反射防止フィルム及びその製造方法
【課題】 易接着皮膜を有しないポリエステルフィルムを用いることによって、反射干渉ムラを少なくし、外観特性に優れると共に反射防止性能を高くできるものでありながら、ハードコート層の剥離をも少なくすることができる反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】 ポリエステルフィルム１の表面に屈折率が１．５５〜２．０のハードコート層２を形成した反射防止フィルムに関する。ポリエステルフィルム１として、ハードコート層２と接する表面に易接着皮膜を有さず、且つハードコート層２と接する面に改質処理が施されたもの用いる。クロスカット試験で評価されるハードコート層２の密着性が９０／１００以上である。易接着皮膜による反射干渉ムラを少なくすることができる。ポリエステルフィルム１の表面の改質処理により易接着皮膜が無くてもハードコート層２の剥離を少なくすることができる。
【解決手段】 ポリエステルフィルム１の表面に屈折率が１．５５〜２．０のハードコート層２を形成した反射防止フィルムに関する。ポリエステルフィルム１として、ハードコート層２と接する表面に易接着皮膜を有さず、且つハードコート層２と接する面に改質処理が施されたもの用いる。クロスカット試験で評価されるハードコート層２の密着性が９０／１００以上である。易接着皮膜による反射干渉ムラを少なくすることができる。ポリエステルフィルム１の表面の改質処理により易接着皮膜が無くてもハードコート層２の剥離を少なくすることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム及びその製造方法に関し、さらに詳しくはディスプレイ（ＣＲＴディスプレイ、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ、等）の表示画面表面に適用される反射防止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ポリエステルフィルム、特に、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの２軸延伸フィルムは、優れた機械的特性、耐熱性、耐薬品性等を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、ラミネート用フィルム、ディスプレイなどの表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として広く用いられている。特に、ディスプレイ用途に関しては液晶表示装置の部材であるプリズムレンズシート、タッチパネル、バックライト等のベースフィルムや、テレビの反射防止フィルムのベースフィルム、プラズマテレビの前面光学フィルターに用いられる反射防止フィルム、近赤外線カットフィルム、電磁波シールドフィルムのベースフィルム等の用途がある。
【０００３】
このような反射防止フィルムなどの光学フィルムに用いられるベースフィルムは優れた透明性の他に、他の材料に対する易接着性が要求される場合がある。すなわち、ベースフィルムには、光学フィルムとしての性能を確保したり機能を高めたりするために、例えば、表面保護のための設けられるハードコート層を形成するためのハードコート層材料、粘着材料、反射防止処理材料及びその他コーティング材料が適用されるが、このようなコーティング材料に対する優れた易接着性が要求される場合がある。
【０００４】
しかしながら、通常のポリエステルフィルムは結晶性が高く、一般的に上記コーティング材料などとの密着性を確保するのは困難であった。従って、例えば、ハードコート層との易接着性を確保するためには、ポリエステルフィルムの表面へ易接着皮膜を塗設する方法が用いられている。特に、ディスプレイ用途に用いられるＰＥＴフィルムは高い透明性及び密着性を要求されるため、ナノメートルオーダーの膜厚の易接着皮膜が塗設されたタイプを用いるのが一般的であった（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
このような易接着皮膜が塗設されたポリエステルフィルムを用いた場合、前述の通り高い透明性及びハードコート層との密着性を確保することでき、また、ポリエステルフィルムの耐ブロッキング性を向上させることができる。しかしながら、反射防止フィルム等の光学フィルムに用いる場合、易接着皮膜とポリエステルフィルムの屈折率のミスマッチ、易接着皮膜の膜厚バラツキ等の要因により、その上にハードコート層材料等をコーティングした際に光学的な干渉ムラ発生の原因となっていた。また、上記屈折率ミスマッチのため、反射界面が増加し、反射率増大の不具合を生じていた。
【０００６】
そこで、易接着皮膜を有しないポリエステルフィルムを用いることも考えられるが、この場合は、ハードコート層の剥離が懸念される。
【特許文献１】特開平９−２２０７９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、易接着皮膜を有しないポリエステルフィルムを用いることによって、反射干渉ムラを少なくし、外観特性に優れると共に反射防止性能を高くできるものでありながら、ハードコート層の剥離をも少なくすることができる反射防止フィルム及びその製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の反射防止フィルムは、ポリエステルフィルム１の表面に屈折率が１．５５〜２．０のハードコート層２を形成した反射防止フィルムにおいて、ポリエステルフィルム１として、ハードコート層２と接する表面に易接着皮膜を有さず、且つハードコート層２と接する面に改質処理が施されたものを用い、クロスカット試験で評価されるハードコート層２の密着性が９０／１００以上であることを特徴とするものである。
【０００９】
本発明にあっては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物を高屈折率粒子としてハードコート層２に含有するのが好ましい。
【００１０】
また、本発明にあっては、ハードコート層２が帯電防止性を有するのが好ましい。
【００１１】
また、本発明にあっては、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物を導電性ナノ粒子としてハードコート層２に含有するのが好ましい。
【００１２】
また、本発明にあっては、ハードコート層２のシート抵抗が１０１４Ω／□以下であることが好ましい。
【００１３】
また、本発明にあっては、ハードコート層２の表面に屈折率が１．３０〜１．４５の低屈折率層３を設けることができる。
【００１４】
また、本発明にあっては、低屈折率層３の表面に防汚層４を設けることができる。
【００１５】
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、上記のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法であって、プラズマ放電処理によりポリエステルフィルム１に表面の改質処理を施すことを特徴とするものである。
【００１６】
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、上記のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法であって、コロナ放電処理によりポリエステルフィルム１に表面の改質処理を施すことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明にあっては、ポリエステルフィルム１として、ハードコート層２と接する表面に易接着皮膜を有しないものを用いるために、易接着皮膜による反射干渉ムラを少なくすることができ、外観特性に優れると共に反射防止性能を高くすることができるものであり、しかも、ポリエステルフィルム１のハードコート層２と接する表面には改質処理が施されており、クロスカット試験で評価されるハードコート層２の密着性が９０／１００以上であるために、ポリエステルフィルム１に易接着皮膜が無くてもハードコート層２の剥離を少なくすることができるものである。
【００１８】
また、上記いずれかの高屈折率粒子をハードコート層２に含有することにより、ハードコート層２の屈折率を増大させることができ、ハードコート層２による反射干渉ムラを少なくすることができ、外観特性に優れると共に、ハードコート層２の上に低屈折率層３を積層した時の反射防止性能を高くすることができるものである。
【００１９】
また、ハードコート層２が帯電防止性を有していることにより、ハードコート層２が静電気等により帯電するのを少なくすることができ、埃付着防止性を向上させることができるものである。
【００２０】
また、上記いずれかの導電性ナノ粒子をハードコート層２に含有することにより、ハードコート層２に導電性ナノ粒子による導電性を付与することができ、帯電防止性を有するハードコート層２を容易に形成することができるものである。
【００２１】
また、ハードコート層２のシート抵抗を１０１４Ω／□以下にすると、高性能の帯電防止性を確保することができ、高い埃付着防止性などを得ることができるものである。
【００２２】
また、屈折率が１．３０〜１．４５の低屈折率層３をハードコート層２の表面に設けることにより、ハードコート層２よりも屈折率の小さい低屈折率層３で光の反射をさらに低減することができ、反射防止性能をさらに高くすることができるものである。
【００２３】
また、低屈折率層３の表面に設けた防汚層４により、指紋付着などによる汚染を少なくできると共にその除去性を高めることができるものである。
【００２４】
また、ポリエステルフィルム１の表面の改質処理にあたって、プラズマ放電処理やコロナ放電処理を用いることにより、化学的な表面処理よりも高い表面の改質処理の効果を得ることができ、また、化学的な表面処理のような湿式による表面処理に比べて、溶剤の乾燥等の工程が不要となり、効率よく表面の改質処理を行うことができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００２６】
図１は本発明の反射防止フィルムの一例を示した断面図である。図１に示すように、本発明の反射防止フィルムは、透明基材として用いられるポリエステルフィルム１の片面にハードコート層２を設けて形成することができる。また、必要に応じて、ハードコート層２の表面にさらに低屈折率層３を設けることができると共に低屈折率層３の表面にさらに防汚層４を設けて本発明の反射防止フィルムを形成することができる。
【００２７】
本発明で用いるポリエステルフィルム１は、ポリエステルとして、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタリンジカルボン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸成分と、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオール等のグリコール成分とから構成される芳香族ポリエステルが好ましく、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタリンジカルボキシレートが好ましい。また、上記に例示した複数の成分等の共重合ポリエステルであってもよい。
【００２８】
上記ポリエステルフィルム１には、製膜時のフィルムの巻き取り性や、ハードコート層２や粘着剤等を塗設する際のフィルムの搬送性等を良くするため、必要に応じて、滑剤としての有機または無機の微粒子を含有させることができる。かかる微粒子としては、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル樹脂微粒子、架橋ポリスチレン樹脂微粒子、尿素樹脂微粒子、メラミン樹脂微粒子、架橋シリコーン樹脂微粒子等が例示される。また、微粒子以外にも着色剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、他の樹脂等も透明性を損なわない範囲で任意に含有させることができる。
【００２９】
本発明におけるポリエステルフィルム１はヘイズが３％以下、好ましくは１．５％以下であることが好ましい。ヘイズが３％を超えると各種ディスプレイ用途において視認性を損なうなど光学用途として適さないことがある。この観点において、ヘイズが３％以下の高い透明性を保持しながら、ロール状態での耐ブロッキング性、易滑性、ハードコート層２との密着性を向上させるために、ナノメートルオーダーの易接着皮膜がコーティングされたポリエステルフィルムが従来から一般的に用いられる。しかしながら、このような易接着皮膜がコーティングされたポリエステルフィルムを用いた場合、易接着皮膜の屈折率は基材のポリエステルの屈折率と異なるのが一般的であり、このためハードコート層２をコーティングした際に、易接着皮膜及びハードコート層２の膜厚ムラ等の原因により、外観干渉ムラを発生する等の課題があった。本発明ではこのような課題を鑑みて、使用するポリエステルフィルム１として、両面もしくはハードコート層２と接する側の表面に易接着皮膜がコーティングされていないものを用いるものである。特に、ポリエステルフィルム１の両面ともに易接着皮膜がコーティングされていない場合、ポリエステルフィルム１の易滑性が損なわれることが多いので、本発明ではポリエステルフィルム１に片側のみに易接着皮膜が形成されたもの（片面易接着皮膜コートグレード）を使用するのが好ましい。また、本発明で用いるポリエステルフィルム１の厚みは、特に限定されるものではないが、７０〜２００μｍが好ましい。
【００３０】
上記のように本発明ではハードコート層２と接する側の表面に易接着皮膜を有しないポリエステルフィルム１を用いるために、ハードコート層２との密着性が損なわれる恐れがある。そこで、本発明では、ハードコート層２との密着性を高めるために、ポリエステルフィルム１の少なくともハードコート層２と接する側の表面に改質処理を施したものを用いる。一般的に易接着皮膜がハードコート層２とポリエステルフィルム１の間にコーティングされている場合、ハードコート層２との密着性は確保できるものの、光学的に屈折率が異なる薄膜がポリエステルフィルム１とハードコート層２の間に存在するため、外観干渉ムラが増大したり反射防止特性が低下したりしてしまう。一方、ポリエステルフィルム１とハードコート層２の間に易接着皮膜を有しない場合、易接着皮膜を有する場合に比べて、ポリエステルフィルム１とハードコート層２との密着性は低下する。従って、本発明ではポリエステルフィルム１に対して表面の改質処理を施すようにしており、この表面の改質処理を行うことにより、ポリエステルフィルム１の表面に親水性基を導入できるためにハードコート層２とポリエステルフィルム１とのぬれ性や密着性を向上させることが可能となる。
【００３１】
また、本発明ではポリエステルフィルム１の透明性を確保するなどの目的で、ポリエステルフィルム１に光学的に変化を与えないように、表面（ハードコート層２と接する面）等の改質処理を行なう必要がある。
【００３２】
本発明において表面の改質処理法としては、プラズマ放電処理、コロナ処理、フレーム処理、ＵＶ処理のような物理的表面処理と、カップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理が用いられる。これらの処理の中で、表面の改質効果の高いプラズマ放電処理、コロナ処理が特に好ましく、これにより、化学的な表面処理のような湿式による表面処理に比べて、溶剤の乾燥等の工程が不要となり、効率よく表面の改質処理を行うことができるという効果も奏するものである。
【００３３】
プラズマ放電処理としては、減圧プラズマまたは大気圧プラズマ放電処理法どちらでも良く、プラズマガス種としても一般的に用いられる酸素、窒素、アルゴン、ハロゲン系ガス等任意の中から選択することができる。
【００３４】
プラズマ放電処理としては、２０〜２００Ｗの投入電力で発生させたプラズマにポリエステルフィルム１を５〜６００秒曝露することにより、表面の改質処理を施すことができる。尚、投入電力の上限はポリエステルフィルム１に熱的、機械的ダメージを与えない範囲であれば、特に上記には限定されない。また、プラズマ放電処理に供するポリエステルフィルム１としてはプラズマ放電処理の有効幅にカットしたものを使用することができる。
【００３５】
コロナ放電処理としては、エネルギー密度（電力密度）が５〜１０００Ｗ／ｍ２／ｍｉｎのコロナ放電にプラズマにポリエステルフィルム１を曝露することにより、ポリエステルフィルム１に表面の改質処理を施すことができる。尚、エネルギー密度の上限はポリエステルフィルム１に熱的、機械的ダメージを与えない範囲であれば特に上記には限定されない。
【００３６】
また、上記プラズマ放電処理やコロナ放電処理は、バッチ処理、ロールｔｏロールでの連続処理などの任意の方法を選択できる。
【００３７】
本発明において、ハードコート層２は、透明プラスチック基材であるポリエステルフィルム１よりも硬度の高い被膜であって、ポリエステルフィルム１の表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、ポリエステルフィルム１の屈曲による低屈折率層３のクラック発生を抑制して反射防止フィルムの機械的強度を改善するものである。
【００３８】
本発明において、ハードコート層２の鉛筆硬度はＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上にするのが好ましいが、ハードコート層２の硬度を向上させるためには、反応性硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方をハードコート材料（ハードコート層形成用組成物）として用いてハードコート層２を形成するのが好ましい。
【００３９】
前記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を使用することができ、これらの熱硬化性樹脂に必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤を加えて使用することもできる。熱硬化性樹脂を用いてハードコート層２を形成する場合は、熱硬化性樹脂をポリエステルフィルム１の表面に塗布した後、加熱により乾燥硬化させるようにするのが好ましい。
【００４０】
また、前記電離放射線硬化型樹脂としては、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー、プレポリマー、及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用することができる。さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などを例示することができる。また、光重合開始剤に加えて光増感剤を用いてもよい。光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、チオキサントンなどを例示することができる。光重合反応する紫外線硬化型樹脂を用いてハードコート層２を形成する場合は、紫外線硬化型樹脂をポリエステルフィルム１の表面に塗布し乾燥した後、紫外線照射により硬化させるようにするのが好ましい。
【００４１】
ハードコート層２はポリエステルフィルム１と屈折率が近似していることが好ましく、反射率低減の理由からハードコート層２の屈折率は実用的には１．５５〜２．０（ポリエステルフィルム１と屈折率と同等）が好ましい。また、ハードコート層２の膜厚は１〜２μｍ以上あれば十分な強度が得られる。
【００４２】
本発明では、ハードコート層２とポリエステルフィルム１の密着性を確保するために、ポリエステルフィルム１に対する前記表面処理により密着性を向上させるようにしているが、一方で、ハードコート層２に非反応性の熱可塑性樹脂をハードコート層２の全体中で５０質量％を占めるまでの量で混合することが好ましい。非反応性の熱可塑性樹脂の添加量が多すぎるとハードコート層２のハード性が不十分になる恐れがあり、好ましくない。非反応性の熱可塑性樹脂としては主として各種の熱可塑性樹脂が用いられるが、例えば、非反応性の熱可塑性樹脂としてポリメタクリル酸メチルアクリレートとポリメタクリル酸ブチルアクリレートを用いることにより、ハードコート層２がポリエステルフィルム１に対して密着性を保持したまま、ハードコート層２の塗膜の硬度を高く保つことができる点で好ましい。これらの非反応性の熱可塑性樹脂をハードコート層２に含有させることにより、上記の表面の改質処理のみの場合に比べて、ポリエステルフィルム１に対するハードコート層２の密着性をより向上させてハードコート層２の剥離を防止することが可能となる。加えて、ハードコート層２に対し、チオール系樹脂を含有させることにより、ポリエステルフィルム１に対するハードコート層２の密着性をより向上させてハードコート層２の剥離を防止することが期待できる。そして、本発明のハードコート層２の密着性は、ＪＩＳ Ｄ０２０２−１９８８に準拠して測定されるクロスカット試験（碁盤目テープ剥離試験）により、９０／１００以上の評価を得るものである。
【００４３】
以上の成分からなるハードコート層２の屈折率は通常１．４９〜１．５２程度であるが、本発明ではハードコート層２に高屈折率粒子を含有させて屈折率を増大させて反射防止性能を高めるために、ハードコート層材料中に高屈折率粒子、すなわち高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することができる。本発明において高屈折率粒子とは、屈折率が１．６以上で粒径が０．５〜２００ｎｍのものをいう。ポリエステルフィルム１を基材（ベース）とする反射防止フィルムにおいて、低反射率化のためのハードコート層２の好ましい屈折率は１．５５〜２．０であり、本発明ではこの屈折率を有するハードコート層２を形成するために、高屈折率粒子の配合量をハードコート層２に対して５〜７０体積％となるように調整することができる。前記高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子としては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる一つあるいは二つ以上の酸化物の粒子を用いることができ、具体的には、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ２（屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ２（屈折率１．９５）、Ｓｂ２Ｏ５（屈折率１．７１）、ＳｎＯ２、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ２Ｏ３（屈折率１．８７）、Ｌａ２Ｏ３（屈折率１．９５）、ＺｒＯ２（屈折率２．０５）、Ａｌ２Ｏ３（屈折率１．６３）等の微粉末が挙げられる。
【００４４】
さらに、ハードコート層２に帯電防止性を付与し、反射防止フィルムとしての帯電防止性、埃付着性防止を可能にするのが好ましい。ハードコート層２に帯電防止性を付与するためにはハードコート層２に導電性ナノ粒子を含有させればよく、これはハードコート層材料中に導電性ナノ粒子、すなわち導電性の金属や金属酸化物で粒径が０．５〜２００ｎｍの超微粒子を添加することにより可能となる。導電性ナノ粒子としてはインジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる一つあるいは二つ以上の酸化物の粒子を用いるのが好ましく、具体的には、酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化錫（ＳｎＯ２）、アンチモン／錫酸化物（ＡＴＯ）、鉛／チタン酸化物（ＰＴＯ）、アンチモン酸化物（Ｓｂ２Ｏ５）の超微粒子を用いるのが好ましい。
【００４５】
さらに、前記高屈折率粒子と導電性ナノ粒子を凝集なく併用することにより、高屈折率かつ帯電防止性に優れたハードコート層２を得ることが可能となる。ハードコート層２が帯電防止性を得るためにはそのシート抵抗が１０１４Ω／□以下であることが好ましい。尚、ハードコート層２のシート抵抗は小さいほど帯電防止性が向上するので、特に、下限は設定されないが、シート抵抗を小さくするのには限界があるために、ハードコート層２のシート抵抗は実質的に１０6Ω／□以上となる。また、ハードコート層２のシート抵抗値は導電性ナノ粒子の配合量等によって調整することができ、例えば、導電性ナノ粒子の配合量をハードコート層２に対して５〜７０質量％となるように調整することができる。
【００４６】
また、ハードコート層２の表面に低屈折率層３を形成するための低屈折率コーティング剤を塗工するなどして形成する前に、ハードコート層２の表面処理を行うことが好ましい。この表面処理を行うことによりハードコート層２と低屈折率層３とのぬれ性、密着性を向上させることが可能となる。表面処理法としてはポリエステルフィルム１に施す表面の改質処理と同様であって、プラズマ放電処理、コロナ処理、フレーム処理のような物理的表面処理とカップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理が用いられている。
【００４７】
本発明において、低屈折率層３はポリエステルフィルム１及びハードコート層２よりも屈折率の小さい層であって、ハードコート層２の表面に低屈折率コーティング剤を塗工するなどして形成することができる。この低屈折率層３は、屈折率が１．３０〜１．４５であることが好ましく、１．３０〜１．４０であることが更に好ましい。低屈折率層３の厚みｄは低屈折率層３の屈折率をｎ、入射する光の波長をλとすると、ｎｄ＝λ／４であることが好ましい。具体的には、低屈折率層３の厚みは５０〜４００ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍであることが更に好ましい。
【００４８】
低屈折率コーティング剤は、バインダー材料自身が低屈折率である場合はバインダー材料単体で調製することができるが、バインダー材料に低屈折率の微粒子を含有して調製することもできる。バインダー材料はシリコンアルコキシド系であっても、飽和炭化水素、ポリエーテルを主鎖として有するポリマー（ＵＶ硬化型樹脂、熱硬化型樹脂）であっても良い。その中にフッ素原子を含む単位を含有しても良い。
【００４９】
シリコンアルコキシドの好ましい例は、ＲmＳｉ（ＯＲ´）nで表される化合物であり、ここでＲ、Ｒ´は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎはそれぞれ整数である。更に具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等及びそれらを基本骨格とするオリゴマーやポリマー、また少なくとも２種類以上の共重合体が挙げられる。
【００５０】
上記珪素アルコキシドの加水分解は、上記珪素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解して行う。使用する溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混合物が挙げられる。上記アルコキシドは上記溶媒中に、該アルコキシドが１００％加水分解及び縮合したとして生じるＳｉＯ２換算で０．１％以上、好ましくは０．１〜１０重量％になるように溶解する。ＳｉＯ２ゾルの濃度が０．１重量％未満であると形成されるゾル膜が所望の特性が充分に発揮できず、一方、１０重量％を越えると透明均質膜の形成が困難となる。又、本発明においては、以上の固形分以内であるならば、有機物や無機物バインダーを併用することも可能である。
【００５１】
この溶液に加水分解に必要な量以上の水を加え、１５〜３５℃、好ましくは２２〜２８℃の温度で、０．５〜１０時間、好ましくは２〜５時間撹拌を行う。上記加水分解においては、触媒を用いることが好ましく、これらの触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸又は酢酸等の酸が好ましく、これらの酸を約０．００１〜２０．０Ｎ、好ましくは０．００５〜５．０Ｎ程度の水溶液として加え、該水溶液中の水分を加水分解用の水分とすることができる。以上の如くして得られたＳｉＯ２ゾルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約１ケ月の安定な溶液であり、基材に対して濡れ性が良く、塗布適性に優れている。
【００５２】
本発明においては、上記のＳｉＯ２ゾルに反応性有機珪素化合物又はその部分加水分解物を添加する。該反応性有機珪素化合物としては、前記の反応性有機珪素化合物の他に、熱又は電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５０００以下の有機珪素化合物が好ましい材料として挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。
【００５３】
飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダー材料のポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。
【００５４】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダー材料のポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果、反応性を示すものであってもよい。
【００５５】
上記バインダー材料のポリマーの重合反応および架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤でも光重合開始剤でもどちらでもよい。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
【００５６】
バインダー材料が反応性有機珪素化合物であることが好ましい。低屈折率微粒子に中空シリカを用いた場合、反応性有機珪素化合物をバインダー材料に用いれば、中空シリカ粒子とのぬれ性、分散性が良好である。反応性有機珪素化合物としては、熱又は電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５０００以下の有機珪素化合物が好ましい材料として挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。具体的な化合物を例示すれば下記の通りである。
【００５７】
【化１】
【００５８】
その他の化合物しては、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシシラン化合物が挙げられる。尚、本発明では熱による脱水縮合反応でも可能である。
【００５９】
さらに低屈折率層３に防汚性を付与するために、バインダー材料の一部を撥水、撥油性材料に置き換えても良い。撥水、撥油性材料は一般にワックス系の材料等が挙げられるが、特に、含フッ素化合物を含有することが望ましい。フッ素化合物を含有したときの効果は、低屈折率層３の表面が汚れから保護され、また付着した汚れ、指紋等の除去性に優れる。さらに表面の摩擦抵抗を低減でき、耐摩耗性向上の効果も期待できる。
【００６０】
低屈折率層３の屈折率を低減するには、上記バインダー材料に低屈折率微粒子（屈折率：１．２０〜１．４５）を添加することにより実現できる。低屈折率微粒子の平均粒子径は０．５〜２００ｎｍであることが好ましい。この平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、得られる低屈折率層３においてレイリー散乱によって光が乱反射され、低屈折率層３が白っぽく見え、そのヘイズ値が増大することがある。０．５ｎｍ以下であると、低屈折率微粒子の分散性が低下し、低屈折率コーティング剤の液中で凝集を生じてしまう。また、低屈折率微粒子の添加量は低屈折率層３の全量に対して２０〜９９体積％であることが好ましい。２０体積％以下であると低屈折率化の効果が少なく、微粒子の添加量が多いほど低屈折率化の効果が大きい。
【００６１】
本発明の反射防止フィルムをディスプレイ等の最表面に配置して使用する場合、実使用に耐えうる表面硬度、耐摩耗性が必要となる。このような場合は低屈折率層３として高い膜硬度が必要となる。しかしながら一般的に粒子充填複合材料は粒径の等しい（完全な単分散の）球状微粒子を最密充填したときの、微粒子の最大体積分率は、Horsfieldの充填モデルによると、０．７４となり、幾何学的な関係から、必然的に２４体積％粒子間間隙が生じてしまう。従って、理想的には低屈折層３に２４体積％のバインダー材料を添加したとき（７６体積％の低屈折率微粒子）、低屈折率微粒子間の空隙は全てバインダー材料で置換され、高充填かつ非常に緻密な低屈折率層３の薄膜が得られることになる。しかしながら実際には、微粒子は粒度分布を持っており、また、低屈折率微粒子／バインダー材料の界面のぬれ性不足、ナノサイズの粒子径のため、低屈折率コーティング剤の液中または溶剤乾燥過程で凝集等を生じている。従って、実際には、低屈折率微粒子の添加量が７０体積％以上の領域では低屈折率層３中で、低屈折率微粒子の充填不良を生じ、低屈折率微粒子間にバインダー材料の未充填に起因する空隙を生じることになる。
【００６２】
この低屈折率微粒子の高充填領域で生じた低屈折率層３内でのバインダー材料の未充填部分は、薄膜の強度、耐摩耗性能を著しく低下させる。従って、低屈折率微粒子の添加による低屈折率層３の屈折率低減手法は、７０体積％以上の低屈折率微粒子の高充填領域では、耐摩耗性と完全にトレードオフの関係になり、実用上利用困難である。
【００６３】
低屈折率微粒子としては、屈折率が１．５以下であることが望ましい。具体的にはシリカ微粒子、中空シリカ微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物微粒子が好ましい。これら微粒子を１種類もしくは２種類以上混合して使用する。これら低屈折率微粒子をバインダー材料の樹脂等に相溶性を持たせるため表面処理を施して分散させる。
【００６４】
低屈折率層３中に含有される低屈折率微粒子が１種類以上の低屈折率微粒子から構成されており、低屈折率微粒子として少なくとも中空シリカゾルを含有することが好ましい。本発明において、中空粒子とは外殻によって包囲された空洞を有する微粒子である。また、中空粒子自体の屈折率は１．２０〜１．４５であることが好ましく、この中空粒子の屈折率は特開２００１−２３３６１１号公報に開示されている方法によって測定することができる。また、中空粒子の平均粒子径は０．５〜２００ｎｍであることが好ましい。中空粒子の外殻を構成する材料は、シリカのほか、金属酸化物であることも好ましい。中空粒子は、その平均粒子径に比べて外殻の厚みが薄いものを用いるのが好ましく、また、低屈折率層３中に占める中空シリカ微粒子（内部の空洞も含む）の体積が多いこと（４０体積％以上）が好ましい。このような中空粒子は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に開示されており、そこに開示されている中空粒子を低屈折率コーティング剤を調製する際に使用することができる。
【００６５】
中空粒子２の外殻を構成する材料を具体的に挙げると、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、ＴｉＯ２、ＴｉＯｘ、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ａｌ２Ｏ３等の単独材料又はこれらの材料のいずれかの組み合わせの混合物の形態の材料である。また、これらの材料のいずれかの組み合わせの複合酸化物であってもよい。なお、ＳｉＯｘは、酸化雰囲気中で焼成した場合に、ＳｉＯ２となるものが好ましい。
【００６６】
前記低屈折率コーティング剤は液相法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、リバースコーティング法、トランスファーロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キャストコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）により表面処理を行ったハードコート層２上に塗工されることが好ましい。塗工後加熱乾燥により塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させて低屈折率層３を形成することができる。
【００６７】
本発明では、反射防止フィルムの防汚性、指紋除去性を更に向上させるためには、低屈折率層３の最表面への防汚層４を形成してコーティングするのが好ましい。防汚層４の厚みは光学特性に影響を与えないため、３０ｎｍ以下にするのが好ましい。また、防汚層４の形成処理は、シリコーン系またはフッ素含有化合物を被覆し、低屈折率層３の表面と化学的に結合させるようにして行なう。また、防汚層４を形成する材料としては、アルコキシシラノ基を有するフッ素化合物、反応性シリコーンオイル等基材との反応性を有するものが耐摩耗性、耐薬品性、耐経時劣化性を向上することができて好ましい。
【００６８】
防汚層４を形成するための防汚材料としては、例えば、ＧＥ東芝シリコーン製長鎖フルオロアルキルシランコーティング剤「ＸＣ９８−Ｂ２４７２」を希釈溶剤ＩＰＡ(イソプロパノール)を用い、固形分０．２％まで希釈し、この混合液を膜厚５ｎｍになるようにワイヤーバーコーター＃１０番で低屈折率層３の表面に塗布した後、１２０℃、１５分間乾燥させることによって、防汚層４を形成することができる。また、防汚層４の性能評価としては、指紋拭き取り性を挙げることができる。すなわち、防汚層４に指紋を付着させ、表面を汚した直後に、キムワイプ（Ｒ）（十条キンバリー（株）製）で５０往復して拭取る。拭取った部分にセロハンテープ（Ｒ）（「ＣＴ２４」，ニチバン（株）製）を貼り付けて剥がし、４０ｃｍの距離より目視で観察し、汚れの除去度を評価することができる。
【実施例】
【００６９】
以下本発明を実施例によって具体的に説明する。
【００７０】
ポリエステルフィルム（透明基板フィルム）１としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績（株）製「Ａ４１００」（１８８μｍ厚））を用いた。
【００７１】
ポリエステルフィルム１には、コロナ放電処理あるいはプラズマ放電処理にて表面の改質処理を施した。コロナ放電処理は、コロナ出力０．５ｋＷ、ラインスピード１０ｍ／ｍｉｎの条件にて実施した。また、プラズマ放電処理は、（株）サムコインターナショナル製プラズマクリーニング装置、ＰＸ２５０にて処理を行った。
【００７２】
ハードコート層２は、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業（株）製「セイカビームＰＥＴ−ＨＣ１５」有効成分（固形分）６０％）中に各種ナノ粒子を分散させてハードコート材料を調製し、このハードコート材料（混合液）をワイヤーバーコーター＃１０番でポリエステルフィルム１の表面に塗布し、８０℃、１分間乾燥させた後、ＵＶ照射（６００ｍＪ／ｃｍ２）により硬化させて形成した。上記各種ナノ粒子のうち、高屈折率粒子としては、テイカ（株）製酸化チタン粒子「７６０Ｔ」（分散溶剤：トルエン、固形分４８％）を用いた。また、上記各種ナノ粒子のうち、導電性ナノ粒子としては、触媒化成工業（株）製ＡＴＯ粒子「ＥＬＣＯＭ Ｐ−特殊品Ａ」（分散溶剤：ＭＥＫ／トルエン（４／１）、固形分３０％）を用いた。さらに、実施例９においては、チオール樹脂として、堺化学（株）製、ＤＭＰＭ（ジペンタエリスリトールヘキサ−３−メルカプトプロピオネート）を密着付与成分として用い、上記アクリル系紫外線硬化型樹脂に対して１０質量％の割合で配合した。
【００７３】
低屈折率層３は低屈折率コーティング剤をハードコート層２の表面に塗布して形成した。低屈折率コーティング剤は、テトラエトキシシラン２０８部にメタノール３５６部を加え、更に水１８部及び０．０１Ｎの塩酸水溶液１８部を加え、これをディスパーで混合し、混合液を得、この混合液を２５℃恒温槽中で２時間攪拌して重量平均分子量を８５０に調整したシリコーンレジン（Ａ）として使用し、次に、低屈折率微粒子として以下の低屈折率ナノ粒子（１）（２）をシリコーンレジン（Ａ）に加え、低屈折率ナノ粒子／シリコーンレジンが縮合固形物換算で所望の体積比となるように配合し、その後、全固形分が１％になるようにメタノールで希釈することによって、低屈折率コーティング剤を調整し、低屈折率コーティング剤を膜厚１００ｎｍになるようにワイヤーバーコーター＃１０番で上記ハードコート層２の表面に塗布した後、１２０℃、１５分間乾燥させて形成した。低屈折率ナノ粒子（１）としては、中空シリカＩＰＡ（イソプロパノール）分散ゾル（スルーリアＣＳ−６０ＩＰＡ、固形分２０重量％、触媒化成工業（株）製）を用いた。また、低屈折率ナノ粒子（２）としては、オルガノシリカゾル（ＩＰＡ−ＳＴ、固形分３０重量％、日産化学（株）製）を用いた。
（実施例１）
コロナ放電処理済みＰＥＴフィルム上に、酸化チタン粒子（７６０Ｔ）を３０質量％分散させたハードコート材料をコーティングし、膜厚３μｍの硬化膜（ハードコート層２）を得た。その上にシリコーンレジン（Ａ）マトリックスに対しトータル量の６０体積％のＣＳ−６０ＩＰＡを分散させた低屈折率コーティング剤を、膜厚約１００ｎｍになるようにワイヤーバーコーターでコーティングした。この後、１２０℃、１５分の条件で硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作成した。
（実施例２）
ＰＥＴフィルムの表面の改質処理が減圧酸素プラズマ放電処理（５０Ｗ、２分、１３．３Ｐａ（１００ｍＴｏｒｒ））であること以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例３）
ＰＥＴフィルムの表面の改質処理が減圧酸素プラズマ放電処理（５０Ｗ、４分、１３．３Ｐａ（１００ｍＴｏｒｒ））であること以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例４）
ＰＥＴフィルムの表面の改質処理が減圧アルゴンプラズマ放電処理（５０Ｗ、２分、１３．３Ｐａ（１００ｍＴｏｒｒ））であること以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例５）
酸化チタン粒子（７６０Ｔ）が８０質量％分散させたハードコート材料を用いた以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例６）
中空シリカ粒子（ＣＳ６０ＩＰＡ）が４０体積％配合された低屈折率コーティング剤を用いた以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例７）
ハードコート材料中に分散させる粒子として酸化チタン粒子（７６０Ｔ）が３０質量％、ＡＴＯ粒子（ＥＬＥＣＯＭ−Ｐ特殊品Ａ）を５０質量％とした以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例８）
低屈折率コーティング剤中に分散させる粒子を中空シリカ粒子の代わりに、オルガノシリカゾル（ＩＰＡ−ＳＴ）を６０体積％配合した以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例９）
ハードコート材料中に密着付与成分としてチオール系樹脂（ＤＰＭＰ）を１０重量％混合させ、分散させる酸化チタン粒子（７６０Ｔ）が３０重量％配合されたハードコート材料を用いた以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例１０）
低屈折率層の上にＸＣ９８−Ｂ２４７２からなる防汚層を積層した以外は実施例２と同様にして反射防止膜を積層した反射防止フィルムを作成した。
（比較例１）
表面の改質処理を行なわないＰＥＴフィルムを用いた以外は実施例１と同様にしてハードコート層２及び低屈折率層３を積層した反射防止フィルムを作成した。
（比較例２）
ＰＥＴフィルムとハードコート層２の間に易接着層を設けるため、ＰＥＴフィルムとして両面に易接着層を有する東洋紡績（株）製Ａ４３００を使用した以外は比較例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
（比較例３）
ハードコート材料中に酸化チタンを含有しない以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
【００７４】
実施例１〜９、比較例１〜３で得た評価結果を表１，２に示す。尚、各評価方法は以下の通りである。
【００７５】
外観干渉ムラ：Ａ４サイズのサンプル裏面を黒塗りしたあと、３波長蛍光灯下で外観特性を目視観察した。
【００７６】
視感反射率：（株）日立ハイテクノロジーズ製、分光光度計Ｕ−４１００を用い、ＪＩＳ Ｒ−３１０６ に基づき、サンプル裏面を黒塗りしたあとに、５度の正反射で測定する。
【００７７】
密着性（クロスカットテープ試験）：サンプルをＪＩＳ Ｄ０２０２−１９８８に準拠して碁盤目テープ剥離試験を行う。セロハンテープ（Ｒ）（「ＣＴ２４」，ニチバン（株）製）を用い、指の腹でフィルムに密着させた後剥離する。判定は１００マスの内、剥離しないマス目の数で表し、剥離しない場合を１００／１００、完全に剥離する場合を０／１００として表す。
【００７８】
指紋拭き取り性：実施例２、１０の反射防止フィルムの表面に指紋を付着させて表面を汚した直後に、キムワイプ（Ｒ）（十条キンバリー（株）製）で５０往復して拭取る。次に、拭取った部分にセロハンテープ（Ｒ）（「ＣＴ２４」，ニチバン（株）製）を貼り付けて剥がし、４０ｃｍの距離より目視で観察し、汚れの除去度を評価した。この結果、実施例１０は実施例２と比較して指紋拭き取り性が良好であった。
【００７９】
【表１】
【００８０】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】本発明の実施の形態の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００８２】
１ ポリエステルフィルム
２ ハードコート層
３ 低屈折率層
４ 防汚層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム及びその製造方法に関し、さらに詳しくはディスプレイ（ＣＲＴディスプレイ、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ、等）の表示画面表面に適用される反射防止フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ポリエステルフィルム、特に、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの２軸延伸フィルムは、優れた機械的特性、耐熱性、耐薬品性等を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、ラミネート用フィルム、ディスプレイなどの表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として広く用いられている。特に、ディスプレイ用途に関しては液晶表示装置の部材であるプリズムレンズシート、タッチパネル、バックライト等のベースフィルムや、テレビの反射防止フィルムのベースフィルム、プラズマテレビの前面光学フィルターに用いられる反射防止フィルム、近赤外線カットフィルム、電磁波シールドフィルムのベースフィルム等の用途がある。
【０００３】
このような反射防止フィルムなどの光学フィルムに用いられるベースフィルムは優れた透明性の他に、他の材料に対する易接着性が要求される場合がある。すなわち、ベースフィルムには、光学フィルムとしての性能を確保したり機能を高めたりするために、例えば、表面保護のための設けられるハードコート層を形成するためのハードコート層材料、粘着材料、反射防止処理材料及びその他コーティング材料が適用されるが、このようなコーティング材料に対する優れた易接着性が要求される場合がある。
【０００４】
しかしながら、通常のポリエステルフィルムは結晶性が高く、一般的に上記コーティング材料などとの密着性を確保するのは困難であった。従って、例えば、ハードコート層との易接着性を確保するためには、ポリエステルフィルムの表面へ易接着皮膜を塗設する方法が用いられている。特に、ディスプレイ用途に用いられるＰＥＴフィルムは高い透明性及び密着性を要求されるため、ナノメートルオーダーの膜厚の易接着皮膜が塗設されたタイプを用いるのが一般的であった（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
このような易接着皮膜が塗設されたポリエステルフィルムを用いた場合、前述の通り高い透明性及びハードコート層との密着性を確保することでき、また、ポリエステルフィルムの耐ブロッキング性を向上させることができる。しかしながら、反射防止フィルム等の光学フィルムに用いる場合、易接着皮膜とポリエステルフィルムの屈折率のミスマッチ、易接着皮膜の膜厚バラツキ等の要因により、その上にハードコート層材料等をコーティングした際に光学的な干渉ムラ発生の原因となっていた。また、上記屈折率ミスマッチのため、反射界面が増加し、反射率増大の不具合を生じていた。
【０００６】
そこで、易接着皮膜を有しないポリエステルフィルムを用いることも考えられるが、この場合は、ハードコート層の剥離が懸念される。
【特許文献１】特開平９−２２０７９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、易接着皮膜を有しないポリエステルフィルムを用いることによって、反射干渉ムラを少なくし、外観特性に優れると共に反射防止性能を高くできるものでありながら、ハードコート層の剥離をも少なくすることができる反射防止フィルム及びその製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の反射防止フィルムは、ポリエステルフィルム１の表面に屈折率が１．５５〜２．０のハードコート層２を形成した反射防止フィルムにおいて、ポリエステルフィルム１として、ハードコート層２と接する表面に易接着皮膜を有さず、且つハードコート層２と接する面に改質処理が施されたものを用い、クロスカット試験で評価されるハードコート層２の密着性が９０／１００以上であることを特徴とするものである。
【０００９】
本発明にあっては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物を高屈折率粒子としてハードコート層２に含有するのが好ましい。
【００１０】
また、本発明にあっては、ハードコート層２が帯電防止性を有するのが好ましい。
【００１１】
また、本発明にあっては、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物を導電性ナノ粒子としてハードコート層２に含有するのが好ましい。
【００１２】
また、本発明にあっては、ハードコート層２のシート抵抗が１０１４Ω／□以下であることが好ましい。
【００１３】
また、本発明にあっては、ハードコート層２の表面に屈折率が１．３０〜１．４５の低屈折率層３を設けることができる。
【００１４】
また、本発明にあっては、低屈折率層３の表面に防汚層４を設けることができる。
【００１５】
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、上記のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法であって、プラズマ放電処理によりポリエステルフィルム１に表面の改質処理を施すことを特徴とするものである。
【００１６】
本発明の反射防止フィルムの製造方法は、上記のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法であって、コロナ放電処理によりポリエステルフィルム１に表面の改質処理を施すことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明にあっては、ポリエステルフィルム１として、ハードコート層２と接する表面に易接着皮膜を有しないものを用いるために、易接着皮膜による反射干渉ムラを少なくすることができ、外観特性に優れると共に反射防止性能を高くすることができるものであり、しかも、ポリエステルフィルム１のハードコート層２と接する表面には改質処理が施されており、クロスカット試験で評価されるハードコート層２の密着性が９０／１００以上であるために、ポリエステルフィルム１に易接着皮膜が無くてもハードコート層２の剥離を少なくすることができるものである。
【００１８】
また、上記いずれかの高屈折率粒子をハードコート層２に含有することにより、ハードコート層２の屈折率を増大させることができ、ハードコート層２による反射干渉ムラを少なくすることができ、外観特性に優れると共に、ハードコート層２の上に低屈折率層３を積層した時の反射防止性能を高くすることができるものである。
【００１９】
また、ハードコート層２が帯電防止性を有していることにより、ハードコート層２が静電気等により帯電するのを少なくすることができ、埃付着防止性を向上させることができるものである。
【００２０】
また、上記いずれかの導電性ナノ粒子をハードコート層２に含有することにより、ハードコート層２に導電性ナノ粒子による導電性を付与することができ、帯電防止性を有するハードコート層２を容易に形成することができるものである。
【００２１】
また、ハードコート層２のシート抵抗を１０１４Ω／□以下にすると、高性能の帯電防止性を確保することができ、高い埃付着防止性などを得ることができるものである。
【００２２】
また、屈折率が１．３０〜１．４５の低屈折率層３をハードコート層２の表面に設けることにより、ハードコート層２よりも屈折率の小さい低屈折率層３で光の反射をさらに低減することができ、反射防止性能をさらに高くすることができるものである。
【００２３】
また、低屈折率層３の表面に設けた防汚層４により、指紋付着などによる汚染を少なくできると共にその除去性を高めることができるものである。
【００２４】
また、ポリエステルフィルム１の表面の改質処理にあたって、プラズマ放電処理やコロナ放電処理を用いることにより、化学的な表面処理よりも高い表面の改質処理の効果を得ることができ、また、化学的な表面処理のような湿式による表面処理に比べて、溶剤の乾燥等の工程が不要となり、効率よく表面の改質処理を行うことができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００２６】
図１は本発明の反射防止フィルムの一例を示した断面図である。図１に示すように、本発明の反射防止フィルムは、透明基材として用いられるポリエステルフィルム１の片面にハードコート層２を設けて形成することができる。また、必要に応じて、ハードコート層２の表面にさらに低屈折率層３を設けることができると共に低屈折率層３の表面にさらに防汚層４を設けて本発明の反射防止フィルムを形成することができる。
【００２７】
本発明で用いるポリエステルフィルム１は、ポリエステルとして、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタリンジカルボン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸成分と、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，６−ヘキサンジオール等のグリコール成分とから構成される芳香族ポリエステルが好ましく、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタリンジカルボキシレートが好ましい。また、上記に例示した複数の成分等の共重合ポリエステルであってもよい。
【００２８】
上記ポリエステルフィルム１には、製膜時のフィルムの巻き取り性や、ハードコート層２や粘着剤等を塗設する際のフィルムの搬送性等を良くするため、必要に応じて、滑剤としての有機または無機の微粒子を含有させることができる。かかる微粒子としては、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル樹脂微粒子、架橋ポリスチレン樹脂微粒子、尿素樹脂微粒子、メラミン樹脂微粒子、架橋シリコーン樹脂微粒子等が例示される。また、微粒子以外にも着色剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、他の樹脂等も透明性を損なわない範囲で任意に含有させることができる。
【００２９】
本発明におけるポリエステルフィルム１はヘイズが３％以下、好ましくは１．５％以下であることが好ましい。ヘイズが３％を超えると各種ディスプレイ用途において視認性を損なうなど光学用途として適さないことがある。この観点において、ヘイズが３％以下の高い透明性を保持しながら、ロール状態での耐ブロッキング性、易滑性、ハードコート層２との密着性を向上させるために、ナノメートルオーダーの易接着皮膜がコーティングされたポリエステルフィルムが従来から一般的に用いられる。しかしながら、このような易接着皮膜がコーティングされたポリエステルフィルムを用いた場合、易接着皮膜の屈折率は基材のポリエステルの屈折率と異なるのが一般的であり、このためハードコート層２をコーティングした際に、易接着皮膜及びハードコート層２の膜厚ムラ等の原因により、外観干渉ムラを発生する等の課題があった。本発明ではこのような課題を鑑みて、使用するポリエステルフィルム１として、両面もしくはハードコート層２と接する側の表面に易接着皮膜がコーティングされていないものを用いるものである。特に、ポリエステルフィルム１の両面ともに易接着皮膜がコーティングされていない場合、ポリエステルフィルム１の易滑性が損なわれることが多いので、本発明ではポリエステルフィルム１に片側のみに易接着皮膜が形成されたもの（片面易接着皮膜コートグレード）を使用するのが好ましい。また、本発明で用いるポリエステルフィルム１の厚みは、特に限定されるものではないが、７０〜２００μｍが好ましい。
【００３０】
上記のように本発明ではハードコート層２と接する側の表面に易接着皮膜を有しないポリエステルフィルム１を用いるために、ハードコート層２との密着性が損なわれる恐れがある。そこで、本発明では、ハードコート層２との密着性を高めるために、ポリエステルフィルム１の少なくともハードコート層２と接する側の表面に改質処理を施したものを用いる。一般的に易接着皮膜がハードコート層２とポリエステルフィルム１の間にコーティングされている場合、ハードコート層２との密着性は確保できるものの、光学的に屈折率が異なる薄膜がポリエステルフィルム１とハードコート層２の間に存在するため、外観干渉ムラが増大したり反射防止特性が低下したりしてしまう。一方、ポリエステルフィルム１とハードコート層２の間に易接着皮膜を有しない場合、易接着皮膜を有する場合に比べて、ポリエステルフィルム１とハードコート層２との密着性は低下する。従って、本発明ではポリエステルフィルム１に対して表面の改質処理を施すようにしており、この表面の改質処理を行うことにより、ポリエステルフィルム１の表面に親水性基を導入できるためにハードコート層２とポリエステルフィルム１とのぬれ性や密着性を向上させることが可能となる。
【００３１】
また、本発明ではポリエステルフィルム１の透明性を確保するなどの目的で、ポリエステルフィルム１に光学的に変化を与えないように、表面（ハードコート層２と接する面）等の改質処理を行なう必要がある。
【００３２】
本発明において表面の改質処理法としては、プラズマ放電処理、コロナ処理、フレーム処理、ＵＶ処理のような物理的表面処理と、カップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理が用いられる。これらの処理の中で、表面の改質効果の高いプラズマ放電処理、コロナ処理が特に好ましく、これにより、化学的な表面処理のような湿式による表面処理に比べて、溶剤の乾燥等の工程が不要となり、効率よく表面の改質処理を行うことができるという効果も奏するものである。
【００３３】
プラズマ放電処理としては、減圧プラズマまたは大気圧プラズマ放電処理法どちらでも良く、プラズマガス種としても一般的に用いられる酸素、窒素、アルゴン、ハロゲン系ガス等任意の中から選択することができる。
【００３４】
プラズマ放電処理としては、２０〜２００Ｗの投入電力で発生させたプラズマにポリエステルフィルム１を５〜６００秒曝露することにより、表面の改質処理を施すことができる。尚、投入電力の上限はポリエステルフィルム１に熱的、機械的ダメージを与えない範囲であれば、特に上記には限定されない。また、プラズマ放電処理に供するポリエステルフィルム１としてはプラズマ放電処理の有効幅にカットしたものを使用することができる。
【００３５】
コロナ放電処理としては、エネルギー密度（電力密度）が５〜１０００Ｗ／ｍ２／ｍｉｎのコロナ放電にプラズマにポリエステルフィルム１を曝露することにより、ポリエステルフィルム１に表面の改質処理を施すことができる。尚、エネルギー密度の上限はポリエステルフィルム１に熱的、機械的ダメージを与えない範囲であれば特に上記には限定されない。
【００３６】
また、上記プラズマ放電処理やコロナ放電処理は、バッチ処理、ロールｔｏロールでの連続処理などの任意の方法を選択できる。
【００３７】
本発明において、ハードコート層２は、透明プラスチック基材であるポリエステルフィルム１よりも硬度の高い被膜であって、ポリエステルフィルム１の表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、ポリエステルフィルム１の屈曲による低屈折率層３のクラック発生を抑制して反射防止フィルムの機械的強度を改善するものである。
【００３８】
本発明において、ハードコート層２の鉛筆硬度はＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上にするのが好ましいが、ハードコート層２の硬度を向上させるためには、反応性硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方をハードコート材料（ハードコート層形成用組成物）として用いてハードコート層２を形成するのが好ましい。
【００３９】
前記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を使用することができ、これらの熱硬化性樹脂に必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤を加えて使用することもできる。熱硬化性樹脂を用いてハードコート層２を形成する場合は、熱硬化性樹脂をポリエステルフィルム１の表面に塗布した後、加熱により乾燥硬化させるようにするのが好ましい。
【００４０】
また、前記電離放射線硬化型樹脂としては、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー、プレポリマー、及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用することができる。さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などを例示することができる。また、光重合開始剤に加えて光増感剤を用いてもよい。光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、チオキサントンなどを例示することができる。光重合反応する紫外線硬化型樹脂を用いてハードコート層２を形成する場合は、紫外線硬化型樹脂をポリエステルフィルム１の表面に塗布し乾燥した後、紫外線照射により硬化させるようにするのが好ましい。
【００４１】
ハードコート層２はポリエステルフィルム１と屈折率が近似していることが好ましく、反射率低減の理由からハードコート層２の屈折率は実用的には１．５５〜２．０（ポリエステルフィルム１と屈折率と同等）が好ましい。また、ハードコート層２の膜厚は１〜２μｍ以上あれば十分な強度が得られる。
【００４２】
本発明では、ハードコート層２とポリエステルフィルム１の密着性を確保するために、ポリエステルフィルム１に対する前記表面処理により密着性を向上させるようにしているが、一方で、ハードコート層２に非反応性の熱可塑性樹脂をハードコート層２の全体中で５０質量％を占めるまでの量で混合することが好ましい。非反応性の熱可塑性樹脂の添加量が多すぎるとハードコート層２のハード性が不十分になる恐れがあり、好ましくない。非反応性の熱可塑性樹脂としては主として各種の熱可塑性樹脂が用いられるが、例えば、非反応性の熱可塑性樹脂としてポリメタクリル酸メチルアクリレートとポリメタクリル酸ブチルアクリレートを用いることにより、ハードコート層２がポリエステルフィルム１に対して密着性を保持したまま、ハードコート層２の塗膜の硬度を高く保つことができる点で好ましい。これらの非反応性の熱可塑性樹脂をハードコート層２に含有させることにより、上記の表面の改質処理のみの場合に比べて、ポリエステルフィルム１に対するハードコート層２の密着性をより向上させてハードコート層２の剥離を防止することが可能となる。加えて、ハードコート層２に対し、チオール系樹脂を含有させることにより、ポリエステルフィルム１に対するハードコート層２の密着性をより向上させてハードコート層２の剥離を防止することが期待できる。そして、本発明のハードコート層２の密着性は、ＪＩＳ Ｄ０２０２−１９８８に準拠して測定されるクロスカット試験（碁盤目テープ剥離試験）により、９０／１００以上の評価を得るものである。
【００４３】
以上の成分からなるハードコート層２の屈折率は通常１．４９〜１．５２程度であるが、本発明ではハードコート層２に高屈折率粒子を含有させて屈折率を増大させて反射防止性能を高めるために、ハードコート層材料中に高屈折率粒子、すなわち高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子を添加することができる。本発明において高屈折率粒子とは、屈折率が１．６以上で粒径が０．５〜２００ｎｍのものをいう。ポリエステルフィルム１を基材（ベース）とする反射防止フィルムにおいて、低反射率化のためのハードコート層２の好ましい屈折率は１．５５〜２．０であり、本発明ではこの屈折率を有するハードコート層２を形成するために、高屈折率粒子の配合量をハードコート層２に対して５〜７０体積％となるように調整することができる。前記高屈折率の金属や金属酸化物の超微粒子としては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる一つあるいは二つ以上の酸化物の粒子を用いることができ、具体的には、例えば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ２（屈折率２．３〜２．７）、ＣｅＯ２（屈折率１．９５）、Ｓｂ２Ｏ５（屈折率１．７１）、ＳｎＯ２、ＩＴＯ（屈折率１．９５）、Ｙ２Ｏ３（屈折率１．８７）、Ｌａ２Ｏ３（屈折率１．９５）、ＺｒＯ２（屈折率２．０５）、Ａｌ２Ｏ３（屈折率１．６３）等の微粉末が挙げられる。
【００４４】
さらに、ハードコート層２に帯電防止性を付与し、反射防止フィルムとしての帯電防止性、埃付着性防止を可能にするのが好ましい。ハードコート層２に帯電防止性を付与するためにはハードコート層２に導電性ナノ粒子を含有させればよく、これはハードコート層材料中に導電性ナノ粒子、すなわち導電性の金属や金属酸化物で粒径が０．５〜２００ｎｍの超微粒子を添加することにより可能となる。導電性ナノ粒子としてはインジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる一つあるいは二つ以上の酸化物の粒子を用いるのが好ましく、具体的には、酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化錫（ＳｎＯ２）、アンチモン／錫酸化物（ＡＴＯ）、鉛／チタン酸化物（ＰＴＯ）、アンチモン酸化物（Ｓｂ２Ｏ５）の超微粒子を用いるのが好ましい。
【００４５】
さらに、前記高屈折率粒子と導電性ナノ粒子を凝集なく併用することにより、高屈折率かつ帯電防止性に優れたハードコート層２を得ることが可能となる。ハードコート層２が帯電防止性を得るためにはそのシート抵抗が１０１４Ω／□以下であることが好ましい。尚、ハードコート層２のシート抵抗は小さいほど帯電防止性が向上するので、特に、下限は設定されないが、シート抵抗を小さくするのには限界があるために、ハードコート層２のシート抵抗は実質的に１０6Ω／□以上となる。また、ハードコート層２のシート抵抗値は導電性ナノ粒子の配合量等によって調整することができ、例えば、導電性ナノ粒子の配合量をハードコート層２に対して５〜７０質量％となるように調整することができる。
【００４６】
また、ハードコート層２の表面に低屈折率層３を形成するための低屈折率コーティング剤を塗工するなどして形成する前に、ハードコート層２の表面処理を行うことが好ましい。この表面処理を行うことによりハードコート層２と低屈折率層３とのぬれ性、密着性を向上させることが可能となる。表面処理法としてはポリエステルフィルム１に施す表面の改質処理と同様であって、プラズマ放電処理、コロナ処理、フレーム処理のような物理的表面処理とカップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理が用いられている。
【００４７】
本発明において、低屈折率層３はポリエステルフィルム１及びハードコート層２よりも屈折率の小さい層であって、ハードコート層２の表面に低屈折率コーティング剤を塗工するなどして形成することができる。この低屈折率層３は、屈折率が１．３０〜１．４５であることが好ましく、１．３０〜１．４０であることが更に好ましい。低屈折率層３の厚みｄは低屈折率層３の屈折率をｎ、入射する光の波長をλとすると、ｎｄ＝λ／４であることが好ましい。具体的には、低屈折率層３の厚みは５０〜４００ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍであることが更に好ましい。
【００４８】
低屈折率コーティング剤は、バインダー材料自身が低屈折率である場合はバインダー材料単体で調製することができるが、バインダー材料に低屈折率の微粒子を含有して調製することもできる。バインダー材料はシリコンアルコキシド系であっても、飽和炭化水素、ポリエーテルを主鎖として有するポリマー（ＵＶ硬化型樹脂、熱硬化型樹脂）であっても良い。その中にフッ素原子を含む単位を含有しても良い。
【００４９】
シリコンアルコキシドの好ましい例は、ＲmＳｉ（ＯＲ´）nで表される化合物であり、ここでＲ、Ｒ´は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍ＋ｎは４であり、ｍ及びｎはそれぞれ整数である。更に具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等及びそれらを基本骨格とするオリゴマーやポリマー、また少なくとも２種類以上の共重合体が挙げられる。
【００５０】
上記珪素アルコキシドの加水分解は、上記珪素アルコキシドを適当な溶媒中に溶解して行う。使用する溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルコール、ケトン、エステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、或いはこれらの混合物が挙げられる。上記アルコキシドは上記溶媒中に、該アルコキシドが１００％加水分解及び縮合したとして生じるＳｉＯ２換算で０．１％以上、好ましくは０．１〜１０重量％になるように溶解する。ＳｉＯ２ゾルの濃度が０．１重量％未満であると形成されるゾル膜が所望の特性が充分に発揮できず、一方、１０重量％を越えると透明均質膜の形成が困難となる。又、本発明においては、以上の固形分以内であるならば、有機物や無機物バインダーを併用することも可能である。
【００５１】
この溶液に加水分解に必要な量以上の水を加え、１５〜３５℃、好ましくは２２〜２８℃の温度で、０．５〜１０時間、好ましくは２〜５時間撹拌を行う。上記加水分解においては、触媒を用いることが好ましく、これらの触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸又は酢酸等の酸が好ましく、これらの酸を約０．００１〜２０．０Ｎ、好ましくは０．００５〜５．０Ｎ程度の水溶液として加え、該水溶液中の水分を加水分解用の水分とすることができる。以上の如くして得られたＳｉＯ２ゾルは、無色透明な液体であり、ポットライフが約１ケ月の安定な溶液であり、基材に対して濡れ性が良く、塗布適性に優れている。
【００５２】
本発明においては、上記のＳｉＯ２ゾルに反応性有機珪素化合物又はその部分加水分解物を添加する。該反応性有機珪素化合物としては、前記の反応性有機珪素化合物の他に、熱又は電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５０００以下の有機珪素化合物が好ましい材料として挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。
【００５３】
飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダー材料のポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。
【００５４】
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダー材料のポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果、反応性を示すものであってもよい。
【００５５】
上記バインダー材料のポリマーの重合反応および架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤でも光重合開始剤でもどちらでもよい。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
【００５６】
バインダー材料が反応性有機珪素化合物であることが好ましい。低屈折率微粒子に中空シリカを用いた場合、反応性有機珪素化合物をバインダー材料に用いれば、中空シリカ粒子とのぬれ性、分散性が良好である。反応性有機珪素化合物としては、熱又は電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５０００以下の有機珪素化合物が好ましい材料として挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。具体的な化合物を例示すれば下記の通りである。
【００５７】
【化１】
【００５８】
その他の化合物しては、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシシラン化合物が挙げられる。尚、本発明では熱による脱水縮合反応でも可能である。
【００５９】
さらに低屈折率層３に防汚性を付与するために、バインダー材料の一部を撥水、撥油性材料に置き換えても良い。撥水、撥油性材料は一般にワックス系の材料等が挙げられるが、特に、含フッ素化合物を含有することが望ましい。フッ素化合物を含有したときの効果は、低屈折率層３の表面が汚れから保護され、また付着した汚れ、指紋等の除去性に優れる。さらに表面の摩擦抵抗を低減でき、耐摩耗性向上の効果も期待できる。
【００６０】
低屈折率層３の屈折率を低減するには、上記バインダー材料に低屈折率微粒子（屈折率：１．２０〜１．４５）を添加することにより実現できる。低屈折率微粒子の平均粒子径は０．５〜２００ｎｍであることが好ましい。この平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、得られる低屈折率層３においてレイリー散乱によって光が乱反射され、低屈折率層３が白っぽく見え、そのヘイズ値が増大することがある。０．５ｎｍ以下であると、低屈折率微粒子の分散性が低下し、低屈折率コーティング剤の液中で凝集を生じてしまう。また、低屈折率微粒子の添加量は低屈折率層３の全量に対して２０〜９９体積％であることが好ましい。２０体積％以下であると低屈折率化の効果が少なく、微粒子の添加量が多いほど低屈折率化の効果が大きい。
【００６１】
本発明の反射防止フィルムをディスプレイ等の最表面に配置して使用する場合、実使用に耐えうる表面硬度、耐摩耗性が必要となる。このような場合は低屈折率層３として高い膜硬度が必要となる。しかしながら一般的に粒子充填複合材料は粒径の等しい（完全な単分散の）球状微粒子を最密充填したときの、微粒子の最大体積分率は、Horsfieldの充填モデルによると、０．７４となり、幾何学的な関係から、必然的に２４体積％粒子間間隙が生じてしまう。従って、理想的には低屈折層３に２４体積％のバインダー材料を添加したとき（７６体積％の低屈折率微粒子）、低屈折率微粒子間の空隙は全てバインダー材料で置換され、高充填かつ非常に緻密な低屈折率層３の薄膜が得られることになる。しかしながら実際には、微粒子は粒度分布を持っており、また、低屈折率微粒子／バインダー材料の界面のぬれ性不足、ナノサイズの粒子径のため、低屈折率コーティング剤の液中または溶剤乾燥過程で凝集等を生じている。従って、実際には、低屈折率微粒子の添加量が７０体積％以上の領域では低屈折率層３中で、低屈折率微粒子の充填不良を生じ、低屈折率微粒子間にバインダー材料の未充填に起因する空隙を生じることになる。
【００６２】
この低屈折率微粒子の高充填領域で生じた低屈折率層３内でのバインダー材料の未充填部分は、薄膜の強度、耐摩耗性能を著しく低下させる。従って、低屈折率微粒子の添加による低屈折率層３の屈折率低減手法は、７０体積％以上の低屈折率微粒子の高充填領域では、耐摩耗性と完全にトレードオフの関係になり、実用上利用困難である。
【００６３】
低屈折率微粒子としては、屈折率が１．５以下であることが望ましい。具体的にはシリカ微粒子、中空シリカ微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物微粒子が好ましい。これら微粒子を１種類もしくは２種類以上混合して使用する。これら低屈折率微粒子をバインダー材料の樹脂等に相溶性を持たせるため表面処理を施して分散させる。
【００６４】
低屈折率層３中に含有される低屈折率微粒子が１種類以上の低屈折率微粒子から構成されており、低屈折率微粒子として少なくとも中空シリカゾルを含有することが好ましい。本発明において、中空粒子とは外殻によって包囲された空洞を有する微粒子である。また、中空粒子自体の屈折率は１．２０〜１．４５であることが好ましく、この中空粒子の屈折率は特開２００１−２３３６１１号公報に開示されている方法によって測定することができる。また、中空粒子の平均粒子径は０．５〜２００ｎｍであることが好ましい。中空粒子の外殻を構成する材料は、シリカのほか、金属酸化物であることも好ましい。中空粒子は、その平均粒子径に比べて外殻の厚みが薄いものを用いるのが好ましく、また、低屈折率層３中に占める中空シリカ微粒子（内部の空洞も含む）の体積が多いこと（４０体積％以上）が好ましい。このような中空粒子は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に開示されており、そこに開示されている中空粒子を低屈折率コーティング剤を調製する際に使用することができる。
【００６５】
中空粒子２の外殻を構成する材料を具体的に挙げると、ＳｉＯ２、ＳｉＯｘ、ＴｉＯ２、ＴｉＯｘ、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ａｌ２Ｏ３等の単独材料又はこれらの材料のいずれかの組み合わせの混合物の形態の材料である。また、これらの材料のいずれかの組み合わせの複合酸化物であってもよい。なお、ＳｉＯｘは、酸化雰囲気中で焼成した場合に、ＳｉＯ２となるものが好ましい。
【００６６】
前記低屈折率コーティング剤は液相法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、リバースコーティング法、トランスファーロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キャストコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）により表面処理を行ったハードコート層２上に塗工されることが好ましい。塗工後加熱乾燥により塗膜中の溶剤を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させて低屈折率層３を形成することができる。
【００６７】
本発明では、反射防止フィルムの防汚性、指紋除去性を更に向上させるためには、低屈折率層３の最表面への防汚層４を形成してコーティングするのが好ましい。防汚層４の厚みは光学特性に影響を与えないため、３０ｎｍ以下にするのが好ましい。また、防汚層４の形成処理は、シリコーン系またはフッ素含有化合物を被覆し、低屈折率層３の表面と化学的に結合させるようにして行なう。また、防汚層４を形成する材料としては、アルコキシシラノ基を有するフッ素化合物、反応性シリコーンオイル等基材との反応性を有するものが耐摩耗性、耐薬品性、耐経時劣化性を向上することができて好ましい。
【００６８】
防汚層４を形成するための防汚材料としては、例えば、ＧＥ東芝シリコーン製長鎖フルオロアルキルシランコーティング剤「ＸＣ９８−Ｂ２４７２」を希釈溶剤ＩＰＡ(イソプロパノール)を用い、固形分０．２％まで希釈し、この混合液を膜厚５ｎｍになるようにワイヤーバーコーター＃１０番で低屈折率層３の表面に塗布した後、１２０℃、１５分間乾燥させることによって、防汚層４を形成することができる。また、防汚層４の性能評価としては、指紋拭き取り性を挙げることができる。すなわち、防汚層４に指紋を付着させ、表面を汚した直後に、キムワイプ（Ｒ）（十条キンバリー（株）製）で５０往復して拭取る。拭取った部分にセロハンテープ（Ｒ）（「ＣＴ２４」，ニチバン（株）製）を貼り付けて剥がし、４０ｃｍの距離より目視で観察し、汚れの除去度を評価することができる。
【実施例】
【００６９】
以下本発明を実施例によって具体的に説明する。
【００７０】
ポリエステルフィルム（透明基板フィルム）１としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績（株）製「Ａ４１００」（１８８μｍ厚））を用いた。
【００７１】
ポリエステルフィルム１には、コロナ放電処理あるいはプラズマ放電処理にて表面の改質処理を施した。コロナ放電処理は、コロナ出力０．５ｋＷ、ラインスピード１０ｍ／ｍｉｎの条件にて実施した。また、プラズマ放電処理は、（株）サムコインターナショナル製プラズマクリーニング装置、ＰＸ２５０にて処理を行った。
【００７２】
ハードコート層２は、アクリル系紫外線硬化型樹脂（大日精化工業（株）製「セイカビームＰＥＴ−ＨＣ１５」有効成分（固形分）６０％）中に各種ナノ粒子を分散させてハードコート材料を調製し、このハードコート材料（混合液）をワイヤーバーコーター＃１０番でポリエステルフィルム１の表面に塗布し、８０℃、１分間乾燥させた後、ＵＶ照射（６００ｍＪ／ｃｍ２）により硬化させて形成した。上記各種ナノ粒子のうち、高屈折率粒子としては、テイカ（株）製酸化チタン粒子「７６０Ｔ」（分散溶剤：トルエン、固形分４８％）を用いた。また、上記各種ナノ粒子のうち、導電性ナノ粒子としては、触媒化成工業（株）製ＡＴＯ粒子「ＥＬＣＯＭ Ｐ−特殊品Ａ」（分散溶剤：ＭＥＫ／トルエン（４／１）、固形分３０％）を用いた。さらに、実施例９においては、チオール樹脂として、堺化学（株）製、ＤＭＰＭ（ジペンタエリスリトールヘキサ−３−メルカプトプロピオネート）を密着付与成分として用い、上記アクリル系紫外線硬化型樹脂に対して１０質量％の割合で配合した。
【００７３】
低屈折率層３は低屈折率コーティング剤をハードコート層２の表面に塗布して形成した。低屈折率コーティング剤は、テトラエトキシシラン２０８部にメタノール３５６部を加え、更に水１８部及び０．０１Ｎの塩酸水溶液１８部を加え、これをディスパーで混合し、混合液を得、この混合液を２５℃恒温槽中で２時間攪拌して重量平均分子量を８５０に調整したシリコーンレジン（Ａ）として使用し、次に、低屈折率微粒子として以下の低屈折率ナノ粒子（１）（２）をシリコーンレジン（Ａ）に加え、低屈折率ナノ粒子／シリコーンレジンが縮合固形物換算で所望の体積比となるように配合し、その後、全固形分が１％になるようにメタノールで希釈することによって、低屈折率コーティング剤を調整し、低屈折率コーティング剤を膜厚１００ｎｍになるようにワイヤーバーコーター＃１０番で上記ハードコート層２の表面に塗布した後、１２０℃、１５分間乾燥させて形成した。低屈折率ナノ粒子（１）としては、中空シリカＩＰＡ（イソプロパノール）分散ゾル（スルーリアＣＳ−６０ＩＰＡ、固形分２０重量％、触媒化成工業（株）製）を用いた。また、低屈折率ナノ粒子（２）としては、オルガノシリカゾル（ＩＰＡ−ＳＴ、固形分３０重量％、日産化学（株）製）を用いた。
（実施例１）
コロナ放電処理済みＰＥＴフィルム上に、酸化チタン粒子（７６０Ｔ）を３０質量％分散させたハードコート材料をコーティングし、膜厚３μｍの硬化膜（ハードコート層２）を得た。その上にシリコーンレジン（Ａ）マトリックスに対しトータル量の６０体積％のＣＳ−６０ＩＰＡを分散させた低屈折率コーティング剤を、膜厚約１００ｎｍになるようにワイヤーバーコーターでコーティングした。この後、１２０℃、１５分の条件で硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作成した。
（実施例２）
ＰＥＴフィルムの表面の改質処理が減圧酸素プラズマ放電処理（５０Ｗ、２分、１３．３Ｐａ（１００ｍＴｏｒｒ））であること以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例３）
ＰＥＴフィルムの表面の改質処理が減圧酸素プラズマ放電処理（５０Ｗ、４分、１３．３Ｐａ（１００ｍＴｏｒｒ））であること以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例４）
ＰＥＴフィルムの表面の改質処理が減圧アルゴンプラズマ放電処理（５０Ｗ、２分、１３．３Ｐａ（１００ｍＴｏｒｒ））であること以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例５）
酸化チタン粒子（７６０Ｔ）が８０質量％分散させたハードコート材料を用いた以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例６）
中空シリカ粒子（ＣＳ６０ＩＰＡ）が４０体積％配合された低屈折率コーティング剤を用いた以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例７）
ハードコート材料中に分散させる粒子として酸化チタン粒子（７６０Ｔ）が３０質量％、ＡＴＯ粒子（ＥＬＥＣＯＭ−Ｐ特殊品Ａ）を５０質量％とした以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例８）
低屈折率コーティング剤中に分散させる粒子を中空シリカ粒子の代わりに、オルガノシリカゾル（ＩＰＡ−ＳＴ）を６０体積％配合した以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例９）
ハードコート材料中に密着付与成分としてチオール系樹脂（ＤＰＭＰ）を１０重量％混合させ、分散させる酸化チタン粒子（７６０Ｔ）が３０重量％配合されたハードコート材料を用いた以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
（実施例１０）
低屈折率層の上にＸＣ９８−Ｂ２４７２からなる防汚層を積層した以外は実施例２と同様にして反射防止膜を積層した反射防止フィルムを作成した。
（比較例１）
表面の改質処理を行なわないＰＥＴフィルムを用いた以外は実施例１と同様にしてハードコート層２及び低屈折率層３を積層した反射防止フィルムを作成した。
（比較例２）
ＰＥＴフィルムとハードコート層２の間に易接着層を設けるため、ＰＥＴフィルムとして両面に易接着層を有する東洋紡績（株）製Ａ４３００を使用した以外は比較例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
（比較例３）
ハードコート材料中に酸化チタンを含有しない以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作成した。
【００７４】
実施例１〜９、比較例１〜３で得た評価結果を表１，２に示す。尚、各評価方法は以下の通りである。
【００７５】
外観干渉ムラ：Ａ４サイズのサンプル裏面を黒塗りしたあと、３波長蛍光灯下で外観特性を目視観察した。
【００７６】
視感反射率：（株）日立ハイテクノロジーズ製、分光光度計Ｕ−４１００を用い、ＪＩＳ Ｒ−３１０６ に基づき、サンプル裏面を黒塗りしたあとに、５度の正反射で測定する。
【００７７】
密着性（クロスカットテープ試験）：サンプルをＪＩＳ Ｄ０２０２−１９８８に準拠して碁盤目テープ剥離試験を行う。セロハンテープ（Ｒ）（「ＣＴ２４」，ニチバン（株）製）を用い、指の腹でフィルムに密着させた後剥離する。判定は１００マスの内、剥離しないマス目の数で表し、剥離しない場合を１００／１００、完全に剥離する場合を０／１００として表す。
【００７８】
指紋拭き取り性：実施例２、１０の反射防止フィルムの表面に指紋を付着させて表面を汚した直後に、キムワイプ（Ｒ）（十条キンバリー（株）製）で５０往復して拭取る。次に、拭取った部分にセロハンテープ（Ｒ）（「ＣＴ２４」，ニチバン（株）製）を貼り付けて剥がし、４０ｃｍの距離より目視で観察し、汚れの除去度を評価した。この結果、実施例１０は実施例２と比較して指紋拭き取り性が良好であった。
【００７９】
【表１】
【００８０】
【表２】
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】本発明の実施の形態の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００８２】
１ ポリエステルフィルム
２ ハードコート層
３ 低屈折率層
４ 防汚層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルフィルムの表面に屈折率が１．５５〜２．０のハードコート層を形成した反射防止フィルムにおいて、ポリエステルフィルムとして、ハードコート層と接する表面に易接着皮膜を有さず、且つハードコート層と接する面に改質処理が施されたものを用い、クロスカット試験で評価されるハードコート層の密着性が９０／１００以上であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物を高屈折率粒子としてハードコート層に含有して成ることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
ハードコート層が帯電防止性を有して成ることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物を導電性ナノ粒子としてハードコート層に含有して成ることを特徴とする請求項３に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
ハードコート層のシート抵抗が１０１４Ω／□以下であることを特徴とする請求項３又は４に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
ハードコート層の表面に屈折率が１．３０〜１．４５の低屈折率層を設けて成ることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
低屈折率層の表面に防汚層を設けて成ることを特徴とする請求項６に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法であって、プラズマ放電処理によりポリエステルフィルムに表面の改質処理を施すことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法であって、コロナ放電処理によりポリエステルフィルムに表面の改質処理を施すことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１】
ポリエステルフィルムの表面に屈折率が１．５５〜２．０のハードコート層を形成した反射防止フィルムにおいて、ポリエステルフィルムとして、ハードコート層と接する表面に易接着皮膜を有さず、且つハードコート層と接する面に改質処理が施されたものを用い、クロスカット試験で評価されるハードコート層の密着性が９０／１００以上であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物を高屈折率粒子としてハードコート層に含有して成ることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
ハードコート層が帯電防止性を有して成ることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
インジウム、亜鉛、錫、アンチモンから選ばれる少なくとも一つの酸化物を導電性ナノ粒子としてハードコート層に含有して成ることを特徴とする請求項３に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
ハードコート層のシート抵抗が１０１４Ω／□以下であることを特徴とする請求項３又は４に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
ハードコート層の表面に屈折率が１．３０〜１．４５の低屈折率層を設けて成ることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
低屈折率層の表面に防汚層を設けて成ることを特徴とする請求項６に記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法であって、プラズマ放電処理によりポリエステルフィルムに表面の改質処理を施すことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法であって、コロナ放電処理によりポリエステルフィルムに表面の改質処理を施すことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【図１】
【公開番号】特開２００６−２３５１２５（Ｐ２００６−２３５１２５Ａ）
【公開日】平成１８年９月７日（２００６．９．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−４８０２８（Ｐ２００５−４８０２８）
【出願日】平成１７年２月２３日（２００５．２．２３）
【出願人】（０００００５８３２）松下電工株式会社 (17,916)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年９月７日（２００６．９．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年２月２３日（２００５．２．２３）
【出願人】（０００００５８３２）松下電工株式会社 (17,916)
【Ｆターム（参考）】
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