光情報記録媒体、及びその製造方法
【課題】Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体であって、記録特性に優れ、且つ、情報再生の経時劣化を抑制しうる光情報記録媒体を提供すること。
【解決手段】本発明の光情報記録媒体は、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層と、有機色素を含有する記録層と、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法により形成されてなるバリア層と、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜を前記バリア層と接する位置に含むカバー層とをこの順に有する。
【解決手段】本発明の光情報記録媒体は、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層と、有機色素を含有する記録層と、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法により形成されてなるバリア層と、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜を前記バリア層と接する位置に含むカバー層とをこの順に有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、短波長レーザー光を用いて情報の記録及び再生が可能な光情報記録媒体及びその製造方法に関するものであり、より詳しくは、Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＤＶＤを超える大容量の記録媒体としてＢｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体（以降、Ｂｌｕ−ｒａｙディスクと称する。）が実用化されている。
Ｂｌｕ−ｒａｙディスクでは、大容量を実現するために、ピックアップには、波長４０５ｎｍのレーザーを用い、レーザーの集束のための対物レンズの開口数ＮＡを０．８５として、従来の記録媒体用ピックアップよりも短波長化、高ＮＡ化している。これに伴い焦点距離が短くなり、記録側入射面から記録面までの距離が約１００μｍとなる。これを実現するためには、ＣＤ、ＤＶＤのように基板を通して記録再生を行うのではなく、Ｂｌｕ−ｒａｙディスクでは、基板上に記録層からなる記録面を形成し、その上におよそ１００μｍ厚みのカバー層を形成し、カバー層側から記録再生を行う方法がとられている。
ここで、カバー層の形成方法は、粘着材付きカバーシートを基板の記録面に貼り合わせる方法、基板の記録面とカバーシートを紫外線硬化型接着剤で貼り合わせる方法、基板の記録面に紫外線硬化樹脂にて１００μｍ厚みのカバー層を形成する、所謂オールスピン法などがあるが、生産性及びコストの観点から、貼り合わせ法やオールスピン法が多く採用されている。
【０００３】
現在、上記のようなカバー層を有するＢｌｕ−ｒａｙディスクとしては、複数回記録が可能な書き換え型の記録媒体と、一回記録可能な追記型の記録媒体が存在する。
書き換え型の記録媒体は、記録層に相変化方式を採用している。すなわち、照射するレーザー光の強度を変えることにより金属合金からなる記録層を、結晶−アモルファス状態間で相変化させ、両者の反射率差により信号の記録を行う方式である。
一方、追記型の記録媒体は、上述した相変化方式、複数の無機物層からなる記録層を溶解し両層を混合させることで反射率差を生じさせる方式、有機色素からなる記録層をレーザー照射により分解し、屈折率差を生じさせることで記録を行う色素方式等が、検討・実用化されている。
【０００４】
上記に記載の方式のうち、相変化方式や、複数の無機物を用いる方式では、記録媒体を製造する際に無機物からなる層を複数層積層させる必要がある。
この無機物からなる層の形成には、一般的には、マルチチャンバー型のスパッタリング装置が用いられている。しかしながら、マルチチャンバー型スパッタリング装置は高価であること、ターゲット交換にともなう稼働率の低下があるため、記録媒体の製造コストが高くなってしまうという難点がある。
これに対し、記録層に有機色素を用いる方式では、有機溶媒に溶解した色素を、回転する基板上に滴下し塗り広げることにより記録層を形成するスピンコート方式が一般的に用いられており、マルチチャンバー型のスパッタ装置に比べ大幅に装置が安価であり、記録媒体の製造コストの点で有利である。
【０００５】
従来、記録層に有機色素を用いた追記型のＣＤやＤＶＤでは、記録層に照射したレーザー光を記録層の有機色素が吸収し分解することにより、分解前後での屈折率差を生じさせ記録マークを形成させていた。一方、Ｂｌｕ−ｒａｙディスクでは、従来のＣＤ、ＤＶＤと信号極性が異なることから、記録層の屈折率変化のみでは十分な信号強度が得られない。そのため、記録層の分解と共にカバー層側に変形を生じることにより空隙を形成することで、屈折率差を大きくし、十分な信号強度を得ることを実現している。
その際、記録層中の有機色素の分解により生成したガスの圧力によりカバー層を変形させるが、カバー層の粘弾性が大きすぎると十分な変形をさせることができない。すなわち、有機色素の分解により発生したガスの圧力が低いとカバー層は弾性変形を生じるのみであり、変形が維持されないため、カバー層を変形させそれを維持するためには、カバー層の弾性変形領域を越え、塑性変形させることが可能な圧力を発生させる必要がある。
しかしながら、記録層は非常に薄く形成されており、そこに含まれる色素を分解したとしてもカバー層を塑性変形させるだけの十分な圧力を発生させることが困難である。そこで、カバー層自体の粘弾性を小さくすることにより、色素分解によって発生するガスによる圧力が小さい場合にも、塑性変形が可能となる。
【０００６】
カバー層の粘弾性を小さくする手段として、具体的には、カバー層のガラス転移温度（Ｔｇ）を０℃以下とする方法がある。この方法によれば、カバー層の粘弾性が小さく、十分な大きさの空隙の形成及び維持が可能である。
例えば、特許文献１〜３には、カバー層のガラス転移温度０℃以下であり、且つ、記録層に有機色素を用いたＢｌｕ−ｒａｙ方式の記録媒体が提案されている。
【特許文献１】特開２００６−９２７１０号公報
【特許文献２】特開２００６−３１３６１２号公報
【特許文献３】特開２００７−２６５４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、カバー層の形成に一般に用いられるアクリレート系接着剤の場合、構成するオリゴマーの分子鎖の長さや一分子中に含まれる架橋部位の数の調整等により、低Ｔｇのカバー層を実現することは可能である。しかしながら、低Ｔｇ化に伴い、接着力が低下するという問題がある。
これに対し、本発明者らが鋭意検討を行ったところ、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを用いることで低Ｔｇ化と高接着性とを両立することが可能であることが判明した。これは、硬化した樹脂膜中で、近傍に位置するウレタン結合同士が水素結合することによりガラス転移温度（Ｔｇ）が低い状態であっても、十分な接着性を得ることが可能になると考えられる。
【０００８】
また、カバー層のガラス転移温度が０℃以下である場合、使用環境である室温前後ではカバー層のガラス転移温度を上回っているため、流動性が高い状態となる。前述した貼り合せ方式、又はオールスピン方式の場合、カバー層を紫外線硬化樹脂を用いて形成するが、硬化後の紫外線硬化樹脂のガラス転移温度を０℃以下とするためには、架橋密度を下げる必要があるため、流動性が特に高い状態となる。
一方、記録層に有機色素を用いた記録媒体では、反射率を高めるために、通常、銀合金からなる光反射層が用いられる。
このような有機色素を含有する記録層及び光反射層に対し、架橋密度の低いカバー層を適用すると、情報の再生を継続した際にエラーが生じ、再生が困難になるという問題が生じることを、本発明者らは見出した。
【０００９】
そこで、本発明の目的は、Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体であって、記録特性に優れ、且つ、情報再生の経時劣化を抑制しうる光情報記録媒体、及び該光情報記録媒体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、カバー層に接して形成されるバリア層を、特定の密度条件を満たすスパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法により形成することで、記録特性が高く、また、情報再生の経時劣化が抑制されることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
即ち、上記目的は、下記手段により達成される。
本発明の光情報記録媒体は、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層と、有機色素を含有する記録層と、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法により形成されてなるバリア層と、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜を前記バリア層と接する位置に含むカバー層と、をこの順に有する。
【００１２】
本発明の光情報記録媒体において、バリア層の形成に用いるスパッタリングターゲットがＳｎＯ２を４０質量％以上含むことが好ましく、また、バリア層の膜厚が１０ｎｍ〜３０ｎｍであることが好ましい。
また、基板が有する案内溝のトラックピッチが５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましい。
更に、本発明の光情報記録媒体は、波長３９０ｎｍ〜４４０ｎｍのレーザー光の照射により情報を記録するために使用されることが好ましい態様である。
【００１３】
また、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層を形成する工程と、該光反射層上に有機色素を含有する記録層を形成する工程と、該記録層上に、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法によりバリア層を形成する工程と、該バリア層上に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させて硬化膜を形成して、該硬化膜を含むカバー層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
この製造方法において、バリア層の形成に用いるスパッタリングターゲットがＳｎＯ２を４０質量％以上含むことが好ましい態様である。
【００１４】
前述の情報の再生を継続した際にエラーが生じ、再生が困難になるという問題は、以下のようなメカニズムにより発生するものと推測される。
即ち、架橋密度が低く、流動性のあるカバー層では、硬化後にも関わらず、紫外線硬化樹脂中の一部成分が溶出し、記録層中に拡散する現象が発生するともの考えられる。特に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを用いた紫外線硬化樹脂を用い場合、該オリゴマー中のエステル基は加水分解性が高く、高温高湿環境下で加水分解により酸が生じ、記録層中への拡散現象が生じやすくなる。
このようにして記録層中に酸が拡散すると、その酸の作用により、光反射層中の銀が腐食して、記録層中に溶出してしまい、更に、溶出した銀が、再生光が照射されることで記録層中にて凝集し、記録層に欠陥を生成させてしまうと考えられる。その結果として、情報の再生を継続するとエラーが生じ、再生が困難になるものと推測される。
なお、前述した特許文献１〜３に記載のように、有機色素を含有する記録層とカバー層との間に無機層からなるバリア層を形成する態様が従来より知られているものの、一般的なバリア層膜厚は数ｎｍ〜数１０ｎｍと極めて薄いことなどもあり、情報再生の経時劣化といった新たな問題を解決することはできなかった。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体であって、記録特性に優れ、且つ、情報再生の経時劣化を抑制しうる光情報記録媒体、及び該光情報記録媒体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
＜光情報記録媒体及びその製造方法＞
本発明の光情報記録媒体は、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層と、有機色素を含有する記録層と、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法により形成されてなるバリア層と、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜を前記バリア層と接する位置に含むカバー層と、をこの順に有することを特徴とする。
また、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層を形成する工程と、該光反射層上に有機色素を含有する記録層を形成する工程と、該記録層上に、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法によりバリア層を形成する工程と、該バリア層上に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させて硬化膜を形成して、該硬化膜を含むカバー層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
以下、本発明の光情報記録媒体及びその製造方法について、光情報記録媒体を構成する各要素毎に、詳細に説明する。
【００１７】
［バリア層］
光情報記録媒体におけるバリア層の形成方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の方法が考えられるが、本発明においては、生産性において優位なスパッタリング法を採用している。
スパッタリング法は、陽極・陰極間に電圧を印加し、Ａｒ等の不活性ガスをイオン化させ、陰極側に配置したターゲット材料に不活性ガスイオンを衝突させることにより、ターゲット材料を飛散させ、陽極側に配置した対象物に、飛散したターゲット材料を積層する方法である。本発明において、この対象物は、基板上に光反射層及び記録層が形成された積層体であって、この積層体の記録層上にターゲット材料が積層されることで、本発明におけるバリア層が形成される。
なお、スパッタリング法はスパッタリングターゲットから対象物にターゲット材料を移動させる方法に他ならず、形成されたバリア層の組成・構造は、多少の変動はあったとしても概ねターゲット材料の組成・構造を再現することが可能である。
【００１８】
本発明におけるバリア層の形成には、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いることを特徴としている。このような高密度のスパッタリングターゲットを用いてバリア層を形成することで、後述する紫外線硬化型組成物中のウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーの分解生成物等の移動を防ぐことが可能となる。
即ち、上記のような高密度のスパッタリングターゲットを用いて、高密度のバリア層が形成されれば、バリア層の両側に形成されたカバー層と光反射層との間での物質移動が抑制されることから、上記分解生成物に起因する光反射層の腐食の防止が可能となる。
【００１９】
本発明において、スパッタリングターゲットの密度として好ましくは、バリア性の点から下限は５．８ｇ／ｃｍ３である。上限としては光透過性の観点から１２．０ｇ／ｃｍ３であり、より好ましくは、５．８ｇ／ｃｍ３〜９．０ｇ／ｃｍ３の範囲である。
【００２０】
本発明におけるバリア層の膜厚は、実用上、１０ｎｍ〜３０ｎｍ程度であることが好ましい。膜厚が１０ｎｍ以上であると、バリア層の破断等が起きず、記録時に形成した記録マーク形状を維持することが容易になる。また、膜厚が３０ｎｍ以下であると、記録時の変形抑制力が大きくなり過ぎず、十分な大きさの記録マークを形成することができる。
なお、前記のような高密度のスパッタリングターゲットを用いて形成されたバリア層では、上記の膜厚範囲でいずれも望む効果が得られるが、前記した範囲から外れる低密度のスパッタリングターゲットを用いて形成したバリア層では、上記の膜厚範囲のいずれにおいても望む効果が得られないことから、実用可能な１０ｎｍ〜３０ｎｍの膜厚範囲においては、バリア層の膜厚よりも、その密度が物質移動抑制への寄与が大きいと考えられる。
【００２１】
本発明におけるバリア層を形成するために用いるスパッタリングターゲットの組成は、前記の密度範囲を満足すれば特に限定されるものではないが、密度はスパッタリングターゲット組成に由来することから、使用できる材料は限られる。また、光情報記録媒体としての用途を考えると、記録再生波長において透明であることが重要である。それらの点から、一般に、金属の酸化物、窒化物、硫化物が用いられるが、本発明において好ましい材料としてはＳｎＯ２やＴａ２Ｏ５が挙げられる。製造上のコストの点を考慮すると、本発明では、Ｔａ２Ｏ５に比べ大幅に安価なＳｎＯ２を含むスパッタリングターゲットを用いることが好ましい。中でも、スパッタリングターゲット中にＳｎＯ２が４０質量％以上含まれていれば、前記範囲のスパッタリングターゲット密度を達成することが可能となるため、好ましい。特に、スパッタリングターゲット中にＳｎＯ２が４０質量％〜１００質量％で含むものが最も好ましい。
【００２２】
本発明のバリア層を形成する際のスパッタリング方式としては、高い製膜速度が実現可能なマグネトロンスパッタリング方式が好ましい。
用いる電源は、スパッタリングターゲットに応じて、直流（ＤＣ）電源、及び高周波（ＲＦ）電源のいずれかを用いる。即ち、スパッタリングターゲットが、金属若しくは半導体であれば直流電源を用い、スパッタリングターゲットが絶縁体であれば高周波電源を用いる。
スパッタリングパワーは、製膜速度の極端な低下が見られず、また、発生するイオンの持つエネルギーに起因するスパッタリングターゲットの損傷を抑制する点から、０．０５ｋＷ〜２０ｋＷの範囲を用いることが好適である。
イオン発生源となるガスとしては、スパッタリング率の高いＮｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ等の希ガスを用いることが好ましい。
また、スパッタリングチャンバー内での上記ガスの圧力は、プラズマの発生が抑制されず、イオンを効率よく発生するため、また、製膜速度の極端な低下を抑制する上で、０．０１Ｐａ〜１０Ｐａの範囲が良好である。
なお、最適な圧力値は、装置及びターゲット材料に依存することから、使用する装置、材料に応じて上記範囲内において好適な値を選択すればよい。
【００２３】
［カバー層］
本発明の光情報記録媒体におけるカバー層は、バリア層と接する位置に紫外線硬化型組成物に硬化させてなる硬化膜を含むことを特徴としている。
この硬化膜は、記録層中の空隙形成に伴う変形を良好に行い、十分な記録特性を得るために、ガラス転移温度が０℃以下であることが好ましい。より優れた記録特性を得るためには、硬化膜のガラス転移温度は−１０℃以下であることが好ましく、−２０℃以下であることが更に好ましい。また、剥離強度（接着性）との両立との点では、硬化膜のガラス転移温度は−１２５℃以上であることが好ましい。すなわち、本発明に用いられる硬化膜のガラス転移温度は０℃〜−１２５℃の範囲であることが好ましく、より好ましくは−１０℃〜−１００℃、更に好ましくは−２０℃〜−９０℃である。
なお、本発明における硬化膜のガラス転移温度（Ｔｇ）とは、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により求められるガラス転移温度（以下、「ガラス転移温度（ＤＳＣ）」ともいう。）である。
硬化膜のガラス転移温度は、硬化膜形成のために使用する紫外線硬化型組成物の処方、該組成物に含有されるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー等の紫外線硬化性化合物の種類、硬化条件等により制御することができる。
【００２４】
本発明におけるカバー層は、硬化膜形成に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を用いることを要する。この組成物は、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーに加え、後述する任意の成分を含む塗布液であり、これを用いることで、上記のような好ましい範囲のガラス転移温度を有する硬化膜を得ることができる。
本発明におけるカバー層は、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜のみからなる層であってもよいし、硬化膜とカバーシートとからなる層であってもよい。即ち、本発明におけるカバー層は、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜を有していれば、貼り合わせ法、及びオールスピン法のいずれによって形成されているものであってもよい。
以下、カバー層の形成に用いられるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーとそれを含有する紫外線硬化型組成物について説明する。
【００２５】
（ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー）
本発明において、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー中の「（メタ）アクリレート」とは、アクリル酸エステル（アクリレート）とメタクリル酸エステル（メタクリレート）を包含するものである。また、「ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー」とは、質量平均分子量１０００〜２００００のウレタン（メタ）アクリレートであり、好ましくは質量平均分子量１５００〜１８０００、より好ましくは質量平均分子量２０００〜１５０００のウレタン（メタ）アクリレートである。
【００２６】
本発明において用いられるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーは、ジオール成分に起因する部分構造と、イソシアネート成分に起因する部分構造と、（メタ）アクリレート成分に起因する部分構造と、を分子内に含むものである。
本発明で用いるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーは、下記のような市販品であってもよいし、後述する原料成分を用いて合成したものであっても構わない。
市販品としては、ダイセルサイテック株式会社製ウレタンアクリレートであるＥＢＥＣＲＹＬ−２３０（２官能、分子量５０００、Ｔｇ−５５℃）、ＥＢＥＣＲＹＬ−２７０（２官能、分子量１５００、Ｔｇ−２７℃）、ＫＲＭ８２９６（３官能、Ｔｇ−１１℃）、根上工業株式会社製ウレタンアクリレートであるＵＮ−７７００（２官能、分子量２００００）などが挙げられるが、本発明はこれらに限るものではない。
【００２７】
以下に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを合成する際に用いられる原料成分（ジオール成分、イソシアネート成分、（メタ）アクリレート成分）と合成例を挙げるが、本発明はこれらに限るものではない。
【００２８】
−ジオール成分−
ジオール成分としては、エチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール（分子量２００から９０００、好ましくは１０００から９０００、より好ましくは２０００から８０００のもの）、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール（分子量２００から９０００、好ましくは１０００から９０００、より好ましくは２０００から８０００のもの）、などが挙げられるが、本発明はこれらに限るものではない。
【００２９】
−イソシアネート成分−
イソシアネート成分としては、トリレンジイソシアネート（三井化学社製コスモネート（Ｒ）Ｔ６５／Ｔ８０／Ｔ１００）、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（三井化学社製コスモネート（Ｒ）ＰＨ）、ポリメリックＭＤＩ（三井化学社製コスモネート（Ｒ）Ｍ５０／１００／２００／３００）、ヘキサメチレンジイソシアネート（三井化学社製タケネート（Ｒ）７００）、キシリレンジイソシアネート（三井化学社製タケネート（Ｒ）５００）、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（三井化学社製タケネート（Ｒ）６００）、イソホロンジイソシアネート、４、４’−ジシクロヘキシルジイソシアネートが挙げられるが、本発明はこれらに限るものではない。
【００３０】
−（メタ）アクリレート成分−
（メタ）アクリレート成分としては、（メタ）アクリル酸に、エチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール（分子量２００から９０００、好ましくは１０００から９０００、より好ましくは２０００から８０００のもの）、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール（分子量２００から９０００、好ましくは１０００から９０００、より好ましくは２０００から８０００のもの）などの二官能性アルコール（ジオール）を反応させて得られるモノヒドロキシ（メタ）アクリレートが挙げられるが、本発明はこれらに限るものではない。
【００３１】
−合成例−
本発明に用いるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーは、例えば、ポリプロピレングリコール（分子量１０００）１モルと、イソホロンジイソシアネート２モルとの反応後、ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応させて合成することができる。
【００３２】
本発明においては、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーとして、二官能から五官能のものが好ましい。
また、本発明に用いるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーの重量平均分子量は１０００〜１００００が好ましい。
更に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、オリゴマー自体のガラス転移温度（Ｔｇ）が−５０〜５０℃のものを用いることが好ましい。
【００３３】
本発明で用いる紫外線硬化型組成物中、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーの含有量は、低Ｔｇ化と高接着性とを両立する観点から、組成物の質量に対して、２０質量％〜５０質量％が好ましく、２５質量％〜５０質量％がより好ましく、３０質量％〜５０質量％が更に好ましい。
上記の範囲を満たしていれば、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーは１種を単独で用いてもよいし、種以上組み合わせて使用することもできる。
【００３４】
（任意の成分）
本発明における紫外線硬化型組成物は、前述のウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーに加え、後述する任意の成分を含む塗布液である。
本発明における紫外線硬化型組成物は、任意成分として、単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレート等の重合性モノマーを含有することが好ましい。
【００３５】
−重合性モノマー−
本発明では、下記一般式（１）で表されるアクリレートと下記一般式（２）で表されるメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称し、同様に、アクリル酸とメタアクリル酸とを併せて（メタ）アクリル酸と称する。
【００３６】
【化１】
【００３７】
上記一般式（１）及び（２）中、Ｒ１は１価の置換基を表す。
【００３８】
本発明に使用可能な重合性モノマーとしては、例えば、以下のものが挙げられる。
即ち、単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、前記一般式（１）及び前記一般式（２）における１価の置換基のＲ１が、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシエチル基、ブトキシエチル基、フェノキシエチル基、ノニルフェノキシエチル基、テトラヒドロフルフリル基、グリシジル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル基、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、又はジシクロペンテニロキシエチル基等である（メタ）アクリレート等に加え、更に、（メタ）アクリル酸が好ましいものとして挙げられる。
上記の中でも、好ましい１価の置換基Ｒ１としては、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、又はドデシル基が挙げられる。
【００３９】
単官能（メタ）アクリレートの更に好ましい例としては、ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ノニルアクリレート、ドデシルメタクリレートが挙げられる。
【００４０】
また、多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ又はテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ又はテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール１モルに６モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たポリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４１】
中でも、好ましくは、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ又はテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール１モルに６モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たポリ（メタ）アクリレートである。
より好ましくは、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ又はテトラ（メタ）アクリレートである。
【００４２】
また、重合性モノマーとしては、前記単官能又は多官能（メタ）アクリレートに加え、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、アクリロイルモルホリン、ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルホルムアミド、酢酸ビニル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド、又はＮ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、及びそれらのアルキルエーテル化合物等も使用できる。
【００４３】
上述の重合性モノマーの選択や紫外線硬化型組成物中の含有量は、求められる硬化膜のガラス転移温度（Ｔｇ）に応じて、適宜、決定すればよい。
例えば、紫外線硬化型組成物１００質量部中、単官能（メタ）アクリレートが２０質量部〜９９質量部で、且つ、多官能（メタ）アクリレートが１質量部〜８０質量部であることが好ましく、単官能（メタ）アクリレートが３０質量部〜９９質量部で、且つ、多官能（メタ）アクリレートが１〜７０質量部であることがより好ましく、単官能（メタ）アクリレートが４０質量部〜９９質量部で、且つ、多官能（メタ）アクリレートが１質量部〜６０質量部であることが更に好ましい。
特に好ましくは、前記多官能（メタ）アクリレートのうち３官能以上の（メタ）アクリレートが５質量部未満であることである。
【００４４】
−その他の重合性オリゴマー−
更に、紫外線硬化型組成物には、上述のウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーに加え、発明の硬化を損なわない範囲において、その他の重合性オリゴマーを併用することができる。その他の重合性オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記のように、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーとその他の重合性オリゴマーとを併用する場合、全重合性オリゴマー中にウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーが２０質量％以上含まれることが好ましく、２５質量％以上含まれることがより好ましく、３０質量％以上含まれることがより好ましい。
【００４５】
−光重合開始剤−
本発明における紫外線硬化型組成物には、一般に光重合開始剤が添加される。
光重合開始剤は、用いる重合性オリゴマーや重合性モノマーに代表される紫外線硬化性化合物が硬化できるものであればよく、特に限定されるものではない。光重合開始剤としては、分子開裂型又は水素引き抜き型のものが本発明に好適である。
光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、ベンジル、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド等が好適であり、更に、これら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイルエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン等を用いてもよいし、更に、水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタロフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフイド等も用いることができる。
【００４６】
光重合開始剤として、上記の中でも好ましくは、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、４−フェニルベンゾフェノンであり、より好ましくは２−イソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、４−フェニルベンゾフェノンである。
【００４７】
光重合開始剤の含有量は、紫外線硬化型組成物１００質量部に対して、０．１質量部〜１５質量部が好ましく、０．３質量部〜１０質量部がより好ましい。
【００４８】
−増感剤−
また、本発明における紫外線硬化型組成物は、前記光重合開始剤に対応する増感剤を含有していてもよい。
増感剤として、例えば、トリエチルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述紫外線硬化性化合物と付加重合反応を起こさないアミン類が挙げられる。
勿論、上記光重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化性化合物との相溶性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
増感剤の含有量は、紫外線硬化型組成物１００質量部に対して、０．０５質量部〜１０質量部が好ましく、０．１質量部〜５質量部がより好ましい。
【００４９】
−その他の添加剤−
紫外線硬化型組成物としては、常温〜４０℃において、液状であるものを用いることが好ましい。溶媒は用いないことが好ましく、用いたとしても極力少量に留めることが好ましい。
また、紫外線硬化型組成物の塗布をスピンコーターで行う場合には、粘度は、好ましくは２０ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓであり、より好ましくは３０ｍＰａ・ｓ〜７００ｍＰａ・ｓであり、更に好ましくは４０〜５００ｍＰａ・ｓである。
このような粘度調整のために、増粘剤として、質量平均分子量１万以上のポリマーを用いることができる。少量の添加で所望の粘度とするためには、より高分子量のポリマー、すなわち質量平均分子量１０万以上のポリマーが好ましく、質量平均分子量１００万以上のポリマーを用いると更に好ましい。
【００５０】
また、紫外線硬化型組成物には、必要であれば、更にその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤、及びエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。
これらは、紫外線硬化性化合物との相溶性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００５１】
（硬化膜の形成）
本発明における硬化膜形成のために使用される紫外線硬化型組成物の詳細は、先に説明した通りである。
この硬化膜の形成方法は特に限定されないが、カバー層の態様によって、適宜、選択されればよい。
即ち、本発明におけるカバー層が硬化膜のみからなる態様であれば、バリア層の表面（被貼り合わせ面）上に、紫外線硬化型組成物を所定量塗布し、スピンコートにより該組成物を、被貼り合わせ面上に均一になるように広げた後、その塗布面側から紫外線を照射して硬化処理を施すことが好ましい（オールスピン法）。
なお、このオールスピン法の場合には、オリジン電気株式会社等から市販されている光ディスク貼り合わせ装置を用いてもよい。
また、本発明におけるカバー層が硬化膜とカバーシートからなる態様であれば、バリア層の表面（被貼り合わせ面）上に、紫外線硬化型組成物を所定量塗布し、その上にカバーシートを載せた後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバーシートとの間に均一になるように広げた後、カバーシート側から紫外線を照射して硬化処理を施すことが好ましい（貼り合わせ法）。
なお、この貼り合わせ法の場合には、芝浦メカトロニクス株式会社等から市販されている光ディスク貼り合わせ装置を用いてもよい
【００５２】
紫外線硬化型組成物を硬化させるための紫外線の照射量は、２００ｍＪ／ｃｍ２以上とすることが好ましい。より好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。
硬化に使用するＵＶランプとしては、例えば、Ｘｅｎｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製４．２ｉｎｃｈ−ＳＰＩＲＡＬ ＬＡＭＰを用いることができる。
また、紫外線照射時のランプ面と被照射面との間の距離は、適宜、設定することが好ましい。
【００５３】
通常、バリア層の表面（被貼り合わせ面）に紫外線硬化型組成物が塗布された後は、その積層体（基板上に、光反射層、記録層、バリア層、及び紫外線硬化型組成物の塗膜が設けられたもの）を紫外線照射位置へと移動させる（例えば、スピンテーブルから紫外線照射テーブルへの移動させる）。その移動の際には、積層体の外周部分又は内周部分で基板を保持して持ち上げて移動させることが望ましい。吸着などの方法で塗布面上から積層体を支持して持ち上げると、紫外線硬化型組成物が未硬化であるために積層体が変形したり、硬化膜に気泡が混入したりして、硬化膜の膜厚変動や欠陥の原因となる可能性がある。なお、積層体の外周部を保持して移動する場合においては、保持部材を定期的に清掃することが好ましい。外周部にはスピンコート時に振切られた未硬化の紫外線硬化型組成物が付着していることがあり、それが保持部材に付着することがあるためである。その結果、繰り返し同じ保持部材で積層体を移動すると、保持部材から積層体へと紫外線硬化型組成物が再付着して欠陥を生じる可能性がある。
【００５４】
また、紫外線照射位置（例えば紫外線照射テーブル上）では、積層体を保持する部位として、積層体の内周部、外周部、又は中周部などの中から一つの部位、或いは複数の部位が選択される。また、プレート状の保持部材で積層体の全面を均一に支持してもよい。複数の部位を保持する場合には、各々の部位の保持高さを変更することができる。これは、例えば、内周のみを保持した場合に、保持されていない積層体外周部が自重で下に垂れ、その形状で硬化されることで、硬化後の積層体に反りが生じる場合に、積層体の外周部も保持して垂れを抑制することで硬化後の反りを抑制するような場合であり、各保持部材の高さを調整して硬化後の積層体の形状を調整する効果が期待できる。
【００５５】
紫外線硬化型組成物の紫外線による硬化処理は、硬化塗膜のゲル分率が９０％以上となるように行うことが好ましい。硬化塗膜のゲル分率は、より好ましくは９２％以上、更に好ましくは９５％以上、最も好ましくは１００％である。
ゲル分率は、硬化の程度を示す指標であり、数値が高いほど硬化が進行していることを示し、９０％以上であれば硬化が十分に進行したと判断することができる。ゲル分率は、以下の方法により求めることができる。
硬化処理済みの塗膜からテストピースを切り取り、ゲル分率測定用試料とする。試料の質量（以下、Ｗ１と記す）を測定し、Ｗ１の１００倍の質量のメチルエチルケトン液中に浸漬した後、８０℃の加熱炉で８時間加熱し、未硬化成分を溶出させる。加熱終了後、１０分以内に溶液の上澄み液を除去し、２５℃５０％の環境で４８時間以上自然乾燥させた後、１００℃の加熱炉で３時間加熱乾燥して未硬化成分溶出後のサンプルを得て、未硬化成分溶出後の質量（以下、Ｗ２と記す）を測定する。上澄み液は、静置させた状態でスポイトなどを用いて吸取る形で除去することができる。上澄み液は８割〜９割を除去し、残りは自然乾燥、加熱乾燥で揮発させる。上記Ｗ１、Ｗ２から以下の式によりゲル分率を算出する。
ゲル分率（％）＝１００−（Ｗ１−Ｗ２）／Ｗ１×１００
【００５６】
本発明において、紫外線硬化型組成物を硬化してなる硬化膜の膜厚は、カバー層の態様によって、適宜、選択されればよい。
即ち、本発明におけるカバー層が硬化膜のみからなる態様であれば、硬化膜の厚さ＝カバー層との厚みとなるため、７０μｍ〜１３０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは９０μｍ〜１１０μｍの範囲、更に好ましくは９５μｍ〜１０５μｍの範囲である。
また、本発明におけるカバー層が硬化膜とカバーシートからなる態様であれば、硬化膜の膜厚は、０．１μｍ〜１００μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは０．５μｍ〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１μｍ〜３０μｍの範囲である。
【００５７】
（カバーシート）
本発明におけるカバー層が硬化膜とカバーシートからなる態様の場合に用いられるカバーシートとしては、透明な材質のフィルムからなるものであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
また、カバーシートを用いた態様のカバー層を形成する際には、該カバーシートを介して紫外線を照射することによって硬化処理が施されるため、カバーシートは紫外線透過性を有するものであることが好ましい。具体的には、紫外線硬化型組成物の硬化のために照射される紫外線に対して８０％以上の透過率を有することが好ましい。
【００５８】
また、カバーシートは、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。
例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤及び／又は５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
更に、カバーシートの表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバーシートの複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５９】
カバーシートの厚さは、０．０１ｍｍ〜０．５ｍｍの範囲内であることが好ましく、０．０５ｍｍ〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。
なお、カバーシートと硬化膜との厚みの総和が、前述のカバー層の厚みの範囲にとなるように、適宜、決定されればよい。
【００６０】
［基板］
本発明に用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料からなる基板を任意に選択して使用することができる。基板としては、透明な円盤状基板を用いることが好ましい。
基板材料として、具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
前記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。
また、基板の厚さは、一般に０．７ｍｍ〜２ｍｍの範囲であり、０．９ｍｍ〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０ｍｍ〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することもできる。
【００６１】
基板の記録層が形成される面には、複数のグルーブ及び隣接するグルーブの間に位置するランドからなるプリグルーブ（案内溝）が形成されている。このプリグルーブは以下に示す態様であることが、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために好ましく、以下に示す態様のプリグルーブは、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザーに対応する媒体（Ｂｌｕ−ｒａｙディスク）とする場合に好適である。
【００６２】
プリグルーブのトラックピッチは、好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲である。上限は４２０ｎｍ以下であることがより好ましく、３７０ｎｍ以下であることが更に好ましく、３３０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限は、１００ｎｍ以上であることがより好ましく、２００ｎｍ以上であることが更に好ましく、２６０ｎｍ以上であることが特に好ましい。トラックピッチが５０ｎｍ以上であれば、プリグルーブを正確に形成することができる上に、クロストークの発生を回避することができ、５００ｎｍ以下であれば、高密度記録を行うことができる。
特に、プリグルーブのトラックピッチは、１００ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲であることが好ましく、２００ｎｍ〜３７０ｎｍの範囲であることがより好ましく、２６０ｎｍ〜３３０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【００６３】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、２５ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲であることが好ましい。上限は２４０ｎｍ以下であることが好ましく、２３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が２５ｎｍ以上であれば、成型時に溝を十分に転写することができ、更に記録時のエラーレート上昇を抑制することができ、２５０ｎｍ以下であれば、同じく成型時に溝を十分に転写することができ、更に記録時に形成されるピットの広がりによりクロストークが発生することを回避することができる。
特に、プリグルーブの溝幅（半値幅）は、５０ｎｍ〜２４０ｎｍの範囲であることが好ましく、８０ｎｍ〜２３０ｎｍの範囲であることがより好ましく、１００ｎｍ〜２２０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【００６４】
プリグルーブの溝深さは、５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましい。上限は８５ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましく、７５ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２８ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが５ｎｍ以上であれば十分な記録変調度を得ることができ、１５０ｎｍ以下であれば、高い反射率を得ることができる。
特に、プリグルーブの溝深さは、１０ｎｍ〜８５ｎｍの範囲であることが好ましく、２０ｎｍ〜８０ｎｍの範囲であることがより好ましく、２８ｎｍ〜７５ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【００６５】
また、プリグルーブの溝傾斜角度は、上限が８０°以下であることが好ましく、７５°以下であることがより好ましく、７０°以下であることが更に好ましく、６５°以下であることが特に好ましい。また、下限は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝傾斜角度が２０°以上であれば、十分なトラッキングエラー信号振幅を得ることができ、８０°以下であれば成型性が良好である。
【００６６】
［光反射層］
本発明における光反射層は、銀を主成分とする銀合金からなる層である。
ここで、「銀を主成分とする銀合金」とは、銀の含有量が７０質量％以上、好ましくは９０質量％以上である合金を意味する。
銀合金中の銀以外の金属は、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｎｄ等の金属、又は半金属を挙げることができ、中でも、Ｐｄ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｎｄが好ましい。これらの銀以外の金属は、１種単独で用いてもよいし、或いは二種以上であってもよい。
銀合金として、特に好ましくは、Ｎｄ、Ｂｉ、Ｐｄを含有するものである。
【００６７】
本発明における光反射層は、例えば、真空蒸着、スパッタリング、又はイオンプレーティングの各方法を用いて基板上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には１０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲とし、２０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
【００６８】
［記録層］
本発明における記録層は、記録用の色素として、有機色素を含有する層である。
ここで、記録層に用いる有機色素としては、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、並びにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素、）、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素、ベンゾオキサゾール色素、アミノブタジエン、アゾメチン色素、ピリドポルフィラジン色素、ピラドポルフィラジン色素、ポルフィリン色素、ポルフィラジン色素が挙げられ、好ましくはフタロシアニン系化合物、アゾ化合物、並びにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素、）、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素が挙げられる。
中でも、前述のカバー層との組み合わせにおいて、特に、短波長レーザー光（好ましくは、波長３９０ｎｍ〜４４０ｎｍのレーザー光））照射により優れた記録特性を発揮し得るものとして、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、並びにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素）が好ましいものとして挙げることができる。
【００６９】
有機色素の使用量は、記録層の全質量に対して、例えば、１質量％〜１００質量％の範囲であり、好ましくは５０質量％〜１００質量％、より好ましくは７５質量％〜１００質量％の範囲である。
記録用の色素としては、前述の有機色素を１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００７０】
次に記録層の形成について説明する。
記録層は、有機色素を、結合剤等と共に、又は結合剤を用いないで適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、前述の光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成することができる。
ここで、記録層は、単層でも重層でもよい。塗布液を塗布する工程を複数回行うことにより、重層構造の記録層を形成することができる。
塗布液中の有機色素の濃度は、一般に０．０１質量％〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１質量％〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５質量％〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５質量％〜３質量％の範囲である。
【００７１】
塗布液の調製に用いる溶剤としては、例えば、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、或いは２種以上を組み合わせて使用することができる。
また、塗布液中には、更に、結合剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等の各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００７２】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
塗布の際、塗布液の温度は２３℃〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４℃〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２３℃〜３８℃の範囲であることが特に好ましい。
【００７３】
記録層の厚さは、ランド（基板においての凸部）上で１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であることが好ましく、グルーブ上で５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましい。ランド上での厚さの上限としては、７０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましい。
【００７４】
また、記録層の厚さは、グルーブ上（基板においての凹部）で、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。下限は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましい。
【００７５】
更に、ランド上の記録層の厚さとグルーブ上の記録層の厚さの比［（ランド上の記録層の厚さ）／（グルーブ上の記録層の厚さ）］は、０．１以上であることが好ましく、０．１３以上であることがより好ましく、０．１５以上であることが更に好ましく、０．１７以上であることが特に好ましい。また、上限としては、１以下であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることが更に好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
【００７６】
更に、記録層には、記録層の耐光性を向上させるために種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。
褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平１０−１５１８６１号公報に記載されている化合物が好ましい。
また、一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。
好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式（Ｉ）で表される化合物を挙げることができる。
【００７７】
【化２】
【００７８】
一般式（Ｉ）中、Ｒ２１は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、Ｑ−はアニオン
を表す。
【００７９】
一般式（Ｉ）において、Ｒ２１は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基）、アルキルチオ基（例、メチルチオ基、エチルチオ基）、アシル基（例、アセチル基、プロピオニル基）、アシルオキシ基（例、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基）、アルケニル基（例、ビニル基）、アリール基（例、フェニル基、ナフチル基）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ−のアニオンの好ましい例としては、ＣｌＯ４−、ＡｓＦ６−、ＢＦ４−、及びＳｂＦ６−を挙げることができる。
【００８０】
一般式（Ｉ）で表される化合物例（化合物番号Ｉ−１〜Ｉ−８）を下記表１に示す。
【００８１】
【表１】
【００８２】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、有機色素の量に対して、通常、０．１質量％〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５質量％〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３質量％〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５質量％〜２５質量％の範囲である。
【００８３】
［その他の層］
本発明の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲において、上記の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。
他の任意の層としては、例えば、基板の裏面（記録層が形成された側と逆側の非形成面側）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、光反射層と記録層との間に設けられる界面層、更に、カバー層上に設けられるハードコート層などが挙げられる。
ここで、前記レーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂などを用いて形成することができる。
また、前記ハードコート層としては、例えば、カバー層上に、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、硬化させることで形成してもよい。
なお、上記した必須及び任意の層はいずれも、単層でも、多層構造でもよい。
【００８４】
以上のようにして、案内溝を表面に有する基板上に、光反射層、記録層、バリア層、カバー層、及び必要に応じて、他の任意の層が設けられ、本発明の光情報記録媒体が得られる。
また、本発明の光情報記録媒体では、特定の密度のスパッタリングターゲットを用いて形成されたバリア層を有するため、銅合金からなる光反射層の腐食、及びそれに伴う情報再生時の欠陥増加を抑制することができる。また、カバー層において低Ｔｇ化と高接着性との両立が達成されているため、本発明の光情報記録媒体が、短波長レーザー光（特に、好ましくは波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光）の照射により情報が記録される際に、良好な記録特性を得ることができる。
そのため、本発明の光情報記録媒体は、短波長レーザー光（特に、好ましくは波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光）の照射により情報を記録するために使用されることが好ましい。
更に、前述のように、本発明の光情報記録媒体を構成する各要素は、従来のＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等と同様の方法で形成することができるため、製造が容易であるといった利点を有する。
【００８５】
＜光情報記録方法＞
光情報記録媒体に対する情報の記録は、記録層のレーザー光を照射された部分がその光学的特性を変えることによって行われる。光学的特性の変化は、記録層のレーザー光が照射された部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的又は化学的変化（例えば、ピットの生成）を生じることによってもたらされると考えられる。記録層に記録された情報の読み取り（再生）は、例えば、記録用のレーザー光と同様の波長のレーザー光を照射することにより、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部位）と変化しない部位（未記録部位）との反射率等の光学的特性の違いを検出することにより行うことができる。
本発明では、情報の記録は、好ましくは、レーザー光照射により記録に含まれる有機色素が熱分解し、それにより発生した気体によりピット内に空隙が形成されることによって行われる。より好ましくは、記録層中の有機色素がレーザー光を吸収することによって発熱し、それにより生じた熱によって該有機色素中の置換基又は色素骨格が分解して気体を発生する。これにより記録層中に空隙が形成され、また、その空隙が隣接するバリア層及び硬化膜を変形させることで、レーザー光照射により空隙が形成された部分とレーザー光未照射部との間に大きな屈折率差を生じさせることができ、記録特性を高めることができると考えられる。
本発明の光情報記録媒体に照射されるレーザー光の波長は、３９０ｎｍ〜４４０ｎｍであることが好ましい。
本発明の光情報記録媒体への情報の記録及び再生方法の詳細は後述する。
【００８６】
本発明の光情報記録方法は、本発明の光情報記録媒体へ、カバー層側から波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光を照射することにより、記録層へ情報を記録する方法である。
情報の記録に、波長３９０ｎｍ〜４４０ｎｍのレーザー光が用いられ、具体的には、４４０ｎｍ以下の範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が好適に用いられる。好ましい光源としては、３９０ｎｍ〜４４０（更に好ましくは３９０ｎｍ〜４１５ｎｍ）の範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に、記録密度の点で３９０ｎｍ〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。
上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながらレーザー光（好ましくは、情報の記録の際に用いたレーザー光と同様の波長のもの）をカバー層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００８７】
具体的には、光情報記録媒体に対する情報の記録は、例えば、次のように行われる。
まず、光情報記録媒体を一定の線速度（例えば０．５〜１０ｍ／秒）、又は一定の角速度にて回転させながら、カバー層側から半導体レーザー光等の記録用のレーザー光を、第一対物レンズ（例えば、開口数ＮＡが０．８５）を介して照射する。このレーザー光の照射により、記録層がレーザー光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的又は化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
【実施例】
【００８８】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。
【００８９】
（実施例１）
［光情報記録媒体の作製］
射出成形にて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状のプリグルーブ（深さ４０ｎｍ、溝幅１８０ｎｍ、トラックピッチ０．３２μｍ）を有する厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板に成形した。
続いて、基板のプリグルーブが設けられている面に対し、銀合金ターゲットＧＤ０２（株式会社コベルコ科研製、銀９８．７質量％含有）を、スパッタリング装置Ｃｕｂｅ（ＯＣ Ｏｅｒｌｉｋｏｎ Ｈｏｌｄｉｎｇｓ ＡＧ製）にてスパッタリングし膜厚５０ｎｍの光反射層を形成した。
その後、下記式（ａ）で示されるアゾ金属錯体（色素Ａ）０．７ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール（ダイキン工業株式会社製）１００ｍｌに溶解した塗布液を調整し、この塗布液をスピンコート法により上記基板の反射層上に塗布して、溝部（グルーブ上）の膜厚１６ｎｍの記録層を形成した。
【００９０】
続いて、バリア層ターゲットＮＳ−２（日鉱金属株式会社製）を用い、スパッタリング装置Ｃｕｂｅ（ＯＣ Ｏｅｒｌｉｋｏｎ Ｈｏｌｄｉｎｇｓ ＡＧ製）にて、ＤＣパワー２ｋＷ、スパッタリングガスとしてＡｒを用い、流量５ｓｃｃｍ、チャンバー内圧力０．２Ｐａの条件にてスパッタリングし、記録層上に膜厚２０ｎｍのバリア層を形成した。
その後、得られたバリア層上に、２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、脂肪族ウレタンアクリレートＥＢＥＣＲＹＬ２３０（ダイセルサイテック株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物を用いて、光ディスク貼り合わせ装置（芝浦メカトロニクス株式会社製）にて、厚さ９２μｍのポリカーボネートシートであるパンライト（帝人化成株式会社製）と貼りあわせた後、このポリカーボネートシート側から紫外線を照射した。これにより、厚さ１００μｍのカバー層を形成した。
更に、カバー層上に、ハードコート樹脂（ＴＤＫ株式会社製）をポリカーボネートシート上に、乾燥後の厚みが２μｍとなるように塗布し、その後、紫外線を照射し硬化させた。
以上のようにして、実施例１の光情報記録媒体を得た。
【００９１】
【化３】
【００９２】
［光情報記録媒体の評価１］
得られた実施例１の光情報記録媒体に対し、光ディスク記録再生装置ＤＤＵ−１０００及びマルチシグナルジェネレータ（パルステック株式会社製、レーザー波長：４０５ｎｍ、対物レンズ開口数：０．８５）を用いて、線速度を４．９２ｍ／ｓとして、Ｂｌｕ−Ｒａｙ規格に準拠した１−７ｐｐ変調信号を記録した。ＤＤＵ−１０００の波形等化後の出力信号及びクロック信号出力、並びにタイムインターバルアナライザーＴＡ５２０（横河電機株式会社製）を用い、記録トラックのＤａｔａ Ｔｏ Ｃｌｏｃｋ Ｊｉｔｔｅｒを、波形等化後の出力信号のポジティブエッジ（Ｌｅａｄｉｎｇエッジ）、及びネガティブエッジ（Ｔｒａｉｌｉｎｇエッジ）の双方について測定した。
【００９３】
（高温高湿下での保存）
得られた実施例１の光情報記録媒体を、恒温槽ＰＲ−３Ｋ（エスペック株式会社製）に入れ、６０℃９０％ＲＨ環境下で１６８時間放置した。
【００９４】
［光情報記録媒体の評価２］
上記の条件で高温高湿保存した後の光情報記録媒体を、光ディスク記録再生装置ＤＤＵ−１０００及びマルチシグナルジェネレータ（パルステック株式会社製、レーザー波長：４０５ｎｍ、対物レンズ開口数：０．８５）を用いて、線速度を４．９２ｍ／ｓとして、Ｂｌｕ−Ｒａｙ規格に準拠した１−７ｐｐ変調信号を記録した。
記録トラックのＲ−ＳＥＲをＤＤＵ−１０００にて測定した。その後、同トラックを２０分間（約２３０００回）、ＤＤＵ−１０００にてレーザーパワー０．３ｍＷにて連続再生し、その後、再度Ｒ−ＳＥＲを測定した。
【００９５】
上記の評価の結果、高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【００９６】
（実施例２）
実施例１において、記録層を形成する際に用いた「式（ａ）で示されるアゾ金属錯体（色素Ａ）」を、「下記式（２）で示されるアゾ金属錯体（色素Ｂ）」に代えた以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【００９７】
【化４】
【００９８】
（実施例３）
実施例１において、バリア層を形成する際に用いたスパッタリングターゲット「ＮＳ−２」を、ＮＳ−２Ｎ（日鉱金属株式会社製）に代えた以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した
【００９９】
（実施例４）
実施例３において、記録層を形成する際に用いた「式（ａ）で示されるアゾ金属錯体（色素Ａ）」を、「前記式（２）で示されるアゾ金属錯体（色素Ｂ）」に代えた以外は、実施例３と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１００】
（実施例５）
実施例１において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０１】
（実施例６）
実施例２において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「紫外線硬化樹脂として、２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、実施例２と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した
【０１０２】
（実施例７）
実施例３において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「紫外線硬化樹脂として、２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、実施例３と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した
【０１０３】
（実施例８）
実施例４において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、実施例４と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０４】
（実施例９）
実施例１において、バリア層の膜厚を１０ｎｍに代えた以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０５】
（実施例１０）
実施例１において、バリア層の膜厚を３０ｎｍに代えた以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０６】
（実施例１１）
実施例３において、バリア層の膜厚を３０ｎｍに代えた以外は、実施例３と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０７】
（実施例１２）
実施例３において、バリア層の膜厚を３０ｎｍに代えた以外は、実施例３と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０８】
（比較例１）
実施例１において、バリア層を形成する際に用いたスパッタリングターゲット「ＮＳ−２」を、Ｎｂ２Ｏｘ（株式会社豊島製作所製）とした以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して大幅に増加し、規格（≦２．０×１０−４）を外れた。
【０１０９】
（比較例２）
実施例２において、バリア層を形成する際に用いたスパッタリングターゲット「ＮＳ−２」を、バリア層ターゲットをＮｂ２Ｏｘ（株式会社豊島製作所製）に代えた以外は、実施例２と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して大幅に増加し、規格（≦２．０×１０−４）を外れた。
【０１１０】
（比較例３）
比較例１において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、比較例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して大幅に増加し、規格（≦２．０×１０−４）を外れた。
【０１１１】
（比較例４）
比較例２において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、比較例２と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して大幅に増加し、規格（≦２．０×１０−４）を外れた。
【０１１２】
前述の各実施例及び比較例において、カバー層の形成に用いたウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー、バリア層の形成に用いたスパッタリングターゲットの種類、その組成、及び密度、並びに、記録層に用いた有機色素の種類については、下記表２にまとめて記した。
また、各実施例及び比較例の光情報記録媒体の評価結果、即ち、高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ、高温高湿保存後の光情報記録媒体における初期のＲ−ＳＥＲ、及び２０分再生後のＲ−ＳＥＲの数値も、下記表２に示した。
【０１１３】
【表２】
【０１１４】
上記表２に明らかなように、実施例１〜１２の光情報記録媒体は、初期のＲ−ＳＥＲの数値と２０分再生後のＲ−ＳＥＲの数値との間に変化がないことが分かる。この結果から、情報再生の経時劣化が抑制されていることが分かり、情報の再生時に記録層中で欠陥が増加することが防止されているものと推測することができる。また、実施例１〜１２の光情報記録媒体は、Ｌｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒの数値から、記録特性が良好であることも分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１１５】
本発明の光情報記録媒体は、短波長レーザー光を照射することにより情報を記録するためのＢｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体として好適である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、短波長レーザー光を用いて情報の記録及び再生が可能な光情報記録媒体及びその製造方法に関するものであり、より詳しくは、Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＤＶＤを超える大容量の記録媒体としてＢｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体（以降、Ｂｌｕ−ｒａｙディスクと称する。）が実用化されている。
Ｂｌｕ−ｒａｙディスクでは、大容量を実現するために、ピックアップには、波長４０５ｎｍのレーザーを用い、レーザーの集束のための対物レンズの開口数ＮＡを０．８５として、従来の記録媒体用ピックアップよりも短波長化、高ＮＡ化している。これに伴い焦点距離が短くなり、記録側入射面から記録面までの距離が約１００μｍとなる。これを実現するためには、ＣＤ、ＤＶＤのように基板を通して記録再生を行うのではなく、Ｂｌｕ−ｒａｙディスクでは、基板上に記録層からなる記録面を形成し、その上におよそ１００μｍ厚みのカバー層を形成し、カバー層側から記録再生を行う方法がとられている。
ここで、カバー層の形成方法は、粘着材付きカバーシートを基板の記録面に貼り合わせる方法、基板の記録面とカバーシートを紫外線硬化型接着剤で貼り合わせる方法、基板の記録面に紫外線硬化樹脂にて１００μｍ厚みのカバー層を形成する、所謂オールスピン法などがあるが、生産性及びコストの観点から、貼り合わせ法やオールスピン法が多く採用されている。
【０００３】
現在、上記のようなカバー層を有するＢｌｕ−ｒａｙディスクとしては、複数回記録が可能な書き換え型の記録媒体と、一回記録可能な追記型の記録媒体が存在する。
書き換え型の記録媒体は、記録層に相変化方式を採用している。すなわち、照射するレーザー光の強度を変えることにより金属合金からなる記録層を、結晶−アモルファス状態間で相変化させ、両者の反射率差により信号の記録を行う方式である。
一方、追記型の記録媒体は、上述した相変化方式、複数の無機物層からなる記録層を溶解し両層を混合させることで反射率差を生じさせる方式、有機色素からなる記録層をレーザー照射により分解し、屈折率差を生じさせることで記録を行う色素方式等が、検討・実用化されている。
【０００４】
上記に記載の方式のうち、相変化方式や、複数の無機物を用いる方式では、記録媒体を製造する際に無機物からなる層を複数層積層させる必要がある。
この無機物からなる層の形成には、一般的には、マルチチャンバー型のスパッタリング装置が用いられている。しかしながら、マルチチャンバー型スパッタリング装置は高価であること、ターゲット交換にともなう稼働率の低下があるため、記録媒体の製造コストが高くなってしまうという難点がある。
これに対し、記録層に有機色素を用いる方式では、有機溶媒に溶解した色素を、回転する基板上に滴下し塗り広げることにより記録層を形成するスピンコート方式が一般的に用いられており、マルチチャンバー型のスパッタ装置に比べ大幅に装置が安価であり、記録媒体の製造コストの点で有利である。
【０００５】
従来、記録層に有機色素を用いた追記型のＣＤやＤＶＤでは、記録層に照射したレーザー光を記録層の有機色素が吸収し分解することにより、分解前後での屈折率差を生じさせ記録マークを形成させていた。一方、Ｂｌｕ−ｒａｙディスクでは、従来のＣＤ、ＤＶＤと信号極性が異なることから、記録層の屈折率変化のみでは十分な信号強度が得られない。そのため、記録層の分解と共にカバー層側に変形を生じることにより空隙を形成することで、屈折率差を大きくし、十分な信号強度を得ることを実現している。
その際、記録層中の有機色素の分解により生成したガスの圧力によりカバー層を変形させるが、カバー層の粘弾性が大きすぎると十分な変形をさせることができない。すなわち、有機色素の分解により発生したガスの圧力が低いとカバー層は弾性変形を生じるのみであり、変形が維持されないため、カバー層を変形させそれを維持するためには、カバー層の弾性変形領域を越え、塑性変形させることが可能な圧力を発生させる必要がある。
しかしながら、記録層は非常に薄く形成されており、そこに含まれる色素を分解したとしてもカバー層を塑性変形させるだけの十分な圧力を発生させることが困難である。そこで、カバー層自体の粘弾性を小さくすることにより、色素分解によって発生するガスによる圧力が小さい場合にも、塑性変形が可能となる。
【０００６】
カバー層の粘弾性を小さくする手段として、具体的には、カバー層のガラス転移温度（Ｔｇ）を０℃以下とする方法がある。この方法によれば、カバー層の粘弾性が小さく、十分な大きさの空隙の形成及び維持が可能である。
例えば、特許文献１〜３には、カバー層のガラス転移温度０℃以下であり、且つ、記録層に有機色素を用いたＢｌｕ−ｒａｙ方式の記録媒体が提案されている。
【特許文献１】特開２００６−９２７１０号公報
【特許文献２】特開２００６−３１３６１２号公報
【特許文献３】特開２００７−２６５４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、カバー層の形成に一般に用いられるアクリレート系接着剤の場合、構成するオリゴマーの分子鎖の長さや一分子中に含まれる架橋部位の数の調整等により、低Ｔｇのカバー層を実現することは可能である。しかしながら、低Ｔｇ化に伴い、接着力が低下するという問題がある。
これに対し、本発明者らが鋭意検討を行ったところ、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを用いることで低Ｔｇ化と高接着性とを両立することが可能であることが判明した。これは、硬化した樹脂膜中で、近傍に位置するウレタン結合同士が水素結合することによりガラス転移温度（Ｔｇ）が低い状態であっても、十分な接着性を得ることが可能になると考えられる。
【０００８】
また、カバー層のガラス転移温度が０℃以下である場合、使用環境である室温前後ではカバー層のガラス転移温度を上回っているため、流動性が高い状態となる。前述した貼り合せ方式、又はオールスピン方式の場合、カバー層を紫外線硬化樹脂を用いて形成するが、硬化後の紫外線硬化樹脂のガラス転移温度を０℃以下とするためには、架橋密度を下げる必要があるため、流動性が特に高い状態となる。
一方、記録層に有機色素を用いた記録媒体では、反射率を高めるために、通常、銀合金からなる光反射層が用いられる。
このような有機色素を含有する記録層及び光反射層に対し、架橋密度の低いカバー層を適用すると、情報の再生を継続した際にエラーが生じ、再生が困難になるという問題が生じることを、本発明者らは見出した。
【０００９】
そこで、本発明の目的は、Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体であって、記録特性に優れ、且つ、情報再生の経時劣化を抑制しうる光情報記録媒体、及び該光情報記録媒体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、カバー層に接して形成されるバリア層を、特定の密度条件を満たすスパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法により形成することで、記録特性が高く、また、情報再生の経時劣化が抑制されることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
即ち、上記目的は、下記手段により達成される。
本発明の光情報記録媒体は、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層と、有機色素を含有する記録層と、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法により形成されてなるバリア層と、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜を前記バリア層と接する位置に含むカバー層と、をこの順に有する。
【００１２】
本発明の光情報記録媒体において、バリア層の形成に用いるスパッタリングターゲットがＳｎＯ２を４０質量％以上含むことが好ましく、また、バリア層の膜厚が１０ｎｍ〜３０ｎｍであることが好ましい。
また、基板が有する案内溝のトラックピッチが５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましい。
更に、本発明の光情報記録媒体は、波長３９０ｎｍ〜４４０ｎｍのレーザー光の照射により情報を記録するために使用されることが好ましい態様である。
【００１３】
また、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層を形成する工程と、該光反射層上に有機色素を含有する記録層を形成する工程と、該記録層上に、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法によりバリア層を形成する工程と、該バリア層上に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させて硬化膜を形成して、該硬化膜を含むカバー層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
この製造方法において、バリア層の形成に用いるスパッタリングターゲットがＳｎＯ２を４０質量％以上含むことが好ましい態様である。
【００１４】
前述の情報の再生を継続した際にエラーが生じ、再生が困難になるという問題は、以下のようなメカニズムにより発生するものと推測される。
即ち、架橋密度が低く、流動性のあるカバー層では、硬化後にも関わらず、紫外線硬化樹脂中の一部成分が溶出し、記録層中に拡散する現象が発生するともの考えられる。特に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを用いた紫外線硬化樹脂を用い場合、該オリゴマー中のエステル基は加水分解性が高く、高温高湿環境下で加水分解により酸が生じ、記録層中への拡散現象が生じやすくなる。
このようにして記録層中に酸が拡散すると、その酸の作用により、光反射層中の銀が腐食して、記録層中に溶出してしまい、更に、溶出した銀が、再生光が照射されることで記録層中にて凝集し、記録層に欠陥を生成させてしまうと考えられる。その結果として、情報の再生を継続するとエラーが生じ、再生が困難になるものと推測される。
なお、前述した特許文献１〜３に記載のように、有機色素を含有する記録層とカバー層との間に無機層からなるバリア層を形成する態様が従来より知られているものの、一般的なバリア層膜厚は数ｎｍ〜数１０ｎｍと極めて薄いことなどもあり、情報再生の経時劣化といった新たな問題を解決することはできなかった。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、Ｂｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体であって、記録特性に優れ、且つ、情報再生の経時劣化を抑制しうる光情報記録媒体、及び該光情報記録媒体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
＜光情報記録媒体及びその製造方法＞
本発明の光情報記録媒体は、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層と、有機色素を含有する記録層と、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法により形成されてなるバリア層と、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜を前記バリア層と接する位置に含むカバー層と、をこの順に有することを特徴とする。
また、本発明の光情報記録媒体の製造方法は、案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層を形成する工程と、該光反射層上に有機色素を含有する記録層を形成する工程と、該記録層上に、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法によりバリア層を形成する工程と、該バリア層上に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させて硬化膜を形成して、該硬化膜を含むカバー層を形成する工程と、を有することを特徴とする。
以下、本発明の光情報記録媒体及びその製造方法について、光情報記録媒体を構成する各要素毎に、詳細に説明する。
【００１７】
［バリア層］
光情報記録媒体におけるバリア層の形成方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の方法が考えられるが、本発明においては、生産性において優位なスパッタリング法を採用している。
スパッタリング法は、陽極・陰極間に電圧を印加し、Ａｒ等の不活性ガスをイオン化させ、陰極側に配置したターゲット材料に不活性ガスイオンを衝突させることにより、ターゲット材料を飛散させ、陽極側に配置した対象物に、飛散したターゲット材料を積層する方法である。本発明において、この対象物は、基板上に光反射層及び記録層が形成された積層体であって、この積層体の記録層上にターゲット材料が積層されることで、本発明におけるバリア層が形成される。
なお、スパッタリング法はスパッタリングターゲットから対象物にターゲット材料を移動させる方法に他ならず、形成されたバリア層の組成・構造は、多少の変動はあったとしても概ねターゲット材料の組成・構造を再現することが可能である。
【００１８】
本発明におけるバリア層の形成には、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いることを特徴としている。このような高密度のスパッタリングターゲットを用いてバリア層を形成することで、後述する紫外線硬化型組成物中のウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーの分解生成物等の移動を防ぐことが可能となる。
即ち、上記のような高密度のスパッタリングターゲットを用いて、高密度のバリア層が形成されれば、バリア層の両側に形成されたカバー層と光反射層との間での物質移動が抑制されることから、上記分解生成物に起因する光反射層の腐食の防止が可能となる。
【００１９】
本発明において、スパッタリングターゲットの密度として好ましくは、バリア性の点から下限は５．８ｇ／ｃｍ３である。上限としては光透過性の観点から１２．０ｇ／ｃｍ３であり、より好ましくは、５．８ｇ／ｃｍ３〜９．０ｇ／ｃｍ３の範囲である。
【００２０】
本発明におけるバリア層の膜厚は、実用上、１０ｎｍ〜３０ｎｍ程度であることが好ましい。膜厚が１０ｎｍ以上であると、バリア層の破断等が起きず、記録時に形成した記録マーク形状を維持することが容易になる。また、膜厚が３０ｎｍ以下であると、記録時の変形抑制力が大きくなり過ぎず、十分な大きさの記録マークを形成することができる。
なお、前記のような高密度のスパッタリングターゲットを用いて形成されたバリア層では、上記の膜厚範囲でいずれも望む効果が得られるが、前記した範囲から外れる低密度のスパッタリングターゲットを用いて形成したバリア層では、上記の膜厚範囲のいずれにおいても望む効果が得られないことから、実用可能な１０ｎｍ〜３０ｎｍの膜厚範囲においては、バリア層の膜厚よりも、その密度が物質移動抑制への寄与が大きいと考えられる。
【００２１】
本発明におけるバリア層を形成するために用いるスパッタリングターゲットの組成は、前記の密度範囲を満足すれば特に限定されるものではないが、密度はスパッタリングターゲット組成に由来することから、使用できる材料は限られる。また、光情報記録媒体としての用途を考えると、記録再生波長において透明であることが重要である。それらの点から、一般に、金属の酸化物、窒化物、硫化物が用いられるが、本発明において好ましい材料としてはＳｎＯ２やＴａ２Ｏ５が挙げられる。製造上のコストの点を考慮すると、本発明では、Ｔａ２Ｏ５に比べ大幅に安価なＳｎＯ２を含むスパッタリングターゲットを用いることが好ましい。中でも、スパッタリングターゲット中にＳｎＯ２が４０質量％以上含まれていれば、前記範囲のスパッタリングターゲット密度を達成することが可能となるため、好ましい。特に、スパッタリングターゲット中にＳｎＯ２が４０質量％〜１００質量％で含むものが最も好ましい。
【００２２】
本発明のバリア層を形成する際のスパッタリング方式としては、高い製膜速度が実現可能なマグネトロンスパッタリング方式が好ましい。
用いる電源は、スパッタリングターゲットに応じて、直流（ＤＣ）電源、及び高周波（ＲＦ）電源のいずれかを用いる。即ち、スパッタリングターゲットが、金属若しくは半導体であれば直流電源を用い、スパッタリングターゲットが絶縁体であれば高周波電源を用いる。
スパッタリングパワーは、製膜速度の極端な低下が見られず、また、発生するイオンの持つエネルギーに起因するスパッタリングターゲットの損傷を抑制する点から、０．０５ｋＷ〜２０ｋＷの範囲を用いることが好適である。
イオン発生源となるガスとしては、スパッタリング率の高いＮｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ等の希ガスを用いることが好ましい。
また、スパッタリングチャンバー内での上記ガスの圧力は、プラズマの発生が抑制されず、イオンを効率よく発生するため、また、製膜速度の極端な低下を抑制する上で、０．０１Ｐａ〜１０Ｐａの範囲が良好である。
なお、最適な圧力値は、装置及びターゲット材料に依存することから、使用する装置、材料に応じて上記範囲内において好適な値を選択すればよい。
【００２３】
［カバー層］
本発明の光情報記録媒体におけるカバー層は、バリア層と接する位置に紫外線硬化型組成物に硬化させてなる硬化膜を含むことを特徴としている。
この硬化膜は、記録層中の空隙形成に伴う変形を良好に行い、十分な記録特性を得るために、ガラス転移温度が０℃以下であることが好ましい。より優れた記録特性を得るためには、硬化膜のガラス転移温度は−１０℃以下であることが好ましく、−２０℃以下であることが更に好ましい。また、剥離強度（接着性）との両立との点では、硬化膜のガラス転移温度は−１２５℃以上であることが好ましい。すなわち、本発明に用いられる硬化膜のガラス転移温度は０℃〜−１２５℃の範囲であることが好ましく、より好ましくは−１０℃〜−１００℃、更に好ましくは−２０℃〜−９０℃である。
なお、本発明における硬化膜のガラス転移温度（Ｔｇ）とは、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により求められるガラス転移温度（以下、「ガラス転移温度（ＤＳＣ）」ともいう。）である。
硬化膜のガラス転移温度は、硬化膜形成のために使用する紫外線硬化型組成物の処方、該組成物に含有されるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー等の紫外線硬化性化合物の種類、硬化条件等により制御することができる。
【００２４】
本発明におけるカバー層は、硬化膜形成に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を用いることを要する。この組成物は、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーに加え、後述する任意の成分を含む塗布液であり、これを用いることで、上記のような好ましい範囲のガラス転移温度を有する硬化膜を得ることができる。
本発明におけるカバー層は、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜のみからなる層であってもよいし、硬化膜とカバーシートとからなる層であってもよい。即ち、本発明におけるカバー層は、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜を有していれば、貼り合わせ法、及びオールスピン法のいずれによって形成されているものであってもよい。
以下、カバー層の形成に用いられるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーとそれを含有する紫外線硬化型組成物について説明する。
【００２５】
（ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー）
本発明において、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー中の「（メタ）アクリレート」とは、アクリル酸エステル（アクリレート）とメタクリル酸エステル（メタクリレート）を包含するものである。また、「ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー」とは、質量平均分子量１０００〜２００００のウレタン（メタ）アクリレートであり、好ましくは質量平均分子量１５００〜１８０００、より好ましくは質量平均分子量２０００〜１５０００のウレタン（メタ）アクリレートである。
【００２６】
本発明において用いられるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーは、ジオール成分に起因する部分構造と、イソシアネート成分に起因する部分構造と、（メタ）アクリレート成分に起因する部分構造と、を分子内に含むものである。
本発明で用いるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーは、下記のような市販品であってもよいし、後述する原料成分を用いて合成したものであっても構わない。
市販品としては、ダイセルサイテック株式会社製ウレタンアクリレートであるＥＢＥＣＲＹＬ−２３０（２官能、分子量５０００、Ｔｇ−５５℃）、ＥＢＥＣＲＹＬ−２７０（２官能、分子量１５００、Ｔｇ−２７℃）、ＫＲＭ８２９６（３官能、Ｔｇ−１１℃）、根上工業株式会社製ウレタンアクリレートであるＵＮ−７７００（２官能、分子量２００００）などが挙げられるが、本発明はこれらに限るものではない。
【００２７】
以下に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを合成する際に用いられる原料成分（ジオール成分、イソシアネート成分、（メタ）アクリレート成分）と合成例を挙げるが、本発明はこれらに限るものではない。
【００２８】
−ジオール成分−
ジオール成分としては、エチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール（分子量２００から９０００、好ましくは１０００から９０００、より好ましくは２０００から８０００のもの）、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール（分子量２００から９０００、好ましくは１０００から９０００、より好ましくは２０００から８０００のもの）、などが挙げられるが、本発明はこれらに限るものではない。
【００２９】
−イソシアネート成分−
イソシアネート成分としては、トリレンジイソシアネート（三井化学社製コスモネート（Ｒ）Ｔ６５／Ｔ８０／Ｔ１００）、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（三井化学社製コスモネート（Ｒ）ＰＨ）、ポリメリックＭＤＩ（三井化学社製コスモネート（Ｒ）Ｍ５０／１００／２００／３００）、ヘキサメチレンジイソシアネート（三井化学社製タケネート（Ｒ）７００）、キシリレンジイソシアネート（三井化学社製タケネート（Ｒ）５００）、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（三井化学社製タケネート（Ｒ）６００）、イソホロンジイソシアネート、４、４’−ジシクロヘキシルジイソシアネートが挙げられるが、本発明はこれらに限るものではない。
【００３０】
−（メタ）アクリレート成分−
（メタ）アクリレート成分としては、（メタ）アクリル酸に、エチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール（分子量２００から９０００、好ましくは１０００から９０００、より好ましくは２０００から８０００のもの）、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール（分子量２００から９０００、好ましくは１０００から９０００、より好ましくは２０００から８０００のもの）などの二官能性アルコール（ジオール）を反応させて得られるモノヒドロキシ（メタ）アクリレートが挙げられるが、本発明はこれらに限るものではない。
【００３１】
−合成例−
本発明に用いるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーは、例えば、ポリプロピレングリコール（分子量１０００）１モルと、イソホロンジイソシアネート２モルとの反応後、ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応させて合成することができる。
【００３２】
本発明においては、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーとして、二官能から五官能のものが好ましい。
また、本発明に用いるウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーの重量平均分子量は１０００〜１００００が好ましい。
更に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、オリゴマー自体のガラス転移温度（Ｔｇ）が−５０〜５０℃のものを用いることが好ましい。
【００３３】
本発明で用いる紫外線硬化型組成物中、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーの含有量は、低Ｔｇ化と高接着性とを両立する観点から、組成物の質量に対して、２０質量％〜５０質量％が好ましく、２５質量％〜５０質量％がより好ましく、３０質量％〜５０質量％が更に好ましい。
上記の範囲を満たしていれば、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーは１種を単独で用いてもよいし、種以上組み合わせて使用することもできる。
【００３４】
（任意の成分）
本発明における紫外線硬化型組成物は、前述のウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーに加え、後述する任意の成分を含む塗布液である。
本発明における紫外線硬化型組成物は、任意成分として、単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレート等の重合性モノマーを含有することが好ましい。
【００３５】
−重合性モノマー−
本発明では、下記一般式（１）で表されるアクリレートと下記一般式（２）で表されるメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称し、同様に、アクリル酸とメタアクリル酸とを併せて（メタ）アクリル酸と称する。
【００３６】
【化１】
【００３７】
上記一般式（１）及び（２）中、Ｒ１は１価の置換基を表す。
【００３８】
本発明に使用可能な重合性モノマーとしては、例えば、以下のものが挙げられる。
即ち、単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、前記一般式（１）及び前記一般式（２）における１価の置換基のＲ１が、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシエチル基、ブトキシエチル基、フェノキシエチル基、ノニルフェノキシエチル基、テトラヒドロフルフリル基、グリシジル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル基、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、又はジシクロペンテニロキシエチル基等である（メタ）アクリレート等に加え、更に、（メタ）アクリル酸が好ましいものとして挙げられる。
上記の中でも、好ましい１価の置換基Ｒ１としては、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、又はドデシル基が挙げられる。
【００３９】
単官能（メタ）アクリレートの更に好ましい例としては、ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ノニルアクリレート、ドデシルメタクリレートが挙げられる。
【００４０】
また、多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ又はテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ又はテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール１モルに６モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たポリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４１】
中でも、好ましくは、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ又はテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール１モルに６モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たポリ（メタ）アクリレートである。
より好ましくは、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール１モルに４モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ又はテトラ（メタ）アクリレートである。
【００４２】
また、重合性モノマーとしては、前記単官能又は多官能（メタ）アクリレートに加え、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、アクリロイルモルホリン、ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルホルムアミド、酢酸ビニル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド、又はＮ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、及びそれらのアルキルエーテル化合物等も使用できる。
【００４３】
上述の重合性モノマーの選択や紫外線硬化型組成物中の含有量は、求められる硬化膜のガラス転移温度（Ｔｇ）に応じて、適宜、決定すればよい。
例えば、紫外線硬化型組成物１００質量部中、単官能（メタ）アクリレートが２０質量部〜９９質量部で、且つ、多官能（メタ）アクリレートが１質量部〜８０質量部であることが好ましく、単官能（メタ）アクリレートが３０質量部〜９９質量部で、且つ、多官能（メタ）アクリレートが１〜７０質量部であることがより好ましく、単官能（メタ）アクリレートが４０質量部〜９９質量部で、且つ、多官能（メタ）アクリレートが１質量部〜６０質量部であることが更に好ましい。
特に好ましくは、前記多官能（メタ）アクリレートのうち３官能以上の（メタ）アクリレートが５質量部未満であることである。
【００４４】
−その他の重合性オリゴマー−
更に、紫外線硬化型組成物には、上述のウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーに加え、発明の硬化を損なわない範囲において、その他の重合性オリゴマーを併用することができる。その他の重合性オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記のように、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーとその他の重合性オリゴマーとを併用する場合、全重合性オリゴマー中にウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーが２０質量％以上含まれることが好ましく、２５質量％以上含まれることがより好ましく、３０質量％以上含まれることがより好ましい。
【００４５】
−光重合開始剤−
本発明における紫外線硬化型組成物には、一般に光重合開始剤が添加される。
光重合開始剤は、用いる重合性オリゴマーや重合性モノマーに代表される紫外線硬化性化合物が硬化できるものであればよく、特に限定されるものではない。光重合開始剤としては、分子開裂型又は水素引き抜き型のものが本発明に好適である。
光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、ベンジル、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド等が好適であり、更に、これら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイルエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン等を用いてもよいし、更に、水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタロフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフイド等も用いることができる。
【００４６】
光重合開始剤として、上記の中でも好ましくは、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、４−フェニルベンゾフェノンであり、より好ましくは２−イソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４’−（メチルチオ）−２−モルホリノプロピオフェノン、４−フェニルベンゾフェノンである。
【００４７】
光重合開始剤の含有量は、紫外線硬化型組成物１００質量部に対して、０．１質量部〜１５質量部が好ましく、０．３質量部〜１０質量部がより好ましい。
【００４８】
−増感剤−
また、本発明における紫外線硬化型組成物は、前記光重合開始剤に対応する増感剤を含有していてもよい。
増感剤として、例えば、トリエチルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述紫外線硬化性化合物と付加重合反応を起こさないアミン類が挙げられる。
勿論、上記光重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化性化合物との相溶性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
増感剤の含有量は、紫外線硬化型組成物１００質量部に対して、０．０５質量部〜１０質量部が好ましく、０．１質量部〜５質量部がより好ましい。
【００４９】
−その他の添加剤−
紫外線硬化型組成物としては、常温〜４０℃において、液状であるものを用いることが好ましい。溶媒は用いないことが好ましく、用いたとしても極力少量に留めることが好ましい。
また、紫外線硬化型組成物の塗布をスピンコーターで行う場合には、粘度は、好ましくは２０ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓであり、より好ましくは３０ｍＰａ・ｓ〜７００ｍＰａ・ｓであり、更に好ましくは４０〜５００ｍＰａ・ｓである。
このような粘度調整のために、増粘剤として、質量平均分子量１万以上のポリマーを用いることができる。少量の添加で所望の粘度とするためには、より高分子量のポリマー、すなわち質量平均分子量１０万以上のポリマーが好ましく、質量平均分子量１００万以上のポリマーを用いると更に好ましい。
【００５０】
また、紫外線硬化型組成物には、必要であれば、更にその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤、及びエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。
これらは、紫外線硬化性化合物との相溶性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００５１】
（硬化膜の形成）
本発明における硬化膜形成のために使用される紫外線硬化型組成物の詳細は、先に説明した通りである。
この硬化膜の形成方法は特に限定されないが、カバー層の態様によって、適宜、選択されればよい。
即ち、本発明におけるカバー層が硬化膜のみからなる態様であれば、バリア層の表面（被貼り合わせ面）上に、紫外線硬化型組成物を所定量塗布し、スピンコートにより該組成物を、被貼り合わせ面上に均一になるように広げた後、その塗布面側から紫外線を照射して硬化処理を施すことが好ましい（オールスピン法）。
なお、このオールスピン法の場合には、オリジン電気株式会社等から市販されている光ディスク貼り合わせ装置を用いてもよい。
また、本発明におけるカバー層が硬化膜とカバーシートからなる態様であれば、バリア層の表面（被貼り合わせ面）上に、紫外線硬化型組成物を所定量塗布し、その上にカバーシートを載せた後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバーシートとの間に均一になるように広げた後、カバーシート側から紫外線を照射して硬化処理を施すことが好ましい（貼り合わせ法）。
なお、この貼り合わせ法の場合には、芝浦メカトロニクス株式会社等から市販されている光ディスク貼り合わせ装置を用いてもよい
【００５２】
紫外線硬化型組成物を硬化させるための紫外線の照射量は、２００ｍＪ／ｃｍ２以上とすることが好ましい。より好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。
硬化に使用するＵＶランプとしては、例えば、Ｘｅｎｏｎ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製４．２ｉｎｃｈ−ＳＰＩＲＡＬ ＬＡＭＰを用いることができる。
また、紫外線照射時のランプ面と被照射面との間の距離は、適宜、設定することが好ましい。
【００５３】
通常、バリア層の表面（被貼り合わせ面）に紫外線硬化型組成物が塗布された後は、その積層体（基板上に、光反射層、記録層、バリア層、及び紫外線硬化型組成物の塗膜が設けられたもの）を紫外線照射位置へと移動させる（例えば、スピンテーブルから紫外線照射テーブルへの移動させる）。その移動の際には、積層体の外周部分又は内周部分で基板を保持して持ち上げて移動させることが望ましい。吸着などの方法で塗布面上から積層体を支持して持ち上げると、紫外線硬化型組成物が未硬化であるために積層体が変形したり、硬化膜に気泡が混入したりして、硬化膜の膜厚変動や欠陥の原因となる可能性がある。なお、積層体の外周部を保持して移動する場合においては、保持部材を定期的に清掃することが好ましい。外周部にはスピンコート時に振切られた未硬化の紫外線硬化型組成物が付着していることがあり、それが保持部材に付着することがあるためである。その結果、繰り返し同じ保持部材で積層体を移動すると、保持部材から積層体へと紫外線硬化型組成物が再付着して欠陥を生じる可能性がある。
【００５４】
また、紫外線照射位置（例えば紫外線照射テーブル上）では、積層体を保持する部位として、積層体の内周部、外周部、又は中周部などの中から一つの部位、或いは複数の部位が選択される。また、プレート状の保持部材で積層体の全面を均一に支持してもよい。複数の部位を保持する場合には、各々の部位の保持高さを変更することができる。これは、例えば、内周のみを保持した場合に、保持されていない積層体外周部が自重で下に垂れ、その形状で硬化されることで、硬化後の積層体に反りが生じる場合に、積層体の外周部も保持して垂れを抑制することで硬化後の反りを抑制するような場合であり、各保持部材の高さを調整して硬化後の積層体の形状を調整する効果が期待できる。
【００５５】
紫外線硬化型組成物の紫外線による硬化処理は、硬化塗膜のゲル分率が９０％以上となるように行うことが好ましい。硬化塗膜のゲル分率は、より好ましくは９２％以上、更に好ましくは９５％以上、最も好ましくは１００％である。
ゲル分率は、硬化の程度を示す指標であり、数値が高いほど硬化が進行していることを示し、９０％以上であれば硬化が十分に進行したと判断することができる。ゲル分率は、以下の方法により求めることができる。
硬化処理済みの塗膜からテストピースを切り取り、ゲル分率測定用試料とする。試料の質量（以下、Ｗ１と記す）を測定し、Ｗ１の１００倍の質量のメチルエチルケトン液中に浸漬した後、８０℃の加熱炉で８時間加熱し、未硬化成分を溶出させる。加熱終了後、１０分以内に溶液の上澄み液を除去し、２５℃５０％の環境で４８時間以上自然乾燥させた後、１００℃の加熱炉で３時間加熱乾燥して未硬化成分溶出後のサンプルを得て、未硬化成分溶出後の質量（以下、Ｗ２と記す）を測定する。上澄み液は、静置させた状態でスポイトなどを用いて吸取る形で除去することができる。上澄み液は８割〜９割を除去し、残りは自然乾燥、加熱乾燥で揮発させる。上記Ｗ１、Ｗ２から以下の式によりゲル分率を算出する。
ゲル分率（％）＝１００−（Ｗ１−Ｗ２）／Ｗ１×１００
【００５６】
本発明において、紫外線硬化型組成物を硬化してなる硬化膜の膜厚は、カバー層の態様によって、適宜、選択されればよい。
即ち、本発明におけるカバー層が硬化膜のみからなる態様であれば、硬化膜の厚さ＝カバー層との厚みとなるため、７０μｍ〜１３０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは９０μｍ〜１１０μｍの範囲、更に好ましくは９５μｍ〜１０５μｍの範囲である。
また、本発明におけるカバー層が硬化膜とカバーシートからなる態様であれば、硬化膜の膜厚は、０．１μｍ〜１００μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは０．５μｍ〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１μｍ〜３０μｍの範囲である。
【００５７】
（カバーシート）
本発明におけるカバー層が硬化膜とカバーシートからなる態様の場合に用いられるカバーシートとしては、透明な材質のフィルムからなるものであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
また、カバーシートを用いた態様のカバー層を形成する際には、該カバーシートを介して紫外線を照射することによって硬化処理が施されるため、カバーシートは紫外線透過性を有するものであることが好ましい。具体的には、紫外線硬化型組成物の硬化のために照射される紫外線に対して８０％以上の透過率を有することが好ましい。
【００５８】
また、カバーシートは、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。
例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤及び／又は５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
更に、カバーシートの表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバーシートの複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５９】
カバーシートの厚さは、０．０１ｍｍ〜０．５ｍｍの範囲内であることが好ましく、０．０５ｍｍ〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。
なお、カバーシートと硬化膜との厚みの総和が、前述のカバー層の厚みの範囲にとなるように、適宜、決定されればよい。
【００６０】
［基板］
本発明に用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料からなる基板を任意に選択して使用することができる。基板としては、透明な円盤状基板を用いることが好ましい。
基板材料として、具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
前記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。
また、基板の厚さは、一般に０．７ｍｍ〜２ｍｍの範囲であり、０．９ｍｍ〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０ｍｍ〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することもできる。
【００６１】
基板の記録層が形成される面には、複数のグルーブ及び隣接するグルーブの間に位置するランドからなるプリグルーブ（案内溝）が形成されている。このプリグルーブは以下に示す態様であることが、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために好ましく、以下に示す態様のプリグルーブは、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザーに対応する媒体（Ｂｌｕ−ｒａｙディスク）とする場合に好適である。
【００６２】
プリグルーブのトラックピッチは、好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲である。上限は４２０ｎｍ以下であることがより好ましく、３７０ｎｍ以下であることが更に好ましく、３３０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限は、１００ｎｍ以上であることがより好ましく、２００ｎｍ以上であることが更に好ましく、２６０ｎｍ以上であることが特に好ましい。トラックピッチが５０ｎｍ以上であれば、プリグルーブを正確に形成することができる上に、クロストークの発生を回避することができ、５００ｎｍ以下であれば、高密度記録を行うことができる。
特に、プリグルーブのトラックピッチは、１００ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲であることが好ましく、２００ｎｍ〜３７０ｎｍの範囲であることがより好ましく、２６０ｎｍ〜３３０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【００６３】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、２５ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲であることが好ましい。上限は２４０ｎｍ以下であることが好ましく、２３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が２５ｎｍ以上であれば、成型時に溝を十分に転写することができ、更に記録時のエラーレート上昇を抑制することができ、２５０ｎｍ以下であれば、同じく成型時に溝を十分に転写することができ、更に記録時に形成されるピットの広がりによりクロストークが発生することを回避することができる。
特に、プリグルーブの溝幅（半値幅）は、５０ｎｍ〜２４０ｎｍの範囲であることが好ましく、８０ｎｍ〜２３０ｎｍの範囲であることがより好ましく、１００ｎｍ〜２２０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【００６４】
プリグルーブの溝深さは、５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましい。上限は８５ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましく、７５ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２８ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが５ｎｍ以上であれば十分な記録変調度を得ることができ、１５０ｎｍ以下であれば、高い反射率を得ることができる。
特に、プリグルーブの溝深さは、１０ｎｍ〜８５ｎｍの範囲であることが好ましく、２０ｎｍ〜８０ｎｍの範囲であることがより好ましく、２８ｎｍ〜７５ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【００６５】
また、プリグルーブの溝傾斜角度は、上限が８０°以下であることが好ましく、７５°以下であることがより好ましく、７０°以下であることが更に好ましく、６５°以下であることが特に好ましい。また、下限は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝傾斜角度が２０°以上であれば、十分なトラッキングエラー信号振幅を得ることができ、８０°以下であれば成型性が良好である。
【００６６】
［光反射層］
本発明における光反射層は、銀を主成分とする銀合金からなる層である。
ここで、「銀を主成分とする銀合金」とは、銀の含有量が７０質量％以上、好ましくは９０質量％以上である合金を意味する。
銀合金中の銀以外の金属は、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｎｄ等の金属、又は半金属を挙げることができ、中でも、Ｐｄ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｎｄが好ましい。これらの銀以外の金属は、１種単独で用いてもよいし、或いは二種以上であってもよい。
銀合金として、特に好ましくは、Ｎｄ、Ｂｉ、Ｐｄを含有するものである。
【００６７】
本発明における光反射層は、例えば、真空蒸着、スパッタリング、又はイオンプレーティングの各方法を用いて基板上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には１０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲とし、２０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
【００６８】
［記録層］
本発明における記録層は、記録用の色素として、有機色素を含有する層である。
ここで、記録層に用いる有機色素としては、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、並びにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素、）、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素、ベンゾオキサゾール色素、アミノブタジエン、アゾメチン色素、ピリドポルフィラジン色素、ピラドポルフィラジン色素、ポルフィリン色素、ポルフィラジン色素が挙げられ、好ましくはフタロシアニン系化合物、アゾ化合物、並びにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素、）、トリアジン色素、ベンゾトリアゾール色素が挙げられる。
中でも、前述のカバー層との組み合わせにおいて、特に、短波長レーザー光（好ましくは、波長３９０ｎｍ〜４４０ｎｍのレーザー光））照射により優れた記録特性を発揮し得るものとして、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、並びにアゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素）が好ましいものとして挙げることができる。
【００６９】
有機色素の使用量は、記録層の全質量に対して、例えば、１質量％〜１００質量％の範囲であり、好ましくは５０質量％〜１００質量％、より好ましくは７５質量％〜１００質量％の範囲である。
記録用の色素としては、前述の有機色素を１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００７０】
次に記録層の形成について説明する。
記録層は、有機色素を、結合剤等と共に、又は結合剤を用いないで適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、前述の光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成することができる。
ここで、記録層は、単層でも重層でもよい。塗布液を塗布する工程を複数回行うことにより、重層構造の記録層を形成することができる。
塗布液中の有機色素の濃度は、一般に０．０１質量％〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１質量％〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５質量％〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５質量％〜３質量％の範囲である。
【００７１】
塗布液の調製に用いる溶剤としては、例えば、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、或いは２種以上を組み合わせて使用することができる。
また、塗布液中には、更に、結合剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等の各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００７２】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
塗布の際、塗布液の温度は２３℃〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４℃〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２３℃〜３８℃の範囲であることが特に好ましい。
【００７３】
記録層の厚さは、ランド（基板においての凸部）上で１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であることが好ましく、グルーブ上で５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましい。ランド上での厚さの上限としては、７０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましい。
【００７４】
また、記録層の厚さは、グルーブ上（基板においての凹部）で、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。下限は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましい。
【００７５】
更に、ランド上の記録層の厚さとグルーブ上の記録層の厚さの比［（ランド上の記録層の厚さ）／（グルーブ上の記録層の厚さ）］は、０．１以上であることが好ましく、０．１３以上であることがより好ましく、０．１５以上であることが更に好ましく、０．１７以上であることが特に好ましい。また、上限としては、１以下であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることが更に好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
【００７６】
更に、記録層には、記録層の耐光性を向上させるために種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。
褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平１０−１５１８６１号公報に記載されている化合物が好ましい。
また、一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。
好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式（Ｉ）で表される化合物を挙げることができる。
【００７７】
【化２】
【００７８】
一般式（Ｉ）中、Ｒ２１は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、Ｑ−はアニオン
を表す。
【００７９】
一般式（Ｉ）において、Ｒ２１は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基）、アルキルチオ基（例、メチルチオ基、エチルチオ基）、アシル基（例、アセチル基、プロピオニル基）、アシルオキシ基（例、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基）、アルケニル基（例、ビニル基）、アリール基（例、フェニル基、ナフチル基）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ−のアニオンの好ましい例としては、ＣｌＯ４−、ＡｓＦ６−、ＢＦ４−、及びＳｂＦ６−を挙げることができる。
【００８０】
一般式（Ｉ）で表される化合物例（化合物番号Ｉ−１〜Ｉ−８）を下記表１に示す。
【００８１】
【表１】
【００８２】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、有機色素の量に対して、通常、０．１質量％〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５質量％〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３質量％〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５質量％〜２５質量％の範囲である。
【００８３】
［その他の層］
本発明の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲において、上記の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。
他の任意の層としては、例えば、基板の裏面（記録層が形成された側と逆側の非形成面側）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、光反射層と記録層との間に設けられる界面層、更に、カバー層上に設けられるハードコート層などが挙げられる。
ここで、前記レーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂などを用いて形成することができる。
また、前記ハードコート層としては、例えば、カバー層上に、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、硬化させることで形成してもよい。
なお、上記した必須及び任意の層はいずれも、単層でも、多層構造でもよい。
【００８４】
以上のようにして、案内溝を表面に有する基板上に、光反射層、記録層、バリア層、カバー層、及び必要に応じて、他の任意の層が設けられ、本発明の光情報記録媒体が得られる。
また、本発明の光情報記録媒体では、特定の密度のスパッタリングターゲットを用いて形成されたバリア層を有するため、銅合金からなる光反射層の腐食、及びそれに伴う情報再生時の欠陥増加を抑制することができる。また、カバー層において低Ｔｇ化と高接着性との両立が達成されているため、本発明の光情報記録媒体が、短波長レーザー光（特に、好ましくは波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光）の照射により情報が記録される際に、良好な記録特性を得ることができる。
そのため、本発明の光情報記録媒体は、短波長レーザー光（特に、好ましくは波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光）の照射により情報を記録するために使用されることが好ましい。
更に、前述のように、本発明の光情報記録媒体を構成する各要素は、従来のＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ等と同様の方法で形成することができるため、製造が容易であるといった利点を有する。
【００８５】
＜光情報記録方法＞
光情報記録媒体に対する情報の記録は、記録層のレーザー光を照射された部分がその光学的特性を変えることによって行われる。光学的特性の変化は、記録層のレーザー光が照射された部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的又は化学的変化（例えば、ピットの生成）を生じることによってもたらされると考えられる。記録層に記録された情報の読み取り（再生）は、例えば、記録用のレーザー光と同様の波長のレーザー光を照射することにより、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部位）と変化しない部位（未記録部位）との反射率等の光学的特性の違いを検出することにより行うことができる。
本発明では、情報の記録は、好ましくは、レーザー光照射により記録に含まれる有機色素が熱分解し、それにより発生した気体によりピット内に空隙が形成されることによって行われる。より好ましくは、記録層中の有機色素がレーザー光を吸収することによって発熱し、それにより生じた熱によって該有機色素中の置換基又は色素骨格が分解して気体を発生する。これにより記録層中に空隙が形成され、また、その空隙が隣接するバリア層及び硬化膜を変形させることで、レーザー光照射により空隙が形成された部分とレーザー光未照射部との間に大きな屈折率差を生じさせることができ、記録特性を高めることができると考えられる。
本発明の光情報記録媒体に照射されるレーザー光の波長は、３９０ｎｍ〜４４０ｎｍであることが好ましい。
本発明の光情報記録媒体への情報の記録及び再生方法の詳細は後述する。
【００８６】
本発明の光情報記録方法は、本発明の光情報記録媒体へ、カバー層側から波長３９０〜４４０ｎｍのレーザー光を照射することにより、記録層へ情報を記録する方法である。
情報の記録に、波長３９０ｎｍ〜４４０ｎｍのレーザー光が用いられ、具体的には、４４０ｎｍ以下の範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が好適に用いられる。好ましい光源としては、３９０ｎｍ〜４４０（更に好ましくは３９０ｎｍ〜４１５ｎｍ）の範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に、記録密度の点で３９０ｎｍ〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。
上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながらレーザー光（好ましくは、情報の記録の際に用いたレーザー光と同様の波長のもの）をカバー層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００８７】
具体的には、光情報記録媒体に対する情報の記録は、例えば、次のように行われる。
まず、光情報記録媒体を一定の線速度（例えば０．５〜１０ｍ／秒）、又は一定の角速度にて回転させながら、カバー層側から半導体レーザー光等の記録用のレーザー光を、第一対物レンズ（例えば、開口数ＮＡが０．８５）を介して照射する。このレーザー光の照射により、記録層がレーザー光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的又は化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
【実施例】
【００８８】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。
【００８９】
（実施例１）
［光情報記録媒体の作製］
射出成形にて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状のプリグルーブ（深さ４０ｎｍ、溝幅１８０ｎｍ、トラックピッチ０．３２μｍ）を有する厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板に成形した。
続いて、基板のプリグルーブが設けられている面に対し、銀合金ターゲットＧＤ０２（株式会社コベルコ科研製、銀９８．７質量％含有）を、スパッタリング装置Ｃｕｂｅ（ＯＣ Ｏｅｒｌｉｋｏｎ Ｈｏｌｄｉｎｇｓ ＡＧ製）にてスパッタリングし膜厚５０ｎｍの光反射層を形成した。
その後、下記式（ａ）で示されるアゾ金属錯体（色素Ａ）０．７ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール（ダイキン工業株式会社製）１００ｍｌに溶解した塗布液を調整し、この塗布液をスピンコート法により上記基板の反射層上に塗布して、溝部（グルーブ上）の膜厚１６ｎｍの記録層を形成した。
【００９０】
続いて、バリア層ターゲットＮＳ−２（日鉱金属株式会社製）を用い、スパッタリング装置Ｃｕｂｅ（ＯＣ Ｏｅｒｌｉｋｏｎ Ｈｏｌｄｉｎｇｓ ＡＧ製）にて、ＤＣパワー２ｋＷ、スパッタリングガスとしてＡｒを用い、流量５ｓｃｃｍ、チャンバー内圧力０．２Ｐａの条件にてスパッタリングし、記録層上に膜厚２０ｎｍのバリア層を形成した。
その後、得られたバリア層上に、２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、脂肪族ウレタンアクリレートＥＢＥＣＲＹＬ２３０（ダイセルサイテック株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物を用いて、光ディスク貼り合わせ装置（芝浦メカトロニクス株式会社製）にて、厚さ９２μｍのポリカーボネートシートであるパンライト（帝人化成株式会社製）と貼りあわせた後、このポリカーボネートシート側から紫外線を照射した。これにより、厚さ１００μｍのカバー層を形成した。
更に、カバー層上に、ハードコート樹脂（ＴＤＫ株式会社製）をポリカーボネートシート上に、乾燥後の厚みが２μｍとなるように塗布し、その後、紫外線を照射し硬化させた。
以上のようにして、実施例１の光情報記録媒体を得た。
【００９１】
【化３】
【００９２】
［光情報記録媒体の評価１］
得られた実施例１の光情報記録媒体に対し、光ディスク記録再生装置ＤＤＵ−１０００及びマルチシグナルジェネレータ（パルステック株式会社製、レーザー波長：４０５ｎｍ、対物レンズ開口数：０．８５）を用いて、線速度を４．９２ｍ／ｓとして、Ｂｌｕ−Ｒａｙ規格に準拠した１−７ｐｐ変調信号を記録した。ＤＤＵ−１０００の波形等化後の出力信号及びクロック信号出力、並びにタイムインターバルアナライザーＴＡ５２０（横河電機株式会社製）を用い、記録トラックのＤａｔａ Ｔｏ Ｃｌｏｃｋ Ｊｉｔｔｅｒを、波形等化後の出力信号のポジティブエッジ（Ｌｅａｄｉｎｇエッジ）、及びネガティブエッジ（Ｔｒａｉｌｉｎｇエッジ）の双方について測定した。
【００９３】
（高温高湿下での保存）
得られた実施例１の光情報記録媒体を、恒温槽ＰＲ−３Ｋ（エスペック株式会社製）に入れ、６０℃９０％ＲＨ環境下で１６８時間放置した。
【００９４】
［光情報記録媒体の評価２］
上記の条件で高温高湿保存した後の光情報記録媒体を、光ディスク記録再生装置ＤＤＵ−１０００及びマルチシグナルジェネレータ（パルステック株式会社製、レーザー波長：４０５ｎｍ、対物レンズ開口数：０．８５）を用いて、線速度を４．９２ｍ／ｓとして、Ｂｌｕ−Ｒａｙ規格に準拠した１−７ｐｐ変調信号を記録した。
記録トラックのＲ−ＳＥＲをＤＤＵ−１０００にて測定した。その後、同トラックを２０分間（約２３０００回）、ＤＤＵ−１０００にてレーザーパワー０．３ｍＷにて連続再生し、その後、再度Ｒ−ＳＥＲを測定した。
【００９５】
上記の評価の結果、高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【００９６】
（実施例２）
実施例１において、記録層を形成する際に用いた「式（ａ）で示されるアゾ金属錯体（色素Ａ）」を、「下記式（２）で示されるアゾ金属錯体（色素Ｂ）」に代えた以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【００９７】
【化４】
【００９８】
（実施例３）
実施例１において、バリア層を形成する際に用いたスパッタリングターゲット「ＮＳ−２」を、ＮＳ−２Ｎ（日鉱金属株式会社製）に代えた以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した
【００９９】
（実施例４）
実施例３において、記録層を形成する際に用いた「式（ａ）で示されるアゾ金属錯体（色素Ａ）」を、「前記式（２）で示されるアゾ金属錯体（色素Ｂ）」に代えた以外は、実施例３と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１００】
（実施例５）
実施例１において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０１】
（実施例６）
実施例２において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「紫外線硬化樹脂として、２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、実施例２と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した
【０１０２】
（実施例７）
実施例３において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「紫外線硬化樹脂として、２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、実施例３と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した
【０１０３】
（実施例８）
実施例４において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、実施例４と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０４】
（実施例９）
実施例１において、バリア層の膜厚を１０ｎｍに代えた以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０５】
（実施例１０）
実施例１において、バリア層の膜厚を３０ｎｍに代えた以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０６】
（実施例１１）
実施例３において、バリア層の膜厚を３０ｎｍに代えた以外は、実施例３と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０７】
（実施例１２）
実施例３において、バリア層の膜厚を３０ｎｍに代えた以外は、実施例３と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して増加が見られず、規格（≦２．０×１０−４）を満足した。
【０１０８】
（比較例１）
実施例１において、バリア層を形成する際に用いたスパッタリングターゲット「ＮＳ−２」を、Ｎｂ２Ｏｘ（株式会社豊島製作所製）とした以外は、実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して大幅に増加し、規格（≦２．０×１０−４）を外れた。
【０１０９】
（比較例２）
実施例２において、バリア層を形成する際に用いたスパッタリングターゲット「ＮＳ−２」を、バリア層ターゲットをＮｂ２Ｏｘ（株式会社豊島製作所製）に代えた以外は、実施例２と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して大幅に増加し、規格（≦２．０×１０−４）を外れた。
【０１１０】
（比較例３）
比較例１において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、比較例１と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して大幅に増加し、規格（≦２．０×１０−４）を外れた。
【０１１１】
（比較例４）
比較例２において、カバー層を形成する際に用いた紫外線硬化型組成物を、「２−エチルヘキシルアクリレート５６質量％、ウレタンアクリレートＵＮ−７７００（根上工業株式会社製）４０質量％、ＩＲＧ−９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）４質量％を混合してなる紫外線硬化型組成物」に代えた以外は、比較例２と同様にして、光情報記録媒体を作製し、評価を実施した。
高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒは規格（≦７％）を満足し、良好な記録特性が得られた。また、高温高湿保存後の光情報記録媒体における２０分再生後のＲ−ＳＥＲは、記録直後に測定したＲ−ＳＥＲに対して大幅に増加し、規格（≦２．０×１０−４）を外れた。
【０１１２】
前述の各実施例及び比較例において、カバー層の形成に用いたウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー、バリア層の形成に用いたスパッタリングターゲットの種類、その組成、及び密度、並びに、記録層に用いた有機色素の種類については、下記表２にまとめて記した。
また、各実施例及び比較例の光情報記録媒体の評価結果、即ち、高温高湿保存前の光情報記録媒体におけるＬｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ、高温高湿保存後の光情報記録媒体における初期のＲ−ＳＥＲ、及び２０分再生後のＲ−ＳＥＲの数値も、下記表２に示した。
【０１１３】
【表２】
【０１１４】
上記表２に明らかなように、実施例１〜１２の光情報記録媒体は、初期のＲ−ＳＥＲの数値と２０分再生後のＲ−ＳＥＲの数値との間に変化がないことが分かる。この結果から、情報再生の経時劣化が抑制されていることが分かり、情報の再生時に記録層中で欠陥が増加することが防止されているものと推測することができる。また、実施例１〜１２の光情報記録媒体は、Ｌｅａｄｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒ及びＴｒａｉｌｉｎｇ Ｊｉｔｔｅｒの数値から、記録特性が良好であることも分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１１５】
本発明の光情報記録媒体は、短波長レーザー光を照射することにより情報を記録するためのＢｌｕ−ｒａｙ方式の光情報記録媒体として好適である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
案内溝を表面に有する基板の該表面上に、
銀を主成分とする銀合金からなる光反射層と、
有機色素を含有する記録層と、
密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法により形成されてなるバリア層と、
ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜を前記バリア層と接する位置に含むカバー層と、
をこの順に有する光情報記録媒体。
【請求項２】
前記バリア層の形成に用いるスパッタリングターゲットがＳｎＯ２を４０質量％以上含む請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記バリア層の膜厚が１０ｎｍ〜３０ｎｍである請求項１又は請求項２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記案内溝のトラックピッチが５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
波長３９０ｎｍ〜４４０ｎｍのレーザー光の照射により情報を記録するために使用される請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層を形成する工程と、
該光反射層上に有機色素を含有する記録層を形成する工程と、
該記録層上に、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法によりバリア層を形成する工程と、
該バリア層上に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させて硬化膜を形成して、該硬化膜を含むカバー層を形成する工程と、
を有する光情報記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記バリア層の形成に用いるスパッタリングターゲットがＳｎＯ２を４０質量％以上含む請求項６に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１】
案内溝を表面に有する基板の該表面上に、
銀を主成分とする銀合金からなる光反射層と、
有機色素を含有する記録層と、
密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法により形成されてなるバリア層と、
ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させてなる硬化膜を前記バリア層と接する位置に含むカバー層と、
をこの順に有する光情報記録媒体。
【請求項２】
前記バリア層の形成に用いるスパッタリングターゲットがＳｎＯ２を４０質量％以上含む請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記バリア層の膜厚が１０ｎｍ〜３０ｎｍである請求項１又は請求項２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記案内溝のトラックピッチが５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
波長３９０ｎｍ〜４４０ｎｍのレーザー光の照射により情報を記録するために使用される請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
案内溝を表面に有する基板の該表面上に、銀を主成分とする銀合金からなる光反射層を形成する工程と、
該光反射層上に有機色素を含有する記録層を形成する工程と、
該記録層上に、密度が５．８ｇ／ｃｍ３以上１２．０ｇ／ｃｍ３以下であるスパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法によりバリア層を形成する工程と、
該バリア層上に、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーを含有する紫外線硬化型組成物を硬化させて硬化膜を形成して、該硬化膜を含むカバー層を形成する工程と、
を有する光情報記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記バリア層の形成に用いるスパッタリングターゲットがＳｎＯ２を４０質量％以上含む請求項６に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【公開番号】特開２０１０−８６５７６（Ｐ２０１０−８６５７６Ａ）
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２５２６０２（Ｐ２００８−２５２６０２）
【出願日】平成２０年９月３０日（２００８．９．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年４月１５日（２０１０．４．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月３０日（２００８．９．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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