反射防止フィルム
【課題】基材にＰＥＴフィルムを用いても、極めて高い透明性を有し、かつ機械特性に優れ、後加工性の良い高付加価値な性能を有した反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】透明基材フィルムの一方の面上に、少なくともハードコート層と反射防止層とを順次積層してなる反射防止フィルムにおいて、前記反射防止層が、高屈折材料層の薄膜と低屈折率層の薄膜とを交互に積層させた４層以上の積層体からなり、前記積層体の最外層の薄膜が低屈折率層の薄膜であり、かつ、（１）透明基材フィルムが、ヘイズが０．５％以下のポリエチレンテレフタレートフィルムであり、（２）ハードコート層が光硬化性樹脂を含有し、その厚みが１．５μｍ以上４μｍ以下であり、（３）反射防止層の総厚が１００〜３００ｎｍであり、（４）反射防止フィルムとしてのヘイズが０．３％以下、全光線透過率が９２％以上であり、視感反射率が０．９％以下である。
【解決手段】透明基材フィルムの一方の面上に、少なくともハードコート層と反射防止層とを順次積層してなる反射防止フィルムにおいて、前記反射防止層が、高屈折材料層の薄膜と低屈折率層の薄膜とを交互に積層させた４層以上の積層体からなり、前記積層体の最外層の薄膜が低屈折率層の薄膜であり、かつ、（１）透明基材フィルムが、ヘイズが０．５％以下のポリエチレンテレフタレートフィルムであり、（２）ハードコート層が光硬化性樹脂を含有し、その厚みが１．５μｍ以上４μｍ以下であり、（３）反射防止層の総厚が１００〜３００ｎｍであり、（４）反射防止フィルムとしてのヘイズが０．３％以下、全光線透過率が９２％以上であり、視感反射率が０．９％以下である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、後加工性が良く、透明性が高い反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤやＣＲＴ、プラズマデイスプレイパネル等の光学表示装置においては、太陽光や蛍光灯等の外光の写り込みを防止する反射防止フィルムが使用されることが多い。特に、外光の写り込みが大きい屋外の使用においては、限りなくゼロに近い反射率を有する反射防止フィルムすなわちＡＲ（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルムが求められている(以下ＡＲフィルムと呼称する)。
【０００３】
一般的に、ＡＲフィルムの作製には、数ｎｍレベルの薄膜の多層成膜が可能なドライコーティング技術が用いられる。中でも、スパッタリング法は、蒸着法やイオンプレーティング法、ＣＶＤ（化学基相成長法）等の他のドライコーティング方法に比べて、膜厚均一性が高く、ピンホール等の欠陥が少ないため、より視認性に優れた薄膜の形成が可能である。また、緻密な膜の形成が可能であることから、機械特性に非常に優れた薄膜の形成が可能である。
【０００４】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）用途で使用されることが多く、偏光板の保護フィルムに積層した構成の反射防止層構成が、一般的である。トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムは、吸湿性の良さおよび非常に透明性が高く複屈折が無いことから、この偏光板の保護フィルムすなわち反射防止フィルムの基材として使用されている。しかし、このＴＡＣフィルムを、ＬＣＤ用途以外で使用する場合、透明性の高さという大きな利点はあるものの、材料成分に依存する、加水分解などによる、変色、腐食等の外観不良が発生しやすく、環境耐久性が悪い問題がある。また、ＴＡＣフィルムは、鏡面のエンドレスベルトに溶剤ドープを流延成膜し、乾燥後に剥離して巻き取り作製される。そのため、フィルムの両側端には、ブロッキング防止のためのナール加工による厚膜部があり、後工程での加工性が悪い問題がある。さらに、前記した方法で作製されるため、押し出し成形等で作成されるフィルム基材に比較して生産性が低く、ＬＣＤ用途以外での供給が難しいと言う問題がある。そのため、ＬＣＤ用途で使用する場合において、ＴＡＣ以外の基材を使用した、透明性を持ち、更に、後加工性の良い反射防止フィルムの開発が望まれている。
【０００５】
ＴＡＣ以外の基材、特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用いた反射防止フィルムは以前より提案されている。例えば、特許文献１には、ＰＥＴフィルム基材の片面に反射防止膜が形成され、他方の面に易接着層が形成されたフィルムが開示されており、また、特許文献２には、特許文献１のフィルムの前記易接着層の上に剥離可能な保護フィルムが設けられたフィルムが提案されている。しかしながら、ＰＥＴフィルムを用いても、優れた反射防止性能を付与させるためには、スパッタリング法を用いる必要がある。スパッタリング法では、前記したように、膜厚の均一性が高いため、複数の層を重ねたち密な光学設計に基づいた極めて低い反射率の性能を持った反射防止フィルムを作ることができる。その代償に、プロセスコストが高くなるという欠点がある。そのため、ウェット法で作成した反射防止膜よりも、高性能ではあるが高額な価格設定になる。そのため、ＴＡＣ等に比べ光学性能で劣るＰＥＴフィルム等を基材に使用しても、需要がないのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第３１４１１２９号公報
【特許文献２】特開平９−１９３３２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記した事情を鑑みてなされたもので、基材にポリエチレンテレフタレートフィルムを用いても、極めて高い透明性を有し、かつ機械特性に優れ、後加工性の良い高付加価値な性能を有した反射防止フィルムを提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の請求項１に係る発明は、透明基材フィルムの一方の面上に、少なくともハードコート層と反射防止層とを順次積層してなる反射防止フィルムにおいて、前記反射防止層が、高屈折材料層の薄膜と低屈折率層の薄膜とを交互に積層させた４層以上の積層体からなり、前記積層体の最外層の薄膜が低屈折率層の薄膜であり、以下の（１）から（４）の条件を全て満たすことを特徴とする反射防止フィルムである。
（１）透明基材フィルムが、ヘイズが０．５％以下のポリエチレンテレフタレートフィルムである。（２）ハードコート層が光硬化性樹脂を含有し、その厚みが１．５μｍ以上４μｍ以下である。（３）反射防止層の総厚が１００〜３００ｎｍである。（４）反射防止フィルムとしてのヘイズが０．３％以下、全光線透過率が９２％以上であり、視感反射率が０．９％以下である。
【０００９】
また、本発明の請求項２に係る発明は、前記反射防止層の、前記低屈折率層の薄膜が酸化珪素であり、前記高屈折率層の薄膜が酸化ニオブであり、それぞれスパッタリング法を用いたドライコーティング法により積層されていることを特徴とする請求項１に記載する反射防止フィルムである。
【００１０】
また、本発明の請求項３に係る発明は、前記スパッタリング法による前記反射防止層の前記薄膜が、圧力が０．１〜０．６Ｐａで積層された薄膜であることを特徴とする請求項２に記載する反射防止フィルムである。
【００１１】
また、本発明の請求項４に係る発明は、前記ハードコート層と前記反射防止層との間に、金属単体、２種類以上の金属からなる合金、金属化合物、または、それらの混合物からなる１層以上のプライマー層が設けられていることを特徴とする請求項１から３のいずれか1項に記載する反射防止フィルムである。
【００１２】
また、本発明の請求項５に係る発明は、前記反射防止層の上に、防汚層が設けられていることを特徴とする請求項１から４のいずれか1項に記載する反射防止フィルムである。
【００１３】
また、本発明の請求項６に係る発明は、前記防汚層が、真空蒸着法により成膜されたフッ素化合物であることを特徴とする請求項５に記載する反射防止フィルムである。
【００１４】
また、本発明の請求項７に係る発明は、前記反射防止層の上に設けられた前記防汚層表面の純水に対する接触角が１００°以上であり、反射防止フィルムとしてのヘイズが０．３％以下であることを特徴とする請求項５または６記載の反射防止フィルムである。
【００１５】
また、本発明の請求項８に係る発明は、前記反射防止層の上に設けられた前記防汚層が、該防汚層表面に対してスチールウール＃００００を使用し、荷重１．０ｋｇ／ｃｍ２、温度２５℃、湿度５５％Ｒ．Ｈ．の環境下で１０往復擦っても傷が付かないことを特徴とする請求項５から７のいずれか1項に記載する反射防止フィルムである。
【００１６】
また、本発明の請求項９に係る発明は、前記ハードコート層が、鉛筆硬度試験において、２Ｈの鉛筆にて、５００ｇ荷重で、５回試験を行った時に、２本以上傷がつかないことを特徴とする請求項１から８のいずれか1項に記載する反射防止フィルムである。
【００１７】
また、本発明の請求項１０に係る発明は、前記反射防止フィルムが、直径１２ｍｍの丸棒に、前記反射防止層面を外側にして、荷重をかけずに、巻きつけた場合に、目視で確認できるハードコート層のクラックが発生しないことを特徴とする請求項１から９のいずれか1項に記載する反射防止フィルムである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の反射防止フィルムは、上記した構成であるため、基材にポリエチレンテレフタレートフィルムを用いても、極めて高い透明性を有し、耐擦傷性試験、鉛筆硬度試験などの機械特性に優れ、更に、断裁などの後工程において、クラックが入りにくい、後加工性に優れた反射防止フィルムの作製が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の反射防止フィルムの一実施形態の構成を断面で示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の反射防止フィルムを一実施形態に基づいて以下に説明する。
【００２１】
図１は、本発明の反射防止フィルムの一実施形態の構成を断面で示す模式図である。図１において、本発明の反射防止フィルム１００は、透明基材フィルム１０上に、ハードコート層２０、プライマー層３０、反射防止層４０が順次積層されている。さらに反射防止層４０上に防汚層５０が積層されている。
【００２２】
透明基材フィルム１０としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用いる。透明基材フィルム１０の厚さは、目的の用途に応じて、適宜選択すればよいが、通常７０μｍ以上２００μｍ以下のものを使用する。
【００２３】
また、透明基材フィルム１０であるＰＥＴフィルムには、可塑剤や紫外線吸収剤、劣化防止剤の添加物が含まれてもいてもよいが、高透明なフィルムを選択する必要があるため、粒子形状をした添加物等は光の透過性および光の直進性を低くしてしまい、透明性を下げる原因となるため、あまり好ましくない。できる限り、内部への粒子状の添加物は避ける必要がある。ハンドリング上、易接着層などは、必要となるが、ＰＥＴの外側に、なるべく表面粗さを抑えた状態で、コーティングする必要がある。また、フィルムの透明度に関しては、ヘイズや光線透過率の値で、決めることが出来る。本発明の反射防止フィルムでは、ヘイズが０．５％以下、全光線透過率が８８％以上のＰＥＴフィルムを使用する。
【００２４】
透明基材フィルム１０上に、反射防止層４０の機械強度を十分に発揮させるためのハードコート層２０を設ける。ハードコート層２０としては、電離線や紫外線硬化型の樹脂が使用され、紫外線硬化型のアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド等のアクリル系樹脂や有機珪素系樹脂やポリシロキサン樹脂が最適である。これらの材料の中には、硬化性を向上させるために、重合開始剤を添加してもよい。ＰＥＴフィルムの片面に易接着層を有する場合は、易接着面側にハードコート樹脂を塗工することが好ましい。ヘイズを下げ、更に、ハードコート樹脂とＰＥＴフィルムの密着性を上げる効果がある。ハードコート層２０の厚みとしては、物理膜厚１．５μｍ
以上４μｍ以下とすることが好ましい。ハードコート層２０の厚みが１．５μｍ以下の場合は、機械強度の性能が出にくく、厚みが４μｍ以上の場合は、フィルムの曲げや引張りなどにより、ハードコート層にクラックが発生しやすく、後加工性が悪くなる。
【００２５】
本発明の反射防止フィルムにおいては、反射防止層が極めて薄い薄膜の積層体であるため、反射防止フィルム全体の固さは、下地層であるハードコート層の固さの影響を受けやすい。そのため、できるだけ機械強度が高いハードコート層を選択する必要がある。鉛筆硬度試験において、２Ｈ、５００ｇ過重で、５回試験を行った時に、２本以上傷がつかないハードコート層を使用する。
【００２６】
透明基材フィルム１０と接する面とは反対側のハードコート層２０の表面に表面処理を施しても良い。このとき、表面処理方法としては、コロナ放電処理や電子ビーム処理、火炎処理、グロー放電処理、大気圧プラズマ処理等の処理が挙げられる。本発明の反射防止フィルムでは、低温プラズマ表面処理を施すのが特に好ましい。低温プラズマ処理を行うことで、親水性の向上や、適度に表面を荒らすことにより、その後に積層する薄膜との密着性を向上させることができる。
【００２７】
この後、ハードコート層２０に、プライマー層３０を設けてもよい。プライマー層３０の材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム等の金属単体、または、これら金属の２種類以上からなる合金、または、これらの酸化物、弗化物、硫化物、窒化物などが挙げられ、これは混合物であってもよい。また、プライマー層３０は２層以上の構成であってもよい。
【００２８】
プライマー層３０は、密着性を向上させるために用いる。その厚みは、透明基材フィルム１の透明性を損なわない程度あればよく、好ましくは、物理膜厚で、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下程度である。これらのプライマー層は、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法などのドライコーティング方法を用いることが好ましい。特に、スパッタリング法が好ましい。
【００２９】
反射防止層４０としては、波長５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．６未満でかつ波長５５０ｎｍにおける光の消衰係数が０．５以下の低屈折率透明薄膜層単層からなるものや、波長５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．９以上の高屈折率透明薄膜層、光の屈折率１．６未満の低屈折率透明薄膜層、光の屈折率１．６〜１．９程度の中屈折率透明薄膜層などの屈折率の異なる光学薄膜を積層した複数層からなるものなどが挙げられる。複数層からなる反射防止層は反射率がきわめて低く、反射防止性能が高いため、特に好ましい。複数層からなる反射防止層４０としては、基材側より順番に、高屈折率透明薄膜層、低屈折率透明薄膜層、高屈折率透明薄膜層、低屈折率透明薄膜層とを積層した構成のものが挙げられ、積層体の最外層は低屈折率透明薄膜とする。
【００３０】
これらの光学薄膜層からなる反射防止層４０は、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法などのドライコーティング方法で形成できる。膜厚均一性が高く、ピンホール等の欠陥が少ないため、視認性に優れ、緻密であり、耐擦傷性などの機械特性に優れた薄膜の形成が可能であるスパッタリング法を用いることが好ましい。中でも、より高い成膜速度と高い放電安定性により高生産性を得ることができることから、中周波領域の電圧印加により成膜を行うデュアル・マグネトロン・スパッタリング（ＤＭＳ）法が最適である。
【００３１】
高屈折率透明薄膜層の材料としては、インジウム、錫、チタン、シリコン、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、マグネシウム、ビスマス、セリウム、タンタル、アルミニウム、ゲル
マニウム、カリウム、アンチモン、ネオジウム、ランタン、トリウム、ハフニウム等の金属、あるいは、これら金属の２種類以上からなる合金、これらの酸化物、弗化物、硫化物、窒化物などが挙げられる。具体的には、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化セリウム等が挙げられるがこれに限られるものではない。また、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要はなく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。中でも、スパッタリング法を用いる場合は、作成した薄膜のピンホールの少なさから、酸化ニオブが適している。
【００３２】
低屈折率透明薄膜層の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化チタン、弗化マグネシウム、弗化バリウム、弗化カルシウム、弗化ハフニウム、弗化ランタン等の材料が、挙げられるがこれに限られるものでなく、更に、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要なく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。特に、光学特性、機械強度、コスト、成膜適正などの面などから、酸化シリコンが最適な材料である。
【００３３】
必要に応じて、反射防止層４０の上、最表面層に防汚層５０を設けても良い。防汚層５０は、反応性官能基と結合している珪素原子を２つ以上有するフッ素含有珪素化合物から得られた層である。ここで、反応性官能基とは、反射防止層４０の最上層と反応し、結合しうる基を意味する。また防汚層５０は、フッ素含有珪素化合物の反応性官能基同士を反応させることにより形成される層である。これにより、表面に汚れが付きにくく、更に、汚れが付いた場合でも拭き取り性能を上げることができる。ここで、防汚層の成膜方法は特に限定されないが、真空蒸着法による成膜方法が好適である。この方法によれば、連続的に成膜した場合、膜厚の均一性良く成膜することが可能である。
【００３４】
この際、十分な防汚性能を有するためには、少なくとも、純水に対する接触角が１００度以上必要である。これにより、表面の汚れのふき取り性が上がる。更に、摩擦係数も下がるため、より耐擦傷性能も向上することもできる。
【実施例】
【００３５】
以下に、本発明の具体的実施例および比較例について説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【００３６】
＜実施例１＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ０．３４％、全光線透過率９３．４％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み２μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、５／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、０．３Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成は、ハードコート層側からＮｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２／Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２、各層の膜厚は、それぞれ１５ｎｍ／２５ｎｍ／１０５ｎｍ／８５ｎｍとなるように成膜を実施した。
【００３７】
＜実施例２＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ０．２７％、全光線透過率９０．４％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み３μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、４／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、０．３Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成および各層の膜厚は、実施例１と同様にした。
【００３８】
＜実施例３＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ０．３４％、全光線透過率９３．４％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み２μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、５／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、１．０Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成および各層の膜厚は、実施例１と同様にした。
【００３９】
＜比較例１＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ１．０％、全光線透過率８９％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み５μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、５／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、０．３Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成および各層の膜厚は、実施例１と同様にした。
【００４０】
＜比較例２＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ０．３４％、全光線透過率９３．４％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み６μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、５／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、０．３Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成および各層の膜厚は、実施例１と同様にした。
【００４１】
＜比較例３＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ０．２７％、全光線透過率９０．４％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み１μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、２／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、０．３Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成および各層の膜厚は、実施例１と同様にした。
【００４２】
その後、上記した実施例１〜３、比較例１〜３の反射防止層上に、フルオロアルコキシシランを真空蒸着にて反応成膜し、防汚層の成膜を行った。得られた実施例１〜３、比較例１〜３の反射防止フィルムの、防汚層表面の純水に対する接触角は１０８°であった。
【００４３】
上記した実施例１〜３、比較例１〜３で得られたサンプルを、以下の方法で評価した。その結果を表１に示す。
【表１】
【００４４】
［視感反射率測定］
日立製作所製Ｕ４０００型の分光光度計を用いて、測定を実施した。サンプルの裏面側は艶消し黒塗りスプレーにより裏面からの反射をカットする処理を施し、測定の際には、正反射５°ユニットを使用した。
【００４５】
（２）ヘイズおよび全光線透過率測定
ヘイズメーターを用いて、全光線透過率測定を実施した。この際、入射光は、防汚層（反射防止層）側より入射させた。ヘイズ測定に関しては、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に則して、行った。
ここで、ヘイズ（％）＝Ｔｄ ／Ｔｔ ×１００（Ｔｔ：全光線透過率、Ｔｄ：拡散透過率）
【００４６】
［耐擦傷性試験］
スチールウール＃００００を擦傷試験機に固定し、４．９Ｎおよび９．８Ｎの荷重をかけて、１０往復の擦傷試験を各サンプルの反射防止層に対して行い、サンプルの磨耗状態（傷本数）を目視で観測した。判定基準を以下に示す。
◎：傷無し
○：傷１０本未満
×：傷１０本以上
【００４７】
［鉛筆硬度試験］
鉛筆は２Ｈを使用し、それぞれの鉛筆に４．９Ｎの荷重をかけて、５回フィルム上をなぞり、サンプルの磨耗状態（傷本数）を目視で観測した。５回線を引き、傷のない場合は５／５、傷が５本入っている場合は、０／５と表記する。判定基準を以下に示す。
◎：５／５、４／５
○：３／５
△：２／５
×：１／５、０／５
【００４８】
［曲げ試験］
直径１２ｍｍの丸棒に、サンプルに荷重をかけずに、反射防止層面を外側にして巻きつける。サンプルを棒よりはずした後、目視でクラックの発生を確認した。１サンプルにつき５回行う。判定基準を以下に示す。
◎：５回中５回、クラックが発生しない
○：５回中３〜４回、クラックが発生しない
△：５回中３回以上クラックは発生するが、クラックの本数が１０本以内
×：５回中５回クラックが無数に発生
【００４９】
＜比較結果＞
表１に示したように、実施例１、２で作成した反射防止フィルムを用いると、光学特性、機械特性、曲げ特性、全ての性能において、良い結果を得ることができた。これに対し、比較例１〜３で作成した反射防止フィルムに関しては、スパッタリング法による成膜のため、視感反射率はいずれも０．９％以下で、十分な反射防止性能を得ることができたが、しかし、それぞれ何かしらの評価項目において劣る結果となった。ハードコート層が厚い場合（比較例１では５μｍ、比較例２では６μｍ）は、曲げ試験でハードコート層にクラックが発生し、ハードコート層が薄い場合（比較例３では１μｍ）は、耐擦傷性試験および鉛筆硬度試験で表面が傷つく結果となった。また、基材フィルムとしてヘイズが１％のＰＥＴフィルムを用いた比較例１では反射防止フィルムとしてのヘイズを０．３％以下にすることが出来なかった。また、１．０Ｐａとやや高い成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した実施例３では、耐擦傷性試験の結果が実施例１，２と比べて、やや劣る結果となった。以上のことにより、本発明の反射防止フィルムは、優れた反射防止機能、優れた機械特性、優れた環境耐久性、優れた加工特性を有していることが確認できた。
【符号の説明】
【００５０】
１０・・・透明基材フィルム ２０・・・ハードコート層 ３０・・・プライマー層
４０・・・反射防止層 ５０・・・防汚層 １００・・・本発明の反射防止フィルム
【技術分野】
【０００１】
本発明は、後加工性が良く、透明性が高い反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤやＣＲＴ、プラズマデイスプレイパネル等の光学表示装置においては、太陽光や蛍光灯等の外光の写り込みを防止する反射防止フィルムが使用されることが多い。特に、外光の写り込みが大きい屋外の使用においては、限りなくゼロに近い反射率を有する反射防止フィルムすなわちＡＲ（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルムが求められている(以下ＡＲフィルムと呼称する)。
【０００３】
一般的に、ＡＲフィルムの作製には、数ｎｍレベルの薄膜の多層成膜が可能なドライコーティング技術が用いられる。中でも、スパッタリング法は、蒸着法やイオンプレーティング法、ＣＶＤ（化学基相成長法）等の他のドライコーティング方法に比べて、膜厚均一性が高く、ピンホール等の欠陥が少ないため、より視認性に優れた薄膜の形成が可能である。また、緻密な膜の形成が可能であることから、機械特性に非常に優れた薄膜の形成が可能である。
【０００４】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）用途で使用されることが多く、偏光板の保護フィルムに積層した構成の反射防止層構成が、一般的である。トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムは、吸湿性の良さおよび非常に透明性が高く複屈折が無いことから、この偏光板の保護フィルムすなわち反射防止フィルムの基材として使用されている。しかし、このＴＡＣフィルムを、ＬＣＤ用途以外で使用する場合、透明性の高さという大きな利点はあるものの、材料成分に依存する、加水分解などによる、変色、腐食等の外観不良が発生しやすく、環境耐久性が悪い問題がある。また、ＴＡＣフィルムは、鏡面のエンドレスベルトに溶剤ドープを流延成膜し、乾燥後に剥離して巻き取り作製される。そのため、フィルムの両側端には、ブロッキング防止のためのナール加工による厚膜部があり、後工程での加工性が悪い問題がある。さらに、前記した方法で作製されるため、押し出し成形等で作成されるフィルム基材に比較して生産性が低く、ＬＣＤ用途以外での供給が難しいと言う問題がある。そのため、ＬＣＤ用途で使用する場合において、ＴＡＣ以外の基材を使用した、透明性を持ち、更に、後加工性の良い反射防止フィルムの開発が望まれている。
【０００５】
ＴＡＣ以外の基材、特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用いた反射防止フィルムは以前より提案されている。例えば、特許文献１には、ＰＥＴフィルム基材の片面に反射防止膜が形成され、他方の面に易接着層が形成されたフィルムが開示されており、また、特許文献２には、特許文献１のフィルムの前記易接着層の上に剥離可能な保護フィルムが設けられたフィルムが提案されている。しかしながら、ＰＥＴフィルムを用いても、優れた反射防止性能を付与させるためには、スパッタリング法を用いる必要がある。スパッタリング法では、前記したように、膜厚の均一性が高いため、複数の層を重ねたち密な光学設計に基づいた極めて低い反射率の性能を持った反射防止フィルムを作ることができる。その代償に、プロセスコストが高くなるという欠点がある。そのため、ウェット法で作成した反射防止膜よりも、高性能ではあるが高額な価格設定になる。そのため、ＴＡＣ等に比べ光学性能で劣るＰＥＴフィルム等を基材に使用しても、需要がないのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第３１４１１２９号公報
【特許文献２】特開平９−１９３３２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記した事情を鑑みてなされたもので、基材にポリエチレンテレフタレートフィルムを用いても、極めて高い透明性を有し、かつ機械特性に優れ、後加工性の良い高付加価値な性能を有した反射防止フィルムを提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の請求項１に係る発明は、透明基材フィルムの一方の面上に、少なくともハードコート層と反射防止層とを順次積層してなる反射防止フィルムにおいて、前記反射防止層が、高屈折材料層の薄膜と低屈折率層の薄膜とを交互に積層させた４層以上の積層体からなり、前記積層体の最外層の薄膜が低屈折率層の薄膜であり、以下の（１）から（４）の条件を全て満たすことを特徴とする反射防止フィルムである。
（１）透明基材フィルムが、ヘイズが０．５％以下のポリエチレンテレフタレートフィルムである。（２）ハードコート層が光硬化性樹脂を含有し、その厚みが１．５μｍ以上４μｍ以下である。（３）反射防止層の総厚が１００〜３００ｎｍである。（４）反射防止フィルムとしてのヘイズが０．３％以下、全光線透過率が９２％以上であり、視感反射率が０．９％以下である。
【０００９】
また、本発明の請求項２に係る発明は、前記反射防止層の、前記低屈折率層の薄膜が酸化珪素であり、前記高屈折率層の薄膜が酸化ニオブであり、それぞれスパッタリング法を用いたドライコーティング法により積層されていることを特徴とする請求項１に記載する反射防止フィルムである。
【００１０】
また、本発明の請求項３に係る発明は、前記スパッタリング法による前記反射防止層の前記薄膜が、圧力が０．１〜０．６Ｐａで積層された薄膜であることを特徴とする請求項２に記載する反射防止フィルムである。
【００１１】
また、本発明の請求項４に係る発明は、前記ハードコート層と前記反射防止層との間に、金属単体、２種類以上の金属からなる合金、金属化合物、または、それらの混合物からなる１層以上のプライマー層が設けられていることを特徴とする請求項１から３のいずれか1項に記載する反射防止フィルムである。
【００１２】
また、本発明の請求項５に係る発明は、前記反射防止層の上に、防汚層が設けられていることを特徴とする請求項１から４のいずれか1項に記載する反射防止フィルムである。
【００１３】
また、本発明の請求項６に係る発明は、前記防汚層が、真空蒸着法により成膜されたフッ素化合物であることを特徴とする請求項５に記載する反射防止フィルムである。
【００１４】
また、本発明の請求項７に係る発明は、前記反射防止層の上に設けられた前記防汚層表面の純水に対する接触角が１００°以上であり、反射防止フィルムとしてのヘイズが０．３％以下であることを特徴とする請求項５または６記載の反射防止フィルムである。
【００１５】
また、本発明の請求項８に係る発明は、前記反射防止層の上に設けられた前記防汚層が、該防汚層表面に対してスチールウール＃００００を使用し、荷重１．０ｋｇ／ｃｍ２、温度２５℃、湿度５５％Ｒ．Ｈ．の環境下で１０往復擦っても傷が付かないことを特徴とする請求項５から７のいずれか1項に記載する反射防止フィルムである。
【００１６】
また、本発明の請求項９に係る発明は、前記ハードコート層が、鉛筆硬度試験において、２Ｈの鉛筆にて、５００ｇ荷重で、５回試験を行った時に、２本以上傷がつかないことを特徴とする請求項１から８のいずれか1項に記載する反射防止フィルムである。
【００１７】
また、本発明の請求項１０に係る発明は、前記反射防止フィルムが、直径１２ｍｍの丸棒に、前記反射防止層面を外側にして、荷重をかけずに、巻きつけた場合に、目視で確認できるハードコート層のクラックが発生しないことを特徴とする請求項１から９のいずれか1項に記載する反射防止フィルムである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の反射防止フィルムは、上記した構成であるため、基材にポリエチレンテレフタレートフィルムを用いても、極めて高い透明性を有し、耐擦傷性試験、鉛筆硬度試験などの機械特性に優れ、更に、断裁などの後工程において、クラックが入りにくい、後加工性に優れた反射防止フィルムの作製が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の反射防止フィルムの一実施形態の構成を断面で示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の反射防止フィルムを一実施形態に基づいて以下に説明する。
【００２１】
図１は、本発明の反射防止フィルムの一実施形態の構成を断面で示す模式図である。図１において、本発明の反射防止フィルム１００は、透明基材フィルム１０上に、ハードコート層２０、プライマー層３０、反射防止層４０が順次積層されている。さらに反射防止層４０上に防汚層５０が積層されている。
【００２２】
透明基材フィルム１０としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用いる。透明基材フィルム１０の厚さは、目的の用途に応じて、適宜選択すればよいが、通常７０μｍ以上２００μｍ以下のものを使用する。
【００２３】
また、透明基材フィルム１０であるＰＥＴフィルムには、可塑剤や紫外線吸収剤、劣化防止剤の添加物が含まれてもいてもよいが、高透明なフィルムを選択する必要があるため、粒子形状をした添加物等は光の透過性および光の直進性を低くしてしまい、透明性を下げる原因となるため、あまり好ましくない。できる限り、内部への粒子状の添加物は避ける必要がある。ハンドリング上、易接着層などは、必要となるが、ＰＥＴの外側に、なるべく表面粗さを抑えた状態で、コーティングする必要がある。また、フィルムの透明度に関しては、ヘイズや光線透過率の値で、決めることが出来る。本発明の反射防止フィルムでは、ヘイズが０．５％以下、全光線透過率が８８％以上のＰＥＴフィルムを使用する。
【００２４】
透明基材フィルム１０上に、反射防止層４０の機械強度を十分に発揮させるためのハードコート層２０を設ける。ハードコート層２０としては、電離線や紫外線硬化型の樹脂が使用され、紫外線硬化型のアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド等のアクリル系樹脂や有機珪素系樹脂やポリシロキサン樹脂が最適である。これらの材料の中には、硬化性を向上させるために、重合開始剤を添加してもよい。ＰＥＴフィルムの片面に易接着層を有する場合は、易接着面側にハードコート樹脂を塗工することが好ましい。ヘイズを下げ、更に、ハードコート樹脂とＰＥＴフィルムの密着性を上げる効果がある。ハードコート層２０の厚みとしては、物理膜厚１．５μｍ
以上４μｍ以下とすることが好ましい。ハードコート層２０の厚みが１．５μｍ以下の場合は、機械強度の性能が出にくく、厚みが４μｍ以上の場合は、フィルムの曲げや引張りなどにより、ハードコート層にクラックが発生しやすく、後加工性が悪くなる。
【００２５】
本発明の反射防止フィルムにおいては、反射防止層が極めて薄い薄膜の積層体であるため、反射防止フィルム全体の固さは、下地層であるハードコート層の固さの影響を受けやすい。そのため、できるだけ機械強度が高いハードコート層を選択する必要がある。鉛筆硬度試験において、２Ｈ、５００ｇ過重で、５回試験を行った時に、２本以上傷がつかないハードコート層を使用する。
【００２６】
透明基材フィルム１０と接する面とは反対側のハードコート層２０の表面に表面処理を施しても良い。このとき、表面処理方法としては、コロナ放電処理や電子ビーム処理、火炎処理、グロー放電処理、大気圧プラズマ処理等の処理が挙げられる。本発明の反射防止フィルムでは、低温プラズマ表面処理を施すのが特に好ましい。低温プラズマ処理を行うことで、親水性の向上や、適度に表面を荒らすことにより、その後に積層する薄膜との密着性を向上させることができる。
【００２７】
この後、ハードコート層２０に、プライマー層３０を設けてもよい。プライマー層３０の材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、アルミニウム、ジルコニウム、パラジウム等の金属単体、または、これら金属の２種類以上からなる合金、または、これらの酸化物、弗化物、硫化物、窒化物などが挙げられ、これは混合物であってもよい。また、プライマー層３０は２層以上の構成であってもよい。
【００２８】
プライマー層３０は、密着性を向上させるために用いる。その厚みは、透明基材フィルム１の透明性を損なわない程度あればよく、好ましくは、物理膜厚で、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下程度である。これらのプライマー層は、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法などのドライコーティング方法を用いることが好ましい。特に、スパッタリング法が好ましい。
【００２９】
反射防止層４０としては、波長５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．６未満でかつ波長５５０ｎｍにおける光の消衰係数が０．５以下の低屈折率透明薄膜層単層からなるものや、波長５５０ｎｍにおける光の屈折率が１．９以上の高屈折率透明薄膜層、光の屈折率１．６未満の低屈折率透明薄膜層、光の屈折率１．６〜１．９程度の中屈折率透明薄膜層などの屈折率の異なる光学薄膜を積層した複数層からなるものなどが挙げられる。複数層からなる反射防止層は反射率がきわめて低く、反射防止性能が高いため、特に好ましい。複数層からなる反射防止層４０としては、基材側より順番に、高屈折率透明薄膜層、低屈折率透明薄膜層、高屈折率透明薄膜層、低屈折率透明薄膜層とを積層した構成のものが挙げられ、積層体の最外層は低屈折率透明薄膜とする。
【００３０】
これらの光学薄膜層からなる反射防止層４０は、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着（ＣＶＤ）法などのドライコーティング方法で形成できる。膜厚均一性が高く、ピンホール等の欠陥が少ないため、視認性に優れ、緻密であり、耐擦傷性などの機械特性に優れた薄膜の形成が可能であるスパッタリング法を用いることが好ましい。中でも、より高い成膜速度と高い放電安定性により高生産性を得ることができることから、中周波領域の電圧印加により成膜を行うデュアル・マグネトロン・スパッタリング（ＤＭＳ）法が最適である。
【００３１】
高屈折率透明薄膜層の材料としては、インジウム、錫、チタン、シリコン、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、マグネシウム、ビスマス、セリウム、タンタル、アルミニウム、ゲル
マニウム、カリウム、アンチモン、ネオジウム、ランタン、トリウム、ハフニウム等の金属、あるいは、これら金属の２種類以上からなる合金、これらの酸化物、弗化物、硫化物、窒化物などが挙げられる。具体的には、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化セリウム等が挙げられるがこれに限られるものではない。また、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要はなく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。中でも、スパッタリング法を用いる場合は、作成した薄膜のピンホールの少なさから、酸化ニオブが適している。
【００３２】
低屈折率透明薄膜層の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化チタン、弗化マグネシウム、弗化バリウム、弗化カルシウム、弗化ハフニウム、弗化ランタン等の材料が、挙げられるがこれに限られるものでなく、更に、複数積層する場合、必ずしも同じ材料を選択する必要なく、目的にあわせて、適宜選択すればよい。特に、光学特性、機械強度、コスト、成膜適正などの面などから、酸化シリコンが最適な材料である。
【００３３】
必要に応じて、反射防止層４０の上、最表面層に防汚層５０を設けても良い。防汚層５０は、反応性官能基と結合している珪素原子を２つ以上有するフッ素含有珪素化合物から得られた層である。ここで、反応性官能基とは、反射防止層４０の最上層と反応し、結合しうる基を意味する。また防汚層５０は、フッ素含有珪素化合物の反応性官能基同士を反応させることにより形成される層である。これにより、表面に汚れが付きにくく、更に、汚れが付いた場合でも拭き取り性能を上げることができる。ここで、防汚層の成膜方法は特に限定されないが、真空蒸着法による成膜方法が好適である。この方法によれば、連続的に成膜した場合、膜厚の均一性良く成膜することが可能である。
【００３４】
この際、十分な防汚性能を有するためには、少なくとも、純水に対する接触角が１００度以上必要である。これにより、表面の汚れのふき取り性が上がる。更に、摩擦係数も下がるため、より耐擦傷性能も向上することもできる。
【実施例】
【００３５】
以下に、本発明の具体的実施例および比較例について説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【００３６】
＜実施例１＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ０．３４％、全光線透過率９３．４％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み２μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、５／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、０．３Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成は、ハードコート層側からＮｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２／Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２、各層の膜厚は、それぞれ１５ｎｍ／２５ｎｍ／１０５ｎｍ／８５ｎｍとなるように成膜を実施した。
【００３７】
＜実施例２＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ０．２７％、全光線透過率９０．４％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み３μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、４／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、０．３Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成および各層の膜厚は、実施例１と同様にした。
【００３８】
＜実施例３＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ０．３４％、全光線透過率９３．４％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み２μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、５／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、１．０Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成および各層の膜厚は、実施例１と同様にした。
【００３９】
＜比較例１＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ１．０％、全光線透過率８９％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み５μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、５／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、０．３Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成および各層の膜厚は、実施例１と同様にした。
【００４０】
＜比較例２＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ０．３４％、全光線透過率９３．４％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み６μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、５／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、０．３Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成および各層の膜厚は、実施例１と同様にした。
【００４１】
＜比較例３＞
透明基材フィルムとして、ヘイズ０．２７％、全光線透過率９０．４％、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用い、紫外線硬化型アクリル系樹脂を塗布し、乾燥・紫外線硬化させて厚み１μｍのハードコート層を設けた。ハードコート層の鉛筆硬度は、２Ｈ、５００ｇ過重で、２／５であった。次に、ハードコート層表面にグロープラズマ処理を施し、さらに、プライマー層として、スパッタリング法にて、ＳｉＯ層を、膜厚３ｎｍで成膜した。その後、スパッタリング法にて、０．３Ｐａの成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した。層構成および各層の膜厚は、実施例１と同様にした。
【００４２】
その後、上記した実施例１〜３、比較例１〜３の反射防止層上に、フルオロアルコキシシランを真空蒸着にて反応成膜し、防汚層の成膜を行った。得られた実施例１〜３、比較例１〜３の反射防止フィルムの、防汚層表面の純水に対する接触角は１０８°であった。
【００４３】
上記した実施例１〜３、比較例１〜３で得られたサンプルを、以下の方法で評価した。その結果を表１に示す。
【表１】
【００４４】
［視感反射率測定］
日立製作所製Ｕ４０００型の分光光度計を用いて、測定を実施した。サンプルの裏面側は艶消し黒塗りスプレーにより裏面からの反射をカットする処理を施し、測定の際には、正反射５°ユニットを使用した。
【００４５】
（２）ヘイズおよび全光線透過率測定
ヘイズメーターを用いて、全光線透過率測定を実施した。この際、入射光は、防汚層（反射防止層）側より入射させた。ヘイズ測定に関しては、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に則して、行った。
ここで、ヘイズ（％）＝Ｔｄ ／Ｔｔ ×１００（Ｔｔ：全光線透過率、Ｔｄ：拡散透過率）
【００４６】
［耐擦傷性試験］
スチールウール＃００００を擦傷試験機に固定し、４．９Ｎおよび９．８Ｎの荷重をかけて、１０往復の擦傷試験を各サンプルの反射防止層に対して行い、サンプルの磨耗状態（傷本数）を目視で観測した。判定基準を以下に示す。
◎：傷無し
○：傷１０本未満
×：傷１０本以上
【００４７】
［鉛筆硬度試験］
鉛筆は２Ｈを使用し、それぞれの鉛筆に４．９Ｎの荷重をかけて、５回フィルム上をなぞり、サンプルの磨耗状態（傷本数）を目視で観測した。５回線を引き、傷のない場合は５／５、傷が５本入っている場合は、０／５と表記する。判定基準を以下に示す。
◎：５／５、４／５
○：３／５
△：２／５
×：１／５、０／５
【００４８】
［曲げ試験］
直径１２ｍｍの丸棒に、サンプルに荷重をかけずに、反射防止層面を外側にして巻きつける。サンプルを棒よりはずした後、目視でクラックの発生を確認した。１サンプルにつき５回行う。判定基準を以下に示す。
◎：５回中５回、クラックが発生しない
○：５回中３〜４回、クラックが発生しない
△：５回中３回以上クラックは発生するが、クラックの本数が１０本以内
×：５回中５回クラックが無数に発生
【００４９】
＜比較結果＞
表１に示したように、実施例１、２で作成した反射防止フィルムを用いると、光学特性、機械特性、曲げ特性、全ての性能において、良い結果を得ることができた。これに対し、比較例１〜３で作成した反射防止フィルムに関しては、スパッタリング法による成膜のため、視感反射率はいずれも０．９％以下で、十分な反射防止性能を得ることができたが、しかし、それぞれ何かしらの評価項目において劣る結果となった。ハードコート層が厚い場合（比較例１では５μｍ、比較例２では６μｍ）は、曲げ試験でハードコート層にクラックが発生し、ハードコート層が薄い場合（比較例３では１μｍ）は、耐擦傷性試験および鉛筆硬度試験で表面が傷つく結果となった。また、基材フィルムとしてヘイズが１％のＰＥＴフィルムを用いた比較例１では反射防止フィルムとしてのヘイズを０．３％以下にすることが出来なかった。また、１．０Ｐａとやや高い成膜圧力条件にて反射防止層の成膜を実施した実施例３では、耐擦傷性試験の結果が実施例１，２と比べて、やや劣る結果となった。以上のことにより、本発明の反射防止フィルムは、優れた反射防止機能、優れた機械特性、優れた環境耐久性、優れた加工特性を有していることが確認できた。
【符号の説明】
【００５０】
１０・・・透明基材フィルム ２０・・・ハードコート層 ３０・・・プライマー層
４０・・・反射防止層 ５０・・・防汚層 １００・・・本発明の反射防止フィルム
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルムの一方の面上に、少なくともハードコート層と反射防止層とを順次積層してなる反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層が、高屈折材料層の薄膜と低屈折率層の薄膜とを交互に積層させた４層以上の積層体からなり、前記積層体の最外層の薄膜が低屈折率層の薄膜であり、以下の（１）から（４）の条件を全て満たすことを特徴とする反射防止フィルム。
（１）透明基材フィルムが、ヘイズが０．５％以下のポリエチレンテレフタレートフィルムである。
（２）ハードコート層が光硬化性樹脂を含有し、その厚みが１．５μｍ以上４μｍ以下である。
（３）反射防止層の総厚が１００〜３００ｎｍである。
（４）反射防止フィルムとしてのヘイズが０．３％以下、全光線透過率が９２％以上であり、視感反射率が０．９％以下である。
【請求項２】
前記反射防止層の、前記低屈折率層の薄膜が酸化珪素であり、前記高屈折率層の薄膜が酸化ニオブであり、それぞれスパッタリング法を用いたドライコーティング法により積層されていることを特徴とする請求項１に記載する反射防止フィルム。
【請求項３】
前記スパッタリング法による前記反射防止層の前記薄膜が、圧力が０．１〜０．６Ｐａで積層された薄膜であることを特徴とする請求項２に記載する反射防止フィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層と前記反射防止層との間に、金属単体、２種類以上の金属からなる合金、金属化合物、または、それらの混合物からなる１層以上のプライマー層が設けられていることを特徴とする請求項１から３のいずれか1項に記載する反射防止フィルム。
【請求項５】
前記反射防止層の上に、防汚層が設けられていることを特徴とする請求項１から４のいずれか1項に記載する反射防止フィルム。
【請求項６】
前記防汚層が、真空蒸着法により成膜されたフッ素化合物であることを特徴とする請求項５に記載する反射防止フィルム。
【請求項７】
前記反射防止層の上に設けられた前記防汚層表面の純水に対する接触角が１００°以上であり、反射防止フィルムとしてのヘイズが０．３％以下であることを特徴とする請求項５または６記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
前記反射防止層の上に設けられた前記防汚層が、該防汚層表面に対してスチールウール＃００００を使用し、荷重１．０ｋｇ／ｃｍ２、温度２５℃、湿度５５％Ｒ．Ｈ．の環境下で１０往復擦っても傷が付かないことを特徴とする請求項５から７のいずれか1項に記載する反射防止フィルム。
【請求項９】
前記ハードコート層が、鉛筆硬度試験において、２Ｈの鉛筆にて、５００ｇ荷重で、５回試験を行った時に、２本以上傷がつかないことを特徴とする請求項１から８のいずれか1項に記載する反射防止フィルム。
【請求項１０】
前記反射防止フィルムが、直径１２ｍｍの丸棒に、前記反射防止層面を外側にして、荷重をかけずに、巻きつけた場合に、目視で確認できるハードコート層のクラックが発生しないことを特徴とする請求項１から９のいずれか1項に記載する反射防止フィルム。
【請求項１】
透明基材フィルムの一方の面上に、少なくともハードコート層と反射防止層とを順次積層してなる反射防止フィルムにおいて、
前記反射防止層が、高屈折材料層の薄膜と低屈折率層の薄膜とを交互に積層させた４層以上の積層体からなり、前記積層体の最外層の薄膜が低屈折率層の薄膜であり、以下の（１）から（４）の条件を全て満たすことを特徴とする反射防止フィルム。
（１）透明基材フィルムが、ヘイズが０．５％以下のポリエチレンテレフタレートフィルムである。
（２）ハードコート層が光硬化性樹脂を含有し、その厚みが１．５μｍ以上４μｍ以下である。
（３）反射防止層の総厚が１００〜３００ｎｍである。
（４）反射防止フィルムとしてのヘイズが０．３％以下、全光線透過率が９２％以上であり、視感反射率が０．９％以下である。
【請求項２】
前記反射防止層の、前記低屈折率層の薄膜が酸化珪素であり、前記高屈折率層の薄膜が酸化ニオブであり、それぞれスパッタリング法を用いたドライコーティング法により積層されていることを特徴とする請求項１に記載する反射防止フィルム。
【請求項３】
前記スパッタリング法による前記反射防止層の前記薄膜が、圧力が０．１〜０．６Ｐａで積層された薄膜であることを特徴とする請求項２に記載する反射防止フィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層と前記反射防止層との間に、金属単体、２種類以上の金属からなる合金、金属化合物、または、それらの混合物からなる１層以上のプライマー層が設けられていることを特徴とする請求項１から３のいずれか1項に記載する反射防止フィルム。
【請求項５】
前記反射防止層の上に、防汚層が設けられていることを特徴とする請求項１から４のいずれか1項に記載する反射防止フィルム。
【請求項６】
前記防汚層が、真空蒸着法により成膜されたフッ素化合物であることを特徴とする請求項５に記載する反射防止フィルム。
【請求項７】
前記反射防止層の上に設けられた前記防汚層表面の純水に対する接触角が１００°以上であり、反射防止フィルムとしてのヘイズが０．３％以下であることを特徴とする請求項５または６記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
前記反射防止層の上に設けられた前記防汚層が、該防汚層表面に対してスチールウール＃００００を使用し、荷重１．０ｋｇ／ｃｍ２、温度２５℃、湿度５５％Ｒ．Ｈ．の環境下で１０往復擦っても傷が付かないことを特徴とする請求項５から７のいずれか1項に記載する反射防止フィルム。
【請求項９】
前記ハードコート層が、鉛筆硬度試験において、２Ｈの鉛筆にて、５００ｇ荷重で、５回試験を行った時に、２本以上傷がつかないことを特徴とする請求項１から８のいずれか1項に記載する反射防止フィルム。
【請求項１０】
前記反射防止フィルムが、直径１２ｍｍの丸棒に、前記反射防止層面を外側にして、荷重をかけずに、巻きつけた場合に、目視で確認できるハードコート層のクラックが発生しないことを特徴とする請求項１から９のいずれか1項に記載する反射防止フィルム。
【図１】
【公開番号】特開２０１０−１９１１４４（Ｐ２０１０−１９１１４４Ａ）
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３４９４４（Ｐ２００９−３４９４４）
【出願日】平成２１年２月１８日（２００９．２．１８）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月１８日（２００９．２．１８）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]