正を行う。
【０００７】
また、本発明に係る光学素子の製造システムは、成形型を当接させた紫外線硬化型樹脂
に対し紫外線を含む照射光を照射装置により照射して、前記紫外線硬化型樹脂を硬化させ
ることで光学素子の成形を行う光学素子の製造システムであって、前記光学素子の種類に
応じて複数設定された前記光学素子に対する照射光の照度分布を記憶する記憶装置と、前
記記憶装置に記憶された前記複数の照射光の照度分布の中から、前記成形に用いる照射光
の照度分布を選択する操作が行われる操作部と、前記操作部の操作により選択された前記
照射光の照度分布が得られるように前記照射装置の設定を行う設定部と、前記設定部によ
り設定された前記照射装置が照射する照射光の実際の照度分布を測定する測定部と、前記
操作部の操作により選択された前記照射光の照度分布と、前記測定部により測定された前
記照射光の実際の照度分布とを比較する比較部と、前記比較部が比較した結果に基づいて
、前記照射装置が照射する前記照射光の実際の照度分布が前記操作部の操作により選択さ
れた前記照射光の照度分布となるように補正を行う補正部とを備えて構成される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光学素子を精度よく成形することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】位相フレネルレンズの製造方法を示すフローチャートである。
【図２】位相フレネルレンズの側断面図である。
【図３】光学素子の製造システムを示す第１の概要構成図である。
【図４】光学素子の製造システムを示す第２の概要構成図である。
【図５】測定装置の平面図である。
【図６】照度分布の一例を（ａ）および（ｂ）に示すグラフである。
【図７】位相フレネルレンズの成形工程について（ａ）〜（ｅ）へ順に示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。本実施形態の製造
方法により製造される光学素子の一例として、密着複層型の回折光学素子である位相フレ
ネルレンズ（以下、ＰＦレンズ１と称する）が図２に示されている。本実施形態のＰＦレ
ンズ１は、ガラス基板２と、ガラス基板２の上に成形された１層目の樹脂層４と、１層目
の樹脂層４の上に重ねて成形された２層目の樹脂層６とを有して構成される。ガラス基板
２は、透明のガラス材料を用いて円盤状に成形され、ガラス基板２の一方の面（１層目の
樹脂層４と接合する方の面）には、シランカップリング剤からなるプライマー層３が形成
されている。なお、ガラス基板２の一方の面は凹面（球面もしくは非球面）となっており
、ガラス基板２の他方の面は凸面（球面もしくは非球面）となっている。
【００１１】
ガラス基板２の方から数えて１層目の樹脂層４は、透明の樹脂材料（紫外線硬化型樹脂
）を用いて円盤状に成形され、１層目の樹脂層４の一方の面（２層目の樹脂層６と接合す
る方の面）には、複数の輪帯が同心円状に並ぶ回折格子５が形成されている。なお、１層
目の樹脂層４の径は、ガラス基板２の径と同等である。また、各図において、説明容易化
のため、回折格子５の輪帯の数を少なく記載しているが、実際の輪帯数は使用可能な程度
に十分多いものとする。また、各図において、説明容易化のため、断面図のハッチングを
省略している。
【００１２】
ガラス基板２の方から数えて２層目の樹脂層６は、１層目の樹脂層４と屈折率が異なる
透明の樹脂材料（紫外線硬化型樹脂）を用いて円盤状に成形される。なお、２層目の樹脂
層６の径は、１層目の樹脂層４の径と同等である。また、２層目の樹脂層６の一方の面（
１層目の樹脂層４と接合する方とは反対の面）は凹面（球面もしくは非球面）となってい
る。
【００１３】
以上のように構成されるＰＦレンズ１の製造を行う製造システムについて、図３を参照
しながら説明する。本実施形態に係る光学素子の製造システム１０は、成形型等が載置さ
れるステージ部１１と、ステージ部１１の上方から紫外線を含む照射光ＵＶを照射する照
射装置１５と、照射装置１５から照射される照射光ＵＶの照度分布を設定・変更する変更
ユニット２０と、照射装置１５や変更ユニット２０等の作動を制御する制御部２５とを備
えて構成される。また、本実施形態に係る光学素子の製造システム１０は、所定のデータ
が記憶された記憶部２６と、所定の操作が行われる操作部２７と、照射光ＵＶの照度分布
を測定する測定装置３０（図４を参照）とを備えている。
【００１４】
照射装置１５は、紫外線ランプ（ＵＶランプ）等からなる光源１６と、光源１６に接続
されたファイバ１７と、ファイバ１７の先端部に取り付けられたロッドレンズ１８と、ロ
ッドレンズ１８の所定の近傍に配置されたテレセントリックレンズ１９とを有して構成さ
れる。ファイバ１７は、光源１６から射出された紫外光をステージ部１１の上方に導く。
【００１５】
ロッドレンズ１８は、ステージ部１１の上方に配置固定され、ファイバ１７によって導
かれた光源１６からの紫外光を下方に向けて射出させる。テレセントリックレンズ１９は
、照射装置１５の先端部に設けられ、ロッドレンズ１８と同様に、ステージ部１１の上方
に位置して当該ステージ部１１と対向するように配置固定される。ロッドレンズ１８から
射出された発散光（紫外光）は、テレセントリックレンズ１９により略平行な光となり、
照射装置１５から下方に向けて射出される。なお、照射装置１５から射出された略平行な
光の照度分布は、変更ユニット２０を介さない状態で、例えば図６（ａ）に示すように、
均一となるように調整される。
【００１６】
変更ユニット２０は、照射装置１５とステージ部１１との間に配置固定され、照射光Ｕ
Ｖの照度分布を設定するための第１フィルタ群２１と、照射光ＵＶの照度分布を補正する
ための第２フィルタ群２２とを有して構成される。第１フィルタ群２１は、照射光ＵＶの
照度分布を変えることが可能な複数種の照度変更用光学素子から構成されており、変更ユ
ニット２０は、これら複数種の照度変更用光学素子のうち少なくともいずれかを選択して
照射装置１５とステージ部１１との間の光路上に挿入および抜去可能に構成される。第１
フィルタ群２１に用いられる照度変更用光学素子として、例えば、減光フィルタ（ＮＤフ
ィルタ）や、レンズ型光学素子等が用いられる。
【００１７】
ところで、記憶部２６には、照射対象となる光学素子の種類に応じて複数設定された該
光学素子に対する照射光ＵＶの照度分布に関するデータベースが記憶されている。このデ
ータベースには、照射対象となる光学素子の種類（光学素子の材質や形状）と、これに対
応する照射光ＵＶの照度分布とが関連付けられて記録されている。
【００１８】
例えば、図６（ａ）に示すように、照射対象となる光学素子が平行平面板Ｌ１の場合、
照射光ＵＶの照度分布は均一になる。この場合、第１フィルタ群２１の中から、照射光Ｕ
Ｖの照度分布が均一になるような照度変更用光学素子（例えば、所望の照度が得られるよ
うに、照射装置１５からの略平行な光を均一に減光させる減光フィルタ）が選択される。
また例えば、図６（ｂ）に示すように、照射対象となる光学素子が凸形状のレンズＬ２の
場合、照射光ＵＶの照度分布は凸形状を反転させたような凹形状の分布になる。この場合
、第１フィルタ群２１の中から、照射光ＵＶの照度分布が凹形状の分布になるような照度
変更用光学素子（例えば、照射装置１５からの略平行な光を光軸に近づくほど多く減光さ
せる光学素子）が選択される。
【００１９】
なお、本実施形態における照射光ＵＶの照度分布は、２次元の照度分布（照度マップ）
であり、図５に示すように、照射装置１５の光軸（照射光ＵＶの光線軸）と垂直な面、す
なわち、ステージ部１１と平行な面をＸＹ平面とし、照射装置１５の光軸を原点とする。
またこのとき、光学素子の光軸が照射装置１５の光軸と一致するように、ステージ部１１
の上で位置調整されるものとする。
【００２０】
第２フィルタ群２２は、照射光ＵＶの照度分布を補正可能な複数種の照度変更用光学素
子から構成されており、変更ユニット２０は、これら複数種の照度変更用光学素子のうち
少なくともいずれかを選択して照射装置１５とステージ部１１との間の光路上に挿入およ
び抜去可能に構成される。第２フィルタ群２２に用いられる照度変更用光学素子として、
例えば、照射光ＵＶの照度分布を部分的に減光させることが可能な減光フィルタ（ＮＤフ
ィルタ）等が用いられる。
【００２１】
制御部２５は、照射装置１５、変更ユニット２０、測定装置３０等の作動を制御する。
また、制御部２５には、前述の記憶部２６や操作部２７等が電気的に接続される。操作部
２７は、所定の入力操作や選択操作が可能なキーボードやモニター等から構成され、記憶
部２６に記憶されたデータベースの中から照射対象（成形対象）となる光学素子の種類お
よび照射光ＵＶの照度分布を選択する操作や、成形加工を行うための操作等、製造システ
ム１０を作動させるための各種操作が行われるようになっている。
【００２２】
測定装置３０は、図４および図５に示すように、照射光ＵＶの照度を測定する紫外線照
度計３１と、紫外線照度計３１をＸＹ方向（２次元方向）に移動可能に支持するＸＹステ
ージ３２とを有して構成され、図示しない搬送装置を用いて、所定の待機位置からステー
ジ部１１の上に搬送される。なお、測定装置３０を手動でステージ部１１の上に搬送して
もよい。紫外線照度計３１は、ＸＹステージ３２を利用して、照射光ＵＶの照射範囲にお
ける複数の測定位置で、照射光ＵＶの照度を測定し、照度の測定信号を制御部２５に出力
する。なおこのとき、紫外線照度計３１およびＸＹステージ３２の作動が制御部２５に制
御され、制御部２５は、ＸＹステージ３２の制御信号（例えば、ＸＹステージ３２を駆動
するパルスモータのパルス信号等）から、紫外線照度計３１の測定位置に関するデータを
取得することができる。またこのとき、エンコーダ（図示せず）等を用いて紫外線照度計
３１の測定位置を測定し、測定位置に関するデータを制御部２５へ出力するようにしても
よい。
【００２３】
このような製造システム１０を用いたＰＦレンズ１の製造方法について、図１に示すフ
ローチャートを参照しながら説明する。なお予め、上述した照射光ＵＶの照度分布に関す
るデータベースを作成し、記憶部２６に記憶させておく。まず、制御部２５は、操作部２
７の操作に応じて、記憶部２６に記憶されたデータベースの中から、ＰＦレンズ１の成形
に用いる照射光の照度分布を選択し（ステップＳ１０１）、変更ユニット２０に照度分布
の設定を行わせる制御信号を出力する。そうすると、変更ユニット２０は、第１フィルタ
群２１の中から、照射光ＵＶの照度分布が操作部２７の操作により選択された照射光の照
度分布になるような照度変更用光学素子を選択して、照射装置１５とステージ部１１との
間の光路上に挿入する。なお、ＰＦレンズ１を成形する際、光路上に挿入する照度変更用
光学素子として、レンズ拡散板（ＬＳＤ：Light Shaping Diffusers）を用いると、ＰＦ
レンズ１を精度よく成形するのに効果的である。また、ＰＦレンズ１に対する照度分布の
設定が初めての場合、変更ユニット２０は、図４に示すように、照射装置１５とステージ
部１１との間の光路上から第２フィルタ群２２の照度変更用光学素子を抜去する。
【００２４】
次に、制御部２５は、照射装置１５に変更ユニット２０を介して照射光ＵＶを照射させ
る制御信号を出力し、測定装置３０に照射光ＵＶの実際の照度分布を測定させる制御信号
を出力する（ステップＳ１０２）。このとき、照射装置１５において、光源１６から射出
された紫外光は、ファイバ１７に導かれてロッドレンズ１８から射出され、ロッドレンズ
１８から射出された発散光（紫外光）は、テレセントリックレンズ１９により略平行な光
となり、照射装置１５から下方に向けて射出される。照射装置１５から射出された略平行
な光は、図４に示すように、変更ユニット２０の第１フィルタ群２１（および第２フィル
タ群２２）を透過し、照射光ＵＶとしてステージ部１１の上に載置された測定装置３０に
照射される。
【００２５】
一方、測定装置３０は、図示しない搬送装置を用いて、所定の待機位置からステージ部
１１の上に搬送される。照射装置１５および変更ユニット２０により照射光ＵＶが測定装
置３０に照射された状態で、紫外線照度計３１は、ＸＹステージ３２を利用して、照射光
ＵＶの照射範囲における複数の測定位置で、照射光ＵＶの照度を測定し、照度の測定信号
を制御部２５に出力する。なおこのとき、制御部２５は、ＸＹステージ３２の制御信号（
例えば、ＸＹステージ３２を駆動するパルスモータのパルス信号等）から、紫外線照度計
３１の測定位置に関するデータを取得することができる。またこのとき、エンコーダ（図
示せず）等を用いて紫外線照度計３１の測定位置を測定し、測定位置に関するデータを制
御部２５へ出力するようにしてもよい。なお予め、紫外線照度計３１が照射装置１５の光
軸（照射光ＵＶの光線軸）と重なる位置を基準位置（原点位置）として検出できるように
調整しておく。
【００２６】
次に、制御部２５は、紫外線照度計３１から入力された照度の測定信号に基づいて、照
射光ＵＶの実際の照度分布（照度マップ）を作成する（ステップＳ１０３）。次に、制御
部２５は、作成した照射光ＵＶの実際の照度分布と、操作部２７の操作により選択された
データベースに記録されている照射光の照度分布とを比較する（ステップＳ１０４）。こ
のとき、２つの照度分布の相対的な差（例えば、２次元の照度分布において形成される面
の曲率（パワー）の差）を求める。
【００２７】
次に、制御部２５は、ステップＳ１０４で求めた２つの照度分布の相対的な差（例えば
、２つの照度分布の面形状（曲率）の差）に基づいて、２つの照度分布の面形状が合致し
ているか否かを判定する（ステップＳ１０５）。判定がＮＯの場合、ステップＳ１０６に
進み、制御部２５は、変更ユニット２０に照度分布の補正を行わせる制御信号を出力する
。そうすると、変更ユニット２０は、第２フィルタ群２２の中から、照射光ＵＶの実際の
照度分布が操作部２７の操作により選択された照射光の照度分布になるような照度変更用
光学素子を選択して、照射装置１５とステージ部１１との間の光路上に挿入する。なお、
照射光ＵＶの実際の照度分布が操作部２７の操作により選択された照射光の照度分布より
小さい場合、照射装置１５から射出される光の照度を高くするように照射装置１５の作動
を制御してもよく、第１フィルタ群２１の照度変更用光学素子を変更するように変更ユニ
ット２０の作動を制御してもよい。照度分布の補正（ステップＳ１０６）が終了すると、
ステップＳ１０２へ戻り、ステップＳ１０２からステップＳ１０５までの処理を繰り返す
。
【００２８】
一方、判定がＹＥＳの場合、図示しない搬送装置を用いて、ステージ部１１の上の測定
装置３０を所定の待機位置に搬送し、図３に示すようにＰＦレンズ１の成形を行う（ステ
ップＳ１０７）。ここで、ＰＦレンズ１の成形工程について説明する。まず、図７（ａ）
に示すように、ガラス基板２の一方の面にシランカップリング剤／エチルアルコール／水
（酢酸でやや酸性にした水）の混合液をスピンコートにより全面的に塗布し、ベーキング
してプライマー層３を形成する。
【００２９】
次に、所定の格子形状を有する第１の成形型（金型）３５を上方に向けてステージ部１
１の上に載置するとともに、プライマー層３を形成したガラス基板２の一方の面を下方に
向けて第１の成形型３５に近接させ、その間隙に１層目の樹脂層４を成形するための未硬
化の樹脂材４ａを充填する。この状態で、図３および図７（ｂ）に示すように、照射装置
１５および変更ユニット２０により、ガラス基板２の他方の面（すなわち、ガラス基板２
の上方）から未硬化の樹脂材４ａに向けて照射光ＵＶを所定の補正を行った照度分布で照
射し、第１の成形型３５（およびガラス基板２）が当接した未硬化の樹脂材４ａを硬化さ
せた後、図７（ｃ）に示すように離型する。
【００３０】
これにより、第１の成形型３５の格子形状が樹脂材４ａに転写されて回折格子５を有す
る１層目の樹脂層４が成形されるとともに、当該１層目の樹脂層４がプライマー層３を介
してガラス基板２の一方の面に接合される。なお、１層目の樹脂層４に用いられる樹脂材
料（樹脂材４ａ）は紫外線硬化樹脂である。
【００３１】
次に、第１の成形型３５に替えて第２の成形型（金型）３６を上方に向けてステージ部
１１の上に載置するとともに、１層目の樹脂層４の一方の面を下方に向けて第２の成形型
３６に近接させ、その間隙に２層目の樹脂層６を成形するための未硬化の樹脂材６ａを充
填する。この状態で、図７（ｄ）に示すように、照射装置１５および変更ユニット２０に
より、ガラス基板２の他方の面（すなわち、ガラス基板２の上方）から未硬化の樹脂材６
ａに向けて照射光ＵＶを所定の補正を行った照度分布で照射し、第２の成形型３６（およ
び１層目の樹脂層４）が当接した未硬化の樹脂材６ａを硬化させた後、図７（ｅ）に示す
ように離型する。なお、第２の成形型３６の表面（転写面）は凸面（球面もしくは非球面
）となるように形成される。また、第２の成形型３６の表面（転写面）は、平面であって
もよく、２層目の樹脂層６の形状に応じて決定される。
【００３２】
これにより、図７（ｅ）に示すように、他方の面で回折格子５に密着するように２層目
の樹脂層６が成形されるとともに、当該２層目の樹脂層６が１層目の樹脂層４の一方の面
に接合される。なお、２層目の樹脂層６に用いられる樹脂材料（樹脂材６ａ）は紫外線硬
化樹脂である。このようにして、ガラス基板２の上に２つの樹脂層４，６が成形されたＰ
Ｆレンズ１が製造される。
【００３３】
この結果、本実施形態によれば、ＰＦレンズ１の成形を行う前に、照射光ＵＶの実際の
照度分布が操作部２７の操作により選択された照射光の照度分布となるように補正を行う
ことで、照射光ＵＶの照度分布にムラが生じなくなるので、成形後のＰＦレンズ１に照度
ムラによる微小な変形が生じることなく、ＰＦレンズ１を精度よく成形することができる
。
【００３４】
なお、上述の実施形態において、ＰＦレンズ１の成形に用いる照射光の照度分布を選択
した後に、ステップＳ１０２からステップＳ１０６までの処理を行って、照度分布の補正
を行っているが、これに限られるものではなく、光源１６のランプを交換した後や、成形
型３５，３６を新しい物に交換した後に、照度分布の補正を行うようにしてもよい。また
、一定期間（例えば、１か月間）経過するごとに、照度分布の補正を行うようにしてもよ
い。
【００３５】
また、上述の実施形態において、照射装置１５および変更ユニット２０により、照射光
ＵＶを上方から照射しているが、これに限られるものではなく、成形型３５，３６等の上
下の向きを逆にすれば、照射光ＵＶを下方から照射するようにしてもよい。
【００３６】
また、上述の実施形態において、ガラス基板２、１層目の樹脂層４、および２層目の樹
脂層６の各面がそれぞれ曲面状に形成されているが、これに限られるものではなく、平面
であってもよい。
【００３７】
また、上述の実施形態において、基材としてガラス基板を用いているが、これに限られ
るものではなく、例えば、プラスチック製の基板であってもよく、透明な材料であればよ
い。
【００３８】
また、上述の実施形態において、ガラス基板２の上に２つの樹脂層４，６を成形してい
るが、これに限られるものではなく、１層や３層以上であってもよい。
【００３９】
また、上述の実施形態において、回折光学素子の一種であるＰＦレンズを例に説明した
が、これに限られるものではなく、例えば、一般的なフレネルレンズや、非球面レンズ、
球面レンズ等、紫外線硬化型樹脂を用いて光学素子を成形する場合に、本発明を適用する
ことができる。
【符号の説明】
【００４０】
１ＰＦレンズ２ガラス基板
４１層目の樹脂層５回折格子
６２層目の樹脂層
１０光学素子の製造システム
１５照射装置２０変更ユニット（設定部、補正部）
２５制御部（比較部）２６記憶部
２７操作部３０測定装置
３５第１の成形型３６第２の成形型
ＵＶ照射光

【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形型を当接させた紫外線硬化型樹脂に対し紫外線を含む照射光を照射装置により照射
して、前記紫外線硬化型樹脂を硬化させることで光学素子の成形を行う光学素子の製造方
法であって、
前記光学素子の種類に応じて複数設定された前記光学素子に対する照射光の照度分布を
記憶装置に記憶させ、
前記記憶装置に記憶された前記複数の照射光の照度分布の中から、前記成形に用いる照
射光の照度分布を選択し、
前記選択した前記照射光の照度分布が得られるように前記照射装置の設定を行い、
前記設定を行った前記照射装置が照射する照射光の実際の照度分布を測定し、
前記選択した前記照射光の照度分布と、前記測定した前記照射光の実際の照度分布とを
比較し、
前記比較した結果に基づいて、前記照射装置が照射する前記照射光の実際の照度分布が
前記選択した前記照射光の照度分布となるように補正を行うことを特徴とする光学素子の
製造方法。
【請求項２】
成形型を当接させた紫外線硬化型樹脂に対し紫外線を含む照射光を照射装置により照射
して、前記紫外線硬化型樹脂を硬化させることで光学素子の成形を行う光学素子の製造シ
ステムであって、
前記光学素子の種類に応じて複数設定された前記光学素子に対する照射光の照度分布を
記憶する記憶装置と、
前記記憶装置に記憶された前記複数の照射光の照度分布の中から、前記成形に用いる照
射光の照度分布を選択する操作が行われる操作部と、
前記操作部の操作により選択された前記照射光の照度分布が得られるように前記照射装
置の設定を行う設定部と、
前記設定部により設定された前記照射装置が照射する照射光の実際の照度分布を測定す
る測定部と、
前記操作部の操作により選択された前記照射光の照度分布と、前記測定部により測定さ
れた前記照射光の実際の照度分布とを比較する比較部と、
前記比較部が比較した結果に基づいて、前記照射装置が照射する前記照射光の実際の照
度分布が前記操作部の操作により選択された前記照射光の照度分布となるように補正を行
う補正部とを備えて構成されることを特徴とする光学素子の製造システム。

【図１】