成膜成形品およびその製造方法
【課題】基材２の表面に施される成膜面３を、歪補正がなされて転写性がよい凸面鏡１を形成する。
【解決手段】型合わせされた第一、第二金型５、６で基材２を射出成形した後、該基材２の表面に成膜装置７によって成膜面３を施した後、射出用型面５ａに基材２を型入れした状態で第二金型６に設けた子金型６ｂを突出させて基材２の裏面を加圧することで高密度化し、これによって反射面となる成膜面２を、歪補正が成されて転写性が良い凸面鏡１を製造するようにした。
【解決手段】型合わせされた第一、第二金型５、６で基材２を射出成形した後、該基材２の表面に成膜装置７によって成膜面３を施した後、射出用型面５ａに基材２を型入れした状態で第二金型６に設けた子金型６ｂを突出させて基材２の裏面を加圧することで高密度化し、これによって反射面となる成膜面２を、歪補正が成されて転写性が良い凸面鏡１を製造するようにした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミラー等に利用することができる歪み補正度の高い成膜成形品およびその製造方法の技術分野に属するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、射出成形された射出成形体の表面に成膜を施す場合、射出成形用の金型から取出した射出成形体の複数を成膜室に持ち運び、その表面に射出するようにしていた。ところがこのものでは、射出成形体の持ち運び過程で埃が成膜面に付着したり指が触れたりすると、該部位での成膜が不良になるという問題がある。
そこで成膜装置を射出成形用の金型に組み込み、成形された射出成形体の表面に成膜を施すという一連の加工工程で射出成形、成膜成形を行うようにし、これによって成膜面に埃が付着したり指で触ることがないようにして不良率の著しい低減が図れ大幅なコストダウンを達成できるようにしたものを提唱した（例えば特許文献１、２）。
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００４−１０１２５３号公報
【特許文献２】国際公開ＷＯ２００４−１０１２５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで前記成形成膜を一連の工程で行うものは、通常の射出成形の場合と同じく、射出成形体の熱による収縮があり、この結果、成膜面には歪がどうしても発生し、この歪は、大型化すればするほど大きいものになるという問題があって、ミラーのように極端に歪発生を嫌う製品に採用することは難しいという問題があり、ここに本発明の解決すべき課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、上記の如き実情に鑑みこれらの課題を解決することを目的として創作されたものであって、請求項１の発明は、互いに型合わせされる第一、第二の金型を用いて樹脂材を射出成形する射出工程、該成形した樹脂材の表面に成膜を施す成膜工程とを備えた成膜成形品の製造方法において、前記成膜工程後、樹脂材に圧力を付与して加圧する加圧工程が設けられていることを特徴とする成膜成形品の製造方法である。
請求項２の発明は、加圧工程は、少なくとも一方の金型側に設けられる金型を突出させて行うものであることを特徴とする請求項１記載の成膜成形品の製造方法である。
請求項３の発明は、金型は射出材を形成するための型面の一部または全部を突出するものであることを特徴とする請求項２記載の成膜成形品の製造方法である。
請求項４の発明は、加圧工程は、樹脂材の二次射出をすることを特徴とする請求項１記載の成膜成形品の製造方法である。
請求項５の発明は、互いに型合わせされる第一、第二の金型を用いて樹脂材を射出成形した後、該樹脂材に成膜を施すことで製造される成膜成形品であって、該成膜成形品は、成膜が施された後、加圧されていることを特徴とする成膜成形品である。
【発明の効果】
【０００５】
請求項１または５の発明とすることにより、歪補正されて転写正の良い成膜成形品を効率よく製造できることになる。
請求項２乃至４の何れか一つの発明とすることにより、簡単に加圧することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
次ぎに、本発明の実施の形態について、図面に基づいて説明する。図中、１は凹面鏡であって、該凹面鏡１は、樹脂材を射出することによって成形された部分球形状をし、アクリルにトリルのように透明素材で形成された基材２と、該基材２の裏面に施され、反射面を構成する成膜面３と、該成膜面３の裏面に施された不透明な保護膜４とによって層状に形成され、基材２の表面からみたときに成膜面３が凹面となって反射する凹面鏡１を形成しているが、斯かる凹面鏡１は、次のようにして形成される。
【０００７】
図２、３に本発明の実施の形態を示すが、このものにおいて、５、６は互いに対向する金型面に対して垂直な方向と平行な方向とに互いに相対移動するように構成された第一、第二の金型（ベース金型）であって、本実施の形態では第一金型５が固定金型、第二金型６が移動金型となっているが、固定、移動を逆にしても良く、また両者を移動するものにしても構成できる。
【０００８】
そして本実施の形態では第一金型５に、凹面鏡１の裏面側を形成するため凹型になった射出用型面５ａと、凹面鏡１の裏面に成膜を施すための成膜装置（真空蒸着やスパッタリング等の通常知られた成膜装置を用いることができる）７を組込んだ（内装した）成膜用型面５ｂとが形成され、第二金型６には凹面鏡１の表面側を形成するため凹型になった射出用型面６ａが形成されているが、前記射出用型面６ａには、前記基材２の表面全体（射出用型面６ａに型嵌めされている面）を加圧するため射出用型面６ａに対して出没移動できる金型（以降、第一、第二金型５、６と区別するため「子金型」とする。「加圧用金型」と称することもできる。）６ｂが設けられている。
【０００９】
そしてこのものでは、まず図２（Ａ）に示すように、子金型６ｂが型面６ａに対して突出したり没入したりすることがない状態、つまり面一状になった状態で射出用型面５ａ、６ａ同士が対向している姿勢から、第一、第二金型５、６を型合わせして射出用型面５ａ、６ａ同士を付き合わせ、ここに樹脂材を射出して基材２を形成する（図２（Ｂ）参照）。ついで第一、第二金型５、６を型離れさせることになるが、このとき基材２は第二金型６に残るように型設計されている。この状態で第二金型６の射出用型面６ａを第一金型５の成膜用型面５ｂとが型合わせされるよう型移動させた後、成膜装置７によって基材２の裏面（型面５ａからの脱型面）にアルミニウム、銅、銀、金等の反射面になる金属素材を成膜して成膜面３を形成する（図２（Ｃ）参照）。
【００１０】
しかる後、第一、第二金型５、６の相対移動によって、前記成膜面３が施された基材２を第一金型５の射出用型面５ａに型入れし、そして第二金型６側の子金型６ｂを射出用型面６ａから突出移動させる（図２（Ｄ）参照）。これによって前記基材２は、表面側から加圧（押圧）されることになって高密度状態となり、これによって成膜面３は、射出用型面６ａによって補正され、転写性が良い反射面となって凹面鏡１が形成されるようになっている。因みに、子金型６ｂによって加圧する工程では、射出した樹脂材の温度がまだ高く、子金型６ｂによる押圧で樹脂材がまだ流動できる状態、つまりゲル状態に維持されていることが必要である。また保護膜４は、必要である場合に施されるが、この保護膜４は、前記押圧工程後に施すことが好ましい。
【００１１】
叙述の如く構成された本発明の実施の形態にすることで、基材２の表面に成膜面３を形成したものについて、子金型６ｂによる加圧で基材２を高密度化して成膜面３を歪補正されたものにでき、この結果、転写性に優れた成膜面３を有する凹面鏡１とすることができる。因みに、凹面鏡に限らず、平面鏡、凸面鏡についても同様にして形成することができる。
【００１２】
尚、本発明は前記実施の形態に限定されないものであることは勿論であって、鏡の製造に限定されるものでなく、ランプ等の反射面を有するものやエンブレム等、各種の製品に適用することができ、また加圧工程としては、第一金型５側に、成膜された樹脂材を型入れして加圧するため用いる加圧専用の型面を形成しておいてもよい。また、図３（Ａ）に示すように、樹脂材２の一部を加圧する子金型６ｃとすることもでき、また図３（Ｂ）に示すように樹脂材２の成膜面３が形成された表面を加圧する子金型５ｃとすることもでき、さらには図３（Ｃ）に示すように二次射出するための型面５ｄを形成しておき、ここに樹脂材を二次射出して加圧するようにしてもよく、この場合、二次射出される樹脂材が成膜面側としておけば、該二次射出される加圧用の樹脂材を保護膜４に兼用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】成膜成形体の断面図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｄ）は成膜成形品の製造工程を示す概略工程図である。
【図３】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ他の実施の形態の加圧工程を示す概略工程図である。
【符号の説明】
【００１４】
１ 凹面鏡
２ 樹脂材
２ａ 加圧部
３ 成膜面
４ 保護膜
５ 第一金型
６ 第二金型
６ｂ 子金型
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミラー等に利用することができる歪み補正度の高い成膜成形品およびその製造方法の技術分野に属するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、射出成形された射出成形体の表面に成膜を施す場合、射出成形用の金型から取出した射出成形体の複数を成膜室に持ち運び、その表面に射出するようにしていた。ところがこのものでは、射出成形体の持ち運び過程で埃が成膜面に付着したり指が触れたりすると、該部位での成膜が不良になるという問題がある。
そこで成膜装置を射出成形用の金型に組み込み、成形された射出成形体の表面に成膜を施すという一連の加工工程で射出成形、成膜成形を行うようにし、これによって成膜面に埃が付着したり指で触ることがないようにして不良率の著しい低減が図れ大幅なコストダウンを達成できるようにしたものを提唱した（例えば特許文献１、２）。
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００４−１０１２５３号公報
【特許文献２】国際公開ＷＯ２００４−１０１２５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで前記成形成膜を一連の工程で行うものは、通常の射出成形の場合と同じく、射出成形体の熱による収縮があり、この結果、成膜面には歪がどうしても発生し、この歪は、大型化すればするほど大きいものになるという問題があって、ミラーのように極端に歪発生を嫌う製品に採用することは難しいという問題があり、ここに本発明の解決すべき課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、上記の如き実情に鑑みこれらの課題を解決することを目的として創作されたものであって、請求項１の発明は、互いに型合わせされる第一、第二の金型を用いて樹脂材を射出成形する射出工程、該成形した樹脂材の表面に成膜を施す成膜工程とを備えた成膜成形品の製造方法において、前記成膜工程後、樹脂材に圧力を付与して加圧する加圧工程が設けられていることを特徴とする成膜成形品の製造方法である。
請求項２の発明は、加圧工程は、少なくとも一方の金型側に設けられる金型を突出させて行うものであることを特徴とする請求項１記載の成膜成形品の製造方法である。
請求項３の発明は、金型は射出材を形成するための型面の一部または全部を突出するものであることを特徴とする請求項２記載の成膜成形品の製造方法である。
請求項４の発明は、加圧工程は、樹脂材の二次射出をすることを特徴とする請求項１記載の成膜成形品の製造方法である。
請求項５の発明は、互いに型合わせされる第一、第二の金型を用いて樹脂材を射出成形した後、該樹脂材に成膜を施すことで製造される成膜成形品であって、該成膜成形品は、成膜が施された後、加圧されていることを特徴とする成膜成形品である。
【発明の効果】
【０００５】
請求項１または５の発明とすることにより、歪補正されて転写正の良い成膜成形品を効率よく製造できることになる。
請求項２乃至４の何れか一つの発明とすることにより、簡単に加圧することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
次ぎに、本発明の実施の形態について、図面に基づいて説明する。図中、１は凹面鏡であって、該凹面鏡１は、樹脂材を射出することによって成形された部分球形状をし、アクリルにトリルのように透明素材で形成された基材２と、該基材２の裏面に施され、反射面を構成する成膜面３と、該成膜面３の裏面に施された不透明な保護膜４とによって層状に形成され、基材２の表面からみたときに成膜面３が凹面となって反射する凹面鏡１を形成しているが、斯かる凹面鏡１は、次のようにして形成される。
【０００７】
図２、３に本発明の実施の形態を示すが、このものにおいて、５、６は互いに対向する金型面に対して垂直な方向と平行な方向とに互いに相対移動するように構成された第一、第二の金型（ベース金型）であって、本実施の形態では第一金型５が固定金型、第二金型６が移動金型となっているが、固定、移動を逆にしても良く、また両者を移動するものにしても構成できる。
【０００８】
そして本実施の形態では第一金型５に、凹面鏡１の裏面側を形成するため凹型になった射出用型面５ａと、凹面鏡１の裏面に成膜を施すための成膜装置（真空蒸着やスパッタリング等の通常知られた成膜装置を用いることができる）７を組込んだ（内装した）成膜用型面５ｂとが形成され、第二金型６には凹面鏡１の表面側を形成するため凹型になった射出用型面６ａが形成されているが、前記射出用型面６ａには、前記基材２の表面全体（射出用型面６ａに型嵌めされている面）を加圧するため射出用型面６ａに対して出没移動できる金型（以降、第一、第二金型５、６と区別するため「子金型」とする。「加圧用金型」と称することもできる。）６ｂが設けられている。
【０００９】
そしてこのものでは、まず図２（Ａ）に示すように、子金型６ｂが型面６ａに対して突出したり没入したりすることがない状態、つまり面一状になった状態で射出用型面５ａ、６ａ同士が対向している姿勢から、第一、第二金型５、６を型合わせして射出用型面５ａ、６ａ同士を付き合わせ、ここに樹脂材を射出して基材２を形成する（図２（Ｂ）参照）。ついで第一、第二金型５、６を型離れさせることになるが、このとき基材２は第二金型６に残るように型設計されている。この状態で第二金型６の射出用型面６ａを第一金型５の成膜用型面５ｂとが型合わせされるよう型移動させた後、成膜装置７によって基材２の裏面（型面５ａからの脱型面）にアルミニウム、銅、銀、金等の反射面になる金属素材を成膜して成膜面３を形成する（図２（Ｃ）参照）。
【００１０】
しかる後、第一、第二金型５、６の相対移動によって、前記成膜面３が施された基材２を第一金型５の射出用型面５ａに型入れし、そして第二金型６側の子金型６ｂを射出用型面６ａから突出移動させる（図２（Ｄ）参照）。これによって前記基材２は、表面側から加圧（押圧）されることになって高密度状態となり、これによって成膜面３は、射出用型面６ａによって補正され、転写性が良い反射面となって凹面鏡１が形成されるようになっている。因みに、子金型６ｂによって加圧する工程では、射出した樹脂材の温度がまだ高く、子金型６ｂによる押圧で樹脂材がまだ流動できる状態、つまりゲル状態に維持されていることが必要である。また保護膜４は、必要である場合に施されるが、この保護膜４は、前記押圧工程後に施すことが好ましい。
【００１１】
叙述の如く構成された本発明の実施の形態にすることで、基材２の表面に成膜面３を形成したものについて、子金型６ｂによる加圧で基材２を高密度化して成膜面３を歪補正されたものにでき、この結果、転写性に優れた成膜面３を有する凹面鏡１とすることができる。因みに、凹面鏡に限らず、平面鏡、凸面鏡についても同様にして形成することができる。
【００１２】
尚、本発明は前記実施の形態に限定されないものであることは勿論であって、鏡の製造に限定されるものでなく、ランプ等の反射面を有するものやエンブレム等、各種の製品に適用することができ、また加圧工程としては、第一金型５側に、成膜された樹脂材を型入れして加圧するため用いる加圧専用の型面を形成しておいてもよい。また、図３（Ａ）に示すように、樹脂材２の一部を加圧する子金型６ｃとすることもでき、また図３（Ｂ）に示すように樹脂材２の成膜面３が形成された表面を加圧する子金型５ｃとすることもでき、さらには図３（Ｃ）に示すように二次射出するための型面５ｄを形成しておき、ここに樹脂材を二次射出して加圧するようにしてもよく、この場合、二次射出される樹脂材が成膜面側としておけば、該二次射出される加圧用の樹脂材を保護膜４に兼用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】成膜成形体の断面図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｄ）は成膜成形品の製造工程を示す概略工程図である。
【図３】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ他の実施の形態の加圧工程を示す概略工程図である。
【符号の説明】
【００１４】
１ 凹面鏡
２ 樹脂材
２ａ 加圧部
３ 成膜面
４ 保護膜
５ 第一金型
６ 第二金型
６ｂ 子金型
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに型合わせされる第一、第二の金型を用いて樹脂材を射出成形する射出工程、該成形した樹脂材の表面に成膜を施す成膜工程とを備えた成膜成形品の製造方法において、前記成膜工程後、樹脂材に圧力を付与して加圧する加圧工程が設けられていることを特徴とする成膜成形品の製造方法。
【請求項２】
加圧工程は、少なくとも一方の金型側に設けられる金型を突出させて行うものであることを特徴とする請求項１記載の成膜成形品の製造方法。
【請求項３】
金型は射出材を形成するための型面の一部または全部を突出するものであることを特徴とする請求項２記載の成膜成形品の製造方法。
【請求項４】
加圧工程は、樹脂材の二次射出をすることを特徴とする請求項１記載の成膜成形品の製造方法。
【請求項５】
互いに型合わせされる第一、第二の金型を用いて樹脂材を射出成形した後、該樹脂材に成膜を施すことで製造される成膜成形品であって、該成膜成形品は、成膜が施された後、加圧されていることを特徴とする成膜成形品。
【請求項１】
互いに型合わせされる第一、第二の金型を用いて樹脂材を射出成形する射出工程、該成形した樹脂材の表面に成膜を施す成膜工程とを備えた成膜成形品の製造方法において、前記成膜工程後、樹脂材に圧力を付与して加圧する加圧工程が設けられていることを特徴とする成膜成形品の製造方法。
【請求項２】
加圧工程は、少なくとも一方の金型側に設けられる金型を突出させて行うものであることを特徴とする請求項１記載の成膜成形品の製造方法。
【請求項３】
金型は射出材を形成するための型面の一部または全部を突出するものであることを特徴とする請求項２記載の成膜成形品の製造方法。
【請求項４】
加圧工程は、樹脂材の二次射出をすることを特徴とする請求項１記載の成膜成形品の製造方法。
【請求項５】
互いに型合わせされる第一、第二の金型を用いて樹脂材を射出成形した後、該樹脂材に成膜を施すことで製造される成膜成形品であって、該成膜成形品は、成膜が施された後、加圧されていることを特徴とする成膜成形品。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００９−１５４４０２（Ｐ２００９−１５４４０２Ａ）
【公開日】平成２１年７月１６日（２００９．７．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３３５４９３（Ｐ２００７−３３５４９３）
【出願日】平成１９年１２月２７日（２００７．１２．２７）
【出願人】（０００１４９４６８）株式会社大嶋電機製作所 (89)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月１６日（２００９．７．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月２７日（２００７．１２．２７）
【出願人】（０００１４９４６８）株式会社大嶋電機製作所 (89)
【Ｆターム（参考）】
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