光照射装置
【課題】光源から出射され被照射体に照射される光の光量を増加させることができる光照射装置を提供する。
【解決手段】紫外線源（光源）としてのランプ４０から出射され、該ランプ４０の下方に配置された遮光マスクＭを透過した紫外線ＵＶを、該遮光マスクＭの下方に配置された被照射体としての貼り合わせ基板Ｗに照射させる紫外線照射装置において、遮光マスクＭの上方に設けられた支持部材としてのホルダ部材２４に吊下支持され、光透過性を有し、真空吸引により遮光マスクＭを吸着保持する吸着管３０を備える。
【解決手段】紫外線源（光源）としてのランプ４０から出射され、該ランプ４０の下方に配置された遮光マスクＭを透過した紫外線ＵＶを、該遮光マスクＭの下方に配置された被照射体としての貼り合わせ基板Ｗに照射させる紫外線照射装置において、遮光マスクＭの上方に設けられた支持部材としてのホルダ部材２４に吊下支持され、光透過性を有し、真空吸引により遮光マスクＭを吸着保持する吸着管３０を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、液晶等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ：Flat Panel Display）に用いる２枚の光透過性基板の貼り合わせ工程に使用する光照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の例えば紫外線照射装置では、光透過性を有する貼り合わせ基板間に介在された紫外線硬化性樹脂よりなるシール材に対して該基板越しに紫外線を照射することで、そのシール材を硬化させ該基板同士を貼り合わせるようになっている。このような光照射装置において、例えば特許文献１に示されるものでは、紫外線を出射するランプの下方に配置されたワークステージ上に基板が載置され、該基板とランプとの間に遮光マスクが配置されている。遮光マスクはガラス板の板面に所望のマスクパターンが形成されたものであり、ランプからの紫外線は遮光マスクにより部分的に遮光されるようになっている。このような光照射装置では、遮光マスクにより紫外線を基板のシール材部分のみに照射することが可能となり、そのシール材にて基板間に封止された液晶が紫外線の照射によって特性変化することを抑制できるようになっている。
【０００３】
ところで、上記したような遮光マスクの保持構造として、例えば特許文献１のものでは、光透過性を有する板状のマスク保持部材の下面に遮光マスクを吸着保持させるようになっている。マスク保持部材はその周縁部が支持されており、マスク保持部材の下面には真空源と連通される吸着溝等が形成されている。そして、吸着溝からの真空吸引により遮光マスクはマスク保持部材に密着保持される。このような光照射装置では、ランプからの紫外線はマスク保持部材及び遮光マスクを介して基板に照射されるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−６６５８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１のような紫外線照射装置では、ランプからの紫外線が遮光マスクだけでなくマスク保持部材をも透過する構成となっているため、マスク保持部材により基板に照射される紫外線量が低下してしまうという問題があった。近年のＦＰＤ等においては更なる大画面化が要求されており、貼り合わせる基板の大型化が図られているため、紫外線照射装置においても遮光マスクやマスク保持部材を大型化する必要があり、マスク保持部材の厚み寸法が大きくなると、上記のような紫外線量の低下の問題が顕著に現れてしまう。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、光源から出射され被照射体に照射される光の光量を増加させることができる光照射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、光源から出射され、該光源の下方に配置された遮光マスクを透過した光を、該遮光マスクの下方に配置された被照射体に照射させる光照射装置であって、前記遮光マスクの上方に設けられた支持部材に支持されて前記遮光マスクの真空吸引に用いられる光透過性を有した吸着管により前記遮光マスクを吸着保持することをその要旨とする。
【０００８】
この発明では、遮光マスクが吸着管に直接的に吸着保持されるため、板状のマスク保持部材が不要となり、その結果、被照射体に照射される光の光量を増加させることが可能となる。更には、吸着管は光透過性を有するため、被照射体に照射される光のムラを抑えることができる。
【発明の効果】
【０００９】
従って、上記記載の発明によれば、光源から出射され被照射体に照射される光の光量を増加させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本実施形態の紫外線照射装置を示す概略構成図。
【図２】貼り合わせ基板に照射される紫外線を示す模式図。
【図３】周縁部吸着管を示す概略構成図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のパネルを製造するパネル製造装置に用いられる紫外線照射装置に本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１に示す紫外線照射装置は、液晶パネルを構成する貼り合わせ基板Ｗ（図中、中央上部）の間に介在された紫外線硬化性樹脂よりなるシール材Ｓ（図２参照）に紫外線ＵＶを照射することで、そのシール材Ｓを硬化させるためのものである。尚、シール材Ｓが介在された貼り合わせ基板Ｗは、パネル製造装置におけるシール材塗布工程、液晶滴下工程及びプレス工程にて成形されるものである。これらの工程により、貼り合わせ基板Ｗ間にはシール材Ｓが板面に沿って枠状に形成され、そのシール材Ｓの枠中には滴下された液晶Ｌが存在している（図２参照）。
【００１２】
図１に示すように、平面をなす基部１上には上記プレス工程後に搬送される貼り合わせ基板Ｗを載置するためのワークステージ部１１が設けられている。ワークステージ部１１下段のワーク移動機構１２は、基部１上面に沿う方向に移動可能に設けられるとともに、基部１上面に対し水平方向に回転可能に設けられている。ワーク移動機構１２の上段にはワークステージ部１１の上下動作を行うための駆動部１３が設けられている。駆動部１３には一対のリフトピン１４が立設されるとともに、リフトピン１４の上下方向中間位置には各リフトピン１４に跨る支持台１５が固定されている。駆動部１３における各リフトピン１４の間には、支持台１５に挿通された柱状の可動部１６が上下方向に移動可能となるように設けられている。
【００１３】
可動部１６の上端には載置台としてのワークステージ本体１７が固定されるとともに、そのワークステージ本体１７の上面には平面状をなす載置面１７ａが形成されている。ワークステージ本体１７は、上記ワーク移動機構１２の動作に伴って平面移動及び回転するとともに、可動部１６の動作に伴って上下移動するようになっている。ワークステージ本体１７にはリフトピン１４がそれぞれ挿通される挿通孔１７ｂが貫通形成されるとともに、挿通孔１７ｂの両側位置には貫通孔１７ｃがそれぞれ形成されている。照射加工時において、このようなワークステージ本体１７の載置面１７ａに上記貼り合わせ基板Ｗが載置される。
【００１４】
ワークステージ部１１の周囲において基部１に立設された第１枠体２１は、その上端部が内側に屈曲されるとともに、該上端部には矩形状の開口２１ａが形成されている。尚、この開口２１ａは、貼り合わせ基板Ｗ及び遮光マスクＭの平面サイズよりも大きく形成されている。第１枠体２１は、その側方から上記貼り合わせ基板Ｗを挿入してワークステージ本体１７に載置可能となるように設けられている。また、第１枠体２１の上下方向中間位置において内側に延出するように設けられた一対の支持部２１ｂにはそれぞれ、前記ワークステージ部１１の位置合わせを行うためのアライメントカメラ２１ｃが前記貫通孔１７ｃの真下位置で固定されている。
【００１５】
第１枠体２１に支持された第２枠体２２は、該第１枠体２１から上方に延びるとともに、その上部には開口２２ａが形成されており、その開口２２ａ上部において第２枠体２２には支持梁２３が水平に延びるように架設されている。尚、支持梁２３はその長手方向と直交する方向（図１における紙面直交方向）に複数並設されている。各支持梁２３には支持部材としてのホルダ部材２４が、該支持梁２３の長手方向に複数並設されている。各ホルダ部材２４は、前記貼り合わせ基板Ｗの上方で遮光マスクＭを保持するための吸着管３０を支持している。各ホルダ部材２４は、支持梁２３の長手方向における配置位置が変更可能となっているとともに、支持梁２３の長手方向に直交する方向に若干移動可能に、且つ支持梁２３に対し水平方向に回動可能に設けられ、これにより吸着管３０の保持位置が所定の範囲で自在に変更可能となっている。
【００１６】
各吸着管３０は、ホルダ部材２４に吊下支持された第１の管材３１と、該第１の管材３１の下端部に固定された第２の管材３２とから構成されている。尚、これら第１及び第２の管材３１，３２はそれぞれ断面円筒状に形成されるとともに、それらの材質には石英ガラスが用いられている。各第１の管材３１は、ホルダ部材２４に挿通されるとともに、該第１の管材３１の上部開口端に固定された蓋体３３がホルダ部材２４上部に載置され、これにより、各第１の管材３１はその軸方向に移動可能に吊下支持されている。各第１の管材３１は蓋体３３に設けられた継ぎ手３４を介して真空源としての真空ポンプ３５に接続されており、該真空ポンプ３５から第１の管材３１内に負圧を供給可能となっている。
【００１７】
図２に示すように、第１の管材３１の下端は第２の管材３２の開口端に挿入されており、該第１及び第２の管材３１，３２は同軸となるように互いに固定されている。尚、図２では、図が煩雑になるのを防ぐため、第１及び第２の管材３１，３２の断面を示すハッチングの図示を省略している。第１の管材３１は第２の管材３２の軸方向中間部まで挿入され、第１及び第２の管材３１，３２は、第２の管材３２の外周面と第１の管材３１の内周面との間に介在された光透過性を有する紫外線硬化性樹脂よりなる接着剤（図示略）にて固定されている。
【００１８】
図１に示すように、支持梁２３の下方には細長形状の紫外線源（光源）としてのランプ４０が吸着管３０と干渉しない位置に配置されている。尚、ランプ４０はその長手方向が、支持梁２３の長手方向に沿うように配置されている。また、ランプ４０はその長手方向と直交する方向（図１における紙面直交方向）において、各吸着管３０の間に配置されるように複数並設されている。各ランプ４０は該ランプ４０の長手方向から見て下方に向けて所定角度で拡がるように紫外線ＵＶを出射する。また、前記支持梁２３及びホルダ部材２４は、ランプ４０から遮光マスクＭに照射される紫外線ＵＶの光路から外れた位置に設けられている。これにより、ランプ４０から出射される紫外線ＵＶが支持梁２３やホルダ部材２４に遮光されることが防止されている。
【００１９】
各吸着管３０は、真空ポンプ３５からの真空吸引により第２の管材３２の下端で遮光マスクＭを吸着保持している。図２に示すように、遮光マスクＭはガラス板Ｍａの板面に所望のパターンで遮光部Ｍｂが形成されてなり、その遮光部Ｍｂで上方からの紫外線ＵＶを遮光するとともに、透光部（遮光部Ｍｂ以外の箇所）で紫外線ＵＶを透過させるようになっている。遮光マスクＭは、その遮光部Ｍｂが貼り合わせ基板Ｗ間の液晶Ｌの上方に、透光部が貼り合わせ基板Ｗ間のシール材Ｓの上方に位置するように保持される。尚、遮光マスクＭの平面サイズは、貼り合わせ基板Ｗの平面サイズを略等しく設定されている。また、遮光マスクＭと貼り合わせ基板Ｗとの間には僅かなギャップが設定されている。このような遮光マスクＭは、貼り合わせ基板Ｗの種類に応じた複数種類のものが用意され、貼り合わせ基板Ｗの種類の変更に応じて交換可能となっている。
【００２０】
このような遮光マスクＭの種類に応じて吸着管３０の水平方向位置を調整可能となっており、各吸着管３０が遮光部Ｍｂの上方で遮光マスクＭを吸着するように構成することが可能となっている。これにより、ランプ４０からの紫外線ＵＶを吸着管３０に透過させずにシール材Ｓに照射させることが可能となり、シール材Ｓに照射される紫外線量を向上させることが可能である。尚、図２においては、説明の便宜のため、吸着管３０が遮光マスクＭの遮光部Ｍｂでなく透光部の上方で遮光マスクＭを吸着保持する場合を示している。
【００２１】
図１に示すように、前記第１枠体２１の上部には、遮光マスクＭの周縁部Ｍｃを吸着保持する周縁部吸着管４７を支持するための支持体４１が該遮光マスクＭの周縁部Ｍｃに沿って複数設けられている。図３に示すように、各支持体４１はそのベース部４２が第１枠体２１に固定されており、該ベース部４２の上面は水平に形成され、該上面には可動保持部４３が載置されている。ベース部４２及び可動保持部４３は、遮光マスクＭとは反対側の端面で弾性部材としての板ばね４４により互いに連結されている。可動保持部４３にはその下端から両側に延びるフランジ部４３ａ（片側のみ図示）が形成されている。各フランジ部４３ａの上端面には圧縮ばね４５ａを有する押圧部４５が複数設けられており、該押圧部４５からの付勢力により可動保持部４３はベース部４２に圧接するようになっている。尚、図１においては、図を簡単にするために押圧部４５の図示を省略している。
【００２２】
可動保持部４３には、遮光マスクＭの上方まで延びる連通管４６の基端が挿入固定され、該連通管４６の先端には石英ガラスよりなる周縁部吸着管４７が固定されている。周縁部吸着管４７における連通管４６と対応する位置には貫通孔４７ａが形成されており、該周縁部吸着管４７は連通管４６にて可動保持部４３と連通されている。また、周縁部吸着管４７の上端は封止部材４８により封止され、周縁部吸着管４７の下端面は、該周縁部吸着管４７の軸線に対し垂直となるように形成されている。尚、周縁部吸着管４７と連通管４６との間には固定を強固にするための補強リブ４９が設けられている。上記のような支持体４１では、可動保持部４３とベース部４２との間に生じる摩擦力によって周縁部吸着管４７がぐらつきなく安定して支持されている。
【００２３】
可動保持部４３は前記真空ポンプ３５と接続されており、該真空ポンプ３５から周縁部吸着管４７内に負圧を供給可能となっている。このような支持体４１では、真空ポンプ３５からの真空吸引により周縁部吸着管４７の下端で遮光マスクＭの周縁部Ｍｃを吸着保持している。このように、本実施形態の紫外線照射装置では、遮光マスクＭの周縁部Ｍｃが支持体４１に保持されているため、遮光マスクＭが安定保持され、該遮光マスクＭ及び吸着管３０のぐらつきが抑制されている。また、上記支持体４１では、板ばね４４及び押圧部４５の付勢力に抗して周縁部吸着管４７を上方に移動させることが可能となっている。また、可動保持部４３は、ベース部４２に圧接されている状態では、該ベース部４２との摩擦力により水平方向に移動し難くなっている。
【００２４】
上記のような紫外線照射装置では、図２に示すように、ランプ４０から出射された紫外線ＵＶ（図２において破線の矢印）は遮光マスクＭに直接到達、若しくは吸着管３０及び周縁部吸着管４７を透過して遮光マスクＭに到達する。そして、その紫外線ＵＶの一部が遮光マスクＭの透光部を透過して貼り合わせ基板Ｗへと到達し、該基板Ｗ間のシール材Ｓに照射されるようになっている。このように、吸着管３０で遮光マスクＭを保持する構成では、従来技術のような板状のマスク保持部材が不要となり、その結果、ランプ４０から出射され貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量を増加させることが可能となる。
【００２５】
また、吸着管３０を透過する紫外線ＵＶの中でも、第２の管材３２の上端面３２ａから該第２の管材３２に入射する紫外線ＵＶの一部は、該第２の管材３２内で全反射してその下端面３２ｂから下方に出射されるようになっている。即ち、第２の管材３２は紫外線ＵＶを案内する案内管の役割をなしており、吸着管３０の下方における紫外線ＵＶの紫外線量が増加するようになっている。これにより、吸着管３０の下方においても貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量を増加させることができ、その結果、貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶのムラを抑えることができるようになっている。また、第２の管材３２はその上端面３２ａ及び下端面３２ｂが研磨処理された研磨面となっている。これにより、上端面３２ａ及び下端面３２ｂを通過する際の紫外線ＵＶの拡散が抑えられ、その結果、吸着管３０の下方における紫外線ＵＶの紫外線量がより増加するようになっている。尚、周縁部吸着管４７の上端面から該吸着管４７内に入射する紫外線ＵＶも、上記第２の管材３２の場合と同様に、周縁部吸着管４７の下方へと導かれるようになっている。これにより、周縁部吸着管４７の下方における紫外線ＵＶの紫外線量が増加するようになっている。
【００２６】
上記のような紫外線照射装置において、遮光マスクＭの取付の際にはまず、ワークステージ本体１７を十分下げ、その載置面１７ａに遮光マスクＭが載置した後、ワークステージ本体１７を上昇させる。そして、遮光マスクＭを各吸着管３０及び各周縁部吸着管４７と当接させ、そのまま各吸着管３０及び各周縁部吸着管４７を若干上方に押し上げる位置まで、ワークステージ本体１７を上昇させる。これにより、各吸着管３０及び各周縁部吸着管４７の下部開口端が同一平面上に揃った状態となり、該下部開口端が全て遮光マスクＭにて塞がれる。この状態で、まず吸着管３０に真空ポンプ３５から負圧を供給して遮光マスクＭを吸着させ、次に周縁部吸着管４７に真空ポンプ３５から負圧を供給して遮光マスクＭの周縁部Ｍｃを吸着させるようになっている。また、遮光マスクＭの取り外しの際には、真空ポンプ３５から各吸着管３０及び各周縁部吸着管４７への負圧の供給を停止して、遮光マスクＭの吸着保持状態を解除するようになっている。このような吸着管３０及び周縁部吸着管４７による遮光マスクＭの保持構造により、遮光マスクＭの着脱が容易となり、該遮光マスクＭの交換性が向上されている。
【００２７】
次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
（１）本実施形態では、遮光マスクＭの上方に設けられた支持部材としてのホルダ部材２４に吊下支持され、光透過性を有し、真空吸引により遮光マスクＭを吸着保持する吸着管３０を備える。この構成によれば、遮光マスクＭが吸着管３０に直接的に吸着保持されるため、板状のマスク保持部材が不要となり、その結果、紫外線源（光源）としてのランプ４０から出射され被照射体としての貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量を増加させることが可能となる。更には、吸着管３０は光透過性を有するため、貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶのムラを抑えることができる。また、遮光マスクＭを容易に着脱することが可能となり、遮光マスクＭの交換性を向上させることができる。
【００２８】
（２）本実施形態では、ランプ４０から出射される紫外線ＵＶがホルダ部材２４にて遮られることを防ぐことができ、貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶのムラをより抑えることができる。
【００２９】
（３）本実施形態では、吸着管３０は、ホルダ部材２４に吊下支持される第１の管材３１と、該第１の管材３１の下端部が挿入された第２の管材３２とから構成される。この構成によれば、第２の管材３２の上端面３２ａから入射する紫外線ＵＶを該第２の管材３２の下方に導くことができるため、吸着管３０の下方においても貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量を増加させることができ、これにより、貼り合わせ基板Ｗへの照射される紫外線ＵＶのムラをより抑えることが可能である。
【００３０】
（４）本実施形態では、第２の管材３２の軸方向両端面（上端面３２ａ及び下端面３２ｂ）が研磨処理された研磨面であるため、紫外線ＵＶが該上端面３２ａ及び下端面３２ｂを通過する際の拡散が抑えられ、その結果、貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量をより増加させることができる。
【００３１】
（５）本実施形態では、吸着管３０に光の透過率が比較的高い石英ガラスを用いることで、貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量をより増加させることができる。
【００３２】
（６）本実施形態では、吸着管３０を保持するホルダ部材２４が水平方向に移動可能に設けられるため、吸着管３０の配置位置が変更可能となる。これにより、遮光マスクＭの種類を変更したときに、遮光マスクＭにおける遮光部Ｍｂに対応する位置で吸着させることが可能となる。これにより、ランプ４０からの紫外線ＵＶを吸着管３０に透過させずにシール材Ｓに照射させることが可能となり、シール材Ｓに照射される紫外線量を向上させることが可能である。
【００３３】
（７）本実施形態では、遮光マスクＭの側方に設けられた支持体４１に支持され、光透過性を有し、真空吸引により遮光マスクＭの周縁部Ｍｃを吸着保持する周縁部吸着管４７を備える。この構成によれば、遮光マスクＭを安定して保持することができ、該遮光マスクＭ及びホルダ部材２４に吊下支持された吸着管３０のぐらつきを抑制することができる。
【００３４】
（８）本実施形態では、遮光マスクＭが吸着管３０にて保持されるため、ＵＶエネルギー吸収によって生じる遮光マスクＭの熱膨張による歪みを吸収することができ、その結果、遮光マスクＭの撓みの発生を抑えることができる。また、周縁部吸着管４７を保持する可動保持部４３が水平方向に移動可能に設けられるため、該保持部４３においても遮光マスクＭの熱膨張による歪みを吸収することができ、その結果、遮光マスクＭの撓みの発生を抑えることができる。
【００３５】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、第１の管材３１及び第２の管材３２に石英ガラスが用いられたが、これ以外に例えば、高透過ガラスやｉ線ガラス等を用いてもよい。
【００３６】
・上記実施形態では、吸着管３０が第１及び第２の管材３１，３２から構成されたが、これ以外に例えば、第１の管材３１のみで構成してもよい。また、吸着管３０として、第１の管材３１と第２の管材３２とが一体に形成されたような形状の管材を用いてもよい。
【００３７】
・上記実施形態では、第１の管材３１の下端部が第２の管材３２の中腹部分に位置するように構成されたが、第１の管材３１の下端面と第２の管材３２の下端面３２ｂとが同一平面上に位置するように構成してもよく、また、第１の管材３１の下端面が第２の管材３２から若干突出するように構成してもよい。
【００３８】
・上記実施形態において、遮光マスクＭの吸着保持後に、支持体４１の可動保持部４３をベース部４２からの真空吸着等により該ベース部４２に対して固定するように構成してもよい。これにより、遮光マスクＭをより安定して保持することができる。
【００３９】
次に、上記実施形態及び別例から把握できる技術的思想について記載する。
（イ）前記支持部材は、前記光源から出射される光の光路から外れた位置に設けられたことを特徴とする光照射装置。
【００４０】
この光照射装置では、光源から出射される光が支持部材にて遮られることを防ぐことができ、被照射体に照射される光のムラをより抑えることができる。
（ロ）前記吸着管は、前記支持部材に支持される第１の管材と、該第１の管材の下端部が挿入された第２の管材とから構成されたことを特徴とする光照射装置。
【００４１】
この光照射装置では、第２の管材の上端面から入射する光を該第２の管材の下方に導くことができるため、吸着管の下方においても被照射体に照射される光の光量を増加させることができる。これにより、被照射体に照射される光のムラをより抑えることが可能である。
【００４２】
（ハ）前記第２の管材の軸方向端面は、研磨処理された研磨面であることを特徴とする光照射装置。
この光照射装置では、第２の管材の軸方向端面は研磨処理された研磨面であるため、第２の管材の軸方向端面に入射する光、又は該軸方向端面から出射する光の拡散が抑制され、被照射体に照射される光の光量をより増加させることができる。
【００４３】
（ニ）前記吸着管は、石英ガラスよりなることを特徴とする光照射装置。
この光照射装置では、吸着管に光の透過率が比較的高い石英ガラスを用いることで、被照射体に照射される光の光量をより増加させることができる。
【００４４】
（ホ）前記支持部材は、水平方向に移動可能に設けられたことを特徴とする光照射装置。
この光照射装置では、吸着管を保持する支持部材が水平方向に移動させることにより、吸着管の配置位置が変更可能となる。これにより、遮光マスクの種類を変更したときに、遮光マスクにおける遮光部に対応する位置で吸着させることが可能となり、その結果、光源からの光を吸着管に透過させずに遮光マスクの透光部に照射させることが可能となる。
【００４５】
（ヘ）光透過性を有し、真空吸引により前記遮光マスクの周縁部を吸着保持する周縁部吸着管と、前記周縁部吸着管を支持する支持体とを備えたことを特徴とする光照射装置。
この光照射装置では、遮光マスクの周縁部が、該遮光マスクの側方の支持体に支持された周縁部吸着管に吸着保持されるため、遮光マスクを安定して保持することができ、該遮光マスク及び支持部材に支持された吸着管のぐらつきを抑制することができる。
【００４６】
（ト）前記支持体は、前記遮光マスクの側方に設けられたことを特徴とする光照射装置。
この光照射装置では、遮光マスクの周縁部が、該遮光マスクの側方の支持体に支持された周縁部吸着管に吸着保持されるため、遮光マスクを安定して保持することができ、該遮光マスク及び支持部材に支持された吸着管のぐらつきを抑制することができる。
【００４７】
（チ）前記周縁部吸着管の上端面は、前記光源の下方に位置していることを特徴とする光照射装置。
【符号の説明】
【００４８】
Ｍ…遮光マスク、Ｍｃ…遮光マスクの周縁部、ＵＶ…紫外線、２４…支持部材としてのホルダ部材、３０…吸着管、３１…第１の管材、３２…第２の管材、４０…紫外線源（光源）としてのランプ、４１…支持体、４７…周縁部吸着管。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、液晶等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ：Flat Panel Display）に用いる２枚の光透過性基板の貼り合わせ工程に使用する光照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の例えば紫外線照射装置では、光透過性を有する貼り合わせ基板間に介在された紫外線硬化性樹脂よりなるシール材に対して該基板越しに紫外線を照射することで、そのシール材を硬化させ該基板同士を貼り合わせるようになっている。このような光照射装置において、例えば特許文献１に示されるものでは、紫外線を出射するランプの下方に配置されたワークステージ上に基板が載置され、該基板とランプとの間に遮光マスクが配置されている。遮光マスクはガラス板の板面に所望のマスクパターンが形成されたものであり、ランプからの紫外線は遮光マスクにより部分的に遮光されるようになっている。このような光照射装置では、遮光マスクにより紫外線を基板のシール材部分のみに照射することが可能となり、そのシール材にて基板間に封止された液晶が紫外線の照射によって特性変化することを抑制できるようになっている。
【０００３】
ところで、上記したような遮光マスクの保持構造として、例えば特許文献１のものでは、光透過性を有する板状のマスク保持部材の下面に遮光マスクを吸着保持させるようになっている。マスク保持部材はその周縁部が支持されており、マスク保持部材の下面には真空源と連通される吸着溝等が形成されている。そして、吸着溝からの真空吸引により遮光マスクはマスク保持部材に密着保持される。このような光照射装置では、ランプからの紫外線はマスク保持部材及び遮光マスクを介して基板に照射されるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−６６５８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１のような紫外線照射装置では、ランプからの紫外線が遮光マスクだけでなくマスク保持部材をも透過する構成となっているため、マスク保持部材により基板に照射される紫外線量が低下してしまうという問題があった。近年のＦＰＤ等においては更なる大画面化が要求されており、貼り合わせる基板の大型化が図られているため、紫外線照射装置においても遮光マスクやマスク保持部材を大型化する必要があり、マスク保持部材の厚み寸法が大きくなると、上記のような紫外線量の低下の問題が顕著に現れてしまう。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、光源から出射され被照射体に照射される光の光量を増加させることができる光照射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、光源から出射され、該光源の下方に配置された遮光マスクを透過した光を、該遮光マスクの下方に配置された被照射体に照射させる光照射装置であって、前記遮光マスクの上方に設けられた支持部材に支持されて前記遮光マスクの真空吸引に用いられる光透過性を有した吸着管により前記遮光マスクを吸着保持することをその要旨とする。
【０００８】
この発明では、遮光マスクが吸着管に直接的に吸着保持されるため、板状のマスク保持部材が不要となり、その結果、被照射体に照射される光の光量を増加させることが可能となる。更には、吸着管は光透過性を有するため、被照射体に照射される光のムラを抑えることができる。
【発明の効果】
【０００９】
従って、上記記載の発明によれば、光源から出射され被照射体に照射される光の光量を増加させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本実施形態の紫外線照射装置を示す概略構成図。
【図２】貼り合わせ基板に照射される紫外線を示す模式図。
【図３】周縁部吸着管を示す概略構成図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のパネルを製造するパネル製造装置に用いられる紫外線照射装置に本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１に示す紫外線照射装置は、液晶パネルを構成する貼り合わせ基板Ｗ（図中、中央上部）の間に介在された紫外線硬化性樹脂よりなるシール材Ｓ（図２参照）に紫外線ＵＶを照射することで、そのシール材Ｓを硬化させるためのものである。尚、シール材Ｓが介在された貼り合わせ基板Ｗは、パネル製造装置におけるシール材塗布工程、液晶滴下工程及びプレス工程にて成形されるものである。これらの工程により、貼り合わせ基板Ｗ間にはシール材Ｓが板面に沿って枠状に形成され、そのシール材Ｓの枠中には滴下された液晶Ｌが存在している（図２参照）。
【００１２】
図１に示すように、平面をなす基部１上には上記プレス工程後に搬送される貼り合わせ基板Ｗを載置するためのワークステージ部１１が設けられている。ワークステージ部１１下段のワーク移動機構１２は、基部１上面に沿う方向に移動可能に設けられるとともに、基部１上面に対し水平方向に回転可能に設けられている。ワーク移動機構１２の上段にはワークステージ部１１の上下動作を行うための駆動部１３が設けられている。駆動部１３には一対のリフトピン１４が立設されるとともに、リフトピン１４の上下方向中間位置には各リフトピン１４に跨る支持台１５が固定されている。駆動部１３における各リフトピン１４の間には、支持台１５に挿通された柱状の可動部１６が上下方向に移動可能となるように設けられている。
【００１３】
可動部１６の上端には載置台としてのワークステージ本体１７が固定されるとともに、そのワークステージ本体１７の上面には平面状をなす載置面１７ａが形成されている。ワークステージ本体１７は、上記ワーク移動機構１２の動作に伴って平面移動及び回転するとともに、可動部１６の動作に伴って上下移動するようになっている。ワークステージ本体１７にはリフトピン１４がそれぞれ挿通される挿通孔１７ｂが貫通形成されるとともに、挿通孔１７ｂの両側位置には貫通孔１７ｃがそれぞれ形成されている。照射加工時において、このようなワークステージ本体１７の載置面１７ａに上記貼り合わせ基板Ｗが載置される。
【００１４】
ワークステージ部１１の周囲において基部１に立設された第１枠体２１は、その上端部が内側に屈曲されるとともに、該上端部には矩形状の開口２１ａが形成されている。尚、この開口２１ａは、貼り合わせ基板Ｗ及び遮光マスクＭの平面サイズよりも大きく形成されている。第１枠体２１は、その側方から上記貼り合わせ基板Ｗを挿入してワークステージ本体１７に載置可能となるように設けられている。また、第１枠体２１の上下方向中間位置において内側に延出するように設けられた一対の支持部２１ｂにはそれぞれ、前記ワークステージ部１１の位置合わせを行うためのアライメントカメラ２１ｃが前記貫通孔１７ｃの真下位置で固定されている。
【００１５】
第１枠体２１に支持された第２枠体２２は、該第１枠体２１から上方に延びるとともに、その上部には開口２２ａが形成されており、その開口２２ａ上部において第２枠体２２には支持梁２３が水平に延びるように架設されている。尚、支持梁２３はその長手方向と直交する方向（図１における紙面直交方向）に複数並設されている。各支持梁２３には支持部材としてのホルダ部材２４が、該支持梁２３の長手方向に複数並設されている。各ホルダ部材２４は、前記貼り合わせ基板Ｗの上方で遮光マスクＭを保持するための吸着管３０を支持している。各ホルダ部材２４は、支持梁２３の長手方向における配置位置が変更可能となっているとともに、支持梁２３の長手方向に直交する方向に若干移動可能に、且つ支持梁２３に対し水平方向に回動可能に設けられ、これにより吸着管３０の保持位置が所定の範囲で自在に変更可能となっている。
【００１６】
各吸着管３０は、ホルダ部材２４に吊下支持された第１の管材３１と、該第１の管材３１の下端部に固定された第２の管材３２とから構成されている。尚、これら第１及び第２の管材３１，３２はそれぞれ断面円筒状に形成されるとともに、それらの材質には石英ガラスが用いられている。各第１の管材３１は、ホルダ部材２４に挿通されるとともに、該第１の管材３１の上部開口端に固定された蓋体３３がホルダ部材２４上部に載置され、これにより、各第１の管材３１はその軸方向に移動可能に吊下支持されている。各第１の管材３１は蓋体３３に設けられた継ぎ手３４を介して真空源としての真空ポンプ３５に接続されており、該真空ポンプ３５から第１の管材３１内に負圧を供給可能となっている。
【００１７】
図２に示すように、第１の管材３１の下端は第２の管材３２の開口端に挿入されており、該第１及び第２の管材３１，３２は同軸となるように互いに固定されている。尚、図２では、図が煩雑になるのを防ぐため、第１及び第２の管材３１，３２の断面を示すハッチングの図示を省略している。第１の管材３１は第２の管材３２の軸方向中間部まで挿入され、第１及び第２の管材３１，３２は、第２の管材３２の外周面と第１の管材３１の内周面との間に介在された光透過性を有する紫外線硬化性樹脂よりなる接着剤（図示略）にて固定されている。
【００１８】
図１に示すように、支持梁２３の下方には細長形状の紫外線源（光源）としてのランプ４０が吸着管３０と干渉しない位置に配置されている。尚、ランプ４０はその長手方向が、支持梁２３の長手方向に沿うように配置されている。また、ランプ４０はその長手方向と直交する方向（図１における紙面直交方向）において、各吸着管３０の間に配置されるように複数並設されている。各ランプ４０は該ランプ４０の長手方向から見て下方に向けて所定角度で拡がるように紫外線ＵＶを出射する。また、前記支持梁２３及びホルダ部材２４は、ランプ４０から遮光マスクＭに照射される紫外線ＵＶの光路から外れた位置に設けられている。これにより、ランプ４０から出射される紫外線ＵＶが支持梁２３やホルダ部材２４に遮光されることが防止されている。
【００１９】
各吸着管３０は、真空ポンプ３５からの真空吸引により第２の管材３２の下端で遮光マスクＭを吸着保持している。図２に示すように、遮光マスクＭはガラス板Ｍａの板面に所望のパターンで遮光部Ｍｂが形成されてなり、その遮光部Ｍｂで上方からの紫外線ＵＶを遮光するとともに、透光部（遮光部Ｍｂ以外の箇所）で紫外線ＵＶを透過させるようになっている。遮光マスクＭは、その遮光部Ｍｂが貼り合わせ基板Ｗ間の液晶Ｌの上方に、透光部が貼り合わせ基板Ｗ間のシール材Ｓの上方に位置するように保持される。尚、遮光マスクＭの平面サイズは、貼り合わせ基板Ｗの平面サイズを略等しく設定されている。また、遮光マスクＭと貼り合わせ基板Ｗとの間には僅かなギャップが設定されている。このような遮光マスクＭは、貼り合わせ基板Ｗの種類に応じた複数種類のものが用意され、貼り合わせ基板Ｗの種類の変更に応じて交換可能となっている。
【００２０】
このような遮光マスクＭの種類に応じて吸着管３０の水平方向位置を調整可能となっており、各吸着管３０が遮光部Ｍｂの上方で遮光マスクＭを吸着するように構成することが可能となっている。これにより、ランプ４０からの紫外線ＵＶを吸着管３０に透過させずにシール材Ｓに照射させることが可能となり、シール材Ｓに照射される紫外線量を向上させることが可能である。尚、図２においては、説明の便宜のため、吸着管３０が遮光マスクＭの遮光部Ｍｂでなく透光部の上方で遮光マスクＭを吸着保持する場合を示している。
【００２１】
図１に示すように、前記第１枠体２１の上部には、遮光マスクＭの周縁部Ｍｃを吸着保持する周縁部吸着管４７を支持するための支持体４１が該遮光マスクＭの周縁部Ｍｃに沿って複数設けられている。図３に示すように、各支持体４１はそのベース部４２が第１枠体２１に固定されており、該ベース部４２の上面は水平に形成され、該上面には可動保持部４３が載置されている。ベース部４２及び可動保持部４３は、遮光マスクＭとは反対側の端面で弾性部材としての板ばね４４により互いに連結されている。可動保持部４３にはその下端から両側に延びるフランジ部４３ａ（片側のみ図示）が形成されている。各フランジ部４３ａの上端面には圧縮ばね４５ａを有する押圧部４５が複数設けられており、該押圧部４５からの付勢力により可動保持部４３はベース部４２に圧接するようになっている。尚、図１においては、図を簡単にするために押圧部４５の図示を省略している。
【００２２】
可動保持部４３には、遮光マスクＭの上方まで延びる連通管４６の基端が挿入固定され、該連通管４６の先端には石英ガラスよりなる周縁部吸着管４７が固定されている。周縁部吸着管４７における連通管４６と対応する位置には貫通孔４７ａが形成されており、該周縁部吸着管４７は連通管４６にて可動保持部４３と連通されている。また、周縁部吸着管４７の上端は封止部材４８により封止され、周縁部吸着管４７の下端面は、該周縁部吸着管４７の軸線に対し垂直となるように形成されている。尚、周縁部吸着管４７と連通管４６との間には固定を強固にするための補強リブ４９が設けられている。上記のような支持体４１では、可動保持部４３とベース部４２との間に生じる摩擦力によって周縁部吸着管４７がぐらつきなく安定して支持されている。
【００２３】
可動保持部４３は前記真空ポンプ３５と接続されており、該真空ポンプ３５から周縁部吸着管４７内に負圧を供給可能となっている。このような支持体４１では、真空ポンプ３５からの真空吸引により周縁部吸着管４７の下端で遮光マスクＭの周縁部Ｍｃを吸着保持している。このように、本実施形態の紫外線照射装置では、遮光マスクＭの周縁部Ｍｃが支持体４１に保持されているため、遮光マスクＭが安定保持され、該遮光マスクＭ及び吸着管３０のぐらつきが抑制されている。また、上記支持体４１では、板ばね４４及び押圧部４５の付勢力に抗して周縁部吸着管４７を上方に移動させることが可能となっている。また、可動保持部４３は、ベース部４２に圧接されている状態では、該ベース部４２との摩擦力により水平方向に移動し難くなっている。
【００２４】
上記のような紫外線照射装置では、図２に示すように、ランプ４０から出射された紫外線ＵＶ（図２において破線の矢印）は遮光マスクＭに直接到達、若しくは吸着管３０及び周縁部吸着管４７を透過して遮光マスクＭに到達する。そして、その紫外線ＵＶの一部が遮光マスクＭの透光部を透過して貼り合わせ基板Ｗへと到達し、該基板Ｗ間のシール材Ｓに照射されるようになっている。このように、吸着管３０で遮光マスクＭを保持する構成では、従来技術のような板状のマスク保持部材が不要となり、その結果、ランプ４０から出射され貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量を増加させることが可能となる。
【００２５】
また、吸着管３０を透過する紫外線ＵＶの中でも、第２の管材３２の上端面３２ａから該第２の管材３２に入射する紫外線ＵＶの一部は、該第２の管材３２内で全反射してその下端面３２ｂから下方に出射されるようになっている。即ち、第２の管材３２は紫外線ＵＶを案内する案内管の役割をなしており、吸着管３０の下方における紫外線ＵＶの紫外線量が増加するようになっている。これにより、吸着管３０の下方においても貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量を増加させることができ、その結果、貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶのムラを抑えることができるようになっている。また、第２の管材３２はその上端面３２ａ及び下端面３２ｂが研磨処理された研磨面となっている。これにより、上端面３２ａ及び下端面３２ｂを通過する際の紫外線ＵＶの拡散が抑えられ、その結果、吸着管３０の下方における紫外線ＵＶの紫外線量がより増加するようになっている。尚、周縁部吸着管４７の上端面から該吸着管４７内に入射する紫外線ＵＶも、上記第２の管材３２の場合と同様に、周縁部吸着管４７の下方へと導かれるようになっている。これにより、周縁部吸着管４７の下方における紫外線ＵＶの紫外線量が増加するようになっている。
【００２６】
上記のような紫外線照射装置において、遮光マスクＭの取付の際にはまず、ワークステージ本体１７を十分下げ、その載置面１７ａに遮光マスクＭが載置した後、ワークステージ本体１７を上昇させる。そして、遮光マスクＭを各吸着管３０及び各周縁部吸着管４７と当接させ、そのまま各吸着管３０及び各周縁部吸着管４７を若干上方に押し上げる位置まで、ワークステージ本体１７を上昇させる。これにより、各吸着管３０及び各周縁部吸着管４７の下部開口端が同一平面上に揃った状態となり、該下部開口端が全て遮光マスクＭにて塞がれる。この状態で、まず吸着管３０に真空ポンプ３５から負圧を供給して遮光マスクＭを吸着させ、次に周縁部吸着管４７に真空ポンプ３５から負圧を供給して遮光マスクＭの周縁部Ｍｃを吸着させるようになっている。また、遮光マスクＭの取り外しの際には、真空ポンプ３５から各吸着管３０及び各周縁部吸着管４７への負圧の供給を停止して、遮光マスクＭの吸着保持状態を解除するようになっている。このような吸着管３０及び周縁部吸着管４７による遮光マスクＭの保持構造により、遮光マスクＭの着脱が容易となり、該遮光マスクＭの交換性が向上されている。
【００２７】
次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
（１）本実施形態では、遮光マスクＭの上方に設けられた支持部材としてのホルダ部材２４に吊下支持され、光透過性を有し、真空吸引により遮光マスクＭを吸着保持する吸着管３０を備える。この構成によれば、遮光マスクＭが吸着管３０に直接的に吸着保持されるため、板状のマスク保持部材が不要となり、その結果、紫外線源（光源）としてのランプ４０から出射され被照射体としての貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量を増加させることが可能となる。更には、吸着管３０は光透過性を有するため、貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶのムラを抑えることができる。また、遮光マスクＭを容易に着脱することが可能となり、遮光マスクＭの交換性を向上させることができる。
【００２８】
（２）本実施形態では、ランプ４０から出射される紫外線ＵＶがホルダ部材２４にて遮られることを防ぐことができ、貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶのムラをより抑えることができる。
【００２９】
（３）本実施形態では、吸着管３０は、ホルダ部材２４に吊下支持される第１の管材３１と、該第１の管材３１の下端部が挿入された第２の管材３２とから構成される。この構成によれば、第２の管材３２の上端面３２ａから入射する紫外線ＵＶを該第２の管材３２の下方に導くことができるため、吸着管３０の下方においても貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量を増加させることができ、これにより、貼り合わせ基板Ｗへの照射される紫外線ＵＶのムラをより抑えることが可能である。
【００３０】
（４）本実施形態では、第２の管材３２の軸方向両端面（上端面３２ａ及び下端面３２ｂ）が研磨処理された研磨面であるため、紫外線ＵＶが該上端面３２ａ及び下端面３２ｂを通過する際の拡散が抑えられ、その結果、貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量をより増加させることができる。
【００３１】
（５）本実施形態では、吸着管３０に光の透過率が比較的高い石英ガラスを用いることで、貼り合わせ基板Ｗに照射される紫外線ＵＶの紫外線量をより増加させることができる。
【００３２】
（６）本実施形態では、吸着管３０を保持するホルダ部材２４が水平方向に移動可能に設けられるため、吸着管３０の配置位置が変更可能となる。これにより、遮光マスクＭの種類を変更したときに、遮光マスクＭにおける遮光部Ｍｂに対応する位置で吸着させることが可能となる。これにより、ランプ４０からの紫外線ＵＶを吸着管３０に透過させずにシール材Ｓに照射させることが可能となり、シール材Ｓに照射される紫外線量を向上させることが可能である。
【００３３】
（７）本実施形態では、遮光マスクＭの側方に設けられた支持体４１に支持され、光透過性を有し、真空吸引により遮光マスクＭの周縁部Ｍｃを吸着保持する周縁部吸着管４７を備える。この構成によれば、遮光マスクＭを安定して保持することができ、該遮光マスクＭ及びホルダ部材２４に吊下支持された吸着管３０のぐらつきを抑制することができる。
【００３４】
（８）本実施形態では、遮光マスクＭが吸着管３０にて保持されるため、ＵＶエネルギー吸収によって生じる遮光マスクＭの熱膨張による歪みを吸収することができ、その結果、遮光マスクＭの撓みの発生を抑えることができる。また、周縁部吸着管４７を保持する可動保持部４３が水平方向に移動可能に設けられるため、該保持部４３においても遮光マスクＭの熱膨張による歪みを吸収することができ、その結果、遮光マスクＭの撓みの発生を抑えることができる。
【００３５】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、第１の管材３１及び第２の管材３２に石英ガラスが用いられたが、これ以外に例えば、高透過ガラスやｉ線ガラス等を用いてもよい。
【００３６】
・上記実施形態では、吸着管３０が第１及び第２の管材３１，３２から構成されたが、これ以外に例えば、第１の管材３１のみで構成してもよい。また、吸着管３０として、第１の管材３１と第２の管材３２とが一体に形成されたような形状の管材を用いてもよい。
【００３７】
・上記実施形態では、第１の管材３１の下端部が第２の管材３２の中腹部分に位置するように構成されたが、第１の管材３１の下端面と第２の管材３２の下端面３２ｂとが同一平面上に位置するように構成してもよく、また、第１の管材３１の下端面が第２の管材３２から若干突出するように構成してもよい。
【００３８】
・上記実施形態において、遮光マスクＭの吸着保持後に、支持体４１の可動保持部４３をベース部４２からの真空吸着等により該ベース部４２に対して固定するように構成してもよい。これにより、遮光マスクＭをより安定して保持することができる。
【００３９】
次に、上記実施形態及び別例から把握できる技術的思想について記載する。
（イ）前記支持部材は、前記光源から出射される光の光路から外れた位置に設けられたことを特徴とする光照射装置。
【００４０】
この光照射装置では、光源から出射される光が支持部材にて遮られることを防ぐことができ、被照射体に照射される光のムラをより抑えることができる。
（ロ）前記吸着管は、前記支持部材に支持される第１の管材と、該第１の管材の下端部が挿入された第２の管材とから構成されたことを特徴とする光照射装置。
【００４１】
この光照射装置では、第２の管材の上端面から入射する光を該第２の管材の下方に導くことができるため、吸着管の下方においても被照射体に照射される光の光量を増加させることができる。これにより、被照射体に照射される光のムラをより抑えることが可能である。
【００４２】
（ハ）前記第２の管材の軸方向端面は、研磨処理された研磨面であることを特徴とする光照射装置。
この光照射装置では、第２の管材の軸方向端面は研磨処理された研磨面であるため、第２の管材の軸方向端面に入射する光、又は該軸方向端面から出射する光の拡散が抑制され、被照射体に照射される光の光量をより増加させることができる。
【００４３】
（ニ）前記吸着管は、石英ガラスよりなることを特徴とする光照射装置。
この光照射装置では、吸着管に光の透過率が比較的高い石英ガラスを用いることで、被照射体に照射される光の光量をより増加させることができる。
【００４４】
（ホ）前記支持部材は、水平方向に移動可能に設けられたことを特徴とする光照射装置。
この光照射装置では、吸着管を保持する支持部材が水平方向に移動させることにより、吸着管の配置位置が変更可能となる。これにより、遮光マスクの種類を変更したときに、遮光マスクにおける遮光部に対応する位置で吸着させることが可能となり、その結果、光源からの光を吸着管に透過させずに遮光マスクの透光部に照射させることが可能となる。
【００４５】
（ヘ）光透過性を有し、真空吸引により前記遮光マスクの周縁部を吸着保持する周縁部吸着管と、前記周縁部吸着管を支持する支持体とを備えたことを特徴とする光照射装置。
この光照射装置では、遮光マスクの周縁部が、該遮光マスクの側方の支持体に支持された周縁部吸着管に吸着保持されるため、遮光マスクを安定して保持することができ、該遮光マスク及び支持部材に支持された吸着管のぐらつきを抑制することができる。
【００４６】
（ト）前記支持体は、前記遮光マスクの側方に設けられたことを特徴とする光照射装置。
この光照射装置では、遮光マスクの周縁部が、該遮光マスクの側方の支持体に支持された周縁部吸着管に吸着保持されるため、遮光マスクを安定して保持することができ、該遮光マスク及び支持部材に支持された吸着管のぐらつきを抑制することができる。
【００４７】
（チ）前記周縁部吸着管の上端面は、前記光源の下方に位置していることを特徴とする光照射装置。
【符号の説明】
【００４８】
Ｍ…遮光マスク、Ｍｃ…遮光マスクの周縁部、ＵＶ…紫外線、２４…支持部材としてのホルダ部材、３０…吸着管、３１…第１の管材、３２…第２の管材、４０…紫外線源（光源）としてのランプ、４１…支持体、４７…周縁部吸着管。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から出射され、該光源の下方に配置された遮光マスクを透過した光を、該遮光マスクの下方に配置された被照射体に照射させる光照射装置であって、
前記遮光マスクの上方に設けられた支持部材に支持されて前記遮光マスクの真空吸引に用いられる光透過性を有した吸着管により前記遮光マスクを吸着保持することを特徴とする光照射装置。
【請求項１】
光源から出射され、該光源の下方に配置された遮光マスクを透過した光を、該遮光マスクの下方に配置された被照射体に照射させる光照射装置であって、
前記遮光マスクの上方に設けられた支持部材に支持されて前記遮光マスクの真空吸引に用いられる光透過性を有した吸着管により前記遮光マスクを吸着保持することを特徴とする光照射装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１３−３３２７３（Ｐ２０１３−３３２７３Ａ）
【公開日】平成２５年２月１４日（２０１３．２．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−２２４００５（Ｐ２０１２−２２４００５）
【出願日】平成２４年１０月９日（２０１２．１０．９）
【分割の表示】特願２００８−１００３３１（Ｐ２００８−１００３３１）の分割
【原出願日】平成２０年４月８日（２００８．４．８）
【出願人】（０００２３１４６４）株式会社アルバック (1,740)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月１４日（２０１３．２．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年１０月９日（２０１２．１０．９）
【分割の表示】特願２００８−１００３３１（Ｐ２００８−１００３３１）の分割
【原出願日】平成２０年４月８日（２００８．４．８）
【出願人】（０００２３１４６４）株式会社アルバック (1,740)
【Ｆターム（参考）】
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