搬送装置および搬送誤差補正方法
【課題】被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置であって、安価に搬送精度を向上できるものを提供すること。
【解決手段】定盤１０を備える。定盤１０上に、被処理物１が載置されるテーブル２と、処理部１４を支持する構造物１２とを備える。テーブル２に複数の光源６ａ，６ｂが取り付けられている。各光源６ａ，６ｂにそれぞれ対応して定盤１０上に複数の光検出器８ａ，８ｂを備える。搬送部４は定盤１０上でテーブル２をＹ方向に搬送して、テーブル２と処理部１４とを相対移動させる。定盤１０上でのテーブル２の搬送位置を検出する。光検出器８ａ，８ｂが出力する光の位置ずれを表す信号に基づいて、その搬送位置でのテーブル２の変位を検出する。その検出したテーブル２の変位に基づいて、処理部１４を構造物１２上で変位させ又は処理タイミングを変更する。
【解決手段】定盤１０を備える。定盤１０上に、被処理物１が載置されるテーブル２と、処理部１４を支持する構造物１２とを備える。テーブル２に複数の光源６ａ，６ｂが取り付けられている。各光源６ａ，６ｂにそれぞれ対応して定盤１０上に複数の光検出器８ａ，８ｂを備える。搬送部４は定盤１０上でテーブル２をＹ方向に搬送して、テーブル２と処理部１４とを相対移動させる。定盤１０上でのテーブル２の搬送位置を検出する。光検出器８ａ，８ｂが出力する光の位置ずれを表す信号に基づいて、その搬送位置でのテーブル２の変位を検出する。その検出したテーブル２の変位に基づいて、処理部１４を構造物１２上で変位させ又は処理タイミングを変更する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置に関する。
【０００２】
また、この発明は、そのような搬送装置よって被処理物と処理部とを相対移動させる場合に、搬送精度を向上できる搬送誤差補正方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
近年、大画面液晶ディスプレイの普及に伴って、その製造工場では、ガラス基板のような平板状の被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す処理部とを相対移動させる搬送装置が広く用いられている。この種の搬送装置を用いれば、比較的小型で安価な処理部を用いて、被処理物の略全体を処理することができる。被処理物と処理部とを相対移動させる方法としては、被処理物をＹ方向に移動させながら処理部をＸ方向に移動させる方法と、被処理物を固定し処理部をＸ、Ｙ方向に移動させる方法との２つが代表的である。
【０００４】
例えば特許文献１（特開平９−３０８９７８号公報）には、図９に示すような、前者の方法を実行する装置が開示されている。この装置は、概ね、ＸＹ平面に置かれた定盤１２２と、定盤１２２の上面に敷設されたＹ方向に延びる一対のガイド１２９、１２９と、ガイド１２９、１２９上にＹ方向に往復移動可能に設けられたテーブル１２３と、定盤１２２上にガイド１２９、１２９をまたぐ態様で架設された架台１２４と、架台１２４上にＸ方向に往復移動可能に設けられた処理部としての記録ヘッド１２５とを備えている。
【０００５】
テーブル１２３上には、感光剤が塗布されたガラス製の乾板からなる感光材料１２６が被処理物として載置されている。このテーブル１２３は、同期ベルト１２７を介してＹ軸駆動モータ１２８と連結されており、Ｙ方向に延びる一対のガイド１２９に案内されることによりＹ方向に往復移動する。
【０００６】
記録ヘッド１２５は、ボールネジ１３４を介してＸ軸駆動モータ１３５と連結されており、Ｘ軸駆動モータ１３５の駆動によりＸ方向に往復移動する。そして、記録ヘッド１２５のＸ方向の位置はＸ軸測長器（図示しない）により計測されている。また、記録ヘッド１２５には、感光材料１２６に画像を記録するための光学系１３６が配設されている。
【０００７】
さらに、テーブル１２３の下縁に移動誤差測定用のレーザ光源１３３が取り付けられている。一方、テーブル１２３の下方の定盤１２２上に、そのレーザ光源１３３から照射されるレーザビーム１０１を受光するＣＣＤ１３７が搭載されている。
【０００８】
動作時には、先ず、レーザ光源１３３を点灯し、レーザビーム１０１をＹ方向に出射させる。この状態において、テーブル１２３をＹ方向に移動させると共に、レーザビーム１０１の位置をＣＣＤ１３７により測定する。そして、ＣＣＤ１３７により測定されたレーザビーム１０１の位置データと、Ｙ軸測長器（図示しない）により測定されたテーブル１２３のＹ座標値のデータとを対応づけて、制御部（図示しない）に記憶する。これにより、テーブル１２３のＹ方向への移動に伴う移動誤差が測定される。ここで記録した移動誤差を制御に使用することにより、精度向上を図っている。
【特許文献１】特開平９−３０８９７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上述の装置では、テーブル１２３のＹ方向への移動に伴う移動誤差のうち、テーブル１２３のＸＹ平面内での回転変位（ＸＹ軸に対する角度の変化）と水平変位（Ｘ方向への平行移動）とを区別することができないという問題がある。この問題を、図８を用いて説明する。図８（ａ）に示すように、テーブル１２３の移動誤差が無い状態では、レーザ光源１３３より照射されたビームスポット１０１ａがＣＣＤ１３７の中心Ｏに一致している。図８（ｂ）は、テーブル１２３（したがって、それに取り付けられたレーザ光源１３３）が角度Θだけ回転変位したことにより、ＣＣＤ１３７上のビームスポット１０１ａが点１０１ｂに変位（Ｘ方向変位）した様子を示している。また、図８（ｃ）は、テーブル１２３（したがって、それに取り付けられたレーザ光源１３３）が水平変位したことにより、ＣＣＤ１３７上のビームスポット１０１ａが点１０１ｂに変位（Ｘ方向変位）した様子を示している。図８（ｂ）と図８（ｃ）とを比較した場合、ＣＣＤ１３７上で検出できる変位量（誤差量）は両者とも一致しているが、その発生要因は回転変位と水平変位とで互いに異なる。このため、制御部では、移動誤差を補正しようとしても、回転変位による誤差であるのか、水平変位による誤差であるのかを区別することができず、したがって適正な補正を行うことができない。
【００１０】
そこで、この発明の課題は、被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置であって、安価に搬送精度を向上できるものを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、この発明の搬送装置は、被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置であって、
定盤と、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物が載置されるテーブルと、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物に対向し得るように上記処理部を支持する構造物と、
上記テーブルに取り付けられた複数の光源と、
上記各光源にそれぞれ対応して上記定盤上に設けられ、それぞれ対応する光源からの光を受けて上記光の位置ずれを表す信号を出力する複数の光検出器と、
上記定盤上で上記テーブルを少なくとも一方向に搬送して、上記テーブルと上記処理部とを相対移動させる搬送部と、
上記一方向に関して上記定盤上での上記テーブルの搬送位置を検出する搬送位置検出部と、
上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記テーブルの変位を検出する変位検出部と、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する変位補正部を備えたことを特徴とする。
【００１２】
この発明の搬送装置では、変位検出部は、上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記テーブルの変位を検出する。そして変位補正部は、上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する。このようにした場合、上記搬送部による搬送誤差を適切に補正でき、搬送精度を向上できる。また、逆に言えば、その分だけ搬送部の搬送精度を低くしても良いので、搬送部を安価に構成することが可能になる。この利点は、被処理物が大型化して、製品の品質を高めるために搬送部の搬送精度に対する要求が高まり、搬送部が高価格となっている近年の状況下では、極めて有益である。
【００１３】
一実施形態の搬送装置では、上記テーブルが上記一方向に関して基準位置にあるとき、上記各光源からの光が上記光検出器の受光領域内の基準位置に入射するように、上記各光源と上記テーブルとの間に上記光源の光出射方向を変更し得る光源取付機構部を備えたことを特徴とする。
【００１４】
この一実施形態の搬送装置では、例えば上記搬送部による搬送開始の直前、つまり上記テーブルが上記一方向に関して基準位置にあるとき、上記各光源からの光が上記光検出器の受光領域内の基準位置に入射するように、上記光源取付機構部によって、各光源の光出射方向がそれぞれ変更され得る。したがって、例えば上記テーブルが上記一方向に関して基準位置にあるとき、上記各光源からの光が対応する光検出器の受光領域内の基準位置に入射するように、容易に調節できる。そのようにした場合、上記搬送部による搬送開始後に、上記変位検出部が上記テーブルの変位を容易に検出できる。
【００１５】
一実施形態の搬送装置では、
上記複数の光源として第１光源と第２光源との２つが設けられ、
上記第１光源と第２光源は上記一方向に関して互いに反対向きに光を出射し、
上記第１光源、第２光源にそれぞれ対応して、上記複数の光検出器として第１光検出器、第２光検出器が設けられていることを特徴とする。
【００１６】
この一実施形態の搬送装置では、上記第１光源と第２光源は上記一方向に関して互いに反対向きに光を出射する。この結果、上記定盤上の上記搬送位置での上記テーブルの変位が水平移動（水平面内での平行移動）の場合と回転移動の場合とで、光検出器上の光の移動方向が異なる。したがって、上記変位検出部は両者を区別して検出することが可能となる。したがって、変位補正部は、上記テーブルの変位を容易に適切に補正できる。
【００１７】
一実施形態の搬送装置では、上記光源は上記テーブルの両側に配置されていることを特徴とする。
【００１８】
この一実施形態の搬送装置では、上記光源は上記テーブルの両側に配置されているので、上記テーブルの重量バランスの偏りがなくなり、姿勢が安定化する。この結果、上記搬送部による搬送に伴った上記テーブルの変位が生じにくくなる。
【００１９】
一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器は２分割フォトディテクタからなることを特徴とする。
【００２０】
この一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器は２分割フォトディテクタからなるので、上記テーブルのヨーイング変位、水平面内で搬送方向に対して垂直な方向のシフト変位など水平方向の変位をリアルタイムで検出することができる。例えば、２分割フォトディテクタを分割線が鉛直方向に延びる配置とし、光源からの光が２分割フォトディテクタの各受光領域に跨って照射されるように設定する。このようにした場合、２分割フォトディテクタの水平方向に並ぶ受光領域間の出力差が上記テーブルの水平方向の変位量に対応する。
【００２１】
一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器は４分割フォトディテクタからなることを特徴とする。
【００２２】
この一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器は４分割フォトディテクタからなるので、上記テーブルのヨーイング変位、水平面内で搬送方向に対して垂直な方向のシフト変位などの水平方向の変位、ピッチング変位などの垂直方向の変位をリアルタイムで検出することができる。例えば、４分割フォトディテクタの分割線が鉛直方向と水平方向にそれぞれ延びる配置とし、光源からの光が４分割したフォトディテクタの各受光領域に跨って照射されるように設定する。このようにした場合、４分割フォトディテクタの各受光領域のうち、水平方向に並ぶ受光領域間の出力差が水平方向の変位量に対応し、垂直方向に並ぶ受光領域間の出力差が垂直方向の変位量に対応する。
【００２３】
一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器はＣＣＤラインセンサからなることを特徴とする。
【００２４】
この一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器はＣＣＤラインセンサからなる。各ＣＣＤラインセンサを水平方向に延在する配置としておけば、上記テーブルのヨーイング変位、水平面内で搬送方向に対して垂直な方向のシフト変位などの水平方向の変位量を、上記各ＣＣＤラインセンサ上の光スポットの変位量として検出することが可能である。
【００２５】
一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器はＣＣＤエリアセンサからなることを特徴とする。
【００２６】
この一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器はＣＣＤエリアセンサからなるので、上記テーブルのヨーイング変位、水平面内で搬送方向に対して垂直な方向のシフト変位などの水平方向の変位量に加えて、ピッチング変位などの垂直方向の変位をも、上記各ＣＣＤエリアセンサ上の光スポットの変位量として検出することが可能である。
【００２７】
一実施形態の搬送装置では、上記位置検出部が出力した上記テーブルの搬送位置と、その搬送位置での上記テーブルの変位とを対応させて、ディジタル情報として記録する記憶部を備えたことを特徴とする。
【００２８】
上記搬送部による搬送に伴った上記テーブルの変位が再現性をもつ（繰り返し精度が高い）場合には、上記テーブルの変位を予測することができる。そこで、この一実施形態の搬送装置では、上記位置検出部が出力した上記テーブルの搬送位置と、その搬送位置での上記テーブルの変位とを対応させて、記憶部にディジタル情報として記録する。これにより、上記変位補正部が上記記憶部の記録内容を参照して上記処理部を制御することによって、上記テーブルの変位をより高速に補正することが可能となる。さらには、データを蓄積して現行データと比較することにより、経年変化を調べることが可能となる。その経年変化に関する情報は、搬送装置のメンテナンス時期の予測などに活用できる。
【００２９】
一実施形態の搬送装置では、上記光源を間欠的に発光させることを特徴とする。
【００３０】
光源を常時点灯させておくと、熱の影響などで性能劣化、寿命短縮などの悪影響を及ぼす可能性がある。そこで、この一実施形態の搬送装置では、例えばあまり緩慢にならない程度に、つまり、上記搬送部による搬送速度を考慮して上記テーブルの変位に関する必要な情報が得られる限り、光源を間欠的に発光させる。これにより、光源の長寿命化を図ることが可能となる。また、消費電力の削減にも寄与する。
【００３１】
別の局面では、この発明の搬送装置は、被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置であって、
定盤と、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物が載置されるテーブルと、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物に対向し得るように上記処理部を支持する構造物と、
上記構造物に取り付けられた複数の光源と、
上記各光源にそれぞれ対応して上記定盤上に設けられ、それぞれ対応する光源からの光を受けて上記光の位置ずれを表す信号を出力する複数の光検出器と、
上記定盤上で上記構造物を少なくとも一方向に搬送して、上記テーブルと上記処理部とを相対移動させる搬送部と、
上記一方向に関して上記定盤上での上記構造物の搬送位置を検出する搬送位置検出部と、
上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記構造物の変位を検出する変位検出部と、
上記変位検出部が検出した上記構造物の変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する変位補正部を備えたことを特徴とする。
【００３２】
この発明の搬送装置では、変位検出部は、上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記構造物の変位を検出する。そして変位補正部は、上記変位検出部が検出した上記構造物の変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する。このようにした場合、上記搬送部による搬送誤差を適切に補正でき、搬送精度を向上できる。また、逆に言えば、その分だけ搬送部の搬送精度を低くしても良いので、搬送部を安価に構成することが可能になる。この利点は、被処理物が大型化して、製品の品質を高めるために搬送部の搬送精度に対する要求が高まり、搬送部が高価格となっている近年の状況下では、極めて有益である。
【００３３】
この発明の搬送誤差補正方法は、上記発明の搬送装置によって被処理物と処理部とを相対移動させる場合に、搬送による上記テーブルの変位を補正する搬送誤差補正方法であって、
上記定盤の上面に沿った水平面内にＸＹ座標を設定し、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記被処理物上の目標位置のＸ軸方向の変位ΔｘおよびＹ軸方向の変位Δｙを求め、
上記Ｘ軸方向の変位Δｘを相対的に解消するように上記処理部を上記構造物上でＸ軸方向に変位させるとともに、上記Ｙ軸方向の変位Δｙに応じて上記処理部による処理タイミングを変更することを特徴とする。
【００３４】
この発明の搬送誤差補正方法によれば、上記搬送部による搬送誤差、ここでは上記Ｘ軸方向の変位Δｘおよび上記Ｙ軸方向の変位Δｙを適切に補正できる。したがって、搬送精度を向上できる。また、逆に言えば、その分だけ搬送部の搬送精度を低くしても良いので、搬送部を安価に構成することが可能になる。
【００３５】
別の局面では、この発明の搬送誤差補正方法は、一実施形態の搬送装置によって被処理物と処理部とを相対移動させる場合に、搬送による上記テーブルの変位を補正する搬送誤差補正方法であって、
上記定盤の上面に沿った水平面内にＸＹ座標を設定するとともに、上記ＸＹ座標に鉛直方向のＺ座標を加えたＸＹＺ座標を設定し、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記被処理物上の目標位置のＸ軸方向の変位Δｘ、Ｙ軸方向の変位ΔｙおよびＺ軸方向の変位Δｚを求め、
上記Ｘ軸方向の変位Δｘを相対的に解消するように上記処理部を上記構造物上でＸ軸方向に変位させるとともに、上記Ｙ軸方向の変位ΔｙおよびＺ軸方向の変位Δｚに応じて上記処理部による処理タイミングを変更することを特徴とする。
【００３６】
この発明の搬送誤差補正方法によれば、上記搬送部による搬送誤差、ここでは上記被処理物上の目標位置のＸ軸方向の変位Δｘ、Ｙ軸方向の変位ΔｙおよびＺ軸方向の変位Δｚを適切に補正できる。したがって、搬送精度を向上できる。また、逆に言えば、その分だけ搬送部の搬送精度を低くしても良いので、搬送部を安価に構成することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００３８】
図１、図２は、本発明の搬送装置を適用した一実施形態のインクジェット方式の液滴塗布装置を、それぞれ上方、側方から見たところを示している。なお、同じ構成要素には同じ参照符号を付している。
【００３９】
この種のインクジェット方式の液滴塗布装置は、液晶パネル等を構成するカラーフィルタを製造するために好適に用いられる。液晶パネル等に用いられるカラーフィルタとは、ガラス基板上でブラックマトリクスにより区切られた領域（画素）に形成される（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各色の薄膜を意味している。このようなカラーフィルタは、撥液性を有したブラックマトリクスによって区切られた親液性の領域に、処理部としてのインクジェットヘッドによってＲ、Ｇ、Ｂ各色の液体材料をそれぞれ吐出し硬化させる方法（インクジェット方式）によって製造される。このカラーフィルタの画素は、幅２００μｍ程度の高精細であることが要求される。それを実現するためには、インクジェットヘッドから吐出されたインクが１０μｍ以下の着弾精度を有することが要求される。
【００４０】
図１、図２に示すように、この液滴塗布装置は、概ね、除振台１１と、除振台１１のＸＹ平面に沿った上面に置かれた定盤１０と、定盤１０の上面に敷設されたＹ軸方向に延びる一対のガイドレール３ａ、３ａと、ガイドレール３ａ、３ａの上方にＹ軸方向に往復移動可能に設けられたテーブル２と、定盤１０上にガイドレール３ａ、３ａをまたぐ態様で架設された門型構造物１２と、門型構造物１２上にＸ軸方向に往復移動可能に設けられた処理部１４と、この装置全体の制御を行う制御部２２とを備えている。
【００４１】
テーブル２のＸＹ平面に沿った上面には、被処理物としての平板状のガラス基板１が置かれている。このテーブル２は、スクリューシャフト３等を介してＹ軸駆動モータ４と連結されている。テーブル２は、Ｙ軸駆動モータ４による駆動に伴って、Ｙ軸方向に延びる一対のガイドレール３ａ、３ａに案内されて、Ｙ軸方向に往復移動する。この例では、Ｙ軸駆動モータ４、スクリューシャフト３が搬送部を構成する。なお、ＸＹ平面内でテーブル２をガラス基板１とともに細かく位置調整するアライメント位置調整機構については後述する。
【００４２】
なお、テーブル２のＹ軸方向への駆動方式として、ガイド軸を設けてスライドさせる方式を採用することもできる。
【００４３】
また、この例ではテーブル２のＹ軸方向に沿った一対の側面に、それぞれ光源取付機構部５ａ、５ｂを介して光源としての第１レーザ光源６ａ、第２レーザ光源６ｂが取り付けられている。手前の第１レーザ光源６ａからは平行光であるレーザビーム７ａが＋Ｙ軸方向に出射される。第２レーザ光源６ｂからは平行光であるレーザビーム７ｂが−Ｙ軸方向に出射される。レーザ光源６ａ、６ｂはテーブル２の両側に配置されているので、テーブル２の重量バランスの偏りがなくなり、姿勢が安定化する。この結果、上記Ｙ軸駆動モータ４を含む搬送部による搬送に伴った上記テーブルの変位が生じにくくなる。
【００４４】
定盤１０の上面において、第１レーザ光源６ａが出射したレーザビーム７ａが照射されるべき位置に、取付台９ａを介して第１光検出器８ａが搭載され、また、第２レーザ光源６ｂが出射したレーザビーム７ｂが照射されるべき位置に、取付台９ｂを介して第２光検出器８ｂが搭載されている。第１光検出器８ａ、第２光検出器８ｂはそれぞれ矩形の受光領域を有するＣＣＤエリアセンサからなる。取付台９ａ、９ｂはそれぞれ定盤１０に固定されている。レーザ光源６ａ、第２レーザ光源６ｂがそれぞれ出射したレーザビーム７ａ、７ｂは、第１光検出器８ａ、第２光検出器８ｂの受光領域にそれぞれビームスポット７１ａ、７１ｂとして集光される。
【００４５】
このような配置の結果、定盤１０上のテーブル２の変位が水平移動（水平面内での平行移動）の場合と回転移動の場合とで、光検出器８ａ、８ｂ上の光の移動方向が異なる。したがって、両者を区別して検出することが可能となり、テーブル２の変位を容易に適切に補正できるようになる。
【００４６】
なお、このレーザ光源６ａ、６ｂおよび対応する光検出器８ａ、８ｂを取り付けた時点で、それぞれ光軸を合わせるための初期の位置調整（初期アライメント）が行われる。この初期アライメントの方法としては、レーザ光源６ａ、６ｂを点灯し、光源取付機構部５ａ、５ｂによってテーブル２に対するレーザ光源６ａ、６ｂのレーザ出射方向を可変して、ビームスポット７１ａ、７１ｂが光検出器８ａ、８ｂの中心（より詳しくは、受光領域の中心を意味する。以下同様。）に位置するように調整する。このようにした場合、光検出器８ａ、８ｂ内でビームスポット７１ａ、７１ｂの移動量を検出できる範囲が最も広くなるので、望ましい。
【００４７】
図２によって良く分かるように、スクリューシャフト３に嵌合してＹ軸方向に往復移動可能なスライダ１９が設けられている。このスライダ１９上に、ガラス基板１をＸ軸方向、Ｙ軸方向、および回転方向に位置調整するためのアライメント位置調整機構としてアライメントステージ１８が設けられている。既述のテーブル２は、このアライメントステージ１８上に搭載されている。
【００４８】
ガラス基板１の表面の予め定められた複数の箇所にアライメントマーク１７が形成されている（図２中には、簡単のため１箇所のみ示す。）。テーブル２の上方には、そのアライメントマーク１７を撮像するためのアライメント用カメラ１６が設けられている。
【００４９】
ガラス基板１の位置調整を行う場合、まずガラス基板１表面の複数のアライメントマーク１７をそれぞれアライメント用カメラ１６で撮像する。アライメント用カメラ１６の出力は配線２３を通して制御部２２へ送られる。制御部２２は、撮像した画像を所定位置に移動させるべく、上述のアライメントステージ１８をＸ軸方向、Ｙ軸方向、および回転方向に駆動する。その結果、テーブル２上のガラス基板１がＸＹ平面内で所定位置に配置される（初期化）。
【００５０】
また、スライダ１９にはテーブル２のＹ方向の位置を検出するためのエンコーダ検出器２１が取り付けられている。一方、定盤１０にはスケール２０が固定して設けられている。エンコーダ検出器２１は、定盤１０上でテーブル２がアライメントステージ１８やスライダ１９とともにＹ軸方向に往復移動するとき、スケール２０上の位置情報に基づいて、テーブル２のＹ軸方向の位置を検出する。つまり、エンコーダ検出器２１とスケール２０とが搬送位置検出部を構成する。エンコーダ検出器２１の出力は、配線２３を通して制御部２２へ送られる。
【００５１】
処理部１４は、Ｘ軸方向に往復移動可能なスライダ１３を介して門型構造物１２に取り付けられている。処理部１４の底部には、インクジェットヘッド１４ａが突出している。処理部１４は、スライダ１３を介してＸ軸方向に移動されるとともに、インク吐出タイミングに合わせてインクジェットヘッド１４ａからインクを吐出するように、制御部２２によって制御される。この制御に応じて、処理部１４のインクジェットヘッド１４ａからガラス基板１上の処理目標１５へ向けてインクが吐出される。
【００５２】
図３（ａ）は、この液滴塗布装置における処理フローを示している。
【００５３】
まず、ステップＳ１で、この装置のところに搬入されたガラス基板１をテーブル２上に搭載し、公知の吸着などの手法によりテーブル２に固定する。
【００５４】
次に、ステップＳ２で、レーザ光源６ａ、６ｂを点灯し、光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂの位置を検出する。なお、レーザ光源６ａ、６ｂと光検出器８ａ、８ｂとの間で初期アライメントは完了しているものとする。
【００５５】
次に、ステップＳ３で、アライメントステージ１８をＸ軸方向、Ｙ軸方向、および回転方向に駆動して、テーブル２とともにガラス基板１の位置調整すなわち基板アライメントを行う。この基板アライメントでは、テーブル２がＸ軸方向、Ｙ軸方向、および回転方向に駆動される。その結果、ガラス基板１が所定の位置、姿勢となる。そのようにした場合、Ｙ軸駆動モータ４による後述の搬送開始後に、テーブル２の変位を容易に検出できるようになる。
【００５６】
この基板アライメントに伴って、テーブル２に搭載されているレーザ光源６ａ、６ｂはテーブル２と共に移動する。その結果、レーザ光源６ａ、６ｂより照射されるビームスポット７１ａ、７１ｂの位置も光検出器８ａ、８ｂの上で移動することになる。この基板アライメント時にビームスポット７１ａ、７１ｂの移動軌跡を記憶部に記録しておく。また、基板アライメントを実施した際、アライメントステージ１８を駆動したデータを記憶部に記録しておく。ここで記録したビームスポット７１ａ、７１ｂの移動軌跡または、およびアライメントステージ駆動データからビームスポット７１ａ、７１ｂの位置補正を実施する。
【００５７】
次に、ステップＳ４で、前述の基板アライメントにより移動した光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂの位置を検出する。このとき検出されたビームスポット７１ａ、７１ｂの位置を、光検出器８ａ、８ｂの受光領域の中心へ、光源取付機構部５ａ、５ｂを駆動して移動させる。これは前述の基板アライメントによってビームスポット７１ａ、７１ｂが光検出器８ａ、８ｂ上の中心位置からずれたことを補正することを意味する。このとき、先に記録したビームスポット７１ａ、７１ｂの移動軌跡、アライメントステージ１８を駆動したデータを使用してもよい。もし光検出器８ａ、８ｂの受光領域内にビームスポット７１ａ、７１ｂがない場合には、基板アライメントの際に記録したビームスポット７１ａ、７１ｂの移動軌跡を解析してビームスポット７１ａ、７１ｂを光検出器上８上に移動させるための情報とする。すなわち、ビームスポット７１ａ、７１ｂの移動軌跡を逆に辿るように光源取付機構部５ａ、５ｂを駆動することにより、ビームスポット７１ａ、７１ｂを光検出器８ａ、８ｂの受光領域上に来るようにすることができる。
【００５８】
次に、ステップＳ５で、Ｙ軸駆動モータ４を駆動してスクリューシャフト３等を介して、ガラス基板１を搭載したテーブル２をＹ軸方向に搬送する。これにより、被処理物としてのガラス基板１が処理部１４のインクジェットヘッド１４ａの直下をＹ軸方向へ移動することになる。このＹ軸方向の搬送の間、ステップＳ６に示すように、光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂの位置変化を常時検出することとする。
【００５９】
すると、上記光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂの位置の変化により、ガラス基板１を搬送しているテーブル２のＸＹ平面内での変位を検出することが可能となる。すなわち、搬送開始時には、光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂは光検出器８ａ、８ｂの中心に位置するように調整されていた。このため、搬送開始後のビームスポット７１ａ、７１ｂの移動量はテーブル２の移動量と対応している。したがって、テーブル２の移動量、姿勢を検出することができる。このテーブル２の変位は一般に、ヨーイング、ピッチング、ローリング、また水平真直度、垂直真直度と呼ばれる。もし、光検出器８ａ、８ｂ上でビームスポット７１ａ、７１ｂが変位しないのであれば、上記した様なテーブル２の変位はなく、テーブル２はＹ軸に沿って直進していることになる。
【００６０】
仮に前述したようなテーブル２の変位がおこると、テーブル２に搭載されているガラス基板１も同じように変位し、ガラス基板１上の処理目標１５も変位する。その結果、インクジェットヘッド１４ａとガラス基板１上の処理目標１５との間の位置関係がずれて、インクジェットヘッド１４ａから吐出されたインク（液滴）がガラス基板１上で処理目標１５から外れた箇所に着弾する。つまり、着弾誤差が生じてしまう。
【００６１】
そこで、ステップＳ７では、制御部２２が変位検出部として働いて、光検出器８ａ、８ｂ上でのビームスポット７１ａ、７１ｂの移動量に基づいてガラス基板１上の処理目標１５と実際の着弾箇所との間の位置ずれ量（これを「着弾位置ずれ量」と呼ぶ。）を算出し、その着弾位置ずれ量を相対的に解消するように、処理部１４を駆動すべき駆動量を算出する。
【００６２】
続いてステップＳ８で、前述した処理部１４を駆動すべき駆動量を、光検出器８ａ、８ｂ上でのビームスポット７１ａ、７１ｂの位置情報、テーブル２の位置情報と共に記憶部に記録する。ここで記録したデータを蓄積して統計処理を行う。このようにした場合、この統計処理の結果を、テーブル２の変位の監視に使用することが可能となる。すなわち、経年変化によるステージ移動精度の劣化などを監視することが可能となる。また、テーブル２の変位にばらつきが無いようであれば、記録したデータに基づき処理部１４を駆動することが可能となる。
【００６３】
次に、ステップＳ９で、上記算出された駆動量に基づいて処理部１４を駆動する。
【００６４】
その後、ステップＳ１０で、インクジェットヘッド１４ａによってガラス基板１上を処理する。具体的には、インクジェットヘッド１４ａによる液滴塗布処理を行う。
【００６５】
次に、図４〜図５を用いて、テーブル２がヨーイング変位した場合を例として、基板上の処理目標１５からの位置ずれ量の算出の仕方について説明する。これらの図には、図１におけるガラス基板１、レーザ光源６ａおよび６ｂ、レーザビーム７ａおよび７ｂ、光検出器８ａおよび８ｂ、ビームスポット７１ａおよび７１ｂが模式的に示されている。また、光検出器８ａ、８ｂ（の受光領域）の中心はそれぞれＯ８ａ、Ｏ８ｂと表されている。
【００６６】
図４（ａ）に示すように、この装置のところに搬入されたガラス基板１に対して基板アライメントを実施した後、光源取付機構部５ａ、５ｂを駆動することによって、テーブル２上に取り付けられた２つのレーザ光源６ａ、６ｂによるビームスポット７１ａ、７１ｂが光検出器８ａ、８ｂの中心Ｏ８ａ、Ｏ８ｂにそれぞれ位置調整された状態となる。その状態から、ガラス基板１がテーブル２とともにＹ軸方向に搬送される。
【００６７】
このＹ軸方向の搬送の間、ＸＹ平面上で搬送に伴うガラス基板１のＹ軸方向の変位以外の変位が無い場合、図４（ａ）の状態が維持される。すなわち、２つのレーザ光源６ａ、６ｂによるビームスポット７１ａ、７１ｂが光検出器８ａ、８ｂの中心Ｏ８ａ、Ｏ８ｂにそれぞれ存在する状態が維持される。
【００６８】
一方、Ｙ軸方向の搬送の間、ＸＹ平面上で搬送に伴ってガラス基板１がヨーイング変位を起こしたものとする。図４（ｂ）の例では、光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂはそれぞれｘａ１、ｘｂ１の変位を起こしている。
【００６９】
ここで、図５（ａ）に示すように、２つの座標系を使用する。１つの座標系は、この液滴塗布装置の光検出器８ｂの中心Ｏ８ｂを原点とするＸＹ座標系である。もう１つの座標系は、ガラス基板１上の点（図５（ａ）において左下隅の点）１ａを原点とするＵＶ座標系である。ここでＵＶ座標系の原点１ａは、アライメントマークなどを基準とする点であり、処理目標を特定する座標系である。ガラス基板１の原点１ａは、ＵＶ座標系では（０，０）であるが、ＸＹ座標系では（ｘ０，ｙ０）となる。つまり、ＵＶ座標系はＸＹ座標系をＸ方向にｘ０、Ｙ方向にｙ０平行移動したものである。処理目標１５ａの座標をＵＶ座標系で（ｕ，ｖ）、ＸＹ座標系で（ｘ，ｙ）とそれぞれ表すものとすると、それらの関係は次式の通りである。
【数１】
この式に基づいて、基板上の処理目標１５ａのＵＶ座標は、ＸＹ座標系の座標から算出することができる。逆に、ＵＶ座標からＸＹ座標を算出することも可能である。今後の演算についてはＸＹ座標系で説明する。
【００７０】
今、図４（ａ）に示すテーブル２上の処理目標１５ａ（その座標を（ｘ，ｙ）とする。）がヨーイング変位により図４（ｂ）の位置１５ｂ（その座標を（ｘ’，ｙ’）とする。）に変位したとする。このとき、２つの光検出器８ａ、８ｂ上でビームスポット７１ａ、７１ｂの位置がそれぞれｘａ１、ｘｂ１に変位したとする。もし、ヨーイング変位が無ければ、ｘａ１＝０、ｘｂ１＝０である。したがって、変位後のｘａ１、ｘｂ１をそれぞれ０になるようにテーブル２を移動させると、ヨーイングによる各点の変位量を求めることができる。
【００７１】
ヨーイング変位後の座標（ｘ’、ｙ’）とヨーイング前の座標（ｘ、ｙ）との関係について説明する。まず、ビームスポット７１ａ、７１ｂの変位量ｘａ１、ｘｂ１と、光検出器８ａ、８ｂ間の距離ｙｎから、テーブル２の回転角度θは次式で算出できる（なお、ａｔａｎ｛｝はｔａｎ｛｝の逆関数である。）。
θ＝ａｔａｎ｛（ｘａ１−ｘｂ１）／ｙｎ｝
【００７２】
次に、図５（ｂ）に示すように、光検出器８ｂ上のビームスポット７１ｂが座標原点Ｏ８ｂに来るようにＸ軸方向に水平移動させる。このとき、処理目標１５ｂ、座標（ｘ’、ｙ’）は次式のように変化する。
（ｘ’−ｘｂ１，ｙ’）
【００７３】
さらに、−θの回転を加えると、ヨーイング前の座標（ｘ、ｙ）に一致する。すなわち、次式が成り立つ。
【数２】
この式を（ｘ’、ｙ’）について解くと、次式が成り立つ。
【数３】
【００７４】
したがって、処理目標１５ａ、座標（ｘ、ｙ）での変位量（Δｘ、Δｙ）は、次式によって求めることができる。
【数４】
【００７５】
制御部２２は、上述の式に基づいて変位量Δｘを算出する。そして、制御部２２は変位補正部として働いて、その変位量Δｘを相対的に解消するように、処理部１４を駆動すべき駆動量を算出する。Ｘ軸方向に関しては、この駆動量だけ処理部１４を駆動すれば、テーブル２のヨーイング変位によって生じる着弾位置ずれを補正することできる。
【００７６】
また、Ｙ軸方向に関しては、ステージ２のヨーイングで生じた変位Δｙについては、制御部２２は、その変位量Δｙに応じて処理部１４のインクジェットヘッド１４ａによる液滴吐出タイミングを変更する。これにより、Ｙ軸方向に関して着弾位置ずれを補正する。
【００７７】
このようにした場合、上記Ｙ軸方向の搬送によるテーブル２の変位、つまり搬送誤差を適切に補正でき、搬送精度を向上できる。また、逆に言えば、その分だけ搬送部の搬送精度を低くしても良いので、Ｙ軸駆動モータ４を含む搬送部を安価に構成することが可能になる。この利点は、ガラス基板１のような被処理物が大型化して、製品の品質を高めるために搬送部の搬送精度に対する要求が高まり、搬送部が高価格となっている近年の状況下では、極めて有益である。
【００７８】
上述の図３（ａ）の処理フローでは、ステップＳ６で「光検出器上のビーム移動を検出」し、ステップＳ７で「処理部の駆動量を算出」し、ステップＳ８で「ビームスポット位置、テーブル位置、駆動データを記録」している。
【００７９】
これらの記録したデータの活用法の１つは、ステップＳ８で記録した所定のテーブル位置毎に、ビームスポット位置、駆動データを蓄積して、現在のデータと比較することである。これにより、テーブル搬送の繰り返し精度を得ることができる。
【００８０】
また、テーブル搬送の繰り返し精度が高い場合には、所定のテーブル位置でのビームスポット位置、駆動データはほぼ同じになる。したがって、図３（ｂ）の処理フローに示すように、テーブル搬送毎に処理部の駆動量を算出（図３（ａ）中のステップＳ７）する必要がなくなる。
【００８１】
具体的には、図３（ｂ）中のステップＳ１１〜Ｓ１６は図３（ａ）中のステップＳ１〜Ｓ６と同様に進める。図３（ｂ）中のステップＳ１７において、処理部１４を駆動すべき駆動量を記憶部から読み出して、その駆動量だけ処理部１４を駆動する。その後、図３（ｂ）中のステップＳ１８〜Ｓ１９は図３（ａ）中のステップＳ９〜Ｓ１０と同様に進める。
【００８２】
このようにした場合、上記テーブル２の変位をより高速に補正することが可能となる。さらには、データを蓄積して現行データと比較することにより、経年変化を調べることが可能となる。その経年変化に関する情報は、搬送装置のメンテナンス時期の予測などに活用できる。
【００８３】
上述の図４〜図５の例では、光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂのＸ軸方向の変位に着目して、テーブル２のヨーイング変位が起こった場合の着弾位置ずれを補正する方法について説明した。これに対して、次に図６を用いて、テーブル２のヨーイング変位のみならず、ピッチング、水平シフト、垂直シフトを検出して補正する例について説明する。この方法では、光検出器としてのＣＣＤエリアセンサ８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂのＸ軸方向およびＺ軸方向の変位に着目する。
【００８４】
図６（ａ）はＣＣＤエリアセンサ８ａ上に集光されるビームスポット７１ａの様子を表し、また、図６（ｂ）はＣＣＤエリアセンサ８ｂ上に集光されるビームスポット７１ａの様子を表している。なお、図６（ａ）、図６（ｂ）ではＣＣＤエリアセンサ８ａ、８ｂの受光領域が矩形枠で示されている。図６（ａ）ではビームスポット７１ａはＸ軸方向にｘａ１、Ｚ軸方向にｚａ１だけ変位している。一方、図６（ｂ）ではビームスポット７１ｂはＸ軸方向にｘｂ１、Ｚ軸方向にｚｂ１だけ変位している。
【００８５】
この例でも、ヨーイング変位については、図４〜図５を用いて説明したのと同様に、ビームスポット７１ａ、７１ｂのＸ軸方向の変位ｘａ１、ｘｂ１を使って処理部１４を駆動すべき駆動量を算出して、補正する。
【００８６】
また、図６中に示すビームスポット７１ａ、７１ｂのＺ軸方向の変位ｚａ１、ｚｂ１と、処理目標１５の座標（ｘ、ｙ）とを使うことにより、処理目標（ｘ、ｙ）でのＺ軸方向の変位を算出することができる。具体的には、前述したヨーイングにおける角度θの算出式において、ｘａ１、ｘｂ１をそれぞれｚａ１、ｚｂ１で置き換えることにより、ピッチングの角度を算出できる。また、処理目標（ｘ、ｙ）でのＺ軸方向の変位についても、ｘａ１、ｘｂ１をそれぞれｚａ１、ｚｂ１で置き換えることにより、算出できる。ここで算出されたＺ軸方向の変位を補正する方法は、処理目標（ｘ、ｙ）でのＺ軸方向の変位に応じて、それを相対的に解消するように制御部２２での処理タイミングを変化させることである。つまり、テーブル２の変位によりインクジェットヘッド１４ａとガラス基板１との間の距離がΔｚだけ短くなるように変位したのであれば、液滴の吐出速度ｖ０とすると、着弾までの時間は（Δｚ／ｖ０）だけ短くなる。このため、テーブル２の搬送速度が一定ｖｔであるなら、着弾位置ずれとしてｖｔ・（Δｚ／ｖ０）を生じる。これを補正するには、短くなった時間分だけ、すなわち（Δｚ／ｖ０）分だけ処理タイミング、つまり液滴吐出タイミングを早くするように制御すればよいことになる。
【００８７】
また、上述の例では、光検出器８ａ、８ｂはＣＣＤエリアセンサからなるものとした。当然ながら、これに限られるものではない。各光検出器８ａ、８ｂはＣＣＤラインセンサからなっていても良い。その場合、各ＣＣＤラインセンサを水平方向に延在する配置としておけば、テーブル２のヨーイング変位、水平面内で搬送方向に対して垂直な方向のシフト変位などの水平方向の変位量を、各ＣＣＤラインセンサ上の光スポットの変位量として検出することが可能である。
【００８８】
また、光検出器８ａ、８ｂはフォトディテクタからなっていても良い。次に図７を用いて、光検出器としてフォトディテクタを使用した場合のＸ軸方向およびＺ軸方向の変位の検出の仕方について説明する。
【００８９】
図７（ａ）は、光検出器８ａとして２分割フォトディテクタを備えた例を示している。この２分割フォトディテクタの受光領域８ａａ、８ａｂは、点Ｏ８ａを通りＺ軸方向に延びる分割線によって左右対称に２分割されている。これらの受光領域８ａａ、８ａｂに跨って上にビームスポット７１ａが照射されている。なお、既にテーブル２がＹ軸方向に駆動されて移動した結果、ビームスポット７１ａの中心が点Ｏ８ａから点（ｘａ１、ｚａ１）に移動している。ここで、受光領域８ａａ、８ａｂの出力信号の間の差分である差信号（８ａｂ−８ａａ）を考える。ビームスポット７１ａが２分割フォトディテクタ上を水平方向（ｘ軸方向）に沿って変位した場合、ビームスポットの中心（ｘａ１、ｚａ１）の移動に伴い、差信号（８ａｂ−８ａａ）の出力は、図７（ｂ）に示す波形となる。この波形を参照すると、２分割フォトディテクタの差信号（８ａｂ−８ａａ）から水平方向の変位量ｘａ１を検出することができる。
【００９０】
また、図７（ｃ）は、光検出器８ａとして４分割フォトディテクタを備えた例を示している。この４分割フォトディテクタの受光領域８ａａ、８ａｂ、８ａｃ、８ａｄは、点Ｏ８ａを通りＸ軸方向、Ｚ軸方向に延びる分割線によって田の字型に４分割されている。これらの受光領域８ａａ、８ａｂ、８ａｃ、８ａｄに跨ってビームスポット７１ａが照射されている。なお、既にテーブル２がＹ軸方向に駆動されて移動した結果、ビームスポット７１ａの中心が点Ｏ８ａから点（ｘａ１、ｚａ１）に移動している。ここで、受光領域ａａ、８ａｂ、８ａｃ、８ａｄのそれぞれの出力信号から、水平方向の差信号｛（８ａｂ＋８ａｄ）−（８ａａ＋８ａｃ）｝、垂直方向の差信号｛（８ａａ＋８ａｂ）−（８ａｃ＋８ａｄ）｝を考える。ビームスポット７１ａが上記４分割フォトディテクタ上を水平方向（ｘ軸方向）に沿って変位した場合、ビームスポット中心（ｘａ１、ｚａ１）の移動に伴い水平方向の差信号｛（８ａｂ＋８ａｄ）−（８ａａ＋８ａｃ）｝の出力は、図７（ｄ）に示す波形となる。この波形を参照すると、４分割フォトディテクタの水平方向の差信号｛（８ａｂ＋８ａｄ）−（８ａａ＋８ａｃ）｝から水平方向の変位量ｘａ１を検出することができる。また、ビームスポット７１ａが上記４分割フォトディテクタ上を垂直方向（ｚ軸方向）に沿って変位した場合、ビームスポット中心（ｘａ１、ｚａ１）の移動に伴い垂直方向の差信号｛（８ａａ＋８ａｂ）−（８ａｃ＋８ａｄ）｝の出力は、図７（ｅ）に示す波形となる。この波形を参照すると、４分割フォトディテクタの垂直方向の差信号｛（８ａａ＋８ａｂ）−（８ａｃ＋８ａｄ）｝から垂直方向の変位量ｚａ１を検出することができる。
【００９１】
なお、光源としてのレーザ光源６ａ、６ｂを間欠的に駆動することにより、レーザ光源６ａ、６ｂの長寿命化を図ることができる。光検出器８ａ、８ｂでのビームスポット７１ａ、７１ｂの位置検出を行い、処理部の駆動量を算出するには、ある程度の時間を要する。また、テーブル２など可動部の質量は比較的大きいため、急激な変位は少ないと考えられる。このようなことから、レーザ光源６ａ、６ｂを常時点灯しておく必要はない。むしろ、テーブル２の最も早い変位の２倍以上の周波数で発光させ、そのときのビームスポット７１ａ、７１ｂを光検出器８ａ、８ｂにて検出すれば十分である。
【００９２】
また、上述の例では、門型構造物１２に１つの処理部１４が取り付けられているが、当然ながら、複数の処理部が取り付けられていても良い。複数の処理部によって処理箇所を分担すれば、処理時間の短縮を図ることができる。
【００９３】
また、上述の例では、定盤１０上で、処理部１４を搭載した門型構造物１２に対して、被処理物としてのガラス基板１を搭載したテーブル２がＹ軸方向に駆動されて移動する構成になっている。当然ながら、これに限られるものではない。逆に、定盤１０上に固定的に載置された被処理物としてのガラス基板１に対して、処理部１４を搭載した門型構造物１２がＹ軸方向に駆動されて移動する構成になっていても良い。この場合、光源としてのレーザ光源６ａ、６ｂは、テーブル２ではなく、門型構造物１２に取り付けられる。光検出器８ａ、８ｂは、定盤１０上で、それぞれ門型構造物１２に取り付けられたレーザ光源６ａ、６ｂからのレーザビームを受けるように配置される。
【００９４】
この実施形態では、本発明の搬送装置をインクジェット方式の液滴塗布装置に適用した。しかしながら、当業者ならば分かるように、本発明の搬送装置は、液滴塗布装置に限られず、他の様々な用途に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】この発明の搬送装置を適用した一実施形態の液滴塗布装置を上方から見たところを示す図である。
【図２】上記液滴塗布装置を側方から見たところを示す図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ上記液滴塗布装置を動作させる処理フローを示す図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）は上記液滴塗布装置上のガラス基板の変位を示す図である。
【図５】（ａ）、（ｂ）は上記液滴塗布装置上のガラス基板の変位を示す図である。
【図６】（ａ）、（ｂ）は上記液滴塗布装置の光検出器としてのＣＣＤエリアセンサ上のビームスポットを示す図である。
【図７】（ａ）は上記液滴塗布装置の光検出器としての２分割フォトディテクタ上のビームスポットを示す図、（ｂ）はその２分割フォトディテクタによる出力を示す図、（ｃ）は上記液滴塗布装置の光検出器としての４分割フォトディテクタ上のビームスポットを示す図、（ｄ）および（ｅ）はその４分割フォトディテクタによる出力を示す図である。
【図８】従来のテーブル移動誤差測定装置におけるテーブルの移動誤差を検出する仕方を説明する図である。
【図９】従来のテーブル移動誤差測定装置を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００９６】
１ ガラス基板
２ テーブル
４ Ｙ軸駆動モータ
５ａ、５ｂ 光源取付機構部
６ａ 第１レーザ光源
６ｂ 第２レーザ光源
７ａ、７ｂ レーザビーム
８ａ、８ｂ 光検出器
９ａ、９ｂ 取付台
１０ 定盤
１１ 除振台
１２ 門型構造物
１３ スライダ
１４ 処理部
１４ａ インクジェットヘッド
２０ スケール
２１ エンコーダ検出器
【技術分野】
【０００１】
この発明は、被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置に関する。
【０００２】
また、この発明は、そのような搬送装置よって被処理物と処理部とを相対移動させる場合に、搬送精度を向上できる搬送誤差補正方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
近年、大画面液晶ディスプレイの普及に伴って、その製造工場では、ガラス基板のような平板状の被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す処理部とを相対移動させる搬送装置が広く用いられている。この種の搬送装置を用いれば、比較的小型で安価な処理部を用いて、被処理物の略全体を処理することができる。被処理物と処理部とを相対移動させる方法としては、被処理物をＹ方向に移動させながら処理部をＸ方向に移動させる方法と、被処理物を固定し処理部をＸ、Ｙ方向に移動させる方法との２つが代表的である。
【０００４】
例えば特許文献１（特開平９−３０８９７８号公報）には、図９に示すような、前者の方法を実行する装置が開示されている。この装置は、概ね、ＸＹ平面に置かれた定盤１２２と、定盤１２２の上面に敷設されたＹ方向に延びる一対のガイド１２９、１２９と、ガイド１２９、１２９上にＹ方向に往復移動可能に設けられたテーブル１２３と、定盤１２２上にガイド１２９、１２９をまたぐ態様で架設された架台１２４と、架台１２４上にＸ方向に往復移動可能に設けられた処理部としての記録ヘッド１２５とを備えている。
【０００５】
テーブル１２３上には、感光剤が塗布されたガラス製の乾板からなる感光材料１２６が被処理物として載置されている。このテーブル１２３は、同期ベルト１２７を介してＹ軸駆動モータ１２８と連結されており、Ｙ方向に延びる一対のガイド１２９に案内されることによりＹ方向に往復移動する。
【０００６】
記録ヘッド１２５は、ボールネジ１３４を介してＸ軸駆動モータ１３５と連結されており、Ｘ軸駆動モータ１３５の駆動によりＸ方向に往復移動する。そして、記録ヘッド１２５のＸ方向の位置はＸ軸測長器（図示しない）により計測されている。また、記録ヘッド１２５には、感光材料１２６に画像を記録するための光学系１３６が配設されている。
【０００７】
さらに、テーブル１２３の下縁に移動誤差測定用のレーザ光源１３３が取り付けられている。一方、テーブル１２３の下方の定盤１２２上に、そのレーザ光源１３３から照射されるレーザビーム１０１を受光するＣＣＤ１３７が搭載されている。
【０００８】
動作時には、先ず、レーザ光源１３３を点灯し、レーザビーム１０１をＹ方向に出射させる。この状態において、テーブル１２３をＹ方向に移動させると共に、レーザビーム１０１の位置をＣＣＤ１３７により測定する。そして、ＣＣＤ１３７により測定されたレーザビーム１０１の位置データと、Ｙ軸測長器（図示しない）により測定されたテーブル１２３のＹ座標値のデータとを対応づけて、制御部（図示しない）に記憶する。これにより、テーブル１２３のＹ方向への移動に伴う移動誤差が測定される。ここで記録した移動誤差を制御に使用することにより、精度向上を図っている。
【特許文献１】特開平９−３０８９７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上述の装置では、テーブル１２３のＹ方向への移動に伴う移動誤差のうち、テーブル１２３のＸＹ平面内での回転変位（ＸＹ軸に対する角度の変化）と水平変位（Ｘ方向への平行移動）とを区別することができないという問題がある。この問題を、図８を用いて説明する。図８（ａ）に示すように、テーブル１２３の移動誤差が無い状態では、レーザ光源１３３より照射されたビームスポット１０１ａがＣＣＤ１３７の中心Ｏに一致している。図８（ｂ）は、テーブル１２３（したがって、それに取り付けられたレーザ光源１３３）が角度Θだけ回転変位したことにより、ＣＣＤ１３７上のビームスポット１０１ａが点１０１ｂに変位（Ｘ方向変位）した様子を示している。また、図８（ｃ）は、テーブル１２３（したがって、それに取り付けられたレーザ光源１３３）が水平変位したことにより、ＣＣＤ１３７上のビームスポット１０１ａが点１０１ｂに変位（Ｘ方向変位）した様子を示している。図８（ｂ）と図８（ｃ）とを比較した場合、ＣＣＤ１３７上で検出できる変位量（誤差量）は両者とも一致しているが、その発生要因は回転変位と水平変位とで互いに異なる。このため、制御部では、移動誤差を補正しようとしても、回転変位による誤差であるのか、水平変位による誤差であるのかを区別することができず、したがって適正な補正を行うことができない。
【００１０】
そこで、この発明の課題は、被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置であって、安価に搬送精度を向上できるものを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、この発明の搬送装置は、被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置であって、
定盤と、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物が載置されるテーブルと、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物に対向し得るように上記処理部を支持する構造物と、
上記テーブルに取り付けられた複数の光源と、
上記各光源にそれぞれ対応して上記定盤上に設けられ、それぞれ対応する光源からの光を受けて上記光の位置ずれを表す信号を出力する複数の光検出器と、
上記定盤上で上記テーブルを少なくとも一方向に搬送して、上記テーブルと上記処理部とを相対移動させる搬送部と、
上記一方向に関して上記定盤上での上記テーブルの搬送位置を検出する搬送位置検出部と、
上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記テーブルの変位を検出する変位検出部と、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する変位補正部を備えたことを特徴とする。
【００１２】
この発明の搬送装置では、変位検出部は、上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記テーブルの変位を検出する。そして変位補正部は、上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する。このようにした場合、上記搬送部による搬送誤差を適切に補正でき、搬送精度を向上できる。また、逆に言えば、その分だけ搬送部の搬送精度を低くしても良いので、搬送部を安価に構成することが可能になる。この利点は、被処理物が大型化して、製品の品質を高めるために搬送部の搬送精度に対する要求が高まり、搬送部が高価格となっている近年の状況下では、極めて有益である。
【００１３】
一実施形態の搬送装置では、上記テーブルが上記一方向に関して基準位置にあるとき、上記各光源からの光が上記光検出器の受光領域内の基準位置に入射するように、上記各光源と上記テーブルとの間に上記光源の光出射方向を変更し得る光源取付機構部を備えたことを特徴とする。
【００１４】
この一実施形態の搬送装置では、例えば上記搬送部による搬送開始の直前、つまり上記テーブルが上記一方向に関して基準位置にあるとき、上記各光源からの光が上記光検出器の受光領域内の基準位置に入射するように、上記光源取付機構部によって、各光源の光出射方向がそれぞれ変更され得る。したがって、例えば上記テーブルが上記一方向に関して基準位置にあるとき、上記各光源からの光が対応する光検出器の受光領域内の基準位置に入射するように、容易に調節できる。そのようにした場合、上記搬送部による搬送開始後に、上記変位検出部が上記テーブルの変位を容易に検出できる。
【００１５】
一実施形態の搬送装置では、
上記複数の光源として第１光源と第２光源との２つが設けられ、
上記第１光源と第２光源は上記一方向に関して互いに反対向きに光を出射し、
上記第１光源、第２光源にそれぞれ対応して、上記複数の光検出器として第１光検出器、第２光検出器が設けられていることを特徴とする。
【００１６】
この一実施形態の搬送装置では、上記第１光源と第２光源は上記一方向に関して互いに反対向きに光を出射する。この結果、上記定盤上の上記搬送位置での上記テーブルの変位が水平移動（水平面内での平行移動）の場合と回転移動の場合とで、光検出器上の光の移動方向が異なる。したがって、上記変位検出部は両者を区別して検出することが可能となる。したがって、変位補正部は、上記テーブルの変位を容易に適切に補正できる。
【００１７】
一実施形態の搬送装置では、上記光源は上記テーブルの両側に配置されていることを特徴とする。
【００１８】
この一実施形態の搬送装置では、上記光源は上記テーブルの両側に配置されているので、上記テーブルの重量バランスの偏りがなくなり、姿勢が安定化する。この結果、上記搬送部による搬送に伴った上記テーブルの変位が生じにくくなる。
【００１９】
一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器は２分割フォトディテクタからなることを特徴とする。
【００２０】
この一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器は２分割フォトディテクタからなるので、上記テーブルのヨーイング変位、水平面内で搬送方向に対して垂直な方向のシフト変位など水平方向の変位をリアルタイムで検出することができる。例えば、２分割フォトディテクタを分割線が鉛直方向に延びる配置とし、光源からの光が２分割フォトディテクタの各受光領域に跨って照射されるように設定する。このようにした場合、２分割フォトディテクタの水平方向に並ぶ受光領域間の出力差が上記テーブルの水平方向の変位量に対応する。
【００２１】
一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器は４分割フォトディテクタからなることを特徴とする。
【００２２】
この一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器は４分割フォトディテクタからなるので、上記テーブルのヨーイング変位、水平面内で搬送方向に対して垂直な方向のシフト変位などの水平方向の変位、ピッチング変位などの垂直方向の変位をリアルタイムで検出することができる。例えば、４分割フォトディテクタの分割線が鉛直方向と水平方向にそれぞれ延びる配置とし、光源からの光が４分割したフォトディテクタの各受光領域に跨って照射されるように設定する。このようにした場合、４分割フォトディテクタの各受光領域のうち、水平方向に並ぶ受光領域間の出力差が水平方向の変位量に対応し、垂直方向に並ぶ受光領域間の出力差が垂直方向の変位量に対応する。
【００２３】
一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器はＣＣＤラインセンサからなることを特徴とする。
【００２４】
この一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器はＣＣＤラインセンサからなる。各ＣＣＤラインセンサを水平方向に延在する配置としておけば、上記テーブルのヨーイング変位、水平面内で搬送方向に対して垂直な方向のシフト変位などの水平方向の変位量を、上記各ＣＣＤラインセンサ上の光スポットの変位量として検出することが可能である。
【００２５】
一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器はＣＣＤエリアセンサからなることを特徴とする。
【００２６】
この一実施形態の搬送装置では、上記各光検出器はＣＣＤエリアセンサからなるので、上記テーブルのヨーイング変位、水平面内で搬送方向に対して垂直な方向のシフト変位などの水平方向の変位量に加えて、ピッチング変位などの垂直方向の変位をも、上記各ＣＣＤエリアセンサ上の光スポットの変位量として検出することが可能である。
【００２７】
一実施形態の搬送装置では、上記位置検出部が出力した上記テーブルの搬送位置と、その搬送位置での上記テーブルの変位とを対応させて、ディジタル情報として記録する記憶部を備えたことを特徴とする。
【００２８】
上記搬送部による搬送に伴った上記テーブルの変位が再現性をもつ（繰り返し精度が高い）場合には、上記テーブルの変位を予測することができる。そこで、この一実施形態の搬送装置では、上記位置検出部が出力した上記テーブルの搬送位置と、その搬送位置での上記テーブルの変位とを対応させて、記憶部にディジタル情報として記録する。これにより、上記変位補正部が上記記憶部の記録内容を参照して上記処理部を制御することによって、上記テーブルの変位をより高速に補正することが可能となる。さらには、データを蓄積して現行データと比較することにより、経年変化を調べることが可能となる。その経年変化に関する情報は、搬送装置のメンテナンス時期の予測などに活用できる。
【００２９】
一実施形態の搬送装置では、上記光源を間欠的に発光させることを特徴とする。
【００３０】
光源を常時点灯させておくと、熱の影響などで性能劣化、寿命短縮などの悪影響を及ぼす可能性がある。そこで、この一実施形態の搬送装置では、例えばあまり緩慢にならない程度に、つまり、上記搬送部による搬送速度を考慮して上記テーブルの変位に関する必要な情報が得られる限り、光源を間欠的に発光させる。これにより、光源の長寿命化を図ることが可能となる。また、消費電力の削減にも寄与する。
【００３１】
別の局面では、この発明の搬送装置は、被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置であって、
定盤と、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物が載置されるテーブルと、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物に対向し得るように上記処理部を支持する構造物と、
上記構造物に取り付けられた複数の光源と、
上記各光源にそれぞれ対応して上記定盤上に設けられ、それぞれ対応する光源からの光を受けて上記光の位置ずれを表す信号を出力する複数の光検出器と、
上記定盤上で上記構造物を少なくとも一方向に搬送して、上記テーブルと上記処理部とを相対移動させる搬送部と、
上記一方向に関して上記定盤上での上記構造物の搬送位置を検出する搬送位置検出部と、
上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記構造物の変位を検出する変位検出部と、
上記変位検出部が検出した上記構造物の変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する変位補正部を備えたことを特徴とする。
【００３２】
この発明の搬送装置では、変位検出部は、上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記構造物の変位を検出する。そして変位補正部は、上記変位検出部が検出した上記構造物の変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する。このようにした場合、上記搬送部による搬送誤差を適切に補正でき、搬送精度を向上できる。また、逆に言えば、その分だけ搬送部の搬送精度を低くしても良いので、搬送部を安価に構成することが可能になる。この利点は、被処理物が大型化して、製品の品質を高めるために搬送部の搬送精度に対する要求が高まり、搬送部が高価格となっている近年の状況下では、極めて有益である。
【００３３】
この発明の搬送誤差補正方法は、上記発明の搬送装置によって被処理物と処理部とを相対移動させる場合に、搬送による上記テーブルの変位を補正する搬送誤差補正方法であって、
上記定盤の上面に沿った水平面内にＸＹ座標を設定し、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記被処理物上の目標位置のＸ軸方向の変位ΔｘおよびＹ軸方向の変位Δｙを求め、
上記Ｘ軸方向の変位Δｘを相対的に解消するように上記処理部を上記構造物上でＸ軸方向に変位させるとともに、上記Ｙ軸方向の変位Δｙに応じて上記処理部による処理タイミングを変更することを特徴とする。
【００３４】
この発明の搬送誤差補正方法によれば、上記搬送部による搬送誤差、ここでは上記Ｘ軸方向の変位Δｘおよび上記Ｙ軸方向の変位Δｙを適切に補正できる。したがって、搬送精度を向上できる。また、逆に言えば、その分だけ搬送部の搬送精度を低くしても良いので、搬送部を安価に構成することが可能になる。
【００３５】
別の局面では、この発明の搬送誤差補正方法は、一実施形態の搬送装置によって被処理物と処理部とを相対移動させる場合に、搬送による上記テーブルの変位を補正する搬送誤差補正方法であって、
上記定盤の上面に沿った水平面内にＸＹ座標を設定するとともに、上記ＸＹ座標に鉛直方向のＺ座標を加えたＸＹＺ座標を設定し、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記被処理物上の目標位置のＸ軸方向の変位Δｘ、Ｙ軸方向の変位ΔｙおよびＺ軸方向の変位Δｚを求め、
上記Ｘ軸方向の変位Δｘを相対的に解消するように上記処理部を上記構造物上でＸ軸方向に変位させるとともに、上記Ｙ軸方向の変位ΔｙおよびＺ軸方向の変位Δｚに応じて上記処理部による処理タイミングを変更することを特徴とする。
【００３６】
この発明の搬送誤差補正方法によれば、上記搬送部による搬送誤差、ここでは上記被処理物上の目標位置のＸ軸方向の変位Δｘ、Ｙ軸方向の変位ΔｙおよびＺ軸方向の変位Δｚを適切に補正できる。したがって、搬送精度を向上できる。また、逆に言えば、その分だけ搬送部の搬送精度を低くしても良いので、搬送部を安価に構成することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００３８】
図１、図２は、本発明の搬送装置を適用した一実施形態のインクジェット方式の液滴塗布装置を、それぞれ上方、側方から見たところを示している。なお、同じ構成要素には同じ参照符号を付している。
【００３９】
この種のインクジェット方式の液滴塗布装置は、液晶パネル等を構成するカラーフィルタを製造するために好適に用いられる。液晶パネル等に用いられるカラーフィルタとは、ガラス基板上でブラックマトリクスにより区切られた領域（画素）に形成される（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各色の薄膜を意味している。このようなカラーフィルタは、撥液性を有したブラックマトリクスによって区切られた親液性の領域に、処理部としてのインクジェットヘッドによってＲ、Ｇ、Ｂ各色の液体材料をそれぞれ吐出し硬化させる方法（インクジェット方式）によって製造される。このカラーフィルタの画素は、幅２００μｍ程度の高精細であることが要求される。それを実現するためには、インクジェットヘッドから吐出されたインクが１０μｍ以下の着弾精度を有することが要求される。
【００４０】
図１、図２に示すように、この液滴塗布装置は、概ね、除振台１１と、除振台１１のＸＹ平面に沿った上面に置かれた定盤１０と、定盤１０の上面に敷設されたＹ軸方向に延びる一対のガイドレール３ａ、３ａと、ガイドレール３ａ、３ａの上方にＹ軸方向に往復移動可能に設けられたテーブル２と、定盤１０上にガイドレール３ａ、３ａをまたぐ態様で架設された門型構造物１２と、門型構造物１２上にＸ軸方向に往復移動可能に設けられた処理部１４と、この装置全体の制御を行う制御部２２とを備えている。
【００４１】
テーブル２のＸＹ平面に沿った上面には、被処理物としての平板状のガラス基板１が置かれている。このテーブル２は、スクリューシャフト３等を介してＹ軸駆動モータ４と連結されている。テーブル２は、Ｙ軸駆動モータ４による駆動に伴って、Ｙ軸方向に延びる一対のガイドレール３ａ、３ａに案内されて、Ｙ軸方向に往復移動する。この例では、Ｙ軸駆動モータ４、スクリューシャフト３が搬送部を構成する。なお、ＸＹ平面内でテーブル２をガラス基板１とともに細かく位置調整するアライメント位置調整機構については後述する。
【００４２】
なお、テーブル２のＹ軸方向への駆動方式として、ガイド軸を設けてスライドさせる方式を採用することもできる。
【００４３】
また、この例ではテーブル２のＹ軸方向に沿った一対の側面に、それぞれ光源取付機構部５ａ、５ｂを介して光源としての第１レーザ光源６ａ、第２レーザ光源６ｂが取り付けられている。手前の第１レーザ光源６ａからは平行光であるレーザビーム７ａが＋Ｙ軸方向に出射される。第２レーザ光源６ｂからは平行光であるレーザビーム７ｂが−Ｙ軸方向に出射される。レーザ光源６ａ、６ｂはテーブル２の両側に配置されているので、テーブル２の重量バランスの偏りがなくなり、姿勢が安定化する。この結果、上記Ｙ軸駆動モータ４を含む搬送部による搬送に伴った上記テーブルの変位が生じにくくなる。
【００４４】
定盤１０の上面において、第１レーザ光源６ａが出射したレーザビーム７ａが照射されるべき位置に、取付台９ａを介して第１光検出器８ａが搭載され、また、第２レーザ光源６ｂが出射したレーザビーム７ｂが照射されるべき位置に、取付台９ｂを介して第２光検出器８ｂが搭載されている。第１光検出器８ａ、第２光検出器８ｂはそれぞれ矩形の受光領域を有するＣＣＤエリアセンサからなる。取付台９ａ、９ｂはそれぞれ定盤１０に固定されている。レーザ光源６ａ、第２レーザ光源６ｂがそれぞれ出射したレーザビーム７ａ、７ｂは、第１光検出器８ａ、第２光検出器８ｂの受光領域にそれぞれビームスポット７１ａ、７１ｂとして集光される。
【００４５】
このような配置の結果、定盤１０上のテーブル２の変位が水平移動（水平面内での平行移動）の場合と回転移動の場合とで、光検出器８ａ、８ｂ上の光の移動方向が異なる。したがって、両者を区別して検出することが可能となり、テーブル２の変位を容易に適切に補正できるようになる。
【００４６】
なお、このレーザ光源６ａ、６ｂおよび対応する光検出器８ａ、８ｂを取り付けた時点で、それぞれ光軸を合わせるための初期の位置調整（初期アライメント）が行われる。この初期アライメントの方法としては、レーザ光源６ａ、６ｂを点灯し、光源取付機構部５ａ、５ｂによってテーブル２に対するレーザ光源６ａ、６ｂのレーザ出射方向を可変して、ビームスポット７１ａ、７１ｂが光検出器８ａ、８ｂの中心（より詳しくは、受光領域の中心を意味する。以下同様。）に位置するように調整する。このようにした場合、光検出器８ａ、８ｂ内でビームスポット７１ａ、７１ｂの移動量を検出できる範囲が最も広くなるので、望ましい。
【００４７】
図２によって良く分かるように、スクリューシャフト３に嵌合してＹ軸方向に往復移動可能なスライダ１９が設けられている。このスライダ１９上に、ガラス基板１をＸ軸方向、Ｙ軸方向、および回転方向に位置調整するためのアライメント位置調整機構としてアライメントステージ１８が設けられている。既述のテーブル２は、このアライメントステージ１８上に搭載されている。
【００４８】
ガラス基板１の表面の予め定められた複数の箇所にアライメントマーク１７が形成されている（図２中には、簡単のため１箇所のみ示す。）。テーブル２の上方には、そのアライメントマーク１７を撮像するためのアライメント用カメラ１６が設けられている。
【００４９】
ガラス基板１の位置調整を行う場合、まずガラス基板１表面の複数のアライメントマーク１７をそれぞれアライメント用カメラ１６で撮像する。アライメント用カメラ１６の出力は配線２３を通して制御部２２へ送られる。制御部２２は、撮像した画像を所定位置に移動させるべく、上述のアライメントステージ１８をＸ軸方向、Ｙ軸方向、および回転方向に駆動する。その結果、テーブル２上のガラス基板１がＸＹ平面内で所定位置に配置される（初期化）。
【００５０】
また、スライダ１９にはテーブル２のＹ方向の位置を検出するためのエンコーダ検出器２１が取り付けられている。一方、定盤１０にはスケール２０が固定して設けられている。エンコーダ検出器２１は、定盤１０上でテーブル２がアライメントステージ１８やスライダ１９とともにＹ軸方向に往復移動するとき、スケール２０上の位置情報に基づいて、テーブル２のＹ軸方向の位置を検出する。つまり、エンコーダ検出器２１とスケール２０とが搬送位置検出部を構成する。エンコーダ検出器２１の出力は、配線２３を通して制御部２２へ送られる。
【００５１】
処理部１４は、Ｘ軸方向に往復移動可能なスライダ１３を介して門型構造物１２に取り付けられている。処理部１４の底部には、インクジェットヘッド１４ａが突出している。処理部１４は、スライダ１３を介してＸ軸方向に移動されるとともに、インク吐出タイミングに合わせてインクジェットヘッド１４ａからインクを吐出するように、制御部２２によって制御される。この制御に応じて、処理部１４のインクジェットヘッド１４ａからガラス基板１上の処理目標１５へ向けてインクが吐出される。
【００５２】
図３（ａ）は、この液滴塗布装置における処理フローを示している。
【００５３】
まず、ステップＳ１で、この装置のところに搬入されたガラス基板１をテーブル２上に搭載し、公知の吸着などの手法によりテーブル２に固定する。
【００５４】
次に、ステップＳ２で、レーザ光源６ａ、６ｂを点灯し、光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂの位置を検出する。なお、レーザ光源６ａ、６ｂと光検出器８ａ、８ｂとの間で初期アライメントは完了しているものとする。
【００５５】
次に、ステップＳ３で、アライメントステージ１８をＸ軸方向、Ｙ軸方向、および回転方向に駆動して、テーブル２とともにガラス基板１の位置調整すなわち基板アライメントを行う。この基板アライメントでは、テーブル２がＸ軸方向、Ｙ軸方向、および回転方向に駆動される。その結果、ガラス基板１が所定の位置、姿勢となる。そのようにした場合、Ｙ軸駆動モータ４による後述の搬送開始後に、テーブル２の変位を容易に検出できるようになる。
【００５６】
この基板アライメントに伴って、テーブル２に搭載されているレーザ光源６ａ、６ｂはテーブル２と共に移動する。その結果、レーザ光源６ａ、６ｂより照射されるビームスポット７１ａ、７１ｂの位置も光検出器８ａ、８ｂの上で移動することになる。この基板アライメント時にビームスポット７１ａ、７１ｂの移動軌跡を記憶部に記録しておく。また、基板アライメントを実施した際、アライメントステージ１８を駆動したデータを記憶部に記録しておく。ここで記録したビームスポット７１ａ、７１ｂの移動軌跡または、およびアライメントステージ駆動データからビームスポット７１ａ、７１ｂの位置補正を実施する。
【００５７】
次に、ステップＳ４で、前述の基板アライメントにより移動した光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂの位置を検出する。このとき検出されたビームスポット７１ａ、７１ｂの位置を、光検出器８ａ、８ｂの受光領域の中心へ、光源取付機構部５ａ、５ｂを駆動して移動させる。これは前述の基板アライメントによってビームスポット７１ａ、７１ｂが光検出器８ａ、８ｂ上の中心位置からずれたことを補正することを意味する。このとき、先に記録したビームスポット７１ａ、７１ｂの移動軌跡、アライメントステージ１８を駆動したデータを使用してもよい。もし光検出器８ａ、８ｂの受光領域内にビームスポット７１ａ、７１ｂがない場合には、基板アライメントの際に記録したビームスポット７１ａ、７１ｂの移動軌跡を解析してビームスポット７１ａ、７１ｂを光検出器上８上に移動させるための情報とする。すなわち、ビームスポット７１ａ、７１ｂの移動軌跡を逆に辿るように光源取付機構部５ａ、５ｂを駆動することにより、ビームスポット７１ａ、７１ｂを光検出器８ａ、８ｂの受光領域上に来るようにすることができる。
【００５８】
次に、ステップＳ５で、Ｙ軸駆動モータ４を駆動してスクリューシャフト３等を介して、ガラス基板１を搭載したテーブル２をＹ軸方向に搬送する。これにより、被処理物としてのガラス基板１が処理部１４のインクジェットヘッド１４ａの直下をＹ軸方向へ移動することになる。このＹ軸方向の搬送の間、ステップＳ６に示すように、光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂの位置変化を常時検出することとする。
【００５９】
すると、上記光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂの位置の変化により、ガラス基板１を搬送しているテーブル２のＸＹ平面内での変位を検出することが可能となる。すなわち、搬送開始時には、光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂは光検出器８ａ、８ｂの中心に位置するように調整されていた。このため、搬送開始後のビームスポット７１ａ、７１ｂの移動量はテーブル２の移動量と対応している。したがって、テーブル２の移動量、姿勢を検出することができる。このテーブル２の変位は一般に、ヨーイング、ピッチング、ローリング、また水平真直度、垂直真直度と呼ばれる。もし、光検出器８ａ、８ｂ上でビームスポット７１ａ、７１ｂが変位しないのであれば、上記した様なテーブル２の変位はなく、テーブル２はＹ軸に沿って直進していることになる。
【００６０】
仮に前述したようなテーブル２の変位がおこると、テーブル２に搭載されているガラス基板１も同じように変位し、ガラス基板１上の処理目標１５も変位する。その結果、インクジェットヘッド１４ａとガラス基板１上の処理目標１５との間の位置関係がずれて、インクジェットヘッド１４ａから吐出されたインク（液滴）がガラス基板１上で処理目標１５から外れた箇所に着弾する。つまり、着弾誤差が生じてしまう。
【００６１】
そこで、ステップＳ７では、制御部２２が変位検出部として働いて、光検出器８ａ、８ｂ上でのビームスポット７１ａ、７１ｂの移動量に基づいてガラス基板１上の処理目標１５と実際の着弾箇所との間の位置ずれ量（これを「着弾位置ずれ量」と呼ぶ。）を算出し、その着弾位置ずれ量を相対的に解消するように、処理部１４を駆動すべき駆動量を算出する。
【００６２】
続いてステップＳ８で、前述した処理部１４を駆動すべき駆動量を、光検出器８ａ、８ｂ上でのビームスポット７１ａ、７１ｂの位置情報、テーブル２の位置情報と共に記憶部に記録する。ここで記録したデータを蓄積して統計処理を行う。このようにした場合、この統計処理の結果を、テーブル２の変位の監視に使用することが可能となる。すなわち、経年変化によるステージ移動精度の劣化などを監視することが可能となる。また、テーブル２の変位にばらつきが無いようであれば、記録したデータに基づき処理部１４を駆動することが可能となる。
【００６３】
次に、ステップＳ９で、上記算出された駆動量に基づいて処理部１４を駆動する。
【００６４】
その後、ステップＳ１０で、インクジェットヘッド１４ａによってガラス基板１上を処理する。具体的には、インクジェットヘッド１４ａによる液滴塗布処理を行う。
【００６５】
次に、図４〜図５を用いて、テーブル２がヨーイング変位した場合を例として、基板上の処理目標１５からの位置ずれ量の算出の仕方について説明する。これらの図には、図１におけるガラス基板１、レーザ光源６ａおよび６ｂ、レーザビーム７ａおよび７ｂ、光検出器８ａおよび８ｂ、ビームスポット７１ａおよび７１ｂが模式的に示されている。また、光検出器８ａ、８ｂ（の受光領域）の中心はそれぞれＯ８ａ、Ｏ８ｂと表されている。
【００６６】
図４（ａ）に示すように、この装置のところに搬入されたガラス基板１に対して基板アライメントを実施した後、光源取付機構部５ａ、５ｂを駆動することによって、テーブル２上に取り付けられた２つのレーザ光源６ａ、６ｂによるビームスポット７１ａ、７１ｂが光検出器８ａ、８ｂの中心Ｏ８ａ、Ｏ８ｂにそれぞれ位置調整された状態となる。その状態から、ガラス基板１がテーブル２とともにＹ軸方向に搬送される。
【００６７】
このＹ軸方向の搬送の間、ＸＹ平面上で搬送に伴うガラス基板１のＹ軸方向の変位以外の変位が無い場合、図４（ａ）の状態が維持される。すなわち、２つのレーザ光源６ａ、６ｂによるビームスポット７１ａ、７１ｂが光検出器８ａ、８ｂの中心Ｏ８ａ、Ｏ８ｂにそれぞれ存在する状態が維持される。
【００６８】
一方、Ｙ軸方向の搬送の間、ＸＹ平面上で搬送に伴ってガラス基板１がヨーイング変位を起こしたものとする。図４（ｂ）の例では、光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂはそれぞれｘａ１、ｘｂ１の変位を起こしている。
【００６９】
ここで、図５（ａ）に示すように、２つの座標系を使用する。１つの座標系は、この液滴塗布装置の光検出器８ｂの中心Ｏ８ｂを原点とするＸＹ座標系である。もう１つの座標系は、ガラス基板１上の点（図５（ａ）において左下隅の点）１ａを原点とするＵＶ座標系である。ここでＵＶ座標系の原点１ａは、アライメントマークなどを基準とする点であり、処理目標を特定する座標系である。ガラス基板１の原点１ａは、ＵＶ座標系では（０，０）であるが、ＸＹ座標系では（ｘ０，ｙ０）となる。つまり、ＵＶ座標系はＸＹ座標系をＸ方向にｘ０、Ｙ方向にｙ０平行移動したものである。処理目標１５ａの座標をＵＶ座標系で（ｕ，ｖ）、ＸＹ座標系で（ｘ，ｙ）とそれぞれ表すものとすると、それらの関係は次式の通りである。
【数１】
この式に基づいて、基板上の処理目標１５ａのＵＶ座標は、ＸＹ座標系の座標から算出することができる。逆に、ＵＶ座標からＸＹ座標を算出することも可能である。今後の演算についてはＸＹ座標系で説明する。
【００７０】
今、図４（ａ）に示すテーブル２上の処理目標１５ａ（その座標を（ｘ，ｙ）とする。）がヨーイング変位により図４（ｂ）の位置１５ｂ（その座標を（ｘ’，ｙ’）とする。）に変位したとする。このとき、２つの光検出器８ａ、８ｂ上でビームスポット７１ａ、７１ｂの位置がそれぞれｘａ１、ｘｂ１に変位したとする。もし、ヨーイング変位が無ければ、ｘａ１＝０、ｘｂ１＝０である。したがって、変位後のｘａ１、ｘｂ１をそれぞれ０になるようにテーブル２を移動させると、ヨーイングによる各点の変位量を求めることができる。
【００７１】
ヨーイング変位後の座標（ｘ’、ｙ’）とヨーイング前の座標（ｘ、ｙ）との関係について説明する。まず、ビームスポット７１ａ、７１ｂの変位量ｘａ１、ｘｂ１と、光検出器８ａ、８ｂ間の距離ｙｎから、テーブル２の回転角度θは次式で算出できる（なお、ａｔａｎ｛｝はｔａｎ｛｝の逆関数である。）。
θ＝ａｔａｎ｛（ｘａ１−ｘｂ１）／ｙｎ｝
【００７２】
次に、図５（ｂ）に示すように、光検出器８ｂ上のビームスポット７１ｂが座標原点Ｏ８ｂに来るようにＸ軸方向に水平移動させる。このとき、処理目標１５ｂ、座標（ｘ’、ｙ’）は次式のように変化する。
（ｘ’−ｘｂ１，ｙ’）
【００７３】
さらに、−θの回転を加えると、ヨーイング前の座標（ｘ、ｙ）に一致する。すなわち、次式が成り立つ。
【数２】
この式を（ｘ’、ｙ’）について解くと、次式が成り立つ。
【数３】
【００７４】
したがって、処理目標１５ａ、座標（ｘ、ｙ）での変位量（Δｘ、Δｙ）は、次式によって求めることができる。
【数４】
【００７５】
制御部２２は、上述の式に基づいて変位量Δｘを算出する。そして、制御部２２は変位補正部として働いて、その変位量Δｘを相対的に解消するように、処理部１４を駆動すべき駆動量を算出する。Ｘ軸方向に関しては、この駆動量だけ処理部１４を駆動すれば、テーブル２のヨーイング変位によって生じる着弾位置ずれを補正することできる。
【００７６】
また、Ｙ軸方向に関しては、ステージ２のヨーイングで生じた変位Δｙについては、制御部２２は、その変位量Δｙに応じて処理部１４のインクジェットヘッド１４ａによる液滴吐出タイミングを変更する。これにより、Ｙ軸方向に関して着弾位置ずれを補正する。
【００７７】
このようにした場合、上記Ｙ軸方向の搬送によるテーブル２の変位、つまり搬送誤差を適切に補正でき、搬送精度を向上できる。また、逆に言えば、その分だけ搬送部の搬送精度を低くしても良いので、Ｙ軸駆動モータ４を含む搬送部を安価に構成することが可能になる。この利点は、ガラス基板１のような被処理物が大型化して、製品の品質を高めるために搬送部の搬送精度に対する要求が高まり、搬送部が高価格となっている近年の状況下では、極めて有益である。
【００７８】
上述の図３（ａ）の処理フローでは、ステップＳ６で「光検出器上のビーム移動を検出」し、ステップＳ７で「処理部の駆動量を算出」し、ステップＳ８で「ビームスポット位置、テーブル位置、駆動データを記録」している。
【００７９】
これらの記録したデータの活用法の１つは、ステップＳ８で記録した所定のテーブル位置毎に、ビームスポット位置、駆動データを蓄積して、現在のデータと比較することである。これにより、テーブル搬送の繰り返し精度を得ることができる。
【００８０】
また、テーブル搬送の繰り返し精度が高い場合には、所定のテーブル位置でのビームスポット位置、駆動データはほぼ同じになる。したがって、図３（ｂ）の処理フローに示すように、テーブル搬送毎に処理部の駆動量を算出（図３（ａ）中のステップＳ７）する必要がなくなる。
【００８１】
具体的には、図３（ｂ）中のステップＳ１１〜Ｓ１６は図３（ａ）中のステップＳ１〜Ｓ６と同様に進める。図３（ｂ）中のステップＳ１７において、処理部１４を駆動すべき駆動量を記憶部から読み出して、その駆動量だけ処理部１４を駆動する。その後、図３（ｂ）中のステップＳ１８〜Ｓ１９は図３（ａ）中のステップＳ９〜Ｓ１０と同様に進める。
【００８２】
このようにした場合、上記テーブル２の変位をより高速に補正することが可能となる。さらには、データを蓄積して現行データと比較することにより、経年変化を調べることが可能となる。その経年変化に関する情報は、搬送装置のメンテナンス時期の予測などに活用できる。
【００８３】
上述の図４〜図５の例では、光検出器８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂのＸ軸方向の変位に着目して、テーブル２のヨーイング変位が起こった場合の着弾位置ずれを補正する方法について説明した。これに対して、次に図６を用いて、テーブル２のヨーイング変位のみならず、ピッチング、水平シフト、垂直シフトを検出して補正する例について説明する。この方法では、光検出器としてのＣＣＤエリアセンサ８ａ、８ｂ上のビームスポット７１ａ、７１ｂのＸ軸方向およびＺ軸方向の変位に着目する。
【００８４】
図６（ａ）はＣＣＤエリアセンサ８ａ上に集光されるビームスポット７１ａの様子を表し、また、図６（ｂ）はＣＣＤエリアセンサ８ｂ上に集光されるビームスポット７１ａの様子を表している。なお、図６（ａ）、図６（ｂ）ではＣＣＤエリアセンサ８ａ、８ｂの受光領域が矩形枠で示されている。図６（ａ）ではビームスポット７１ａはＸ軸方向にｘａ１、Ｚ軸方向にｚａ１だけ変位している。一方、図６（ｂ）ではビームスポット７１ｂはＸ軸方向にｘｂ１、Ｚ軸方向にｚｂ１だけ変位している。
【００８５】
この例でも、ヨーイング変位については、図４〜図５を用いて説明したのと同様に、ビームスポット７１ａ、７１ｂのＸ軸方向の変位ｘａ１、ｘｂ１を使って処理部１４を駆動すべき駆動量を算出して、補正する。
【００８６】
また、図６中に示すビームスポット７１ａ、７１ｂのＺ軸方向の変位ｚａ１、ｚｂ１と、処理目標１５の座標（ｘ、ｙ）とを使うことにより、処理目標（ｘ、ｙ）でのＺ軸方向の変位を算出することができる。具体的には、前述したヨーイングにおける角度θの算出式において、ｘａ１、ｘｂ１をそれぞれｚａ１、ｚｂ１で置き換えることにより、ピッチングの角度を算出できる。また、処理目標（ｘ、ｙ）でのＺ軸方向の変位についても、ｘａ１、ｘｂ１をそれぞれｚａ１、ｚｂ１で置き換えることにより、算出できる。ここで算出されたＺ軸方向の変位を補正する方法は、処理目標（ｘ、ｙ）でのＺ軸方向の変位に応じて、それを相対的に解消するように制御部２２での処理タイミングを変化させることである。つまり、テーブル２の変位によりインクジェットヘッド１４ａとガラス基板１との間の距離がΔｚだけ短くなるように変位したのであれば、液滴の吐出速度ｖ０とすると、着弾までの時間は（Δｚ／ｖ０）だけ短くなる。このため、テーブル２の搬送速度が一定ｖｔであるなら、着弾位置ずれとしてｖｔ・（Δｚ／ｖ０）を生じる。これを補正するには、短くなった時間分だけ、すなわち（Δｚ／ｖ０）分だけ処理タイミング、つまり液滴吐出タイミングを早くするように制御すればよいことになる。
【００８７】
また、上述の例では、光検出器８ａ、８ｂはＣＣＤエリアセンサからなるものとした。当然ながら、これに限られるものではない。各光検出器８ａ、８ｂはＣＣＤラインセンサからなっていても良い。その場合、各ＣＣＤラインセンサを水平方向に延在する配置としておけば、テーブル２のヨーイング変位、水平面内で搬送方向に対して垂直な方向のシフト変位などの水平方向の変位量を、各ＣＣＤラインセンサ上の光スポットの変位量として検出することが可能である。
【００８８】
また、光検出器８ａ、８ｂはフォトディテクタからなっていても良い。次に図７を用いて、光検出器としてフォトディテクタを使用した場合のＸ軸方向およびＺ軸方向の変位の検出の仕方について説明する。
【００８９】
図７（ａ）は、光検出器８ａとして２分割フォトディテクタを備えた例を示している。この２分割フォトディテクタの受光領域８ａａ、８ａｂは、点Ｏ８ａを通りＺ軸方向に延びる分割線によって左右対称に２分割されている。これらの受光領域８ａａ、８ａｂに跨って上にビームスポット７１ａが照射されている。なお、既にテーブル２がＹ軸方向に駆動されて移動した結果、ビームスポット７１ａの中心が点Ｏ８ａから点（ｘａ１、ｚａ１）に移動している。ここで、受光領域８ａａ、８ａｂの出力信号の間の差分である差信号（８ａｂ−８ａａ）を考える。ビームスポット７１ａが２分割フォトディテクタ上を水平方向（ｘ軸方向）に沿って変位した場合、ビームスポットの中心（ｘａ１、ｚａ１）の移動に伴い、差信号（８ａｂ−８ａａ）の出力は、図７（ｂ）に示す波形となる。この波形を参照すると、２分割フォトディテクタの差信号（８ａｂ−８ａａ）から水平方向の変位量ｘａ１を検出することができる。
【００９０】
また、図７（ｃ）は、光検出器８ａとして４分割フォトディテクタを備えた例を示している。この４分割フォトディテクタの受光領域８ａａ、８ａｂ、８ａｃ、８ａｄは、点Ｏ８ａを通りＸ軸方向、Ｚ軸方向に延びる分割線によって田の字型に４分割されている。これらの受光領域８ａａ、８ａｂ、８ａｃ、８ａｄに跨ってビームスポット７１ａが照射されている。なお、既にテーブル２がＹ軸方向に駆動されて移動した結果、ビームスポット７１ａの中心が点Ｏ８ａから点（ｘａ１、ｚａ１）に移動している。ここで、受光領域ａａ、８ａｂ、８ａｃ、８ａｄのそれぞれの出力信号から、水平方向の差信号｛（８ａｂ＋８ａｄ）−（８ａａ＋８ａｃ）｝、垂直方向の差信号｛（８ａａ＋８ａｂ）−（８ａｃ＋８ａｄ）｝を考える。ビームスポット７１ａが上記４分割フォトディテクタ上を水平方向（ｘ軸方向）に沿って変位した場合、ビームスポット中心（ｘａ１、ｚａ１）の移動に伴い水平方向の差信号｛（８ａｂ＋８ａｄ）−（８ａａ＋８ａｃ）｝の出力は、図７（ｄ）に示す波形となる。この波形を参照すると、４分割フォトディテクタの水平方向の差信号｛（８ａｂ＋８ａｄ）−（８ａａ＋８ａｃ）｝から水平方向の変位量ｘａ１を検出することができる。また、ビームスポット７１ａが上記４分割フォトディテクタ上を垂直方向（ｚ軸方向）に沿って変位した場合、ビームスポット中心（ｘａ１、ｚａ１）の移動に伴い垂直方向の差信号｛（８ａａ＋８ａｂ）−（８ａｃ＋８ａｄ）｝の出力は、図７（ｅ）に示す波形となる。この波形を参照すると、４分割フォトディテクタの垂直方向の差信号｛（８ａａ＋８ａｂ）−（８ａｃ＋８ａｄ）｝から垂直方向の変位量ｚａ１を検出することができる。
【００９１】
なお、光源としてのレーザ光源６ａ、６ｂを間欠的に駆動することにより、レーザ光源６ａ、６ｂの長寿命化を図ることができる。光検出器８ａ、８ｂでのビームスポット７１ａ、７１ｂの位置検出を行い、処理部の駆動量を算出するには、ある程度の時間を要する。また、テーブル２など可動部の質量は比較的大きいため、急激な変位は少ないと考えられる。このようなことから、レーザ光源６ａ、６ｂを常時点灯しておく必要はない。むしろ、テーブル２の最も早い変位の２倍以上の周波数で発光させ、そのときのビームスポット７１ａ、７１ｂを光検出器８ａ、８ｂにて検出すれば十分である。
【００９２】
また、上述の例では、門型構造物１２に１つの処理部１４が取り付けられているが、当然ながら、複数の処理部が取り付けられていても良い。複数の処理部によって処理箇所を分担すれば、処理時間の短縮を図ることができる。
【００９３】
また、上述の例では、定盤１０上で、処理部１４を搭載した門型構造物１２に対して、被処理物としてのガラス基板１を搭載したテーブル２がＹ軸方向に駆動されて移動する構成になっている。当然ながら、これに限られるものではない。逆に、定盤１０上に固定的に載置された被処理物としてのガラス基板１に対して、処理部１４を搭載した門型構造物１２がＹ軸方向に駆動されて移動する構成になっていても良い。この場合、光源としてのレーザ光源６ａ、６ｂは、テーブル２ではなく、門型構造物１２に取り付けられる。光検出器８ａ、８ｂは、定盤１０上で、それぞれ門型構造物１２に取り付けられたレーザ光源６ａ、６ｂからのレーザビームを受けるように配置される。
【００９４】
この実施形態では、本発明の搬送装置をインクジェット方式の液滴塗布装置に適用した。しかしながら、当業者ならば分かるように、本発明の搬送装置は、液滴塗布装置に限られず、他の様々な用途に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】この発明の搬送装置を適用した一実施形態の液滴塗布装置を上方から見たところを示す図である。
【図２】上記液滴塗布装置を側方から見たところを示す図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ上記液滴塗布装置を動作させる処理フローを示す図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）は上記液滴塗布装置上のガラス基板の変位を示す図である。
【図５】（ａ）、（ｂ）は上記液滴塗布装置上のガラス基板の変位を示す図である。
【図６】（ａ）、（ｂ）は上記液滴塗布装置の光検出器としてのＣＣＤエリアセンサ上のビームスポットを示す図である。
【図７】（ａ）は上記液滴塗布装置の光検出器としての２分割フォトディテクタ上のビームスポットを示す図、（ｂ）はその２分割フォトディテクタによる出力を示す図、（ｃ）は上記液滴塗布装置の光検出器としての４分割フォトディテクタ上のビームスポットを示す図、（ｄ）および（ｅ）はその４分割フォトディテクタによる出力を示す図である。
【図８】従来のテーブル移動誤差測定装置におけるテーブルの移動誤差を検出する仕方を説明する図である。
【図９】従来のテーブル移動誤差測定装置を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００９６】
１ ガラス基板
２ テーブル
４ Ｙ軸駆動モータ
５ａ、５ｂ 光源取付機構部
６ａ 第１レーザ光源
６ｂ 第２レーザ光源
７ａ、７ｂ レーザビーム
８ａ、８ｂ 光検出器
９ａ、９ｂ 取付台
１０ 定盤
１１ 除振台
１２ 門型構造物
１３ スライダ
１４ 処理部
１４ａ インクジェットヘッド
２０ スケール
２１ エンコーダ検出器
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置であって、
定盤と、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物が載置されるテーブルと、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物に対向し得るように上記処理部を支持する構造物と、
上記テーブルに取り付けられた複数の光源と、
上記各光源にそれぞれ対応して上記定盤上に設けられ、それぞれ対応する光源からの光を受けて上記光の位置ずれを表す信号を出力する複数の光検出器と、
上記定盤上で上記テーブルを少なくとも一方向に搬送して、上記テーブルと上記処理部とを相対移動させる搬送部と、
上記一方向に関して上記定盤上での上記テーブルの搬送位置を検出する搬送位置検出部と、
上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記テーブルの変位を検出する変位検出部と、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する変位補正部を備えたことを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
請求項１に記載の搬送装置において、
上記テーブルが上記一方向に関して基準位置にあるとき、上記各光源からの光が上記光検出器の受光領域内の基準位置に入射するように、上記各光源と上記テーブルとの間に上記光源の光出射方向を変更し得る光源取付機構部を備えたことを特徴とする搬送装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の搬送装置において、
上記複数の光源として第１光源と第２光源との２つが設けられ、
上記第１光源と第２光源は上記一方向に関して互いに反対向きに光を出射し、
上記第１光源、第２光源にそれぞれ対応して、上記複数の光検出器として第１光検出器、第２光検出器が設けられていることを特徴とする搬送装置。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記光源は上記テーブルの両側に配置されていることを特徴とする搬送装置。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記各光検出器は２分割フォトディテクタからなることを特徴とする搬送装置。
【請求項６】
請求項１から４までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記各光検出器は４分割フォトディテクタからなることを特徴とする搬送装置。
【請求項７】
請求項１から４までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記各光検出器はＣＣＤラインセンサからなることを特徴とする搬送装置。
【請求項８】
請求項１から４までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記各光検出器はＣＣＤエリアセンサからなることを特徴とする搬送装置。
【請求項９】
請求項１から８までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記位置検出部が出力した上記テーブルの搬送位置と、その搬送位置での上記テーブルの変位とを対応させて、ディジタル情報として記録する記憶部を備えたことを特徴とする搬送装置。
【請求項１０】
請求項１から９までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記光源を間欠的に発光させることを特徴とする搬送装置。
【請求項１１】
被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置であって、
定盤と、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物が載置されるテーブルと、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物に対向し得るように上記処理部を支持する構造物と、
上記構造物に取り付けられた複数の光源と、
上記各光源にそれぞれ対応して上記定盤上に設けられ、それぞれ対応する光源からの光を受けて上記光の位置ずれを表す信号を出力する複数の光検出器と、
上記定盤上で上記構造物を少なくとも一方向に搬送して、上記テーブルと上記処理部とを相対移動させる搬送部と、
上記一方向に関して上記定盤上での上記構造物の搬送位置を検出する搬送位置検出部と、
上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記構造物の変位を検出する変位検出部と、
上記変位検出部が検出した上記構造物の変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する変位補正部を備えたことを特徴とする搬送装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の搬送装置によって被処理物と処理部とを相対移動させる場合に、搬送による上記テーブルの変位を補正する搬送誤差補正方法であって、
上記定盤の上面に沿った水平面内にＸＹ座標を設定し、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記被処理物上の目標位置のＸ軸方向の変位ΔｘおよびＹ軸方向の変位Δｙを求め、
上記Ｘ軸方向の変位Δｘを相対的に解消するように上記処理部を上記構造物上でＸ軸方向に変位させるとともに、上記Ｙ軸方向の変位Δｙに応じて上記処理部による処理タイミングを変更することを特徴とする搬送誤差補正方法。
【請求項１３】
請求項６または８に記載の搬送装置によって被処理物と処理部とを相対移動させる場合に、搬送による上記テーブルの変位を補正する搬送誤差補正方法であって、
上記定盤の上面に沿った水平面内にＸＹ座標を設定するとともに、上記ＸＹ座標に鉛直方向のＺ座標を加えたＸＹＺ座標を設定し、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記被処理物上の目標位置のＸ軸方向の変位Δｘ、Ｙ軸方向の変位ΔｙおよびＺ軸方向の変位Δｚを求め、
上記Ｘ軸方向の変位Δｘを相対的に解消するように上記処理部を上記構造物上でＸ軸方向に変位させるとともに、上記Ｙ軸方向の変位ΔｙおよびＺ軸方向の変位Δｚに応じて上記処理部による処理タイミングを変更することを特徴とする搬送誤差補正方法。
【請求項１】
被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置であって、
定盤と、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物が載置されるテーブルと、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物に対向し得るように上記処理部を支持する構造物と、
上記テーブルに取り付けられた複数の光源と、
上記各光源にそれぞれ対応して上記定盤上に設けられ、それぞれ対応する光源からの光を受けて上記光の位置ずれを表す信号を出力する複数の光検出器と、
上記定盤上で上記テーブルを少なくとも一方向に搬送して、上記テーブルと上記処理部とを相対移動させる搬送部と、
上記一方向に関して上記定盤上での上記テーブルの搬送位置を検出する搬送位置検出部と、
上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記テーブルの変位を検出する変位検出部と、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する変位補正部を備えたことを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
請求項１に記載の搬送装置において、
上記テーブルが上記一方向に関して基準位置にあるとき、上記各光源からの光が上記光検出器の受光領域内の基準位置に入射するように、上記各光源と上記テーブルとの間に上記光源の光出射方向を変更し得る光源取付機構部を備えたことを特徴とする搬送装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の搬送装置において、
上記複数の光源として第１光源と第２光源との２つが設けられ、
上記第１光源と第２光源は上記一方向に関して互いに反対向きに光を出射し、
上記第１光源、第２光源にそれぞれ対応して、上記複数の光検出器として第１光検出器、第２光検出器が設けられていることを特徴とする搬送装置。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記光源は上記テーブルの両側に配置されていることを特徴とする搬送装置。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記各光検出器は２分割フォトディテクタからなることを特徴とする搬送装置。
【請求項６】
請求項１から４までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記各光検出器は４分割フォトディテクタからなることを特徴とする搬送装置。
【請求項７】
請求項１から４までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記各光検出器はＣＣＤラインセンサからなることを特徴とする搬送装置。
【請求項８】
請求項１から４までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記各光検出器はＣＣＤエリアセンサからなることを特徴とする搬送装置。
【請求項９】
請求項１から８までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記位置検出部が出力した上記テーブルの搬送位置と、その搬送位置での上記テーブルの変位とを対応させて、ディジタル情報として記録する記憶部を備えたことを特徴とする搬送装置。
【請求項１０】
請求項１から９までのいずれか一つに記載の搬送装置において、
上記光源を間欠的に発光させることを特徴とする搬送装置。
【請求項１１】
被処理物とその被処理物の一部に所定の処理を施す1つ以上の処理部とを相対移動させる搬送装置であって、
定盤と、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物が載置されるテーブルと、
上記定盤上に設けられ、上記被処理物に対向し得るように上記処理部を支持する構造物と、
上記構造物に取り付けられた複数の光源と、
上記各光源にそれぞれ対応して上記定盤上に設けられ、それぞれ対応する光源からの光を受けて上記光の位置ずれを表す信号を出力する複数の光検出器と、
上記定盤上で上記構造物を少なくとも一方向に搬送して、上記テーブルと上記処理部とを相対移動させる搬送部と、
上記一方向に関して上記定盤上での上記構造物の搬送位置を検出する搬送位置検出部と、
上記複数の光検出器が出力する上記光の位置ずれを表す信号に基づいて、上記搬送位置検出部が出力した上記搬送位置での上記構造物の変位を検出する変位検出部と、
上記変位検出部が検出した上記構造物の変位に基づいて、上記処理部を上記構造物上で変位させ又は処理タイミングを変更する変位補正部を備えたことを特徴とする搬送装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の搬送装置によって被処理物と処理部とを相対移動させる場合に、搬送による上記テーブルの変位を補正する搬送誤差補正方法であって、
上記定盤の上面に沿った水平面内にＸＹ座標を設定し、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記被処理物上の目標位置のＸ軸方向の変位ΔｘおよびＹ軸方向の変位Δｙを求め、
上記Ｘ軸方向の変位Δｘを相対的に解消するように上記処理部を上記構造物上でＸ軸方向に変位させるとともに、上記Ｙ軸方向の変位Δｙに応じて上記処理部による処理タイミングを変更することを特徴とする搬送誤差補正方法。
【請求項１３】
請求項６または８に記載の搬送装置によって被処理物と処理部とを相対移動させる場合に、搬送による上記テーブルの変位を補正する搬送誤差補正方法であって、
上記定盤の上面に沿った水平面内にＸＹ座標を設定するとともに、上記ＸＹ座標に鉛直方向のＺ座標を加えたＸＹＺ座標を設定し、
上記変位検出部が検出した上記テーブルの変位に基づいて、上記被処理物上の目標位置のＸ軸方向の変位Δｘ、Ｙ軸方向の変位ΔｙおよびＺ軸方向の変位Δｚを求め、
上記Ｘ軸方向の変位Δｘを相対的に解消するように上記処理部を上記構造物上でＸ軸方向に変位させるとともに、上記Ｙ軸方向の変位ΔｙおよびＺ軸方向の変位Δｚに応じて上記処理部による処理タイミングを変更することを特徴とする搬送誤差補正方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００９−１３７６６９（Ｐ２００９−１３７６６９Ａ）
【公開日】平成２１年６月２５日（２００９．６．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３１３３４６（Ｐ２００７−３１３３４６）
【出願日】平成１９年１２月４日（２００７．１２．４）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年６月２５日（２００９．６．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月４日（２００７．１２．４）
【出願人】（０００００５０４９）シャープ株式会社 (33,933)
【Ｆターム（参考）】
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