説明

加工方法及び加工装置

【課題】ワークのくり貫き加工を行った後に柱状部材を効率よくワークから離間させる。
【解決手段】ワークWの表面W1に環状を描くようにレーザービームを照射しアブレーション加工を施してワークWの裏面W2にまで至る環状切断面を形成した後、ワークWの表面W1に粘着部材9aを貼着して環状切断面によってワークWから分離された柱状部材101を粘着部材9aに貼り付け、柱状部材101が貼り付いた粘着部材9aをワークWの表面W1から剥がし、柱状部材101をワークWから離間することによってワークWに貫通孔102を形成する。粘着部材9aをワークWの表面W1から剥がすことによって柱状部材101をワークWから離間してワークWに貫通孔102を形成するため、ワークWから柱状部材101を効率よく離間することができる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ワークにくり貫き加工を施して環状切断面を形成し、環状切断面によってワークから分離した柱状部材をワークから離間してワークに貫通孔を形成するワークの加工方法に関する。
【背景技術】
【0002】
携帯電話機やデジタルカメラ等の携帯電子機器には、液晶表示装置が搭載されている。この液晶表示装置の表示部には、液晶基板を保護するためのガラス基板が配設されている。このように液晶基板を保護するためのガラス基板は、傷が付きにくくすることが重要であり、このため少なくとも表面に熱処理を施すことにより強化層が形成されている(例えば特許文献1参照)。これらの強化ガラス基板に要求される加工の一種として、電極や液体を通すための直径数mmほどのくり貫き加工があり、現在のレーザー加工技術では、微細なくり貫き加工を高精度に行うことが可能になってきている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2008−111984号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかし、微細なくり貫き加工を行っても、くり貫き加工により生じた柱状部材をワークから効率よく離間することができず、柱状部材をワークから効率よく離間できるようにすることが望まれていた。
【0005】
本発明は、これらの事実に鑑みてなされたものであって、その主な技術的課題は、ワークに対してくり貫き加工を行った後に、くり貫き加工によって形成された柱状部材を効率よくワークから離間させることができるようにすることにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
第一の発明は、ワークに貫通孔を形成する加工方法に関するもので、以下の各工程により構成される。
(1)ワークの表面に環状を描くようにレーザービームを照射してアブレーション加工を施し、ワークの裏面にまで至る環状切断面を形成する加工工程、
(2)加工工程の後に、ワークの表面に粘着部材を貼着して環状切断面によってワークから分離された柱状部材を粘着部材に貼り付ける貼付工程、
(3)貼付工程の後に、柱状部材が貼り付いた粘着部材をワークの表面から剥がし、柱状部材をワークから離間することによってワークに貫通孔を形成する貫通孔形成工程。
【0007】
第二の発明は、上記加工方法の実施に使用することができる加工装置に関するもので、以下の各構成要素により構成される。
(1)ワークを保持する保持手段、
(2)保持手段に保持されたワークの表面にレーザービームを照射してワークの裏面にまで至る環状切断面を形成する加工手段、
(3)ワークの表面に粘着部材を貼着し粘着部材をワークの表面から剥がして柱状部材をワークから離間することによって、ワークに貫通孔を形成する離間手段。
【発明の効果】
【0008】
本発明では、環状切断面が形成されたワークの表面に粘着部材を貼着して環状切断面によりワークから分離された柱状部材を粘着部材に貼り付け、粘着部材をワークの表面から剥がすことによって柱状部材をワークから離間してワークに貫通孔を形成するため、ワークに対してくり貫き加工を行った後にワークから柱状部材を効率よく離間することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】加工装置の一例を示す斜視図である。
【図2】図1のA部の内部を拡大して示す斜視図である。
【図3】離間手段の構造を略示的に示す断面図である。
【図4】ワークに環状切断面を形成する状態を示す斜視図である。
【図5】複数の環状切断面が形成されたワークを示す斜視図である。
【図6】テーブルにワークが保持された状態を略示的に示す断面図である。
【図7】ワークの表面にUVテープを貼着しワークの表面側及び裏面側のUVテープに紫外線を照射する状態を略示的に示す断面図である。
【図8】UVテープに貼着された柱状部材をワークから離間する状態を略示的に示す断面図である。
【図9】使用済みのUVテープを巻き取る状態を略示的に示す断面図である。
【図10】図9のC部を拡大して略示的に示す断面図である。
【図11】離間手段を初期状態に戻す動作を略示的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
図1に示す加工装置1は、保持手段2において加工対象の被加工物(ワーク)を保持し、保持手段2に保持されたワークに対して加工手段3によってくり貫き加工を施し、くり貫き加工によって形成された端材を離間手段4がワークから離間する装置である。図示の例では、保持手段2がX方向及びX方向に直交するY方向に移動可能となっている。
【0011】
装置前部には、ワークを収容するカセット50が載置されるカセット載置領域5を備えている。カセット載置領域5は昇降可能となっており、昇降によりワークを所定の高さに位置付けることができる。カセット50には、ワークWが紫外線の照射を受けて粘着力が低下するUVテープTを介して環状のフレームFと一体化されて支持された状態で複数収容される。
【0012】
カセット載置領域5の後方側には、カセット50からの加工前のワークWの搬出及びカセット50への加工後のワークWの搬入を行う第一の搬送手段6が配設されている。第一の搬送手段6は、フレームFを挟持してY方向に移動可能な挟持部60を備えている。
【0013】
カセット載置領域5の後方には、カセット50から搬出されるワークW及びカセット50に搬入されるワークWが載置される仮置き領域61が配設されている。
【0014】
仮置き領域61の後方側には、仮置き領域61に載置された加工前のワークの保持手段2への搬送、保持手段2に保持された加工後のワークの離間手段4への搬送、及び、端材が除去されたワークの離間手段4から仮置き領域61への搬送を行う第二の搬送手段7が配設されている。第二の搬送手段7は、ワークWを支持するフレームFを吸着する吸着部70を備えており、吸着部70は、水平方向に回動可能であるとともに、昇降可能となっている。
【0015】
保持手段2は、X方向送り手段20によってX方向に移動可能であるとともに、Y方向送り手段21によってY方向に移動可能となっている。X方向送り手段20は、X方向にのびるボールネジ200と、ボールネジ200と平行に配設されたガイドレール201と、ボールネジ200を回動させるモータ202と、ボールネジ200に螺合する図示しないナットを内部に備え下部がガイドレール201に摺接する移動基台203とから構成され、モータ202の駆動によりボールネジ200が回動するのにともない移動基台203がガイドレール201にガイドされてX方向に移動する構成となっている。移動基台203には、保持手段2を回転させる回転駆動部204を備えている。
【0016】
Y方向送り手段21は、Y方向にのびるボールネジ210と、ボールネジ210と平行に配設されたガイドレール211と、ボールネジ210を回動させるモータ212と、ボールネジ210に螺合する図示しないナットを内部に備え下部がガイドレール211に摺接する支持板213とから構成され、モータ212の駆動によりボールネジ210が回動するのにともない支持板213がガイドレール211にガイドされてX方向に移動する構成となっている。支持板213にはX方向送り手段20が固定されており、支持板213のY方向の移動によりX方向送り手段20もY方向に移動する。
【0017】
保持手段2の可動範囲の上方には、保持手段2に保持されたワークにレーザービームを照射して加工を行う加工手段3が配設されている。加工手段3は、レーザービームを下方に向けて出射する照射ヘッド30を備えている。
【0018】
保持手段2は、ワークを吸引保持する吸引部2aを備えているとともに、UVテープTを介してワークWと一体となった環状のフレームFを固定するフレーム固定部2bを備えている。
【0019】
図2に示すように、離間手段4は、ワークWが載置されるテーブル8と、ワークWに対して粘着部材、例えば紫外線の照射を受けると粘着力が低下するUVテープ9aを貼付する貼付部9とを備えている。
【0020】
テーブル8は、ワークWが載置されるステージ80と、フレームFを吸着するフレーム吸着部81とを備えている。ステージ80には、ワークWのくり貫き加工された部位に対応する複数の孔80aが形成されている。
【0021】
貼付部9は、未使用のUVテープ9aが巻回されたテープロール90と、複数のローラにより構成されテープロール90からUVテープ9aを送りだす送り機構91と、複数のローラにより構成され送り出されたUVテープ9aを巻き取る巻き取り機構92と、巻き取ったUVテープ9aが巻回される使用済みテープロール93と、UVテープ9aを折り返すローラーである折り返し部94と、UVテープ9aに対して紫外線を照射するUV照射部95とを備えている。
【0022】
折り返し部94は、円柱状に形成され、その回転軸940は、軸支部941によって回転可能に支持されている。軸支部941の下方には、くり貫き加工により生じた柱状の端材を収容する柱状部回収部96が軸支部941と一体に形成されている。柱状部回収部96は、折り返し部94の下方に位置する受け部960と、受け部960から立設された壁部961と、壁部961から折り返し部94に向けて突出するつば部962とから構成されている。軸支部941及び柱状部回収部96は、可動支持部材97に連結され支持されている。
【0023】
可動支持部材97は、Y方向に形成された溝970にガイドされてY方向に移動可能となっており、可動支持部材97とともに折り返し部94及び柱状部回収部96もY方向に移動可能となっている。
【0024】
UV照射部95は、テーブル8の上方の位置である作用位置と、テーブル8の上方からX方向に移動して退避した位置である退避位置との間を移動可能に構成されている。
【0025】
図3に示すように、ステージ80の下方にはUV光源800が配設されており、UV光源800から孔80aを通過させて上方に紫外線を照射することができる構造となっている。テーブル8は、軸部82の昇降により昇降可能となっている。
【0026】
UV照射部95の内部にもUV光源950が配設されており、その下方には、ステージ80に載置されたワークの所望の位置にUV光源950からの紫外線を照射するためのマスク部材951が配設されている。
【0027】
以上のように構成される加工装置1を用い、ワークWに円形のくり貫き加工を施し、くり貫き加工によって生じた端材である柱状部材をワークWから離間して貫通孔を形成するワークの加工方法を実施する場合の加工装置1の動作について以下に説明する。なお、ワークWは特に限定はされないが、例えばシリコンウェーハ、ガリウム砒素、シリコンカーバイド等の半導体ウェーハや、チップ実装用としてウェーハの裏面に設けられるDAF(Die Attach Film)等の粘着部材、セラミックス、ガラス、サファイア(Al2O3)系の無機材料基板、さらには、ミクロンオーダーの加工位置精度が要求される各種加工材料が挙げられる。以下では、ワークWが厚さ200μmの強化ガラスである場合について説明する。かかる強化ガラスは、携帯電話機等の液晶基板の保護等のために用いられるもので、強化ガラスに形成される貫通孔は、電極や液体を通したり、マイクやカメラの用途で使用したりするために必要とされるものである。
【0028】
図1に示すように、ワークWは、UVテープTを介してフレームFに支持され、表面W1が露出した状態でカセット50に複数収容される。
【0029】
カセット50に収容されたワークWは、第一の搬送手段6の挟持部60によってフレームFが挟持されて仮置き領域61に搬出される。そして次に、保持手段2を第二の搬送手段7に近づいた位置に位置させておき、第二の搬送手段7の吸着部70によってフレームFを吸着し、吸着部70の昇降及び旋回によってワークWを保持手段5に載置する。ワークWの載置後、ワークWは吸引部2aに作用する吸引力によって吸引保持され、フレームFはフレーム固定部2bによって固定される。
【0030】
こうして保持手段2にワークWが保持されると、X方向送り手段20によって駆動されて保持手段2が照射ヘッド30の下方まで移動し、X方向送り手段20及びY方向送り手段21によって、くり貫き加工をすべき位置と照射ヘッド30との位置合わせが行われる。そして、X方向送り手段20及びY方向送り手段21によるX方向及びY方向の複合的な駆動によって円を描くようにワークWを移動させるとともに、図4に示すように、その移動によりワークWの表面に環状を描くようにレーザービーム30aを照射してアブレーション加工を行う。かかるアブレーション加工により、ワークWの裏面W2にまで至る環状切断面100が形成される(加工工程)。このときの加工条件は、例えば以下のとおりである。
出力:20[W]
周波数:100[kHz]
送り速度:100[mm/s]
パルス幅:ピコオーダー
波長:515[nm]
走査回数:30回
環状切断面の直径:4[mm]
【0031】
また、X方向送り手段20及びY方向送り手段21によって保持手段2をX方向及びY方向に送りながら、同様にアブレーション加工を行って環状切断面100を順次形成していくと、例えば図5に示すように、複数の環状切断面100が形成される。そして、各環状切断面100の内側には、それぞれ柱状部材101が形成される。
【0032】
こうして柱状部材101が所定数形成されると、保持手段2が図1に示した第二の搬送手段7に近づく方向に移動し、第二の搬送手段7によってワークWが保持されて離間手段4に搬送される。
【0033】
以下では、図3に示したB部における動作を図6〜8に拡大して示しながら、柱状部材101をワークから除去するための装置動作について説明する。
【0034】
図6に示すように、ワークWは、表面W1が露出し柱状部材101と孔80aとを位置合わせした状態でステージ80に載置され、フレームFは、吸着部81によって吸着される。また、UV照射部95をワークWの直上(作用位置)に移動させる。
【0035】
次に、図7に示すように、テーブル8を上昇させてワークWの表面W1にUVテープ9aを貼着する。かかる貼着により、環状切断面100によってワークWから分離された柱状部材101にもUVテープ9aが貼り付けられる。
【0036】
そして、貼り付け後は、UV照射器95から下方に紫外線95aを照射する。そうすると、マスク951は、柱状部材101に対する紫外線を遮蔽するように形成されているため、マスク部材951を通過した紫外線95aは、UVテープ9aのうち柱状部材101に貼り付けられた部分には照射されず、柱状部材101以外の部分に貼り付けられた位置の粘着力が低下する。
【0037】
一方、テーブル8の下方に位置するUV光源800からは、上方に向けて紫外線800aが照射される。この紫外線800aは、孔80aを通過し、UVテープTのうち、柱状部材101が貼り付けられた部分にのみ照射され、その部分の粘着力を低下させる(貼付工程)。
【0038】
次に、UV照射器95を退避位置に退避させた後、図8に示すように、テーブル8を降下させることにより、柱状部材101が貼り付いたUVテープ9aをワークWの表面W1から剥がすことで、柱状部材101をワークWから離間させて除去する。UVテープ9aのうち柱状部材101以外の部分に貼り付けられていた部分の粘着力は低下しており、かつ、UVテープTのうち柱状部材101が貼り付けられていた部分の粘着力は低下しているため、柱状部材101の離間が円滑に行われる。このようにして、ワークWには、柱状部材101が除去された部分に貫通孔102が形成される。このように、UVテープ9aをワークWの表面W1から剥がすことによって柱状部材101をワークWから離間してワークWに貫通孔102を形成するため、ワークWに対してくり貫き加工を行った後にワークWから柱状部材101を効率よく離間することができる。
【0039】
こうして柱状部材101がUVテープ9aとともにワークWから離間すると、図9に示すように、送り機構91がUVテープ9aを送り出さずに、巻き取り機構92がUVテープ9aをロール93に巻き取る。そうすると、折り返し部94及び柱状部回収部96は、図2に示した溝960にガイドされて送り機構91に近づく方向(矢印Dの方向)に移動する。そして、巻き取り機構92がUVテープ9aを矢印Eの方向にロール93に巻き取ることにより、図10に示すように、折り返し部94が矢印Iの方向に回転し、柱状部回収部96に備えたつば部材962が柱状部材101の上昇を阻止してUVテープ9aから柱状部材101を剥離する。こうして剥離された柱状部材101は、落下して受け部960に収容される(貫通孔形成工程)。
【0040】
このようにして、ワークWに貫通孔102が形成されるとともに柱状部回収部96に柱状部材101が回収されると、図11に示すように、折り返し部94及び柱状部回収部96を送り機構91から離れる方向(矢印Gの方向)に移動させ、巻き取り機構92によるUVテープ9aの巻き取りはせずに、送り機構91がUVテープ9aを矢印Hの方向に送り出す。そうすると、未使用のUVテープ9aがステージ80の上方に位置し、次のワークに貼着できる状態となり、初期状態に戻る。
【0041】
柱状部材101が除去されて貫通孔102が形成されたワークWは、吸着部81におけるフレームFの吸着が解除された後、図1に示した第二の搬送手段7によって仮置き領域61に搬送される。そして、第一の搬送手段6によってカセット5に収容される。
【0042】
以上のような各工程を、カセット50に収容されたすべてのワークに対して行うと、すべてのワークに貫通孔が形成される。
【0043】
なお、上記の例では、UVテープT,9aを用いて紫外線照射により両テープの粘着力を低下させてから柱状部材101を離間させることとしたが、UVテープは必須ではない。
【符号の説明】
【0044】
1:加工装置
2:保持手段 2a:吸引部 2b:フレーム固定部
20:X方向送り手段 200:ボールネジ 201:ガイドレール 202:モータ
203:移動基台 204:回転駆動部
21:Y方向送り手段
210:ボールネジ 211:ガイドレール 212:モータ 213:支持板
3:加工手段 30:照射ヘッド
4:離間手段
5:カセット載置領域 50:カセット
6:第一の搬送手段 60:挟持部 61:仮置き領域
7:第二の搬送手段 70:吸着部
8:テーブル 80:ステージ 80a:孔 800:UV光源
81:吸着部 82:軸部
9:貼付部 9a:UVテープ
90:テープロール 91:送り機構 92:巻き取り機構
93:使用済みテープロール
94:折り返し部
940:回転軸 941:軸支部
95:UV照射部 950:UV光源 951:マスク部材
96:柱状部回収部 960:受け部 961:壁部 962:つば部
97:可動支持部材 970:溝
W:ワーク T:UVテープ F:フレーム
100:環状切断面 101:柱状部材 102:貫通孔

【特許請求の範囲】
【請求項1】
ワークに貫通孔を形成する加工方法であって、
ワークの表面に環状を描くようにレーザービームを照射してアブレーション加工を施し、該ワークの裏面にまで至る環状切断面を形成する加工工程と、
該加工工程の後に、該ワークの表面に粘着部材を貼着して該環状切断面によって該ワークから分離された柱状部材を該粘着部材に貼り付ける貼付工程と、
該貼付工程の後に、該柱状部材が貼り付いた該粘着部材を該ワークの表面から剥がし、該柱状部材を該ワークから離間することによって該ワークに貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
を含む加工方法。
【請求項2】
ワークを保持する保持手段と、
該保持手段に保持された該ワークの表面にレーザービームを照射して該ワークの裏面にまで至る環状切断面を形成する加工手段と、
該ワークの表面に粘着部材を貼着し該粘着部材を該ワークの表面から剥がして該柱状部材を該ワークから離間することによって、該ワークに貫通孔を形成する離間手段と、
を少なくとも含む加工装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【公開番号】特開2012−96257(P2012−96257A)
【公開日】平成24年5月24日(2012.5.24)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−245058(P2010−245058)
【出願日】平成22年11月1日(2010.11.1)
【出願人】(000134051)株式会社ディスコ (2,397)
【Fターム(参考)】