成膜用マスク及びその洗浄方法
【課題】マスク母材にダメージを与えることなくデポジション膜の洗浄除去が可能であり、洗浄作業性にも優れた成膜用マスクを提供する。
【解決手段】成膜用マスク１１は、基板Ｗの成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部２０が形成されたマスク本体２と、このマスク本体の表面の開口部の外側を被覆するカバー部材とを備え、このカバー部材３は、マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄの集合体で構成されている。マスク本体の表面の所定領域をカバー部材で被覆することにより、マスク本体へのデポジション膜の付着を抑え、マスク洗浄時におけるマスク母材のダメージを防ぐ。カバー部材に付着したデポジション膜の除去は、個々のカバー分割片に個片化した状態で行うことにより、洗浄作業が簡単になり、マスクの大型化にも容易に対応できるようになる。
【解決手段】成膜用マスク１１は、基板Ｗの成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部２０が形成されたマスク本体２と、このマスク本体の表面の開口部の外側を被覆するカバー部材とを備え、このカバー部材３は、マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄの集合体で構成されている。マスク本体の表面の所定領域をカバー部材で被覆することにより、マスク本体へのデポジション膜の付着を抑え、マスク洗浄時におけるマスク母材のダメージを防ぐ。カバー部材に付着したデポジション膜の除去は、個々のカバー分割片に個片化した状態で行うことにより、洗浄作業が簡単になり、マスクの大型化にも容易に対応できるようになる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スパッタ装置等の成膜装置に用いられ、基板の成膜面に対向配置されることにより成膜領域を制限する成膜用マスクに関し、更に詳しくは、品質及び耐久性に優れ、マスクの大型化にも対応できる成膜用マスク及びその洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体基板やガラス基板等の成膜工程においては、図９Ａ，Ｂに示されるように、基板Ｗ上の成膜領域を制限する開口部Ｐが形成された成膜用マスクＭが広く用いられている。この成膜用マスクＭとしては、例えばアルミニウムやチタン、ステンレス等の金属製単層マスクが用いられている。
【０００３】
この種のマスクは、基板表面の一部が成膜されないように基板成膜面に対向配置して使用されるので、成膜時、マスク表面に成膜材料が付着する。使用済のマスクは、従来、付着した成膜材料（デポジション膜）を化学エッチングにより洗浄除去した後、再使用していた。
【０００４】
なお、下記特許文献１には、複数個のマスク素体を環状に配置することにより枠状のマスク体を形成するとともに、個々のマスク素体を基板に対して独立して位置変更可能とした構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−６０６２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述のように、従来では、成膜用マスクに付着したデポジション膜を化学エッチングによって除去していたので、マスク自体に対するダメージが大きく、マスク品質（精度）の劣化、あるいは耐久性の低下が問題となっていた。
【０００７】
また、デポジション膜がアルミニウム合金の場合、例えばアルカリ系のエッチング液でマスクを洗浄するが、マスクがアルミニウム製だとマスク母材の損傷が避けられなくなるので、アルカリ液には不溶解の金属マスクを用意する必要があり、不経済であった。
【０００８】
一方、例えばディスプレイ基板成膜用のマスクなど、マスクが大型化するに伴って洗浄作業が困難になるという問題もあった。特に、成膜材料との関係でアルミニウム製マスクが使用できない場合、チタンやステンレス等の他の金属マスクで大型マスクを構成することになるが、この場合、マスクの高重量化によりハンドリング性が悪化し、また高価になるという問題点もあった。
【０００９】
なお、上記特許文献１の構成では、マスクが複数のマスク素体で分割構成されているので、一体構造のマスクに比べて洗浄作業性等に優れる。しかしながら、これら個片化されたマスク素体にも直にデポジション膜が付着することから、繰り返し洗浄によりマスクがダメージを受け、また、成膜材料との関係でマスク構成材料に制限があるという点では、上述と同様の問題を有している。
【００１０】
本発明は上述の問題に鑑みてなされ、マスク母材にダメージを与えることなくデポジション膜の洗浄除去が可能であり、洗浄作業性にも優れた成膜用マスクを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
以上の課題を解決するに当たり、本発明の成膜用マスクは、基板の成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部が形成されたマスク本体と、このマスク本体の表面の開口部の外側を被覆するカバー部材とを備え、このカバー部材は、マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片の集合体で構成されている。
【００１２】
マスク本体の表面の所定領域をカバー部材で被覆することにより、マスク本体へのデポジション膜の付着を抑える。これにより、マスク洗浄時におけるマスク母材のダメージを防ぎ、マスク精度の劣化及び耐久性の向上が図れるようになる。カバー部材を構成する個々のカバー分割片には、例えば打ち抜き材等が使用でき、低廉かつ簡素に製作できる。
【００１３】
カバー部材に付着したデポジション膜の除去は、カバー部材を個々のカバー分割片に個片化した状態で行うことができるので、洗浄作業が簡単になり、マスクの大型化にも容易に対応できるようになる。
【００１４】
マスク本体に対するカバー分割片の取付けは、例えばネジ、あるいはボルト及びナット等の部材を用いることができる。この場合、カバー分割片の表面側はデポジション膜が付着するので、カバー分割片の装着状態を保持する保持部材（例えばナット）をマスク本体の裏面側に配置することにより、離脱作業が容易となる。
【００１５】
カバー部材は、成膜材料が比較的付着しやすい領域に取り付けられるようにし、具体的には、少なくともマスク本体の開口部周縁領域に取り付けられる。この場合、開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々を基板の成膜面に向かって傾斜して取り付けたり、開口部に臨む側の端部の厚さが漸次小さくなるように形成することによって、マスク精度の向上を図ることができる。
【００１６】
また、マスク精度の観点から、開口部周縁領域におけるカバー分割片の取付精度、位置合わせ精度を高める必要があるが、これらカバー分割片の取付作業性と組付精度を確保するために、カバー分割片の各々を開口部の辺単位で一体化してもよい。
【００１７】
以上の構成の成膜用マスクにおいて、マスク本体に対するカバー部材の取付けには、マスク本体が設置されるマスク設置部と、マスク本体の開口部を貫通するとともに、開口部の周縁領域に取り付けられるカバー分割片の端部と当接し、当該カバー分割片の開口部に対する位置決めをなす位置決め凸部とを備えたマスク取付治具を用いることができ、これにより容易かつ高精度にマスクを組み立てることができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上述べたように、本発明の成膜用マスクによれば、マスク本体と、このマスク本体の表面所定領域を被覆する複数のカバー分割片の集合体でなるカバー部材とを備えた構成としているので、デポジション膜の洗浄除去は主としてカバー部材に対してのみ行えば足りるようになり、これによりマスク本体を保護でき、マスク精度の維持と耐久性の向上とを図ることができる。
【００１９】
また、カバー部材を複数個のカバー分割片の集合体として構成したので、デポジション膜の洗浄除去はカバー分割片単位で行えるようになり、大型マスク用の洗浄設備を不要として洗浄工程の簡素化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１の実施の形態による成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。
【図２】マスク本体に対するカバー部材の取付形態を示す要部断面図であるとともに、開口部の周縁領域の各種構成例を示している。
【図３】本発明の第２の実施の形態による成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。
【図４】本発明の第３の実施の形態による成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。
【図５】本発明の第５の実施の形態を示す要部断面図である。
【図６】図５の構成の変形例を示す要部断面図である。
【図７】マスク組立治具の概略構成を示す平面図である。
【図８】マスク組立治具を用いたマスク組立工程を説明する側断面図である。
【図９】従来の成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の各実施の形態について図面を参照して説明する。
【００２２】
（第１の実施の形態）
図１は本発明の第１の実施の形態による成膜用マスク１１の概略構成図であり、Ａは平面図、Ｂは断面図である。成膜用マスク１１は、マスク本体２と、このマスク本体２の表面全域を被覆するカバー部材３の二層構造となっている。
【００２３】
マスク本体２は、例えばアルミニウムやチタン、ステンレス等の金属材料で構成されており、その略中央部には長方形状の開口部２０が形成されている。マスク本体２は基板Ｗの上面（成膜面）に対向配置され、開口部２０は、基板Ｗの成膜領域を制限する。
【００２４】
ここで、マスク本体２の開口部２０の周縁部２１は、テーパー面とされており、厚さ（高さ）が漸次小さくなるように形成されている。これにより、開口部２０の周縁部の成膜に与える影響を小さくでき、高い成膜精度を確保できる。
なお、周縁部２１の形状はテーパー状に限らず、後述する図５又は図６に示すように、階段状としてもよい。
【００２５】
カバー部材３は、複数のカバー分割片３Ａ・・・，３Ｂ・・・，３Ｃ・・・の集合体で構成されている。これらカバー分割片のうち、３Ａはマスク本体２の開口部２０の周縁部２１に取り付けられる四角形状の分割片であり、３Ｂはマスク本体２の表面の平面部に取り付けられる四角形状の分割片である。そして、３Ｃはマスク本体２の開口部２０の四隅位置に取り付けられ、一対の直角二等辺三角形状の分割片、あるいは四角形状の分割片を対角位置で所定角度折り曲げて形成されている。
なお、この開口部周縁部２１に取り付けられているカバー分割片３Ａは、図中、網掛けして示している。
【００２６】
カバー分割片３Ａの各々は、マスク本体２の開口部２０のテーパー状の周縁部２１に取り付けられることによって、基板Ｗの成膜面に向かって傾斜して取り付けられている。更に、これらカバー分割片３Ａの開口部２０に臨む側の端部３１は、その厚さが漸次小さくなるように例えばテーパー状に形成されている。
【００２７】
カバー部材３を構成する各カバー分割片３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、アルミニウム、チタン、ステンレス、ニッケル等の金属板のプレス加工品のほか、セラミック板やプラスチック板等が適用可能であり、成膜材料その他の成膜条件に応じて適宜選定される。
例えば、アルミニウム合金を成膜する場合には、アルミニウム製のカバー部材（カバー分割片）が用いられ、同様に、クロム成膜の場合にはチタン製のカバー部材、モリブデンやタングステンを成膜する場合にはニッケル合金製のカバー部材が適用できる。
なお、カバー部材３を構成する各カバー分割片は、同一材質のものが用いられる場合は勿論、異種材質のものが組み合わされていてもよい。
【００２８】
ここで、カバー部材３の材質は、マスク本体２よりも、成膜材料と熱膨張係数が近い材料で形成することが好ましい。デポジション膜がカバー部材３から剥離し難くなり、成膜時のパーティクル発生を抑えると同時に、メンテナンスサイクルの長期化を図ることができるからである。
同様な理由で、カバー部材３は、マスク本体２よりも、成膜材料との密着性がよい材料で形成されるのが好ましい。密着性を高めるため、カバー部材３の表面を例えばブラスト処理して粗面化したり、後述する図５に示すように、隆起部３４を設けた凹凸形状とするのも有効である。
【００２９】
カバー分割片３Ａ〜３Ｃの大きさは、カバー部材３の分割数によって異なるが、例えば一辺５ｃｍ〜５０ｃｍの大きさに分割されている。また、カバー分割片３Ａ〜３Ｃの厚さも特に限定されず、例えば０．３ｍｍ程度とされている。
なお、これらカバー分割片３Ａ〜３Ｃの形状、大きさ及び厚さは均一とする場合に限らず、形状や大きさの異なるカバー分割片の集合体としてカバー部材３を形成してもよい。
【００３０】
カバー部材３は、マスク本体２に対して着脱自在に取り付けられている。図２Ａは、マスク本体２とカバー部材３（カバー分割片３Ａ〜３Ｃ）の取付形態を説明する要部断面図である。
【００３１】
カバー分割片３Ａ〜３Ｃ（図では３Ａ，３Ｂのみ図示）は、取付具５で各々マスク本体２の表面に装着されており、これにより、マスク本体２の表面にカバー部材３が形成されている。
取付具５は、カバー分割片３Ａ〜３Ｃ及びマスク本体２を貫通し軸部にネジ山が形成されたボルト状の軸部材６と、この軸部材６の軸部に螺合しマスク本体２に対するカバー分割片３Ａ〜３Ｃの装着状態を保持するナット状の保持部材７とで構成されている。これら取付具５は、カバー分割片一枚当たり、１カ所〜４カ所、あるいはそれ以上取り付けられるが、カバー分割片の大きさによって取付具５の取付個数が決定される。
【００３２】
なお、ワッシャ、スプリングワッシャ等のネジ弛み止め部品を適宜介装させるようにしてもよい。また、マスク本体２及びカバー分割片３Ａ〜３Ｂの何れか一方について、軸部材６が貫通する孔を長孔状に形成することにより、カバー分割片の加工精度に起因する取付精度のバラツキを低減したり、マスク本体に対するカバー分割片の相対位置の変更が可能となる。
【００３３】
ここで、取付具５の保持部材７は、マスク本体２の裏面側に適宜形成された凹所１０内に配置されている。これにより、表面にデポジション膜が付着したカバー分割片３Ａ〜３Ｃをマスク本体２から容易に取り外せるようになり、作業性を確保することができる。
【００３４】
図２Ａに示したように、マスク本体２の開口部周縁部２１に取り付けられているカバー分割片３Ａの端部３１は、マスク本体２の開口部周縁部２１の端部と整列配置されている。そして、当該カバー分割片３Ａは、マスク本体２の開口部周縁部２１を被覆すると同時に、端部３１が基板Ｗの成膜面に接触あるいは近接して成膜領域と非成膜領域とを区画するマスク境界部２０Ｐを形成する。カバー分割片３Ａの端部３１は、上述したように漸次厚さが小となるテーパー形状に形成されているので、マスク境界部２０Ｐにおける高い成膜精度を維持できる。
【００３５】
上述のように、マスク本体２の開口部周縁部２１に取り付けられているカバー分割片３Ａは、マスク境界部２０Ｐを形成することから、マスク本体２の開口部周縁部２１を図２Ｂ，Ｃのように構成することもできる。
図２Ｂの構成例は、カバー分割片３Ａの開口部２０側端部を、マスク本体２の開口部周縁部２１よりも内方（開口部２０）側に突出させた例を示している。
また、図２Ｃの構成例は、マスク本体２の開口部周縁部２１を薄厚形状とせずに、これに取り付けられるカバー分割片３Ａの開口部２０側端部を基板Ｗの成膜面に向かって傾斜するように折り曲げてマスク開口部２０Ｐを形成した例を示している。
【００３６】
以上のように構成される本実施の形態の成膜用マスク１１は、マスク本体２の表面全域に複数枚のカバー分割片３Ａ〜３Ｃを装着した状態で使用される。そして、スパッタ室等の成膜室に設置された基板Ｗの成膜面にマスク１１が対向配置され、このマスク１１を介して基板Ｗの成膜処理が行われる。これにより、マスク本体２の開口部２０を介して露出する基板Ｗの成膜領域に対して所定の成膜材料でなる薄膜が形成される。
なお、マスク１１は、基板Ｗの成膜面に直接載置されてもよいし、基板Ｗの周囲に別途設置されたマスク支持台（図示略）上に載置されてもよい。
【００３７】
さて、マスク１１の洗浄工程においては、成膜室からマスク１１を取り出した後、マスク本体２からカバー分割片３Ａ〜３Ｃが全て取り外される。ここで、取付具５の保持部材７がマスク本体２の裏面側に配置されているので、デポジション膜の付着量に関係なくカバー分割片３Ａ〜３Ｃをマスク本体２から容易に取り外すことができる。
【００３８】
本実施の形態によれば、マスク本体２は、複数のカバー分割片３Ａ，３Ｂ，３Ｃの集合体でなるカバー部材３によって表面全域が被覆されているので、マスク本体２の表面に成膜材料のデポジション膜が直接付着することが防止され、マスク本体２の洗浄を不要あるは簡素化することが可能となる。これにより、マスク本体２のダメージを抑えて長寿命化が図られ、マスク精度（開口形状）の維持と耐久性向上が図れるようになる。
【００３９】
また、本実施の形態によれば、成膜材料に関係なくマスク本体２の構成材料を選定することができる。例えば、マスク本体２を軽量なアルミニウム系合金で構成した場合にも、カバー部材３を装着することによってアルミニウム金属の成膜処理にも使用することが可能となる。
【００４０】
この場合、カバー部材３としてアルミニウム板を用いた場合には、個々のカバー分割片３Ａ〜３Ｃに個片化した後、Ａｌスクラップとしてリサイクル材に供することができる。また、カバー部材３としてステンレス板を用いた場合には、個々のカバー分割片３Ａ〜３Ｃに個片化した後、アルカリ液等にてＡｌデポジション膜の洗浄除去を行った後、再使用することができる。
【００４１】
更に、本実施の形態によれば、カバー部材３を複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃの集合体として構成したので、カバー部材３の洗浄処理を個々の分割片単位で行えるようになる。これにより洗浄槽の小型化、洗浄液の低減等、洗浄設備を簡素化して洗浄コストの低減を図ることができる。
【００４２】
（第２の実施の形態）
図３Ａ，Ｂは、本発明の第２の実施の形態を示している。なお、図において上述の第１の実施の形態と対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略するものとする。
【００４３】
本実施の形態の成膜用マスク１２は、マスク本体２とカバー部材３とでなり、カバー部材３は、複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃの集合体で構成されている点で、上述の第１の実施の形態と同様な構成を有している。しかし本実施の形態では、カバー部材３で被覆するマスク本体２表面の領域が、上述の第１の実施の形態と異なっている。
【００４４】
即ち、本実施の形態の成膜用マスク１２は、デポジション膜の付着量が比較的多い部分にカバー部材３が設置されている。より具体的には、マスク本体２の外周部分と比較して開口部２０の周縁を含む内周部分の方がデポジション膜の付着量が多い場合には、この開口部２０の周縁を含むマスク本体２の内周部分にのみ、上述した構成のカバー部材３が設置されるようになっている。
【００４５】
本実施の形態によれば、カバー部材３による被覆領域が少ない分、カバー分割片３Ａ〜３Ｃの取付枚数を削減できるので、カバー部材３の取付け及び取り外し作業数の低減を図ることができ、生産性の向上を図ることができるようになる。
【００４６】
（第３の実施の形態）
図４Ａ，Ｂは、本発明の第３の実施の形態を示している。なお、図において上述の第１の実施の形態と対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略するものとする。
【００４７】
本実施の形態の成膜用マスク１３は、マスク本体２とその表面全域を被覆するカバー部材３とでなり、カバー部材３は、複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃの集合体で構成されている点で、上述の第１の実施の形態と同様な構成を有している。しかし本実施の形態では、カバー部材３を形成するカバー分割片のうち、マスク本体２の開口部周縁部２１に取り付けられるカバー分割片３Ａの各々が、開口部２０の辺単位で一体化されている点で、上述の第１の実施の形態と異なっている。
【００４８】
上述のように、カバー分割片３Ａの開口部側端部３１は、基板Ｗの成膜領域を区画するマスク境界部２０Ｐを形成する。しかし、これらカバー分割片３Ａの各々が個々に独立していると、マスク本体２への取付精度によって上記マスク境界部２０Ｐの位置精度にバラツキが生じ易くなる。
【００４９】
そこで本実施の形態では、開口部２０の開口形状に対応して、開口部２０の一辺単位でカバー分割片３Ａを一体化し、マスク本体２に対する取付精度をバラツキを低減するようにしている。
【００５０】
本実施の形態によれば、カバー部材３によるマスク境界部２０Ｐの位置精度の向上が図ることができ、マスク精度を高めることができる。また、開口部周縁部２１に対するカバー分割片３Ａの取付け及び取り外し工数の低減が図れるようになり、作業性を改善することができる。
【００５１】
（第４の実施の形態）
上述の各実施の形態では、カバー部材３を形成する複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃをマスク本体２の表面上で隙間なく配置することによって、マスク本体２へのデポジション膜の付着を阻止していた。しかし、各カバー分割片の加工精度等の原因により、これらを隙間なく配置することが困難な場合がある。
【００５２】
そこで本実施の形態では、図５に示すように、各カバー分割片３Ａ，３Ｂの側端部に、隣接する分割片どうしが互いに係合する係合凸部３２及び係合凹部３３をそれぞれ設け、これら分割片どうしが部分的に重なり合ってマスク本体２を被覆するようにしている。これら係合凸部３２及び係合凹部３３は本発明の「オーバーラップ部」を構成し、その係合量は特に制限されず、比較的遊度を保ってマスク本体２上に取り付けられるようにしてもよい。
【００５３】
これにより、本実施の形態によれば、カバー分割片３Ａ，３Ｂの加工精度あるいは寸法精度の影響を受けずに、マスク本体２の所定領域を隙間なく被覆することができるようになり、マスク本体２の保護を図れるとともに、各分割片の取付精度をも緩和でき、作業性の向上を図ることができる。
【００５４】
また、カバー分割片の少なくとも一部の表面に隆起部３４を形成して、付着したデポジション膜を剥離し難くしパーティクルの発生要因を低減する実施形態において、上記オーバーラップ部によって形成される隙間Ｇ１，Ｇ２によって、隆起部３４と同様、カバー部材３の表面を凹凸化させる機能が得られることになる。これにより、本実施の形態によれば、隆起部３４の単独形成に比べて、デポジション膜の剥離を阻止できる膜厚量を大きくでき、メンテナンスサイクルの長期化を図れるようになる。
【００５５】
同様な考え方で、例えば図６に示すように、カバー分割片３Ａ，３Ｂのオーバーラップ部を傾斜部３５で構成しても、上述と同様な効果を得ることができる。カバー分割片３Ａ，３Ｂの重なり量は、傾斜部３５の形成角、カバー分割片の板厚、配置間隔等により適宜調整することができる。また、傾斜部３５は図示するテーパー状に限らず、階段状としてもよい。
【００５６】
（第５の実施の形態）
上述のように、マスク本体２の開口部２０の周縁領域に取り付けられるカバー分割片３Ａは、基板Ｗの成膜領域を区画するマスク境界部２０Ｐを形成する。このマスク境界部２０Ｐは成膜用マスクのマスク精度に直結し、マスク本体２に対するカバー分割片３Ａの取付精度に大きく依存する。そこで本実施の形態では、図７及び図８に示すマスク組立治具４０を用いてカバー分割片３Ａをマスク本体２に高精度に組み付けるようにしている。
【００５７】
マスク組立治具４０は、マスク本体２が設置されるマスク設置部４１と、このマスク設置部４１の内方側に形成された位置決め凸部４２と、これらマスク設置部４１と位置決め凸部４２との間に形成された環状凹所４３とを備えている。
【００５８】
マスク設置部４１は、マスク本体２と略同一の外形形状を有している。このマスク設置部４１には、マスク本体２との相対的位置関係を保持する位置決め機構（図示略）が設けられていてもよい。
【００５９】
位置決め凸部４２は、マスク設置部４１にマスク本体２が設置された際、マスク本体２の開口部２０を貫通する高さとされ、その平面形状は、基板Ｗの成膜領域に対応する形状に一致している。そして、マスク設置部４１に設置されたマスク本体２の開口部周縁領域にカバー分割片３Ａを取り付ける際、位置決め凸部４２の側周部に当該カバー分割片３Ａの端部を当接させて、マスク本体２に対する位置決めをなすようにしている。
【００６０】
以上のように構成されるマスク組立治具４０を用いて本発明の成膜用マスクを組み立てるようにすれば、開口部周縁領域に取り付けられるカバー分割片３Ａの所望の取付精度を確保することができ、高品質のマスクを容易に作製することができるようになる。
【００６１】
以上、本発明の各実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれらに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【００６２】
例えば以上の実施の形態では、マスク本体２の開口部２０の形状を四角形状としたが、勿論これに限られず、他の幾何学的形状を呈していてもよい。また、開口部２０は単一に限らず、複数形成されていてもよい。
【００６３】
また、成膜室はスパッタ室に限らず、ＣＶＤ装置等の他の成膜装置が適用可能である。また、マスクを要する成膜以外の他の用途、例えばイオン注入やドライエッチング等の真空処理にも、本発明は適用可能である。
【００６４】
更に、以上の実施の形態では、マスク本体２に対するカバー分割片３Ａ〜３Ｃの装着に取付具５を用いたが、この取付具の構成は各種変更可能である。また、成膜等の真空処理に影響を及ぼさない限りにおいて、マスク本体とカバー分割片との一体化機構にマグネット等を用いることも可能である。
【符号の説明】
【００６５】
２ マスク本体
３ カバー部材
３Ａ，３Ｂ，３Ｃ カバー分割片
５ 取付具
６ 軸部材
７ 保持部材
１０ 凹所
１１，１２，１３ 成膜用マスク
２０ 開口部
２１ マスク本体の開口部周縁部
３１ カバー分割片の開口部に臨む側の端部
３２ 係合凸部
３３ 係合凹所
３４ 隆起部
３５ 傾斜部
４０ マスク組立治具
４１ マスク設置部
４２ 位置決め凸部
４３ 環状凹所
Ｗ 基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スパッタ装置等の成膜装置に用いられ、基板の成膜面に対向配置されることにより成膜領域を制限する成膜用マスクに関し、更に詳しくは、品質及び耐久性に優れ、マスクの大型化にも対応できる成膜用マスク及びその洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体基板やガラス基板等の成膜工程においては、図９Ａ，Ｂに示されるように、基板Ｗ上の成膜領域を制限する開口部Ｐが形成された成膜用マスクＭが広く用いられている。この成膜用マスクＭとしては、例えばアルミニウムやチタン、ステンレス等の金属製単層マスクが用いられている。
【０００３】
この種のマスクは、基板表面の一部が成膜されないように基板成膜面に対向配置して使用されるので、成膜時、マスク表面に成膜材料が付着する。使用済のマスクは、従来、付着した成膜材料（デポジション膜）を化学エッチングにより洗浄除去した後、再使用していた。
【０００４】
なお、下記特許文献１には、複数個のマスク素体を環状に配置することにより枠状のマスク体を形成するとともに、個々のマスク素体を基板に対して独立して位置変更可能とした構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−６０６２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述のように、従来では、成膜用マスクに付着したデポジション膜を化学エッチングによって除去していたので、マスク自体に対するダメージが大きく、マスク品質（精度）の劣化、あるいは耐久性の低下が問題となっていた。
【０００７】
また、デポジション膜がアルミニウム合金の場合、例えばアルカリ系のエッチング液でマスクを洗浄するが、マスクがアルミニウム製だとマスク母材の損傷が避けられなくなるので、アルカリ液には不溶解の金属マスクを用意する必要があり、不経済であった。
【０００８】
一方、例えばディスプレイ基板成膜用のマスクなど、マスクが大型化するに伴って洗浄作業が困難になるという問題もあった。特に、成膜材料との関係でアルミニウム製マスクが使用できない場合、チタンやステンレス等の他の金属マスクで大型マスクを構成することになるが、この場合、マスクの高重量化によりハンドリング性が悪化し、また高価になるという問題点もあった。
【０００９】
なお、上記特許文献１の構成では、マスクが複数のマスク素体で分割構成されているので、一体構造のマスクに比べて洗浄作業性等に優れる。しかしながら、これら個片化されたマスク素体にも直にデポジション膜が付着することから、繰り返し洗浄によりマスクがダメージを受け、また、成膜材料との関係でマスク構成材料に制限があるという点では、上述と同様の問題を有している。
【００１０】
本発明は上述の問題に鑑みてなされ、マスク母材にダメージを与えることなくデポジション膜の洗浄除去が可能であり、洗浄作業性にも優れた成膜用マスクを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
以上の課題を解決するに当たり、本発明の成膜用マスクは、基板の成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部が形成されたマスク本体と、このマスク本体の表面の開口部の外側を被覆するカバー部材とを備え、このカバー部材は、マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片の集合体で構成されている。
【００１２】
マスク本体の表面の所定領域をカバー部材で被覆することにより、マスク本体へのデポジション膜の付着を抑える。これにより、マスク洗浄時におけるマスク母材のダメージを防ぎ、マスク精度の劣化及び耐久性の向上が図れるようになる。カバー部材を構成する個々のカバー分割片には、例えば打ち抜き材等が使用でき、低廉かつ簡素に製作できる。
【００１３】
カバー部材に付着したデポジション膜の除去は、カバー部材を個々のカバー分割片に個片化した状態で行うことができるので、洗浄作業が簡単になり、マスクの大型化にも容易に対応できるようになる。
【００１４】
マスク本体に対するカバー分割片の取付けは、例えばネジ、あるいはボルト及びナット等の部材を用いることができる。この場合、カバー分割片の表面側はデポジション膜が付着するので、カバー分割片の装着状態を保持する保持部材（例えばナット）をマスク本体の裏面側に配置することにより、離脱作業が容易となる。
【００１５】
カバー部材は、成膜材料が比較的付着しやすい領域に取り付けられるようにし、具体的には、少なくともマスク本体の開口部周縁領域に取り付けられる。この場合、開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々を基板の成膜面に向かって傾斜して取り付けたり、開口部に臨む側の端部の厚さが漸次小さくなるように形成することによって、マスク精度の向上を図ることができる。
【００１６】
また、マスク精度の観点から、開口部周縁領域におけるカバー分割片の取付精度、位置合わせ精度を高める必要があるが、これらカバー分割片の取付作業性と組付精度を確保するために、カバー分割片の各々を開口部の辺単位で一体化してもよい。
【００１７】
以上の構成の成膜用マスクにおいて、マスク本体に対するカバー部材の取付けには、マスク本体が設置されるマスク設置部と、マスク本体の開口部を貫通するとともに、開口部の周縁領域に取り付けられるカバー分割片の端部と当接し、当該カバー分割片の開口部に対する位置決めをなす位置決め凸部とを備えたマスク取付治具を用いることができ、これにより容易かつ高精度にマスクを組み立てることができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上述べたように、本発明の成膜用マスクによれば、マスク本体と、このマスク本体の表面所定領域を被覆する複数のカバー分割片の集合体でなるカバー部材とを備えた構成としているので、デポジション膜の洗浄除去は主としてカバー部材に対してのみ行えば足りるようになり、これによりマスク本体を保護でき、マスク精度の維持と耐久性の向上とを図ることができる。
【００１９】
また、カバー部材を複数個のカバー分割片の集合体として構成したので、デポジション膜の洗浄除去はカバー分割片単位で行えるようになり、大型マスク用の洗浄設備を不要として洗浄工程の簡素化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１の実施の形態による成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。
【図２】マスク本体に対するカバー部材の取付形態を示す要部断面図であるとともに、開口部の周縁領域の各種構成例を示している。
【図３】本発明の第２の実施の形態による成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。
【図４】本発明の第３の実施の形態による成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。
【図５】本発明の第５の実施の形態を示す要部断面図である。
【図６】図５の構成の変形例を示す要部断面図である。
【図７】マスク組立治具の概略構成を示す平面図である。
【図８】マスク組立治具を用いたマスク組立工程を説明する側断面図である。
【図９】従来の成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の各実施の形態について図面を参照して説明する。
【００２２】
（第１の実施の形態）
図１は本発明の第１の実施の形態による成膜用マスク１１の概略構成図であり、Ａは平面図、Ｂは断面図である。成膜用マスク１１は、マスク本体２と、このマスク本体２の表面全域を被覆するカバー部材３の二層構造となっている。
【００２３】
マスク本体２は、例えばアルミニウムやチタン、ステンレス等の金属材料で構成されており、その略中央部には長方形状の開口部２０が形成されている。マスク本体２は基板Ｗの上面（成膜面）に対向配置され、開口部２０は、基板Ｗの成膜領域を制限する。
【００２４】
ここで、マスク本体２の開口部２０の周縁部２１は、テーパー面とされており、厚さ（高さ）が漸次小さくなるように形成されている。これにより、開口部２０の周縁部の成膜に与える影響を小さくでき、高い成膜精度を確保できる。
なお、周縁部２１の形状はテーパー状に限らず、後述する図５又は図６に示すように、階段状としてもよい。
【００２５】
カバー部材３は、複数のカバー分割片３Ａ・・・，３Ｂ・・・，３Ｃ・・・の集合体で構成されている。これらカバー分割片のうち、３Ａはマスク本体２の開口部２０の周縁部２１に取り付けられる四角形状の分割片であり、３Ｂはマスク本体２の表面の平面部に取り付けられる四角形状の分割片である。そして、３Ｃはマスク本体２の開口部２０の四隅位置に取り付けられ、一対の直角二等辺三角形状の分割片、あるいは四角形状の分割片を対角位置で所定角度折り曲げて形成されている。
なお、この開口部周縁部２１に取り付けられているカバー分割片３Ａは、図中、網掛けして示している。
【００２６】
カバー分割片３Ａの各々は、マスク本体２の開口部２０のテーパー状の周縁部２１に取り付けられることによって、基板Ｗの成膜面に向かって傾斜して取り付けられている。更に、これらカバー分割片３Ａの開口部２０に臨む側の端部３１は、その厚さが漸次小さくなるように例えばテーパー状に形成されている。
【００２７】
カバー部材３を構成する各カバー分割片３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、アルミニウム、チタン、ステンレス、ニッケル等の金属板のプレス加工品のほか、セラミック板やプラスチック板等が適用可能であり、成膜材料その他の成膜条件に応じて適宜選定される。
例えば、アルミニウム合金を成膜する場合には、アルミニウム製のカバー部材（カバー分割片）が用いられ、同様に、クロム成膜の場合にはチタン製のカバー部材、モリブデンやタングステンを成膜する場合にはニッケル合金製のカバー部材が適用できる。
なお、カバー部材３を構成する各カバー分割片は、同一材質のものが用いられる場合は勿論、異種材質のものが組み合わされていてもよい。
【００２８】
ここで、カバー部材３の材質は、マスク本体２よりも、成膜材料と熱膨張係数が近い材料で形成することが好ましい。デポジション膜がカバー部材３から剥離し難くなり、成膜時のパーティクル発生を抑えると同時に、メンテナンスサイクルの長期化を図ることができるからである。
同様な理由で、カバー部材３は、マスク本体２よりも、成膜材料との密着性がよい材料で形成されるのが好ましい。密着性を高めるため、カバー部材３の表面を例えばブラスト処理して粗面化したり、後述する図５に示すように、隆起部３４を設けた凹凸形状とするのも有効である。
【００２９】
カバー分割片３Ａ〜３Ｃの大きさは、カバー部材３の分割数によって異なるが、例えば一辺５ｃｍ〜５０ｃｍの大きさに分割されている。また、カバー分割片３Ａ〜３Ｃの厚さも特に限定されず、例えば０．３ｍｍ程度とされている。
なお、これらカバー分割片３Ａ〜３Ｃの形状、大きさ及び厚さは均一とする場合に限らず、形状や大きさの異なるカバー分割片の集合体としてカバー部材３を形成してもよい。
【００３０】
カバー部材３は、マスク本体２に対して着脱自在に取り付けられている。図２Ａは、マスク本体２とカバー部材３（カバー分割片３Ａ〜３Ｃ）の取付形態を説明する要部断面図である。
【００３１】
カバー分割片３Ａ〜３Ｃ（図では３Ａ，３Ｂのみ図示）は、取付具５で各々マスク本体２の表面に装着されており、これにより、マスク本体２の表面にカバー部材３が形成されている。
取付具５は、カバー分割片３Ａ〜３Ｃ及びマスク本体２を貫通し軸部にネジ山が形成されたボルト状の軸部材６と、この軸部材６の軸部に螺合しマスク本体２に対するカバー分割片３Ａ〜３Ｃの装着状態を保持するナット状の保持部材７とで構成されている。これら取付具５は、カバー分割片一枚当たり、１カ所〜４カ所、あるいはそれ以上取り付けられるが、カバー分割片の大きさによって取付具５の取付個数が決定される。
【００３２】
なお、ワッシャ、スプリングワッシャ等のネジ弛み止め部品を適宜介装させるようにしてもよい。また、マスク本体２及びカバー分割片３Ａ〜３Ｂの何れか一方について、軸部材６が貫通する孔を長孔状に形成することにより、カバー分割片の加工精度に起因する取付精度のバラツキを低減したり、マスク本体に対するカバー分割片の相対位置の変更が可能となる。
【００３３】
ここで、取付具５の保持部材７は、マスク本体２の裏面側に適宜形成された凹所１０内に配置されている。これにより、表面にデポジション膜が付着したカバー分割片３Ａ〜３Ｃをマスク本体２から容易に取り外せるようになり、作業性を確保することができる。
【００３４】
図２Ａに示したように、マスク本体２の開口部周縁部２１に取り付けられているカバー分割片３Ａの端部３１は、マスク本体２の開口部周縁部２１の端部と整列配置されている。そして、当該カバー分割片３Ａは、マスク本体２の開口部周縁部２１を被覆すると同時に、端部３１が基板Ｗの成膜面に接触あるいは近接して成膜領域と非成膜領域とを区画するマスク境界部２０Ｐを形成する。カバー分割片３Ａの端部３１は、上述したように漸次厚さが小となるテーパー形状に形成されているので、マスク境界部２０Ｐにおける高い成膜精度を維持できる。
【００３５】
上述のように、マスク本体２の開口部周縁部２１に取り付けられているカバー分割片３Ａは、マスク境界部２０Ｐを形成することから、マスク本体２の開口部周縁部２１を図２Ｂ，Ｃのように構成することもできる。
図２Ｂの構成例は、カバー分割片３Ａの開口部２０側端部を、マスク本体２の開口部周縁部２１よりも内方（開口部２０）側に突出させた例を示している。
また、図２Ｃの構成例は、マスク本体２の開口部周縁部２１を薄厚形状とせずに、これに取り付けられるカバー分割片３Ａの開口部２０側端部を基板Ｗの成膜面に向かって傾斜するように折り曲げてマスク開口部２０Ｐを形成した例を示している。
【００３６】
以上のように構成される本実施の形態の成膜用マスク１１は、マスク本体２の表面全域に複数枚のカバー分割片３Ａ〜３Ｃを装着した状態で使用される。そして、スパッタ室等の成膜室に設置された基板Ｗの成膜面にマスク１１が対向配置され、このマスク１１を介して基板Ｗの成膜処理が行われる。これにより、マスク本体２の開口部２０を介して露出する基板Ｗの成膜領域に対して所定の成膜材料でなる薄膜が形成される。
なお、マスク１１は、基板Ｗの成膜面に直接載置されてもよいし、基板Ｗの周囲に別途設置されたマスク支持台（図示略）上に載置されてもよい。
【００３７】
さて、マスク１１の洗浄工程においては、成膜室からマスク１１を取り出した後、マスク本体２からカバー分割片３Ａ〜３Ｃが全て取り外される。ここで、取付具５の保持部材７がマスク本体２の裏面側に配置されているので、デポジション膜の付着量に関係なくカバー分割片３Ａ〜３Ｃをマスク本体２から容易に取り外すことができる。
【００３８】
本実施の形態によれば、マスク本体２は、複数のカバー分割片３Ａ，３Ｂ，３Ｃの集合体でなるカバー部材３によって表面全域が被覆されているので、マスク本体２の表面に成膜材料のデポジション膜が直接付着することが防止され、マスク本体２の洗浄を不要あるは簡素化することが可能となる。これにより、マスク本体２のダメージを抑えて長寿命化が図られ、マスク精度（開口形状）の維持と耐久性向上が図れるようになる。
【００３９】
また、本実施の形態によれば、成膜材料に関係なくマスク本体２の構成材料を選定することができる。例えば、マスク本体２を軽量なアルミニウム系合金で構成した場合にも、カバー部材３を装着することによってアルミニウム金属の成膜処理にも使用することが可能となる。
【００４０】
この場合、カバー部材３としてアルミニウム板を用いた場合には、個々のカバー分割片３Ａ〜３Ｃに個片化した後、Ａｌスクラップとしてリサイクル材に供することができる。また、カバー部材３としてステンレス板を用いた場合には、個々のカバー分割片３Ａ〜３Ｃに個片化した後、アルカリ液等にてＡｌデポジション膜の洗浄除去を行った後、再使用することができる。
【００４１】
更に、本実施の形態によれば、カバー部材３を複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃの集合体として構成したので、カバー部材３の洗浄処理を個々の分割片単位で行えるようになる。これにより洗浄槽の小型化、洗浄液の低減等、洗浄設備を簡素化して洗浄コストの低減を図ることができる。
【００４２】
（第２の実施の形態）
図３Ａ，Ｂは、本発明の第２の実施の形態を示している。なお、図において上述の第１の実施の形態と対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略するものとする。
【００４３】
本実施の形態の成膜用マスク１２は、マスク本体２とカバー部材３とでなり、カバー部材３は、複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃの集合体で構成されている点で、上述の第１の実施の形態と同様な構成を有している。しかし本実施の形態では、カバー部材３で被覆するマスク本体２表面の領域が、上述の第１の実施の形態と異なっている。
【００４４】
即ち、本実施の形態の成膜用マスク１２は、デポジション膜の付着量が比較的多い部分にカバー部材３が設置されている。より具体的には、マスク本体２の外周部分と比較して開口部２０の周縁を含む内周部分の方がデポジション膜の付着量が多い場合には、この開口部２０の周縁を含むマスク本体２の内周部分にのみ、上述した構成のカバー部材３が設置されるようになっている。
【００４５】
本実施の形態によれば、カバー部材３による被覆領域が少ない分、カバー分割片３Ａ〜３Ｃの取付枚数を削減できるので、カバー部材３の取付け及び取り外し作業数の低減を図ることができ、生産性の向上を図ることができるようになる。
【００４６】
（第３の実施の形態）
図４Ａ，Ｂは、本発明の第３の実施の形態を示している。なお、図において上述の第１の実施の形態と対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略するものとする。
【００４７】
本実施の形態の成膜用マスク１３は、マスク本体２とその表面全域を被覆するカバー部材３とでなり、カバー部材３は、複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃの集合体で構成されている点で、上述の第１の実施の形態と同様な構成を有している。しかし本実施の形態では、カバー部材３を形成するカバー分割片のうち、マスク本体２の開口部周縁部２１に取り付けられるカバー分割片３Ａの各々が、開口部２０の辺単位で一体化されている点で、上述の第１の実施の形態と異なっている。
【００４８】
上述のように、カバー分割片３Ａの開口部側端部３１は、基板Ｗの成膜領域を区画するマスク境界部２０Ｐを形成する。しかし、これらカバー分割片３Ａの各々が個々に独立していると、マスク本体２への取付精度によって上記マスク境界部２０Ｐの位置精度にバラツキが生じ易くなる。
【００４９】
そこで本実施の形態では、開口部２０の開口形状に対応して、開口部２０の一辺単位でカバー分割片３Ａを一体化し、マスク本体２に対する取付精度をバラツキを低減するようにしている。
【００５０】
本実施の形態によれば、カバー部材３によるマスク境界部２０Ｐの位置精度の向上が図ることができ、マスク精度を高めることができる。また、開口部周縁部２１に対するカバー分割片３Ａの取付け及び取り外し工数の低減が図れるようになり、作業性を改善することができる。
【００５１】
（第４の実施の形態）
上述の各実施の形態では、カバー部材３を形成する複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃをマスク本体２の表面上で隙間なく配置することによって、マスク本体２へのデポジション膜の付着を阻止していた。しかし、各カバー分割片の加工精度等の原因により、これらを隙間なく配置することが困難な場合がある。
【００５２】
そこで本実施の形態では、図５に示すように、各カバー分割片３Ａ，３Ｂの側端部に、隣接する分割片どうしが互いに係合する係合凸部３２及び係合凹部３３をそれぞれ設け、これら分割片どうしが部分的に重なり合ってマスク本体２を被覆するようにしている。これら係合凸部３２及び係合凹部３３は本発明の「オーバーラップ部」を構成し、その係合量は特に制限されず、比較的遊度を保ってマスク本体２上に取り付けられるようにしてもよい。
【００５３】
これにより、本実施の形態によれば、カバー分割片３Ａ，３Ｂの加工精度あるいは寸法精度の影響を受けずに、マスク本体２の所定領域を隙間なく被覆することができるようになり、マスク本体２の保護を図れるとともに、各分割片の取付精度をも緩和でき、作業性の向上を図ることができる。
【００５４】
また、カバー分割片の少なくとも一部の表面に隆起部３４を形成して、付着したデポジション膜を剥離し難くしパーティクルの発生要因を低減する実施形態において、上記オーバーラップ部によって形成される隙間Ｇ１，Ｇ２によって、隆起部３４と同様、カバー部材３の表面を凹凸化させる機能が得られることになる。これにより、本実施の形態によれば、隆起部３４の単独形成に比べて、デポジション膜の剥離を阻止できる膜厚量を大きくでき、メンテナンスサイクルの長期化を図れるようになる。
【００５５】
同様な考え方で、例えば図６に示すように、カバー分割片３Ａ，３Ｂのオーバーラップ部を傾斜部３５で構成しても、上述と同様な効果を得ることができる。カバー分割片３Ａ，３Ｂの重なり量は、傾斜部３５の形成角、カバー分割片の板厚、配置間隔等により適宜調整することができる。また、傾斜部３５は図示するテーパー状に限らず、階段状としてもよい。
【００５６】
（第５の実施の形態）
上述のように、マスク本体２の開口部２０の周縁領域に取り付けられるカバー分割片３Ａは、基板Ｗの成膜領域を区画するマスク境界部２０Ｐを形成する。このマスク境界部２０Ｐは成膜用マスクのマスク精度に直結し、マスク本体２に対するカバー分割片３Ａの取付精度に大きく依存する。そこで本実施の形態では、図７及び図８に示すマスク組立治具４０を用いてカバー分割片３Ａをマスク本体２に高精度に組み付けるようにしている。
【００５７】
マスク組立治具４０は、マスク本体２が設置されるマスク設置部４１と、このマスク設置部４１の内方側に形成された位置決め凸部４２と、これらマスク設置部４１と位置決め凸部４２との間に形成された環状凹所４３とを備えている。
【００５８】
マスク設置部４１は、マスク本体２と略同一の外形形状を有している。このマスク設置部４１には、マスク本体２との相対的位置関係を保持する位置決め機構（図示略）が設けられていてもよい。
【００５９】
位置決め凸部４２は、マスク設置部４１にマスク本体２が設置された際、マスク本体２の開口部２０を貫通する高さとされ、その平面形状は、基板Ｗの成膜領域に対応する形状に一致している。そして、マスク設置部４１に設置されたマスク本体２の開口部周縁領域にカバー分割片３Ａを取り付ける際、位置決め凸部４２の側周部に当該カバー分割片３Ａの端部を当接させて、マスク本体２に対する位置決めをなすようにしている。
【００６０】
以上のように構成されるマスク組立治具４０を用いて本発明の成膜用マスクを組み立てるようにすれば、開口部周縁領域に取り付けられるカバー分割片３Ａの所望の取付精度を確保することができ、高品質のマスクを容易に作製することができるようになる。
【００６１】
以上、本発明の各実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれらに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【００６２】
例えば以上の実施の形態では、マスク本体２の開口部２０の形状を四角形状としたが、勿論これに限られず、他の幾何学的形状を呈していてもよい。また、開口部２０は単一に限らず、複数形成されていてもよい。
【００６３】
また、成膜室はスパッタ室に限らず、ＣＶＤ装置等の他の成膜装置が適用可能である。また、マスクを要する成膜以外の他の用途、例えばイオン注入やドライエッチング等の真空処理にも、本発明は適用可能である。
【００６４】
更に、以上の実施の形態では、マスク本体２に対するカバー分割片３Ａ〜３Ｃの装着に取付具５を用いたが、この取付具の構成は各種変更可能である。また、成膜等の真空処理に影響を及ぼさない限りにおいて、マスク本体とカバー分割片との一体化機構にマグネット等を用いることも可能である。
【符号の説明】
【００６５】
２ マスク本体
３ カバー部材
３Ａ，３Ｂ，３Ｃ カバー分割片
５ 取付具
６ 軸部材
７ 保持部材
１０ 凹所
１１，１２，１３ 成膜用マスク
２０ 開口部
２１ マスク本体の開口部周縁部
３１ カバー分割片の開口部に臨む側の端部
３２ 係合凸部
３３ 係合凹所
３４ 隆起部
３５ 傾斜部
４０ マスク組立治具
４１ マスク設置部
４２ 位置決め凸部
４３ 環状凹所
Ｗ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部が形成されたマスク本体と、
このマスク本体の表面の開口部の外側を被覆するカバー部材とを備え、
前記カバー部材は、前記マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片の集合体でなることを特徴とする成膜用マスク。
【請求項２】
前記マスク本体は、前記基板の周縁部への成膜を制限する
請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項３】
前記マスク本体に対して前記カバー分割片の装着状態を保持する保持部材が、前記マスク本体の前記基板側に配置されている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項４】
前記カバー部材は、少なくとも、前記マスク本体の開口部周縁領域に取り付けられている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項５】
前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、基板の成膜面に向かって傾斜して取り付けられている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項６】
前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、前記開口部に臨む側の端部の厚さが漸次小さくなるように形成されている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項７】
前記マスク本体の開口部周縁領域は、厚さが漸次小さくなるように形成されている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項８】
前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、前記開口部に臨む側の端部が前記マスク本体の開口部周縁よりも内方側に突出している請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項９】
前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、前記開口部の辺単位で一体化されている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項１０】
前記カバー分割片の各々には、隣接するカバー分割片どうしが互いに重なり合うオーバーラップ部を有している請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項１１】
前記カバー部材は、前記マスク本体よりも、成膜材料と熱膨張係数が近い材料で形成されている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項１２】
前記カバー部材は、表面に凹凸形状を有する請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項１３】
基板の成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部が形成されたマスク本体と、
このマスク本体の表面を被覆するカバー部材とを備え、
前記カバー部材は、前記マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片の集合体でなり、
前記カバー分割片を前記マスク本体から取り外して洗浄する
成膜用マスクの洗浄方法。
【請求項１】
基板の成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部が形成されたマスク本体と、
このマスク本体の表面の開口部の外側を被覆するカバー部材とを備え、
前記カバー部材は、前記マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片の集合体でなることを特徴とする成膜用マスク。
【請求項２】
前記マスク本体は、前記基板の周縁部への成膜を制限する
請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項３】
前記マスク本体に対して前記カバー分割片の装着状態を保持する保持部材が、前記マスク本体の前記基板側に配置されている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項４】
前記カバー部材は、少なくとも、前記マスク本体の開口部周縁領域に取り付けられている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項５】
前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、基板の成膜面に向かって傾斜して取り付けられている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項６】
前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、前記開口部に臨む側の端部の厚さが漸次小さくなるように形成されている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項７】
前記マスク本体の開口部周縁領域は、厚さが漸次小さくなるように形成されている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項８】
前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、前記開口部に臨む側の端部が前記マスク本体の開口部周縁よりも内方側に突出している請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項９】
前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、前記開口部の辺単位で一体化されている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項１０】
前記カバー分割片の各々には、隣接するカバー分割片どうしが互いに重なり合うオーバーラップ部を有している請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項１１】
前記カバー部材は、前記マスク本体よりも、成膜材料と熱膨張係数が近い材料で形成されている請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項１２】
前記カバー部材は、表面に凹凸形状を有する請求項１に記載の成膜用マスク。
【請求項１３】
基板の成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部が形成されたマスク本体と、
このマスク本体の表面を被覆するカバー部材とを備え、
前記カバー部材は、前記マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片の集合体でなり、
前記カバー分割片を前記マスク本体から取り外して洗浄する
成膜用マスクの洗浄方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−１６８８９４（Ｐ２０１１−１６８８９４Ａ）
【公開日】平成２３年９月１日（２０１１．９．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−９４０５４（Ｐ２０１１−９４０５４）
【出願日】平成２３年４月２０日（２０１１．４．２０）
【分割の表示】特願２００６−５４８６３５（Ｐ２００６−５４８６３５）の分割
【原出願日】平成１６年１２月２１日（２００４．１２．２１）
【出願人】（５０７１１１３４６）アルバック シンガポール プライベート リミテッド (1)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月１日（２０１１．９．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年４月２０日（２０１１．４．２０）
【分割の表示】特願２００６−５４８６３５（Ｐ２００６−５４８６３５）の分割
【原出願日】平成１６年１２月２１日（２００４．１２．２１）
【出願人】（５０７１１１３４６）アルバック シンガポール プライベート リミテッド (1)
【Ｆターム（参考）】
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