導電ロールの製造方法、導電ロール、画像形成装置およびプロセスカートリッジ
【課題】軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）を抑制する。
【解決手段】導電性支持体２上に、ＭＤ１硬度が４５°以下のゴム基材層４を形成する工程と、ゴム基材層４よりも幅が短い研削部材を用い、ゴム基材層４が形成された導電性支持体２を回転させ且つ研削部材をゴム基材層４に押し当てつつ研削部材を軸方向に移動させて、ゴム基材層４の外周表面を研削し成形する工程と、研削部材がゴム基材層４の端部に到達した後、下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、研削部材によって形成する工程と、を有する導電ロールの製造方法。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【解決手段】導電性支持体２上に、ＭＤ１硬度が４５°以下のゴム基材層４を形成する工程と、ゴム基材層４よりも幅が短い研削部材を用い、ゴム基材層４が形成された導電性支持体２を回転させ且つ研削部材をゴム基材層４に押し当てつつ研削部材を軸方向に移動させて、ゴム基材層４の外周表面を研削し成形する工程と、研削部材がゴム基材層４の端部に到達した後、下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、研削部材によって形成する工程と、を有する導電ロールの製造方法。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は導電ロールの製造方法、導電ロール、画像形成装置およびプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を利用した画像形成装置は、像保持体（例えば電子写真感光体）上に電荷を形成し、画像信号を変調したレーザー等により静電潜像を形成した後、帯電したトナーで前記静電潜像を現像してトナー像とする。そして、前記トナー像を、中間転写体を介して、または直接記録媒体に静電的に転写することにより、転写画像が得られる。
上述のごとく、電子写真方式を利用した画像形成装置では、像保持体上に電荷を形成する帯電処理が行われている。この帯電処理を行う帯電部材の一つして、接触式の導電ロールが用いられている。
【０００３】
ここで、上記接触式の導電ロールとして、芯金（導電性支持体）上に弾性層（ゴム基材層）を形成し、その表面をコートしてなる導電ロールであって、弾性層の端部外径が外側に向かって直線的に減少しており、この端部と面長部のなす外角が１０°以上３０°以下である導電ロールが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１６０７１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の第１実施形態においては、傾斜Ｔ１形成工程において軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を研削部材による研削によって形成しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）を抑制することを目的とする。
また、第２実施形態においては、成形および傾斜Ｔ１形成工程において軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を形成しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、
前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させ且つ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てつつ前記研削部材を前記導電性支持体の軸方向に相対的に移動させて、前記ゴム基材層の外周表面を研削し成形する成形工程と、
前記研削部材が前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に到達した後、下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、前記研削部材による研削によって前記端部５ｍｍ以内の領域に形成する傾斜Ｔ１形成工程と、
を有する導電ロールの製造方法である。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【０００７】
請求項２に係る発明は、
前記成形工程より前に、前記ゴム基材層の前記傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有し、
且つ前記傾斜Ｔ１形成工程において形成される前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が前記傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満である請求項１に記載の導電ロールの製造方法である。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【０００８】
請求項３に係る発明は、
円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、
前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が長く且つ前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させつつ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てて、前記ゴム基材層の外周表面を研削して成形し且つ前記ゴム基材層の前記端部５ｍｍ以内の領域に前記傾斜Ｔ１を形成する成形および傾斜Ｔ１形成工程と、
を有する導電ロールの製造方法である。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【０００９】
請求項４に係る発明は、
前記成形および傾斜Ｔ１形成工程より前に、前記ゴム基材層の前記傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有し、
且つ前記成形および傾斜Ｔ１形成工程において形成される前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が前記傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満である請求項３に記載の導電ロールの製造方法である。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【００１０】
請求項５に係る発明は、
前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が４０°以下である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の導電ロールの製造方法である。
【００１１】
請求項６に係る発明は、
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の製造方法により製造された導電ロールである。
【００１２】
請求項７に係る発明は、
像保持体と、
請求項６に記載の導電ロールを備え、該導電ロールを前記像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置と、
帯電された前記像保持体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置と、
前記像保持体の表面に形成された前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記像保持体の表面に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、
を有する画像形成装置である。
【００１３】
請求項８に係る発明は、
請求項６に記載の導電ロールを備え、該導電ロールを像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置を少なくとも有し、画像形成装置に対して着脱自在であるプロセスカートリッジ。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１に係る発明によれば、傾斜Ｔ１形成工程において軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を研削部材による研削によって形成しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００１５】
請求項２に係る発明によれば、成形工程より前に傾斜Ｔ２形成工程を有しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００１６】
請求項３に係る発明によれば、成形および傾斜Ｔ１形成工程において軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を形成しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００１７】
請求項４に係る発明によれば、成形および傾斜Ｔ１形成工程より前に傾斜Ｔ２形成工程を有しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００１８】
請求項５に係る発明によれば、角度θ１が４０°を超える場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００１９】
請求項６に係る発明によれば、軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を形成しない製造方法によって製造された場合と比較して、軸方向端部における突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００２０】
請求項７に係る発明によれば、軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を形成しない製造方法によって製造された導電ロールを用いた場合と比較して、画質濃度ムラの発生が抑制される。
【００２１】
請求項６に係る発明によれば、軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を形成しない製造方法によって製造された導電ロールを用いた場合と比較して、画質濃度ムラの発生が抑制される。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造された導電ロールの構成を示す模式断面図である。
【図２】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図３】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図４】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって発生した突起を説明するための断面図である。
【図５】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の、製造された導電ロールの構成を示す模式断面図である。
【図６】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の一工程を説明するための断面図である。
【図７】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の一工程を説明するための断面図である。
【図８】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の一工程を説明するための断面図である。
【図９】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の、発生した突起を説明するための断面図である。
【図１０】第２実施形態に係る導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図１１】第２実施形態に係る導電ロールの製造方法によって発生した突起を説明するための断面図である。
【図１２】第２実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の一工程を説明するための断面図である。
【図１３】第２実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の、発生した突起を説明するための断面図である。
【図１４】本実施形態においてクラウン形状の研削面を有する導電ロールを示す構成図である。
【図１５】本実施形態に係るプロセスカートリッジの一例を示す模式断面図である。
【図１６】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す模式断面図である。
【図１７】従来における導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図１８】従来における導電ロールの製造方法によって発生した突起を説明するための断面図である。
【図１９】従来における導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図２０】従来における導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図２１】従来における導電ロールの製造方法によって発生した突起を説明するための断面図である。
【図２２】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の別の態様における一工程を説明するための断面図である。
【図２３】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の別の態様における一工程を説明するための断面図である。
【図２４】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の別の態様における一工程を説明するための断面図である。
【図２５】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の別の態様における一工程を説明するための断面図である。
【図２６】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の別の態様によって発生した突起を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００２４】
＜導電ロールの製造方法＞
（第１実施形態に係る導電ロールの製造方法）
まず、ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材を用いた、第１実施形態に係る導電ロールの製造方法について説明する。
【００２５】
第１実施形態に係る導電ロールの製造方法は、円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させ且つ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てつつ前記研削部材を前記導電性支持体の軸方向に相対的に移動させて、前記ゴム基材層の外周表面を研削し成形する成形工程と、前記研削部材が前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に到達した後、下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、前記研削部材による研削によって前記端部５ｍｍ以内の領域に形成する傾斜Ｔ１形成工程と、を有する。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【００２６】
・第１実施形態によって製造される導電ロールの構成
まず、第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される、本実施形態に係る導電ロールの一例を図１に示す。図１は、該導電ロールの軸方向における一端側を示す断面図である。
上記導電ロールは、図１に示すごとく、前記ゴム基材層形成工程において形成されたＭＤ１硬度が４５°以下と硬度が低いゴム基材層４を、導電性支持体２上に備えている。該ゴム基材層４の外周は、前記成形工程においてゴム基材層４の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材によって研削された研削面６として成形されている。またゴム基材層４の軸方向端部には、前記傾斜Ｔ１形成工程において形成され、（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満であり、且つ（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を有する。
次いで、第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の各工程について説明する。
【００２７】
・ゴム基材層形成工程
第１実施形態に係る導電ロールの製造方法においては、まず円筒状の導電性支持体２上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層４を形成する。該導電性支持体２およびゴム基材層４の詳細については後に詳述する。
【００２８】
・成形工程
次いで、ゴム基材層４の外周面を研削して成形する。
ここで図２は、ゴム基材層４の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材１０を用いて、導電性支持体２上に形成されたゴム基材層４の外周を研削する場合について説明するための断面図である。図２に示すごとく、ゴム基材層４が形成された導電性支持体２を研削部材１０に対し相対的に回転させ（図２では導電性支持体２を矢印Ａ方向に回転させ）、且つ研削部材１０の研削面をゴム基材層４の外周表面に押し当てつつ研削部材１０を導電性支持体２の軸方向に相対的に移動させ（図２では研削部材１０を矢印Ｂ方向に移動させ）て、ゴム基材層４の外周表面を研削し研削面６として成形する。
【００２９】
尚、上記「相対的に回転させ」とは、導電性支持体２を軸方向を中心に回転させる場合のみならず、ゴム基材層４を有する導電性支持体２を回転させず且つ研削部材１０を導電性支持体２の軸方向を中心にしてゴム基材層４の外周表面側を回転させる場合や、両者を逆方向に回転させる場合等も含むことを意味する。
また、上記「相対的に移動させ」とは、ゴム基材層４を有する導電性支持体２を軸方向に移動させずに研削部材１０のみを軸方向に移動させる場合のみならず、研削部材１０を軸方向に移動させずにゴム基材層４を有する導電性支持体２のみを軸方向に移動させる場合や、両者を軸方向において逆方向に移動させる場合等も含むことを意味する。
【００３０】
・傾斜Ｔ１形成工程
研削部材１０がゴム基材層４の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に到達した後、即ち傾斜Ｔ１を形成する領域に到達した後、前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、研削部材１０による研削によって形成する。具体的には、まず図３に示すごとく、研削部材１０の研削面が軸方向に対して前記角度θ１と同じ角度となるよう該研削部材１０を傾け、次いで角度θ１の方向に移動させることによって傾斜Ｔ１を形成する。
【００３１】
ここで、まず上記傾斜Ｔ１形成工程を有しない場合について説明する。
図１７に示すごとく、前記成形工程に記載の方法と同様にして研削部材１１０を軸方向に移動させてゴム基材層１０４の端部に到達した際、該ゴム基材層１０４のＭＤ１硬度が４５°以下と低いため、ゴム基材層１０４に研削逃げが生じて軸方向の端部側に膨れ１０８’が発生する。この膨れ１０８’は研削部材１１０をゴム基材層１０４から離した後に解放されて、図１８に示すごとく研削面１０６よりも更に外周側へ突出した突起１０８となって残る。
この外周側へ突出した突起１０８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起１０８の周辺部分において導電ロールと像保持体との間に空隙が発生する。この空隙部分においては、帯電が抑制されて帯電ムラが発生し、その結果形成される画像において画質濃度ムラが発生する。
【００３２】
次いで、第１実施形態による効果について説明する。
第１実施形態に係る導電ロールの製造方法では、前述の通り研削部材１０がゴム基材層４の軸方向の端部、即ち傾斜Ｔ１を形成する領域に到達した後、前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を研削部材１０による研削によって形成する。そのため、図３に示すごとく、研削部材１０の移動方向端部におけるゴム基材層４に研削逃げが生じて膨れ８’が発生し、この膨れ８’が研削終了後、即ち研削部材１０をゴム基材層４から離した後に解放されて突起８となって残っても、図４に示すごとく該突起８が生じる箇所は傾斜Ｔ１の端となる。従って、発生した突起８は、ゴム基材層４の外周面である研削面６よりも外周側への突出が抑制されるか、または研削面６よりも外周側へ突出していない突起８となる。つまり、軸方向端部に発生する突起８の高さ（研削面６を基準とした場合の高さ）が抑制される。
外周側へ突出していない突起８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起８によって生じる導電ロールと像保持体との間の空隙が抑制され、本来像保持体表面に接触させたい領域である研削面６と像保持体との良好なニップが形成される。
【００３３】
尚、前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１は、更に２°以上４０°以下であることが望ましい。
【００３４】
次いで、第１実施形態に係る導電ロールの製造方法における変形例について説明する。第１実施形態に係る導電ロールの製造方法においては、前述のゴム基材層形成工程の後に実施される「成形工程」および「傾斜Ｔ１形成工程」として、以下の態様も挙げられる。
【００３５】
・成形工程（変形例）
図２２は、変形例におけるゴム基材層２０４の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材２１０を用いて、導電性支持体２０２上に形成されたゴム基材層２０４の外周を研削する場合について説明するための断面図である。図２２に示すごとく、ゴム基材層２０４が形成された導電性支持体２０２を研削部材２１０に対し相対的に回転させ（図２２では導電性支持体２０２を矢印Ａ方向に回転させ）、且つ研削部材２１０の研削面をゴム基材層２０４の外周表面に押し当てつつ研削部材２１０を導電性支持体２０２の軸方向に相対的に移動させ（図２２では研削部材２１０を矢印Ｂ方向に移動させ）て、ゴム基材層２０４の外周表面を研削し研削面２０６として成形する。
尚この際、本変形例では、ゴム基材層２０４の端部における傾斜Ｔ１を形成する領域（即ち端部５ｍｍ以内の領域）に達した後、研削を一旦中止してゴム基材層２０４から研削部材２１０を離してもよいし、図２３に示すごとく、膨れ２０８’−１が生じるように末端まで研削を行ってもよい。末端まで研削を行った後研削を一旦中止してゴム基材層２０４から研削部材２１０を離すと、図２４に示すごとく、ゴム基材層２０４の端部に突起２０８−１が発生する。
【００３６】
・傾斜Ｔ１形成工程
研削部材２１０をゴム基材層２０４から一旦離した後、図２４に示すごとく、軸方向の端部５ｍｍ以内の領域、即ち傾斜Ｔ１を形成する領域に向かって斜めに（導電性支持体２１０の軸方向に対して斜めに）進入するよう研削部材２１０を配置する。この際、研削部材２１０が進入する角度は、形成しようとする傾斜Ｔ１の角度に設定される。次いで、ゴム基材層２０４が形成された導電性支持体２０２を研削部材２１０に対し相対的に回転させ、且つ研削部材２１０の研削面をゴム基材層２０４の傾斜Ｔ１を形成する領域に押し当てつつ研削部材２１０を斜め方向に相対的に移動させて、前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、研削部材２１０による研削によって形成する。尚、本変形例の前記成形工程において発生した突起２０８−１は、この傾斜Ｔ１形成工程によって研削され除去される。
【００３７】
上記変形例によって外周面の成形を行い且つ傾斜Ｔ１を形成する場合、前記第１実施形態によって製造された導電ロールと同様に、図２５に示すごとく、研削部材２１０の移動方向端部におけるゴム基材層２０４に研削逃げが生じて膨れ２０８’−２が発生し、この膨れ２０８’−２が研削終了後、即ち研削部材２１０をゴム基材層２０４から離した後に解放されて突起２０８−２となって残る。しかし、図２６に示すごとく該突起２０８−２が生じる箇所は傾斜Ｔ１の端となる。従って、発生した突起２０８−２は、ゴム基材層２０４の外周面である研削面２０６よりも外周側への突出が抑制されるか、または研削面２０６よりも外周側へ突出していない突起２０８−２となる。つまり、軸方向端部に発生する突起２０８−２の高さ（研削面２０６を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００３８】
・傾斜Ｔ２形成工程
また第１実施形態においては、前記成形工程より前に、ゴム基材層の傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有することが望ましい（尚、前記変形例においても、前記成形工程の前に傾斜Ｔ２形成工程を有することが望ましい）。また、該傾斜Ｔ２形成工程を有する場合には、前記傾斜Ｔ１形成工程において形成される傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満であることが望ましい。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【００３９】
ここで、上記傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される、本実施形態に係る導電ロールの一例を図５に示す。図５は、該導電ロールの軸方向における一端側を示す断面図である。
上記導電ロールは、図５に示すごとく、前記ゴム基材層形成工程において形成されたＭＤ１硬度が４５°以下と硬度が低いゴム基材層２４を、導電性支持体２２上に備えている。該ゴム基材層２４の外周は、前記成形工程においてゴム基材層２４の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材によって研削された研削面２６として成形されている。またゴム基材層２４の軸方向端部には、前記成形工程よりも前に施される傾斜Ｔ２形成工程において形成され、軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下であり（条件２−１）、且つ軸方向の外側に向かって径が小さくなる（条件２−２）傾斜Ｔ２を有する。更に、ゴム基材層２４の軸方向端部付近であって前記傾斜Ｔ２が形成されている領域よりも軸方向の内側には、前記傾斜Ｔ１形成工程において形成され、軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満であり（条件１−１）、軸方向の外側に向かって径が小さくなり（条件１−２）、更に角度θ１が前記角度θ２未満である傾斜Ｔ１を有する。
次いで、傾斜Ｔ２形成工程について説明する。
【００４０】
傾斜Ｔ２形成工程は、既述の通り前記成形工程よりも前に施される。具体的な傾斜Ｔ２の形成方法としては、ゴム基材層形成工程において導電性支持体２２上にゴム基材層２４を形成する際に型を押し付けて傾斜Ｔ２を形成する方法や、前記ゴム基材層形成工程の後、前記成形工程の前に研削部材による研削によって傾斜Ｔ２を形成する方法、前記成型後に片刃ナイフで傾斜Ｔ２を形成する方法、傾斜Ｔ２を形成した筒状金型に未加硫ゴム材を射出する射出成型法などが挙げられる。
【００４１】
次いで、第１実施形態において傾斜Ｔ２形成工程を有することによる効果について説明する。
傾斜Ｔ２を形成した後の前記成形工程では、図６に示す通り、ゴム基材層２４が形成された導電性支持体２２を研削部材３０に対し相対的に回転させ（図６では導電性支持体２２を矢印Ａ方向に回転させ）、且つ研削部材３０の研削面をゴム基材層２４の外周表面に押し当てつつ研削部材３０を導電性支持体２２の軸方向に相対的に移動させ（図６では研削部材３０を矢印Ｂ方向に移動させ）て、ゴム基材層２４の外周表面を研削し研削面２６として成形する。その後、図７に示すごとく、研削部材３０がゴム基材層２４の軸方向の端部、即ち傾斜Ｔ１を形成する領域（但し傾斜Ｔ２が形成されている領域よりも軸方向の内側）に到達した後、前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たし且つ角度θ１が角度θ２未満である傾斜Ｔ１を、研削部材３０による研削によって形成する。そのため、図８に示すごとく、研削部材３０の移動方向端部におけるゴム基材層２４に研削逃げが生じて膨れ２８’が発生し、この膨れ２８’が研削終了後、即ち研削部材３０をゴム基材層２４から離した後に解放されて突起２８となって残っても、図９に示すごとく該突起２８が生じる箇所は傾斜Ｔ１の端となる。従って、発生した突起２８は、ゴム基材層２４の外周面である研削面２６よりも外周側への突出が抑制されるか、または研削面２６よりも外周側へ突出していない突起２８となる。つまり、軸方向端部に発生する突起２８の高さ（研削面２６を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００４２】
さらに、傾斜Ｔ２が形成され、研削部材３０の移動方向端部に該傾斜Ｔ２が存在していることにより、研削逃げがより抑制され前記膨れ２８’がより抑制されて、前記突起２８の高さが抑制される。
外周側へ突出しておらず且つ上記の通り高さが抑制された突起２８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起２８によって生じる導電ロールと像保持体との間の空隙が抑制され、本来像保持体表面に接触させたい領域である研削面２６と像保持体との良好なニップが形成される。
【００４３】
（第２実施形態に係る導電ロールの製造方法）
次いで、ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が長い研削面を有する研削部材を用いた、第２実施形態に係る導電ロールの製造方法について説明する。
【００４４】
第２実施形態に係る導電ロールの製造方法は、円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が長く且つ前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させつつ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てて、前記ゴム基材層の外周表面を研削して成形し且つ前記ゴム基材層の前記端部５ｍｍ以内の領域に前記傾斜Ｔ１を形成する成形および傾斜Ｔ１形成工程と、を有する。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【００４５】
・第２実施形態によって製造される導電ロールの構成
第２実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される、本実施形態に係る導電ロールの構成は、前記第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される導電ロールと同様であり、その一例として図１に示す導電ロールの構成が挙げられる。
次いで、第２実施形態に係る導電ロールの製造方法の各工程について説明する。
【００４６】
・ゴム基材層形成工程
第２実施形態に係る導電ロールの製造方法においては、前記第１実施形態に記載の方法と同様にして、円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成する。
【００４７】
・成形および傾斜Ｔ１形成工程
次いで、ゴム基材層の外周面を研削して研削面を成形すると共に、ゴム基材層の端部に傾斜Ｔ１を形成する。
ここで図１０は、ゴム基材層４４の軸方向長さよりも幅が長く且つゴム基材層４４の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面を有する研削部材５０を用いて、導電性支持体４２上に形成されたゴム基材層４４の外周を研削する場合について説明するための断面図である。
図１０に示すごとく、ゴム基材層４４が形成された導電性支持体４２を研削部材５０に対し相対的に回転させ（図１０では導電性支持体４２を回転させ）、且つ研削部材５０の研削面をゴム基材層４４の外周表面に押し当てて、ゴム基材層４４の外周表面を研削し研削面４６として成形する。また、前記の通り研削部材５０には前記の条件を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面が備えられているため、前記研削面４６の成形と共に、傾斜Ｔ１が研削部材５０による研削によって形成される。
【００４８】
尚、上記「相対的に回転させ」とは、導電性支持体４２を軸方向を中心に回転させる場合のみならず、ゴム基材層４４を有する導電性支持体４２を回転させず且つ研削部材５０を導電性支持体４２の軸方向を中心にしてゴム基材層４４の外周表側を回転させる場合や、両者を逆方向に回転させる場合等も含むことを意味する。
【００４９】
ここで、まず上記研削部材５０が傾斜Ｔ１を形成し得る研削面を有しない場合について説明する。
図１９に示すごとく、前記成形および傾斜Ｔ１形成工程に記載の方法と同様にしてゴム基材層１４４が形成された導電性支持体１４２を研削部材１５０に対し相対的に回転させ（図１９では導電性支持体１４２を矢印Ａ方向に回転させ）、且つ研削部材１５０の研削面をゴム基材層１４４の外周表面に押し当てて、ゴム基材層１４４の外周表面を研削し研削面１４６として成形する。この際、該ゴム基材層１４４のＭＤ１硬度が４５°以下と低いため、図２０に示すごとくゴム基材層１４４に研削逃げが生じて軸方向の端部側に膨れ１４８’が発生する。この膨れ１４８’は研削部材１５０をゴム基材層１４４から離した後に解放されて、図２１に示すごとく研削面１４６よりも更に外周側へ突出した突起１４８となって残る。
この外周側へ突出した突起１４８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起１４８の周辺部分において導電ロールと像保持体との間に空隙が発生する。この空隙部分においては、帯電が抑制されて帯電ムラが発生し、その結果形成される画像において画質濃度ムラが発生する。
【００５０】
次いで、第２実施形態による効果について説明する。
第２実施形態に係る導電ロールの製造方法では、前述の通り前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面が備えられた研削部材５０を用いて研削により研削面４６を成形しつつ、傾斜Ｔ１を形成する。そのため、図１０に示すごとく、研削部材５０の端部におけるゴム基材層４４に研削逃げが生じて膨れ４８’が発生し、この膨れ４８’が研削終了後、即ち研削部材５０をゴム基材層４４から離した後に解放されて突起４８となって残っても、図１１に示すごとく該突起４８が生じる箇所は傾斜Ｔ１の端となる。従って、発生した突起４８は、ゴム基材層４４の外周面である研削面４６よりも外周側への突出が抑制されるか、または研削面４６よりも外周側へ突出していない突起４８となる。つまり、軸方向端部に発生する突起４８の高さ（研削面４６を基準とした場合の高さ）が抑制される。
外周側へ突出していない突起４８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起４８によって生じる導電ロールと像保持体との間の空隙が抑制され、本来像保持体表面に接触させたい領域である研削面４６と像保持体との良好なニップが形成される。
【００５１】
尚、前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１は、更に２°以上４０°以下であることが望ましい。
【００５２】
・傾斜Ｔ２形成工程
また第２実施形態においては、前記成形および傾斜Ｔ１形成工程より前に、ゴム基材層の傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有することが望ましい。また、該傾斜Ｔ２形成工程を有する場合には、前記傾斜Ｔ１形成工程において形成される傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満であることが望ましい。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【００５３】
ここで、上記傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の第２実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される、本実施形態に係る導電ロールの構成は、傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の前記第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される導電ロールと同様であり、その一例として図５に示す導電ロールの構成が挙げられる。
次いで、傾斜Ｔ２形成工程について説明する。
【００５４】
傾斜Ｔ２形成工程は、既述の通り前記成形および傾斜Ｔ１形成工程よりも前に施される。具体的な傾斜Ｔ２の形成方法としては、前記第１実施形態において挙げた各種方法が挙げられる。
【００５５】
ここで、第２実施形態において傾斜Ｔ２形成工程を有することによる効果について説明する。
傾斜Ｔ２を形成した後の前記成形工程では、図１２に示す通り、ゴム基材層６４が形成された導電性支持体６２を研削部材７０に対し相対的に回転させ（図１２では導電性支持体６２を回転させ）、且つ研削部材７０の研削面をゴム基材層６４の外周表面に押し当てて、ゴム基材層６４の外周表面を研削し研削面６６として成形する。また、前記の通り研削部材７０には前記の条件を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面が備えられているため、前記研削面６６の成形と共に、傾斜Ｔ１が研削部材７０による研削によって形成される。そのため、図１２に示すごとく、研削部材７０の端部におけるゴム基材層６４に研削逃げが生じて膨れ６８’が発生し、この膨れ６８’が研削終了後、即ち研削部材７０をゴム基材層６４から離した後に解放されて突起６８となって残っても、図１３に示すごとく該突起６８が生じる箇所は傾斜Ｔ１の端となる。従って、発生した突起６８は、ゴム基材層６４の外周面である研削面６６よりも外周側への突出が抑制されるか、または研削面６６よりも外周側へ突出していない突起６８となる。つまり、軸方向端部に発生する突起６８の高さ（研削面６６を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００５６】
さらに、傾斜Ｔ２が形成され、研削部材７０の端部に該傾斜Ｔ２が存在していることにより、研削逃げがより抑制され前記膨れ６８’がより抑制されて、前記突起６８の高さが抑制される。
外周側へ突出しておらず且つ上記の通り高さが抑制された突起６８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起６８によって生じる導電ロールと像保持体との間の空隙が抑制され、本来像保持体表面に接触させたい領域である研削面６６と像保持体との良好なニップが形成される。
【００５７】
尚、上記においては、第１実施形態および第２実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される導電ロールとして、研削面が導電性支持体２の軸方向と平行な場合について説明したが、必ずしもこれに限定されるものではない。例えば、図１４に示すごとく導電性支持体２上のゴム基材層４における研削面６が、クラウン状に研削され成形された態様であってもよい。
【００５８】
ついで、本実施形態の製造方法によって製造される導電ロール（即ち、本実施形態に係る導電ロール）の構成について説明する。
【００５９】
導電ロールの構成は、前述の通り、少なくとも導電性支持体表面にゴム基材層が設けられたものであり、また必要に応じて導電性支持体とゴム基材層との間に接着剤層を介してもかまわない。
ここで、上記導電性支持体における「導電性」および導電ロールにおける「導電」とは、体積抵抗率が１０１３Ω・ｃｍ未満である性質を指し、さらに「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ω・ｃｍ以上である性質を指す。
【００６０】
導電性支持体は、導電ロールの電極および支持部材として機能するもので、例えば、アルミニウム、銅合金、ステンレス鋼等の金属または合金；クロム、ニッケル等で鍍金処理を施した鉄；導電性の樹脂；などの導電性の材質で構成される。
【００６１】
ゴム基材層は、前述の通りＭＤ１硬度が４５°以下である。尚、上記ＭＤ１硬度は、以下の方法により測定される。
測定装置：高分子計器株式会社製 ＭＤ-１ ｃａｐａ ｔｙｐｅ−Ａ
測定条件：測定モードはノーマルモード、タイマーは２秒値、測定個所はゴム両端部から２０ｍｍと中央部の計３箇所を測定、硬度算出は測定個所３箇所の平均値とした。
本明細書に記載の数値は、上記方法によって測定されたものである。
【００６２】
このゴム基材層は、例えば、ゴム材中に導電剤を分散させることによって形成される。ゴム材としては、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エピクロルヒドリンゴム、ブチルゴム、ポリウレタン、シリコーンゴム、フッ素ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、ニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド共重合ゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド−アリルグリシジルエーテル共重合ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン３元共重合ゴム（ＥＰＤＭ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム（ＮＢＲ）、天然ゴム等、およびこれらのブレンドゴムが挙げられる。これらの中でも、ポリウレタン、シリコーンゴム、ＥＰＤＭ、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド共重合ゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド−アリルグリシジルエーテル共重合ゴム、ＮＢＲおよびこれらのブレンドゴムが望ましく用いられる。
特に、ゴム基材層では、これらのゴム材は発泡したものであっても無発泡のものであってもよい。
【００６３】
上記のゴム材に分散させる導電剤としては、電子導電剤やイオン導電剤が用いられる。 電子導電剤の例としては、ケッチェンブラック、アセチレンブラック等のカーボンブラック；熱分解カーボン、グラファイト；アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス鋼等の各種導電性金属または合金；酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化スズ−酸化アンチモン固溶体、酸化スズ−酸化インジウム固溶体等の各種導電性金属酸化物；絶縁物質の表面を導電化処理したもの；などの粉末が挙げられる。また、イオン導電剤の例としては、テトラエチルアンモニウム、ラウリルトリメチルアンモニウム等の過塩素酸塩、塩素酸塩等；リチウム、マグネシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の過塩素酸塩、塩素酸塩等；が挙げられる。
これらの導電剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、その添加量は特に制限はないが、上記電子導電剤の場合は、ゴム材１００質量部に対して、１質量部以上３０質量部以下の範囲であることが望ましく、５質量部以上２５質量部以下の範囲であることがより望ましい。一方、上記イオン導電剤の場合は、ゴム材１００質量部に対して、０．１質量部以上５．０質量部以下の範囲であることが望ましく、０．５質量部以上３．０質量部以下の範囲であることがより望ましい。
【００６４】
ゴム基材層の形成に際しては、この層を構成する導電剤、ゴム材、その他の成分（加硫剤や必要に応じて添加される発泡剤等）の各成分の混合方法や混合順序は特に限定されないが、一般的な方法としては、バンバリーミキサー、ニーダー、ロール等により混合し、押出成形やプレス成形や射出成形等によって成形する方法が挙げられる。
【００６５】
以上説明した、本実施形態に係る導電ロールは、特に電子写真方式の画像形成装置において、像保持体（例えば電子写真感光体）に接触して該像保持体表面を帯電させる帯電ロールとして適用される。
【００６６】
＜プロセスカートリッジ＞
次に、本実施形態のプロセスカートリッジの構成の一例について説明する。
本実施形態の一例に係るプロセスカートリッジは、画像形成装置に対して装着自在であるり（即ち画像形成装置に脱着されるものであって）、前述の本実施形態に係る導電ロールを備え、該導電ロールを像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置を少なくとも有する。
より具体的には、本実施形態のプロセスカートリッジは、ケース内に、帯電部材の他に、像保持体、現像装置、電子写真感光体用のクリーニング装置を、取り付け部材により組み合わせて一体化したものであることが望ましい態様である。なお、ケースには、露光のための開口部が設けられていることが望ましい。
【００６７】
図１５は本実施形態のプロセスカートリッジの好適な一実施形態を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体２０７とともに、前述の本実施形態に係る導電ロールを備える帯電装置２０８、現像装置２１１、クリーニング装置（クリーニング手段）２１３、露光のための開口部２１８、および、除電露光のための開口部２１７を取り付けレール２１６を用いて組み合わせ、そして一体化したものである。電子写真感光体２０７は、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを含有する感光層を有するものが望ましい。また、現像装置２１１は、トナーを電子写真感光体２０７に供給するものである。
【００６８】
そして、このプロセスカートリッジ３００は、転写装置２１２と、現像装置２１１により形成されたトナー像を記録媒体５００に転写する定着装置２１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
【００６９】
＜画像形成装置＞
次に、本実施形態の画像形成装置について説明する。
本実施形態の画像形成装置は、像保持体（例えば電子写真感光体）と、前述の本実施形態に係る導電ロールを備え、該導電ロールを前記像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置と、帯電された前記像保持体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置と、前記像保持体の表面に形成された前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、前記像保持体の表面に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、を有する。
【００７０】
以下、本実施形態の画像形成装置の一例について、図１６を参照して説明する。
図１６は、第１実施形態に係る画像形成装置の基本構成を概略的に示す断面図である。
図１６に示す画像形成装置２００は、電子写真感光体２０７と、前述の本実施形態に係る導電ロールを備え電子写真感光体２０７を帯電させる帯電装置２０８と、帯電装置２０８に接続された電源２０９と、帯電装置２０８により帯電される電子写真感光体２０７を露光して潜像を形成する露光装置２０６と、露光装置２０６により形成された潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置２１１と、現像装置２１１により形成されたトナー像を記録媒体５００に転写する転写装置２１２と、クリーニング装置２１３と、除電器２１４と、定着装置２１５とを備える。なお、この場合には、クリーニング装置２１３や除電器２１４が設けられていないものもある。
【００７１】
ここで、現像装置２１１は、トナーを電子写真感光体２０７に供給するものである。図１６中の帯電装置２０８は、電子写真感光体２０７の表面に前述の本実施形態に係る導電ロールを接触させて、感光体２０７の表面を帯電させる方式（接触帯電方式）のものである。
【００７２】
露光装置２０６としては、例えば、電子写真感光体表面に、半導体レーザー、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）、液晶シャッター等の光源を所望の像様に露光する光学系装置等を用いる。
【００７３】
本実施形態で用いられるトナーは、例えば結着樹脂と着色剤とを含んで構成される。結着樹脂としては、スチレン類、モノオレフィン類、ビニルエステル類、α―メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルエーテル類、ビニルケトン類等の単独重合体および共重合体が例示され、特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。さらに、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等も挙げられる。
【００７４】
着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルコイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして挙げられる。
【００７５】
トナーには、帯電制御剤、離型剤、他の無機粒子等の公知の添加剤を内添加処理や外添加処理してもよい。
離型剤としては低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロプシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして挙げられる。
帯電制御剤としては、公知のものが使用されるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプ等の帯電制御剤を用いてもよい。
他の無機粒子としては、平均１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機粒子を用い、更に必要に応じて、それより大径の無機あるいは有機粒子を併用してもよい。これらの他の無機粒子は公知のものが使用される。
【００７６】
また、小径無機粒子については表面処理を施してもよい。
本実施形態で用いられるトナーの製造方法としては、乳化重合凝集法や溶解懸濁法等などの重合法が望ましく用いられる。また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法を行ってもよい。外添剤を添加する場合、トナーおよび外添剤をヘンシェルミキサーあるいはＶブレンダー等で混合することによって製造する。また、トナーを湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。
【００７７】
転写装置２１２としては、電子写真感光体２０７上に形成されたトナー像を記録媒体５００に転写する際に、電子写真感光体に向けて予め定めた電流密度の電流を供給するものであることが望ましい。
【００７８】
クリーニング装置２１３は、転写工程後の電子写真感光体の表面に付着する残存トナーを除去するためのもので、これにより清浄面化された電子写真感光体は上記の画像形成プロセスに繰り返し供される。クリーニング装置としては、クリーニングブレードの他、例えば、ブラシクリーニング、ロールクリーニング等を用いるが、これらの中でもクリーニングブレードを用いることが望ましい。また、クリーニングブレードの材質としてはウレタンゴム、ネオプレンゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。
【００７９】
また、本実施形態の画像形成装置は、図１６に示したように、イレース光を照射する除電器２１４をさらに備えていてもよい。
【実施例】
【００８０】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００８１】
〔実施例１〜１０，参考例１〕
ゴム基材層形成工程、傾斜Ｔ２形成工程、成形工程、および傾斜Ｔ１形成工程を有する前記第１実施形態に係る製造方法によって、以下の導電ロールを製造した。
【００８２】
・ゴム基材層形成工程および傾斜Ｔ２形成工程
導電性支持体（材質：ＳＵＭ２４Ｌにニッケルメッキ処理）上に、下記表１に記載のＭＤ１硬度を有するゴム基材層（材質：導電剤としてカーボンブラックとイオン導電剤を分散させたエピクロルヒドリンゴムをベースにＮＢＲをブレンドしたゴム材）を形成した。
尚、傾斜Ｔ２は、予め傾斜Ｔ２に対応する傾斜を施した金型に上記ゴム材を射出して形成する射出成型法により形成した。形成した傾斜Ｔ２は、下記表１に記載の角度θ２を有し、前記ゴム基材層の軸方向両端の端部３ｍｍの領域に形成した。
【００８３】
・成形工程
前記第１実施形態に係る製造方法における成形工程に記載の方法により、前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材を用いて、前記ゴム基材層の外周面を研削し、研削面を成形した。
【００８４】
・傾斜Ｔ１形成工程
前記第１実施形態に係る製造方法における傾斜Ｔ１形成工程に記載の方法により、下記表１に記載の角度θ１を有する傾斜Ｔ１を、前記ゴム基材層の軸方向両端の端部５ｍｍの領域に形成した。
以上により、導電ロールを得た。
【００８５】
〔比較例１〕
比較例１に係る導電ロールを以下の方法により製造した。
上記実施例１のゴム基材層形成工程および傾斜Ｔ２形成工程において、傾斜Ｔ２に対応する傾斜の代わりにＲ＝１ｍｍのコーナーＲを施した金型を用いて射出成型法により、コーナーＲを有するゴム基材層を形成し、その後上記実施例１の成形工程と同様にゴム基材層の外周面を研削して研削面を成形し、導電ロールを得た（傾斜Ｔ１形成工程は行っていない）。
【００８６】
−評価試験−
・突起の高さの測定
ゴム基材層の軸方向端部に発生した突起について、以下の高さを測定した。
高さ：ゴム基材層の研削面から外周側へ突出した分の高さ
【００８７】
・濃度ムラ評価方法
画像形成装置（富士ゼロックス社製、商品名：ＤｏｃｕＣｅｎｔｅｒ−ＩＶ Ｃ５５７０）の接触式の帯電ロールとして前記実施例、参考例および比較例で得た導電ロールを装着し、画像を形成した。得られた画像の中心部の濃度と、縦筋（濃度ムラ）部の濃度と、をＸ−Ｒｉｔｅ社製の商品名：Ｘ−Ｒｉｔｅ４０４によって測定し、その濃度差をΔＤで示し、以下の評価基準により評価した。
尚、ΔＤが小さいほど、面内における濃度のムラが抑制されていることを示す。
◎：ΔＤ≦０．２
○：０．３≧ΔＤ＞０．２
△：ΔＤ＞０．３（但し１箇所のみであり許容範囲内）
×：ΔＤ＞０．３（複数箇所発生であり許容範囲外）
【００８８】
・色点（割れ）評価方法
画像形成装置（富士ゼロックス社製、商品名：ＤｏｃｕＣｅｎｔｅｒ−ＩＶ Ｃ５５７０）のプロセスカートリッジを用いた。色点加速試験として前記プロセスカートリッジに装着してある感光体と導電ロールのニップ間に直流２．２ｍＡを通電したまま１０℃１５％ＲＨ環境下で連続１６時間回転させたプロセスカートリッジの評価を行った。高温高湿下１週間保管し画質を評価した。
接触式の帯電ロールとして前記実施例、参考例および比較例で得た導電ロールを装着し、該帯電ロールと像保持体とを接触させたまま、高温高湿（２８℃８５％ＲＨ）の環境に１週間保管した後、画像を形成した。画像非形成部（背景部）における色点の発生について目視により観察し、以下の評価基準により評価した。
◎：色点未発生
○：色点の大きさ２００μｍ以下、且つ個数２個以下
△：色点の大きさ２００μｍ以下、且つ個数３個以上５個以下
×：色点の大きさ２００μｍ超え
【００８９】
・色筋（リーク）評価方法
◎：色筋未発生
○：色筋（０．３≧ΔＤ）発生数が２個以下
△：色筋（０．３≧ΔＤ）発生数が３個以上５個以下
×：色筋（０．３＜ΔＤ）が発生
（尚、色筋の幅は３ｍｍ以下で、長さは規制せず）
【００９０】
【表１】
【符号の説明】
【００９１】
２，２２，４２，６２，１０２，１４２，２０２ 導電性支持体、４，２４，４４，６４，１０４，１４４，２０４ ゴム基材層、６，２６，４６，６６，１０６，１４６，２０６ 研削面、８，２８，４８，６８，１０８，１４８，２０８−１，２０８−２ 突起、８’，２８’，４８’，６８’１０８’，１４８’，２０８’−１，２０８’−２ 膨れ、１０，３０，５０，７０，１１０，１５０，２１０ 研削部材、２００ 画像形成装置
２０６ 露光装置、２０７ 電子写真感光体、２０８ 帯電装置、２０９ 電源、２１１ 現像装置、２１２ 転写装置、２１３ クリーニング装置、２１４ 除電器、２１５ 定着装置、２１６ レール、２１７ 開口部、２１８ 開口部、３００ プロセスカートリッジ、５００ 記録媒体
【技術分野】
【０００１】
本発明は導電ロールの製造方法、導電ロール、画像形成装置およびプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を利用した画像形成装置は、像保持体（例えば電子写真感光体）上に電荷を形成し、画像信号を変調したレーザー等により静電潜像を形成した後、帯電したトナーで前記静電潜像を現像してトナー像とする。そして、前記トナー像を、中間転写体を介して、または直接記録媒体に静電的に転写することにより、転写画像が得られる。
上述のごとく、電子写真方式を利用した画像形成装置では、像保持体上に電荷を形成する帯電処理が行われている。この帯電処理を行う帯電部材の一つして、接触式の導電ロールが用いられている。
【０００３】
ここで、上記接触式の導電ロールとして、芯金（導電性支持体）上に弾性層（ゴム基材層）を形成し、その表面をコートしてなる導電ロールであって、弾性層の端部外径が外側に向かって直線的に減少しており、この端部と面長部のなす外角が１０°以上３０°以下である導電ロールが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１６０７１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の第１実施形態においては、傾斜Ｔ１形成工程において軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を研削部材による研削によって形成しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）を抑制することを目的とする。
また、第２実施形態においては、成形および傾斜Ｔ１形成工程において軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を形成しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、
前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させ且つ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てつつ前記研削部材を前記導電性支持体の軸方向に相対的に移動させて、前記ゴム基材層の外周表面を研削し成形する成形工程と、
前記研削部材が前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に到達した後、下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、前記研削部材による研削によって前記端部５ｍｍ以内の領域に形成する傾斜Ｔ１形成工程と、
を有する導電ロールの製造方法である。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【０００７】
請求項２に係る発明は、
前記成形工程より前に、前記ゴム基材層の前記傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有し、
且つ前記傾斜Ｔ１形成工程において形成される前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が前記傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満である請求項１に記載の導電ロールの製造方法である。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【０００８】
請求項３に係る発明は、
円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、
前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が長く且つ前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させつつ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てて、前記ゴム基材層の外周表面を研削して成形し且つ前記ゴム基材層の前記端部５ｍｍ以内の領域に前記傾斜Ｔ１を形成する成形および傾斜Ｔ１形成工程と、
を有する導電ロールの製造方法である。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【０００９】
請求項４に係る発明は、
前記成形および傾斜Ｔ１形成工程より前に、前記ゴム基材層の前記傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有し、
且つ前記成形および傾斜Ｔ１形成工程において形成される前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が前記傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満である請求項３に記載の導電ロールの製造方法である。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【００１０】
請求項５に係る発明は、
前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が４０°以下である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の導電ロールの製造方法である。
【００１１】
請求項６に係る発明は、
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の製造方法により製造された導電ロールである。
【００１２】
請求項７に係る発明は、
像保持体と、
請求項６に記載の導電ロールを備え、該導電ロールを前記像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置と、
帯電された前記像保持体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置と、
前記像保持体の表面に形成された前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記像保持体の表面に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、
を有する画像形成装置である。
【００１３】
請求項８に係る発明は、
請求項６に記載の導電ロールを備え、該導電ロールを像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置を少なくとも有し、画像形成装置に対して着脱自在であるプロセスカートリッジ。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１に係る発明によれば、傾斜Ｔ１形成工程において軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を研削部材による研削によって形成しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００１５】
請求項２に係る発明によれば、成形工程より前に傾斜Ｔ２形成工程を有しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００１６】
請求項３に係る発明によれば、成形および傾斜Ｔ１形成工程において軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を形成しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００１７】
請求項４に係る発明によれば、成形および傾斜Ｔ１形成工程より前に傾斜Ｔ２形成工程を有しない場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００１８】
請求項５に係る発明によれば、角度θ１が４０°を超える場合と比較して、軸方向端部に発生する突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００１９】
請求項６に係る発明によれば、軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を形成しない製造方法によって製造された場合と比較して、軸方向端部における突起の高さ（研削面を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００２０】
請求項７に係る発明によれば、軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を形成しない製造方法によって製造された導電ロールを用いた場合と比較して、画質濃度ムラの発生が抑制される。
【００２１】
請求項６に係る発明によれば、軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満で軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を形成しない製造方法によって製造された導電ロールを用いた場合と比較して、画質濃度ムラの発生が抑制される。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造された導電ロールの構成を示す模式断面図である。
【図２】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図３】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図４】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって発生した突起を説明するための断面図である。
【図５】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の、製造された導電ロールの構成を示す模式断面図である。
【図６】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の一工程を説明するための断面図である。
【図７】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の一工程を説明するための断面図である。
【図８】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の一工程を説明するための断面図である。
【図９】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の、発生した突起を説明するための断面図である。
【図１０】第２実施形態に係る導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図１１】第２実施形態に係る導電ロールの製造方法によって発生した突起を説明するための断面図である。
【図１２】第２実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の一工程を説明するための断面図である。
【図１３】第２実施形態に係る導電ロールの製造方法において傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の、発生した突起を説明するための断面図である。
【図１４】本実施形態においてクラウン形状の研削面を有する導電ロールを示す構成図である。
【図１５】本実施形態に係るプロセスカートリッジの一例を示す模式断面図である。
【図１６】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す模式断面図である。
【図１７】従来における導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図１８】従来における導電ロールの製造方法によって発生した突起を説明するための断面図である。
【図１９】従来における導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図２０】従来における導電ロールの製造方法の一工程を説明するための断面図である。
【図２１】従来における導電ロールの製造方法によって発生した突起を説明するための断面図である。
【図２２】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の別の態様における一工程を説明するための断面図である。
【図２３】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の別の態様における一工程を説明するための断面図である。
【図２４】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の別の態様における一工程を説明するための断面図である。
【図２５】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の別の態様における一工程を説明するための断面図である。
【図２６】第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の別の態様によって発生した突起を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００２４】
＜導電ロールの製造方法＞
（第１実施形態に係る導電ロールの製造方法）
まず、ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材を用いた、第１実施形態に係る導電ロールの製造方法について説明する。
【００２５】
第１実施形態に係る導電ロールの製造方法は、円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させ且つ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てつつ前記研削部材を前記導電性支持体の軸方向に相対的に移動させて、前記ゴム基材層の外周表面を研削し成形する成形工程と、前記研削部材が前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に到達した後、下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、前記研削部材による研削によって前記端部５ｍｍ以内の領域に形成する傾斜Ｔ１形成工程と、を有する。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【００２６】
・第１実施形態によって製造される導電ロールの構成
まず、第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される、本実施形態に係る導電ロールの一例を図１に示す。図１は、該導電ロールの軸方向における一端側を示す断面図である。
上記導電ロールは、図１に示すごとく、前記ゴム基材層形成工程において形成されたＭＤ１硬度が４５°以下と硬度が低いゴム基材層４を、導電性支持体２上に備えている。該ゴム基材層４の外周は、前記成形工程においてゴム基材層４の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材によって研削された研削面６として成形されている。またゴム基材層４の軸方向端部には、前記傾斜Ｔ１形成工程において形成され、（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満であり、且つ（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる傾斜Ｔ１を有する。
次いで、第１実施形態に係る導電ロールの製造方法の各工程について説明する。
【００２７】
・ゴム基材層形成工程
第１実施形態に係る導電ロールの製造方法においては、まず円筒状の導電性支持体２上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層４を形成する。該導電性支持体２およびゴム基材層４の詳細については後に詳述する。
【００２８】
・成形工程
次いで、ゴム基材層４の外周面を研削して成形する。
ここで図２は、ゴム基材層４の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材１０を用いて、導電性支持体２上に形成されたゴム基材層４の外周を研削する場合について説明するための断面図である。図２に示すごとく、ゴム基材層４が形成された導電性支持体２を研削部材１０に対し相対的に回転させ（図２では導電性支持体２を矢印Ａ方向に回転させ）、且つ研削部材１０の研削面をゴム基材層４の外周表面に押し当てつつ研削部材１０を導電性支持体２の軸方向に相対的に移動させ（図２では研削部材１０を矢印Ｂ方向に移動させ）て、ゴム基材層４の外周表面を研削し研削面６として成形する。
【００２９】
尚、上記「相対的に回転させ」とは、導電性支持体２を軸方向を中心に回転させる場合のみならず、ゴム基材層４を有する導電性支持体２を回転させず且つ研削部材１０を導電性支持体２の軸方向を中心にしてゴム基材層４の外周表面側を回転させる場合や、両者を逆方向に回転させる場合等も含むことを意味する。
また、上記「相対的に移動させ」とは、ゴム基材層４を有する導電性支持体２を軸方向に移動させずに研削部材１０のみを軸方向に移動させる場合のみならず、研削部材１０を軸方向に移動させずにゴム基材層４を有する導電性支持体２のみを軸方向に移動させる場合や、両者を軸方向において逆方向に移動させる場合等も含むことを意味する。
【００３０】
・傾斜Ｔ１形成工程
研削部材１０がゴム基材層４の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に到達した後、即ち傾斜Ｔ１を形成する領域に到達した後、前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、研削部材１０による研削によって形成する。具体的には、まず図３に示すごとく、研削部材１０の研削面が軸方向に対して前記角度θ１と同じ角度となるよう該研削部材１０を傾け、次いで角度θ１の方向に移動させることによって傾斜Ｔ１を形成する。
【００３１】
ここで、まず上記傾斜Ｔ１形成工程を有しない場合について説明する。
図１７に示すごとく、前記成形工程に記載の方法と同様にして研削部材１１０を軸方向に移動させてゴム基材層１０４の端部に到達した際、該ゴム基材層１０４のＭＤ１硬度が４５°以下と低いため、ゴム基材層１０４に研削逃げが生じて軸方向の端部側に膨れ１０８’が発生する。この膨れ１０８’は研削部材１１０をゴム基材層１０４から離した後に解放されて、図１８に示すごとく研削面１０６よりも更に外周側へ突出した突起１０８となって残る。
この外周側へ突出した突起１０８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起１０８の周辺部分において導電ロールと像保持体との間に空隙が発生する。この空隙部分においては、帯電が抑制されて帯電ムラが発生し、その結果形成される画像において画質濃度ムラが発生する。
【００３２】
次いで、第１実施形態による効果について説明する。
第１実施形態に係る導電ロールの製造方法では、前述の通り研削部材１０がゴム基材層４の軸方向の端部、即ち傾斜Ｔ１を形成する領域に到達した後、前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を研削部材１０による研削によって形成する。そのため、図３に示すごとく、研削部材１０の移動方向端部におけるゴム基材層４に研削逃げが生じて膨れ８’が発生し、この膨れ８’が研削終了後、即ち研削部材１０をゴム基材層４から離した後に解放されて突起８となって残っても、図４に示すごとく該突起８が生じる箇所は傾斜Ｔ１の端となる。従って、発生した突起８は、ゴム基材層４の外周面である研削面６よりも外周側への突出が抑制されるか、または研削面６よりも外周側へ突出していない突起８となる。つまり、軸方向端部に発生する突起８の高さ（研削面６を基準とした場合の高さ）が抑制される。
外周側へ突出していない突起８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起８によって生じる導電ロールと像保持体との間の空隙が抑制され、本来像保持体表面に接触させたい領域である研削面６と像保持体との良好なニップが形成される。
【００３３】
尚、前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１は、更に２°以上４０°以下であることが望ましい。
【００３４】
次いで、第１実施形態に係る導電ロールの製造方法における変形例について説明する。第１実施形態に係る導電ロールの製造方法においては、前述のゴム基材層形成工程の後に実施される「成形工程」および「傾斜Ｔ１形成工程」として、以下の態様も挙げられる。
【００３５】
・成形工程（変形例）
図２２は、変形例におけるゴム基材層２０４の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材２１０を用いて、導電性支持体２０２上に形成されたゴム基材層２０４の外周を研削する場合について説明するための断面図である。図２２に示すごとく、ゴム基材層２０４が形成された導電性支持体２０２を研削部材２１０に対し相対的に回転させ（図２２では導電性支持体２０２を矢印Ａ方向に回転させ）、且つ研削部材２１０の研削面をゴム基材層２０４の外周表面に押し当てつつ研削部材２１０を導電性支持体２０２の軸方向に相対的に移動させ（図２２では研削部材２１０を矢印Ｂ方向に移動させ）て、ゴム基材層２０４の外周表面を研削し研削面２０６として成形する。
尚この際、本変形例では、ゴム基材層２０４の端部における傾斜Ｔ１を形成する領域（即ち端部５ｍｍ以内の領域）に達した後、研削を一旦中止してゴム基材層２０４から研削部材２１０を離してもよいし、図２３に示すごとく、膨れ２０８’−１が生じるように末端まで研削を行ってもよい。末端まで研削を行った後研削を一旦中止してゴム基材層２０４から研削部材２１０を離すと、図２４に示すごとく、ゴム基材層２０４の端部に突起２０８−１が発生する。
【００３６】
・傾斜Ｔ１形成工程
研削部材２１０をゴム基材層２０４から一旦離した後、図２４に示すごとく、軸方向の端部５ｍｍ以内の領域、即ち傾斜Ｔ１を形成する領域に向かって斜めに（導電性支持体２１０の軸方向に対して斜めに）進入するよう研削部材２１０を配置する。この際、研削部材２１０が進入する角度は、形成しようとする傾斜Ｔ１の角度に設定される。次いで、ゴム基材層２０４が形成された導電性支持体２０２を研削部材２１０に対し相対的に回転させ、且つ研削部材２１０の研削面をゴム基材層２０４の傾斜Ｔ１を形成する領域に押し当てつつ研削部材２１０を斜め方向に相対的に移動させて、前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、研削部材２１０による研削によって形成する。尚、本変形例の前記成形工程において発生した突起２０８−１は、この傾斜Ｔ１形成工程によって研削され除去される。
【００３７】
上記変形例によって外周面の成形を行い且つ傾斜Ｔ１を形成する場合、前記第１実施形態によって製造された導電ロールと同様に、図２５に示すごとく、研削部材２１０の移動方向端部におけるゴム基材層２０４に研削逃げが生じて膨れ２０８’−２が発生し、この膨れ２０８’−２が研削終了後、即ち研削部材２１０をゴム基材層２０４から離した後に解放されて突起２０８−２となって残る。しかし、図２６に示すごとく該突起２０８−２が生じる箇所は傾斜Ｔ１の端となる。従って、発生した突起２０８−２は、ゴム基材層２０４の外周面である研削面２０６よりも外周側への突出が抑制されるか、または研削面２０６よりも外周側へ突出していない突起２０８−２となる。つまり、軸方向端部に発生する突起２０８−２の高さ（研削面２０６を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００３８】
・傾斜Ｔ２形成工程
また第１実施形態においては、前記成形工程より前に、ゴム基材層の傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有することが望ましい（尚、前記変形例においても、前記成形工程の前に傾斜Ｔ２形成工程を有することが望ましい）。また、該傾斜Ｔ２形成工程を有する場合には、前記傾斜Ｔ１形成工程において形成される傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満であることが望ましい。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【００３９】
ここで、上記傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される、本実施形態に係る導電ロールの一例を図５に示す。図５は、該導電ロールの軸方向における一端側を示す断面図である。
上記導電ロールは、図５に示すごとく、前記ゴム基材層形成工程において形成されたＭＤ１硬度が４５°以下と硬度が低いゴム基材層２４を、導電性支持体２２上に備えている。該ゴム基材層２４の外周は、前記成形工程においてゴム基材層２４の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材によって研削された研削面２６として成形されている。またゴム基材層２４の軸方向端部には、前記成形工程よりも前に施される傾斜Ｔ２形成工程において形成され、軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下であり（条件２−１）、且つ軸方向の外側に向かって径が小さくなる（条件２−２）傾斜Ｔ２を有する。更に、ゴム基材層２４の軸方向端部付近であって前記傾斜Ｔ２が形成されている領域よりも軸方向の内側には、前記傾斜Ｔ１形成工程において形成され、軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満であり（条件１−１）、軸方向の外側に向かって径が小さくなり（条件１−２）、更に角度θ１が前記角度θ２未満である傾斜Ｔ１を有する。
次いで、傾斜Ｔ２形成工程について説明する。
【００４０】
傾斜Ｔ２形成工程は、既述の通り前記成形工程よりも前に施される。具体的な傾斜Ｔ２の形成方法としては、ゴム基材層形成工程において導電性支持体２２上にゴム基材層２４を形成する際に型を押し付けて傾斜Ｔ２を形成する方法や、前記ゴム基材層形成工程の後、前記成形工程の前に研削部材による研削によって傾斜Ｔ２を形成する方法、前記成型後に片刃ナイフで傾斜Ｔ２を形成する方法、傾斜Ｔ２を形成した筒状金型に未加硫ゴム材を射出する射出成型法などが挙げられる。
【００４１】
次いで、第１実施形態において傾斜Ｔ２形成工程を有することによる効果について説明する。
傾斜Ｔ２を形成した後の前記成形工程では、図６に示す通り、ゴム基材層２４が形成された導電性支持体２２を研削部材３０に対し相対的に回転させ（図６では導電性支持体２２を矢印Ａ方向に回転させ）、且つ研削部材３０の研削面をゴム基材層２４の外周表面に押し当てつつ研削部材３０を導電性支持体２２の軸方向に相対的に移動させ（図６では研削部材３０を矢印Ｂ方向に移動させ）て、ゴム基材層２４の外周表面を研削し研削面２６として成形する。その後、図７に示すごとく、研削部材３０がゴム基材層２４の軸方向の端部、即ち傾斜Ｔ１を形成する領域（但し傾斜Ｔ２が形成されている領域よりも軸方向の内側）に到達した後、前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たし且つ角度θ１が角度θ２未満である傾斜Ｔ１を、研削部材３０による研削によって形成する。そのため、図８に示すごとく、研削部材３０の移動方向端部におけるゴム基材層２４に研削逃げが生じて膨れ２８’が発生し、この膨れ２８’が研削終了後、即ち研削部材３０をゴム基材層２４から離した後に解放されて突起２８となって残っても、図９に示すごとく該突起２８が生じる箇所は傾斜Ｔ１の端となる。従って、発生した突起２８は、ゴム基材層２４の外周面である研削面２６よりも外周側への突出が抑制されるか、または研削面２６よりも外周側へ突出していない突起２８となる。つまり、軸方向端部に発生する突起２８の高さ（研削面２６を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００４２】
さらに、傾斜Ｔ２が形成され、研削部材３０の移動方向端部に該傾斜Ｔ２が存在していることにより、研削逃げがより抑制され前記膨れ２８’がより抑制されて、前記突起２８の高さが抑制される。
外周側へ突出しておらず且つ上記の通り高さが抑制された突起２８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起２８によって生じる導電ロールと像保持体との間の空隙が抑制され、本来像保持体表面に接触させたい領域である研削面２６と像保持体との良好なニップが形成される。
【００４３】
（第２実施形態に係る導電ロールの製造方法）
次いで、ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が長い研削面を有する研削部材を用いた、第２実施形態に係る導電ロールの製造方法について説明する。
【００４４】
第２実施形態に係る導電ロールの製造方法は、円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が長く且つ前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させつつ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てて、前記ゴム基材層の外周表面を研削して成形し且つ前記ゴム基材層の前記端部５ｍｍ以内の領域に前記傾斜Ｔ１を形成する成形および傾斜Ｔ１形成工程と、を有する。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【００４５】
・第２実施形態によって製造される導電ロールの構成
第２実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される、本実施形態に係る導電ロールの構成は、前記第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される導電ロールと同様であり、その一例として図１に示す導電ロールの構成が挙げられる。
次いで、第２実施形態に係る導電ロールの製造方法の各工程について説明する。
【００４６】
・ゴム基材層形成工程
第２実施形態に係る導電ロールの製造方法においては、前記第１実施形態に記載の方法と同様にして、円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成する。
【００４７】
・成形および傾斜Ｔ１形成工程
次いで、ゴム基材層の外周面を研削して研削面を成形すると共に、ゴム基材層の端部に傾斜Ｔ１を形成する。
ここで図１０は、ゴム基材層４４の軸方向長さよりも幅が長く且つゴム基材層４４の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面を有する研削部材５０を用いて、導電性支持体４２上に形成されたゴム基材層４４の外周を研削する場合について説明するための断面図である。
図１０に示すごとく、ゴム基材層４４が形成された導電性支持体４２を研削部材５０に対し相対的に回転させ（図１０では導電性支持体４２を回転させ）、且つ研削部材５０の研削面をゴム基材層４４の外周表面に押し当てて、ゴム基材層４４の外周表面を研削し研削面４６として成形する。また、前記の通り研削部材５０には前記の条件を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面が備えられているため、前記研削面４６の成形と共に、傾斜Ｔ１が研削部材５０による研削によって形成される。
【００４８】
尚、上記「相対的に回転させ」とは、導電性支持体４２を軸方向を中心に回転させる場合のみならず、ゴム基材層４４を有する導電性支持体４２を回転させず且つ研削部材５０を導電性支持体４２の軸方向を中心にしてゴム基材層４４の外周表側を回転させる場合や、両者を逆方向に回転させる場合等も含むことを意味する。
【００４９】
ここで、まず上記研削部材５０が傾斜Ｔ１を形成し得る研削面を有しない場合について説明する。
図１９に示すごとく、前記成形および傾斜Ｔ１形成工程に記載の方法と同様にしてゴム基材層１４４が形成された導電性支持体１４２を研削部材１５０に対し相対的に回転させ（図１９では導電性支持体１４２を矢印Ａ方向に回転させ）、且つ研削部材１５０の研削面をゴム基材層１４４の外周表面に押し当てて、ゴム基材層１４４の外周表面を研削し研削面１４６として成形する。この際、該ゴム基材層１４４のＭＤ１硬度が４５°以下と低いため、図２０に示すごとくゴム基材層１４４に研削逃げが生じて軸方向の端部側に膨れ１４８’が発生する。この膨れ１４８’は研削部材１５０をゴム基材層１４４から離した後に解放されて、図２１に示すごとく研削面１４６よりも更に外周側へ突出した突起１４８となって残る。
この外周側へ突出した突起１４８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起１４８の周辺部分において導電ロールと像保持体との間に空隙が発生する。この空隙部分においては、帯電が抑制されて帯電ムラが発生し、その結果形成される画像において画質濃度ムラが発生する。
【００５０】
次いで、第２実施形態による効果について説明する。
第２実施形態に係る導電ロールの製造方法では、前述の通り前記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面が備えられた研削部材５０を用いて研削により研削面４６を成形しつつ、傾斜Ｔ１を形成する。そのため、図１０に示すごとく、研削部材５０の端部におけるゴム基材層４４に研削逃げが生じて膨れ４８’が発生し、この膨れ４８’が研削終了後、即ち研削部材５０をゴム基材層４４から離した後に解放されて突起４８となって残っても、図１１に示すごとく該突起４８が生じる箇所は傾斜Ｔ１の端となる。従って、発生した突起４８は、ゴム基材層４４の外周面である研削面４６よりも外周側への突出が抑制されるか、または研削面４６よりも外周側へ突出していない突起４８となる。つまり、軸方向端部に発生する突起４８の高さ（研削面４６を基準とした場合の高さ）が抑制される。
外周側へ突出していない突起４８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起４８によって生じる導電ロールと像保持体との間の空隙が抑制され、本来像保持体表面に接触させたい領域である研削面４６と像保持体との良好なニップが形成される。
【００５１】
尚、前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１は、更に２°以上４０°以下であることが望ましい。
【００５２】
・傾斜Ｔ２形成工程
また第２実施形態においては、前記成形および傾斜Ｔ１形成工程より前に、ゴム基材層の傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有することが望ましい。また、該傾斜Ｔ２形成工程を有する場合には、前記傾斜Ｔ１形成工程において形成される傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満であることが望ましい。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【００５３】
ここで、上記傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の第２実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される、本実施形態に係る導電ロールの構成は、傾斜Ｔ２形成工程を有する場合の前記第１実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される導電ロールと同様であり、その一例として図５に示す導電ロールの構成が挙げられる。
次いで、傾斜Ｔ２形成工程について説明する。
【００５４】
傾斜Ｔ２形成工程は、既述の通り前記成形および傾斜Ｔ１形成工程よりも前に施される。具体的な傾斜Ｔ２の形成方法としては、前記第１実施形態において挙げた各種方法が挙げられる。
【００５５】
ここで、第２実施形態において傾斜Ｔ２形成工程を有することによる効果について説明する。
傾斜Ｔ２を形成した後の前記成形工程では、図１２に示す通り、ゴム基材層６４が形成された導電性支持体６２を研削部材７０に対し相対的に回転させ（図１２では導電性支持体６２を回転させ）、且つ研削部材７０の研削面をゴム基材層６４の外周表面に押し当てて、ゴム基材層６４の外周表面を研削し研削面６６として成形する。また、前記の通り研削部材７０には前記の条件を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面が備えられているため、前記研削面６６の成形と共に、傾斜Ｔ１が研削部材７０による研削によって形成される。そのため、図１２に示すごとく、研削部材７０の端部におけるゴム基材層６４に研削逃げが生じて膨れ６８’が発生し、この膨れ６８’が研削終了後、即ち研削部材７０をゴム基材層６４から離した後に解放されて突起６８となって残っても、図１３に示すごとく該突起６８が生じる箇所は傾斜Ｔ１の端となる。従って、発生した突起６８は、ゴム基材層６４の外周面である研削面６６よりも外周側への突出が抑制されるか、または研削面６６よりも外周側へ突出していない突起６８となる。つまり、軸方向端部に発生する突起６８の高さ（研削面６６を基準とした場合の高さ）が抑制される。
【００５６】
さらに、傾斜Ｔ２が形成され、研削部材７０の端部に該傾斜Ｔ２が存在していることにより、研削逃げがより抑制され前記膨れ６８’がより抑制されて、前記突起６８の高さが抑制される。
外周側へ突出しておらず且つ上記の通り高さが抑制された突起６８が存在する導電ロールを、例えば電子写真方式の画像形成装置において像保持体表面に接触して帯電させる帯電ロールとして用いた場合には、突起６８によって生じる導電ロールと像保持体との間の空隙が抑制され、本来像保持体表面に接触させたい領域である研削面６６と像保持体との良好なニップが形成される。
【００５７】
尚、上記においては、第１実施形態および第２実施形態に係る導電ロールの製造方法によって製造される導電ロールとして、研削面が導電性支持体２の軸方向と平行な場合について説明したが、必ずしもこれに限定されるものではない。例えば、図１４に示すごとく導電性支持体２上のゴム基材層４における研削面６が、クラウン状に研削され成形された態様であってもよい。
【００５８】
ついで、本実施形態の製造方法によって製造される導電ロール（即ち、本実施形態に係る導電ロール）の構成について説明する。
【００５９】
導電ロールの構成は、前述の通り、少なくとも導電性支持体表面にゴム基材層が設けられたものであり、また必要に応じて導電性支持体とゴム基材層との間に接着剤層を介してもかまわない。
ここで、上記導電性支持体における「導電性」および導電ロールにおける「導電」とは、体積抵抗率が１０１３Ω・ｃｍ未満である性質を指し、さらに「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ω・ｃｍ以上である性質を指す。
【００６０】
導電性支持体は、導電ロールの電極および支持部材として機能するもので、例えば、アルミニウム、銅合金、ステンレス鋼等の金属または合金；クロム、ニッケル等で鍍金処理を施した鉄；導電性の樹脂；などの導電性の材質で構成される。
【００６１】
ゴム基材層は、前述の通りＭＤ１硬度が４５°以下である。尚、上記ＭＤ１硬度は、以下の方法により測定される。
測定装置：高分子計器株式会社製 ＭＤ-１ ｃａｐａ ｔｙｐｅ−Ａ
測定条件：測定モードはノーマルモード、タイマーは２秒値、測定個所はゴム両端部から２０ｍｍと中央部の計３箇所を測定、硬度算出は測定個所３箇所の平均値とした。
本明細書に記載の数値は、上記方法によって測定されたものである。
【００６２】
このゴム基材層は、例えば、ゴム材中に導電剤を分散させることによって形成される。ゴム材としては、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エピクロルヒドリンゴム、ブチルゴム、ポリウレタン、シリコーンゴム、フッ素ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、ニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド共重合ゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド−アリルグリシジルエーテル共重合ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン３元共重合ゴム（ＥＰＤＭ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム（ＮＢＲ）、天然ゴム等、およびこれらのブレンドゴムが挙げられる。これらの中でも、ポリウレタン、シリコーンゴム、ＥＰＤＭ、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド共重合ゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシド−アリルグリシジルエーテル共重合ゴム、ＮＢＲおよびこれらのブレンドゴムが望ましく用いられる。
特に、ゴム基材層では、これらのゴム材は発泡したものであっても無発泡のものであってもよい。
【００６３】
上記のゴム材に分散させる導電剤としては、電子導電剤やイオン導電剤が用いられる。 電子導電剤の例としては、ケッチェンブラック、アセチレンブラック等のカーボンブラック；熱分解カーボン、グラファイト；アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレス鋼等の各種導電性金属または合金；酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸化スズ−酸化アンチモン固溶体、酸化スズ−酸化インジウム固溶体等の各種導電性金属酸化物；絶縁物質の表面を導電化処理したもの；などの粉末が挙げられる。また、イオン導電剤の例としては、テトラエチルアンモニウム、ラウリルトリメチルアンモニウム等の過塩素酸塩、塩素酸塩等；リチウム、マグネシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の過塩素酸塩、塩素酸塩等；が挙げられる。
これらの導電剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、その添加量は特に制限はないが、上記電子導電剤の場合は、ゴム材１００質量部に対して、１質量部以上３０質量部以下の範囲であることが望ましく、５質量部以上２５質量部以下の範囲であることがより望ましい。一方、上記イオン導電剤の場合は、ゴム材１００質量部に対して、０．１質量部以上５．０質量部以下の範囲であることが望ましく、０．５質量部以上３．０質量部以下の範囲であることがより望ましい。
【００６４】
ゴム基材層の形成に際しては、この層を構成する導電剤、ゴム材、その他の成分（加硫剤や必要に応じて添加される発泡剤等）の各成分の混合方法や混合順序は特に限定されないが、一般的な方法としては、バンバリーミキサー、ニーダー、ロール等により混合し、押出成形やプレス成形や射出成形等によって成形する方法が挙げられる。
【００６５】
以上説明した、本実施形態に係る導電ロールは、特に電子写真方式の画像形成装置において、像保持体（例えば電子写真感光体）に接触して該像保持体表面を帯電させる帯電ロールとして適用される。
【００６６】
＜プロセスカートリッジ＞
次に、本実施形態のプロセスカートリッジの構成の一例について説明する。
本実施形態の一例に係るプロセスカートリッジは、画像形成装置に対して装着自在であるり（即ち画像形成装置に脱着されるものであって）、前述の本実施形態に係る導電ロールを備え、該導電ロールを像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置を少なくとも有する。
より具体的には、本実施形態のプロセスカートリッジは、ケース内に、帯電部材の他に、像保持体、現像装置、電子写真感光体用のクリーニング装置を、取り付け部材により組み合わせて一体化したものであることが望ましい態様である。なお、ケースには、露光のための開口部が設けられていることが望ましい。
【００６７】
図１５は本実施形態のプロセスカートリッジの好適な一実施形態を概略的に示す断面図である。プロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体２０７とともに、前述の本実施形態に係る導電ロールを備える帯電装置２０８、現像装置２１１、クリーニング装置（クリーニング手段）２１３、露光のための開口部２１８、および、除電露光のための開口部２１７を取り付けレール２１６を用いて組み合わせ、そして一体化したものである。電子写真感光体２０７は、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを含有する感光層を有するものが望ましい。また、現像装置２１１は、トナーを電子写真感光体２０７に供給するものである。
【００６８】
そして、このプロセスカートリッジ３００は、転写装置２１２と、現像装置２１１により形成されたトナー像を記録媒体５００に転写する定着装置２１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
【００６９】
＜画像形成装置＞
次に、本実施形態の画像形成装置について説明する。
本実施形態の画像形成装置は、像保持体（例えば電子写真感光体）と、前述の本実施形態に係る導電ロールを備え、該導電ロールを前記像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置と、帯電された前記像保持体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置と、前記像保持体の表面に形成された前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、前記像保持体の表面に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、を有する。
【００７０】
以下、本実施形態の画像形成装置の一例について、図１６を参照して説明する。
図１６は、第１実施形態に係る画像形成装置の基本構成を概略的に示す断面図である。
図１６に示す画像形成装置２００は、電子写真感光体２０７と、前述の本実施形態に係る導電ロールを備え電子写真感光体２０７を帯電させる帯電装置２０８と、帯電装置２０８に接続された電源２０９と、帯電装置２０８により帯電される電子写真感光体２０７を露光して潜像を形成する露光装置２０６と、露光装置２０６により形成された潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置２１１と、現像装置２１１により形成されたトナー像を記録媒体５００に転写する転写装置２１２と、クリーニング装置２１３と、除電器２１４と、定着装置２１５とを備える。なお、この場合には、クリーニング装置２１３や除電器２１４が設けられていないものもある。
【００７１】
ここで、現像装置２１１は、トナーを電子写真感光体２０７に供給するものである。図１６中の帯電装置２０８は、電子写真感光体２０７の表面に前述の本実施形態に係る導電ロールを接触させて、感光体２０７の表面を帯電させる方式（接触帯電方式）のものである。
【００７２】
露光装置２０６としては、例えば、電子写真感光体表面に、半導体レーザー、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）、液晶シャッター等の光源を所望の像様に露光する光学系装置等を用いる。
【００７３】
本実施形態で用いられるトナーは、例えば結着樹脂と着色剤とを含んで構成される。結着樹脂としては、スチレン類、モノオレフィン類、ビニルエステル類、α―メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルエーテル類、ビニルケトン類等の単独重合体および共重合体が例示され、特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。さらに、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等も挙げられる。
【００７４】
着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルコイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして挙げられる。
【００７５】
トナーには、帯電制御剤、離型剤、他の無機粒子等の公知の添加剤を内添加処理や外添加処理してもよい。
離型剤としては低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロプシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして挙げられる。
帯電制御剤としては、公知のものが使用されるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプ等の帯電制御剤を用いてもよい。
他の無機粒子としては、平均１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機粒子を用い、更に必要に応じて、それより大径の無機あるいは有機粒子を併用してもよい。これらの他の無機粒子は公知のものが使用される。
【００７６】
また、小径無機粒子については表面処理を施してもよい。
本実施形態で用いられるトナーの製造方法としては、乳化重合凝集法や溶解懸濁法等などの重合法が望ましく用いられる。また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法を行ってもよい。外添剤を添加する場合、トナーおよび外添剤をヘンシェルミキサーあるいはＶブレンダー等で混合することによって製造する。また、トナーを湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。
【００７７】
転写装置２１２としては、電子写真感光体２０７上に形成されたトナー像を記録媒体５００に転写する際に、電子写真感光体に向けて予め定めた電流密度の電流を供給するものであることが望ましい。
【００７８】
クリーニング装置２１３は、転写工程後の電子写真感光体の表面に付着する残存トナーを除去するためのもので、これにより清浄面化された電子写真感光体は上記の画像形成プロセスに繰り返し供される。クリーニング装置としては、クリーニングブレードの他、例えば、ブラシクリーニング、ロールクリーニング等を用いるが、これらの中でもクリーニングブレードを用いることが望ましい。また、クリーニングブレードの材質としてはウレタンゴム、ネオプレンゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。
【００７９】
また、本実施形態の画像形成装置は、図１６に示したように、イレース光を照射する除電器２１４をさらに備えていてもよい。
【実施例】
【００８０】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００８１】
〔実施例１〜１０，参考例１〕
ゴム基材層形成工程、傾斜Ｔ２形成工程、成形工程、および傾斜Ｔ１形成工程を有する前記第１実施形態に係る製造方法によって、以下の導電ロールを製造した。
【００８２】
・ゴム基材層形成工程および傾斜Ｔ２形成工程
導電性支持体（材質：ＳＵＭ２４Ｌにニッケルメッキ処理）上に、下記表１に記載のＭＤ１硬度を有するゴム基材層（材質：導電剤としてカーボンブラックとイオン導電剤を分散させたエピクロルヒドリンゴムをベースにＮＢＲをブレンドしたゴム材）を形成した。
尚、傾斜Ｔ２は、予め傾斜Ｔ２に対応する傾斜を施した金型に上記ゴム材を射出して形成する射出成型法により形成した。形成した傾斜Ｔ２は、下記表１に記載の角度θ２を有し、前記ゴム基材層の軸方向両端の端部３ｍｍの領域に形成した。
【００８３】
・成形工程
前記第１実施形態に係る製造方法における成形工程に記載の方法により、前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材を用いて、前記ゴム基材層の外周面を研削し、研削面を成形した。
【００８４】
・傾斜Ｔ１形成工程
前記第１実施形態に係る製造方法における傾斜Ｔ１形成工程に記載の方法により、下記表１に記載の角度θ１を有する傾斜Ｔ１を、前記ゴム基材層の軸方向両端の端部５ｍｍの領域に形成した。
以上により、導電ロールを得た。
【００８５】
〔比較例１〕
比較例１に係る導電ロールを以下の方法により製造した。
上記実施例１のゴム基材層形成工程および傾斜Ｔ２形成工程において、傾斜Ｔ２に対応する傾斜の代わりにＲ＝１ｍｍのコーナーＲを施した金型を用いて射出成型法により、コーナーＲを有するゴム基材層を形成し、その後上記実施例１の成形工程と同様にゴム基材層の外周面を研削して研削面を成形し、導電ロールを得た（傾斜Ｔ１形成工程は行っていない）。
【００８６】
−評価試験−
・突起の高さの測定
ゴム基材層の軸方向端部に発生した突起について、以下の高さを測定した。
高さ：ゴム基材層の研削面から外周側へ突出した分の高さ
【００８７】
・濃度ムラ評価方法
画像形成装置（富士ゼロックス社製、商品名：ＤｏｃｕＣｅｎｔｅｒ−ＩＶ Ｃ５５７０）の接触式の帯電ロールとして前記実施例、参考例および比較例で得た導電ロールを装着し、画像を形成した。得られた画像の中心部の濃度と、縦筋（濃度ムラ）部の濃度と、をＸ−Ｒｉｔｅ社製の商品名：Ｘ−Ｒｉｔｅ４０４によって測定し、その濃度差をΔＤで示し、以下の評価基準により評価した。
尚、ΔＤが小さいほど、面内における濃度のムラが抑制されていることを示す。
◎：ΔＤ≦０．２
○：０．３≧ΔＤ＞０．２
△：ΔＤ＞０．３（但し１箇所のみであり許容範囲内）
×：ΔＤ＞０．３（複数箇所発生であり許容範囲外）
【００８８】
・色点（割れ）評価方法
画像形成装置（富士ゼロックス社製、商品名：ＤｏｃｕＣｅｎｔｅｒ−ＩＶ Ｃ５５７０）のプロセスカートリッジを用いた。色点加速試験として前記プロセスカートリッジに装着してある感光体と導電ロールのニップ間に直流２．２ｍＡを通電したまま１０℃１５％ＲＨ環境下で連続１６時間回転させたプロセスカートリッジの評価を行った。高温高湿下１週間保管し画質を評価した。
接触式の帯電ロールとして前記実施例、参考例および比較例で得た導電ロールを装着し、該帯電ロールと像保持体とを接触させたまま、高温高湿（２８℃８５％ＲＨ）の環境に１週間保管した後、画像を形成した。画像非形成部（背景部）における色点の発生について目視により観察し、以下の評価基準により評価した。
◎：色点未発生
○：色点の大きさ２００μｍ以下、且つ個数２個以下
△：色点の大きさ２００μｍ以下、且つ個数３個以上５個以下
×：色点の大きさ２００μｍ超え
【００８９】
・色筋（リーク）評価方法
◎：色筋未発生
○：色筋（０．３≧ΔＤ）発生数が２個以下
△：色筋（０．３≧ΔＤ）発生数が３個以上５個以下
×：色筋（０．３＜ΔＤ）が発生
（尚、色筋の幅は３ｍｍ以下で、長さは規制せず）
【００９０】
【表１】
【符号の説明】
【００９１】
２，２２，４２，６２，１０２，１４２，２０２ 導電性支持体、４，２４，４４，６４，１０４，１４４，２０４ ゴム基材層、６，２６，４６，６６，１０６，１４６，２０６ 研削面、８，２８，４８，６８，１０８，１４８，２０８−１，２０８−２ 突起、８’，２８’，４８’，６８’１０８’，１４８’，２０８’−１，２０８’−２ 膨れ、１０，３０，５０，７０，１１０，１５０，２１０ 研削部材、２００ 画像形成装置
２０６ 露光装置、２０７ 電子写真感光体、２０８ 帯電装置、２０９ 電源、２１１ 現像装置、２１２ 転写装置、２１３ クリーニング装置、２１４ 除電器、２１５ 定着装置、２１６ レール、２１７ 開口部、２１８ 開口部、３００ プロセスカートリッジ、５００ 記録媒体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、
前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させ且つ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てつつ前記研削部材を前記導電性支持体の軸方向に相対的に移動させて、前記ゴム基材層の外周表面を研削し成形する成形工程と、
前記研削部材が前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に到達した後、下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、前記研削部材による研削によって前記端部５ｍｍ以内の領域に形成する傾斜Ｔ１形成工程と、
を有する導電ロールの製造方法。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【請求項２】
前記成形工程より前に、前記ゴム基材層の前記傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有し、
且つ前記傾斜Ｔ１形成工程において形成される前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が前記傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満である請求項１に記載の導電ロールの製造方法。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【請求項３】
円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、
前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が長く且つ前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させつつ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てて、前記ゴム基材層の外周表面を研削して成形し且つ前記ゴム基材層の前記端部５ｍｍ以内の領域に前記傾斜Ｔ１を形成する成形および傾斜Ｔ１形成工程と、
を有する導電ロールの製造方法。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【請求項４】
前記成形および傾斜Ｔ１形成工程より前に、前記ゴム基材層の前記傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有し、
且つ前記成形および傾斜Ｔ１形成工程において形成される前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が前記傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満である請求項３に記載の導電ロールの製造方法。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【請求項５】
前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が４０°以下である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の導電ロールの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の製造方法により製造された導電ロール。
【請求項７】
像保持体と、
請求項６に記載の導電ロールを備え、該導電ロールを前記像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置と、
帯電された前記像保持体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置と、
前記像保持体の表面に形成された前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記像保持体の表面に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、
を有する画像形成装置。
【請求項８】
請求項６に記載の導電ロールを備え、該導電ロールを像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置を少なくとも有し、画像形成装置に対して着脱自在であるプロセスカートリッジ。
【請求項１】
円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、
前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が短い研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させ且つ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てつつ前記研削部材を前記導電性支持体の軸方向に相対的に移動させて、前記ゴム基材層の外周表面を研削し成形する成形工程と、
前記研削部材が前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に到達した後、下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を、前記研削部材による研削によって前記端部５ｍｍ以内の領域に形成する傾斜Ｔ１形成工程と、
を有する導電ロールの製造方法。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【請求項２】
前記成形工程より前に、前記ゴム基材層の前記傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有し、
且つ前記傾斜Ｔ１形成工程において形成される前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が前記傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満である請求項１に記載の導電ロールの製造方法。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【請求項３】
円筒状の導電性支持体上に、ＭＤ１硬度が４５°以下の導電性のゴム基材層を形成するゴム基材層形成工程と、
前記ゴム基材層の軸方向長さよりも幅が長く且つ前記ゴム基材層の軸方向の端部５ｍｍ以内の領域に下記（条件１−１）および（条件１−２）を満たす傾斜Ｔ１を形成し得る研削面を有する研削部材を用い、前記ゴム基材層が形成された前記導電性支持体を前記研削部材に対し相対的に回転させつつ前記研削部材の前記研削面を前記ゴム基材層の外周表面に押し当てて、前記ゴム基材層の外周表面を研削して成形し且つ前記ゴム基材層の前記端部５ｍｍ以内の領域に前記傾斜Ｔ１を形成する成形および傾斜Ｔ１形成工程と、
を有する導電ロールの製造方法。
（条件１−１）軸方向に対する角度θ１が２°以上９０°未満
（条件１−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【請求項４】
前記成形および傾斜Ｔ１形成工程より前に、前記ゴム基材層の前記傾斜Ｔ１が形成される部分よりも軸方向の外側の領域に、下記（条件２−１）および（条件２−２）を満たす傾斜Ｔ２を形成する傾斜Ｔ２形成工程を有し、
且つ前記成形および傾斜Ｔ１形成工程において形成される前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が前記傾斜Ｔ２の軸方向に対する角度θ２未満である請求項３に記載の導電ロールの製造方法。
（条件２−１）軸方向に対する角度θ２が１２°以上４５°以下
（条件２−２）軸方向の外側に向かって径が小さくなる
【請求項５】
前記傾斜Ｔ１の軸方向に対する角度θ１が４０°以下である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の導電ロールの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の製造方法により製造された導電ロール。
【請求項７】
像保持体と、
請求項６に記載の導電ロールを備え、該導電ロールを前記像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置と、
帯電された前記像保持体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置と、
前記像保持体の表面に形成された前記静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記像保持体の表面に形成された前記トナー像を記録媒体に転写する転写装置と、
を有する画像形成装置。
【請求項８】
請求項６に記載の導電ロールを備え、該導電ロールを像保持体に接触させて該像保持体表面を帯電させる帯電装置を少なくとも有し、画像形成装置に対して着脱自在であるプロセスカートリッジ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【公開番号】特開２０１１−２０９３１０（Ｐ２０１１−２０９３１０Ａ）
【公開日】平成２３年１０月２０日（２０１１．１０．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−７３７１８（Ｐ２０１０−７３７１８）
【出願日】平成２２年３月２６日（２０１０．３．２６）
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月２０日（２０１１．１０．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月２６日（２０１０．３．２６）
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
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