有機コンポーネントと湿気反応材料を含むパッケージ層とを備える装置
この装置は、基板（２）上に配置された少なくとも１つの光電コンポーネント（１）と、少なくとも１つの透明面とを備える。コンポーネント（１）は、少なくとも１つのバリヤ層（６）と湿気反応層（５）とを有するパッケージ層（３）により覆われる。反応層（５）は、アルカリ土類材料、アルカリ材料、及び有機金属誘導体から選択される湿気反応材料（４）を有する。材料（４）は、連続層又は有機基質（７）に分散された複数のノジュールの形状で、湿気反応層（５）に配置することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に配置された少なくとも１つの有機コンポーネント（organic component）を備える装置に関し、前記コンポーネントは少なくとも１つの湿気反応層(moisture-reactive layer)を有するパッケージ層に覆われ、前記反応層は基質（matrix）に分散された湿気反応材料のノジュール（nodule:小塊）を含む。
【背景技術】
【０００２】
光電有機コンポーネント、例えば有機発光ダイオードの使用が増え、その活用の数も絶え間なく増えている。しかし、これらの新しい活用の要求を満たすために、外部環境に対する抵抗となる、より小さい透明保護手段を製造することが必要になってきている。実際、有機発光ダイオードが保護されていなかったり、保護が外部状況に完全には適合していなかったりする場合、ダイオードは劣化する。ダイオードの劣化は、基本的に、パッケージ手段を通過し、ダイオードを構成する材料と反応する外部雰囲気中の湿気により引き起こされる。
【０００３】
従来は、図１に示すように、ダイオードはガラスカバー９とダイオード１が組み込まれた基板２との間で線引きされた閉キャビティ（closed cavity）に封入される。このキャビティは、周辺シール（peripheral seal）を形成する粘着剤のベッド（bed）１０により境界される。しかし、この粘着剤のベッド１０は湿気の不浸透性について限られた性能を示す。壁を通過した湿気と反応させるために固体ゲッター材料１１をキャビティに配置して、ダイオードを保護する。しかし、このタイプのパッケージは、ダイオードの隣にゲッター材料を組み入れるための十分広い硬質基板及び／又はキャビティにのみ使用することができる。従って、このタイプの集積は、低価格の通常品用に産業化することは困難である。
【０００４】
また、モノリシックパッケージ、すなわち、例えば、Ａｌ２Ｏ３／ポリマー／Ａｌ２Ｏ３積層体やＳｉＯｘ／ＳｉＮ／ＳｉＯｘ積層体などの、湿気に対して優れたバリヤ性能を有する１つ以上の層から形成されたパッケージを使用することが知られている。しかし、パッケージ層の厚みは限定されており、パッケージ層の不浸透性は、時間と共に、十分な強度を保障することができなくなる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、実装が容易で、外部雰囲気の湿気に対して光電有機コンポーネントの改良された保護を与える装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、この目的は添付した請求の範囲により達成され、さらに詳しくは、前記基質が有機であり、前記湿気反応材料はアルカリ土類材料及びアルカリ材料から選択され、前記有機基質は、ナフチルフェニルビフェニル（BPhen）系材料、８−ヒドロキシキノリン系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＡＤ系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＴＢ系材料、Ｓｐｉｒｏ−ＮＰＢ材料、Ｓｐｉｒｏ−ＴＰＤ系材料、ＴＭＭ４系材料、ＳＥＢ０１０系材料、及びＢＣＰ系材料から選択されるという事実により達成される。
【０００７】
他の利点及び特徴は以下の限定しない例示のためだけに与えられ、添付の図面に示される本発明の特定の実施形態の記載からさらに明確になるであろう。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】従来技術による装置の断面図である。
【図２】本発明の一実施形態による装置の断面図である。
【図３】本発明の一実施形態による装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
図２に示されるように、装置の全部又は一部を形成するために、基板２上に少なくとも１つの有機コンポーネント１が配置される。有機コンポーネント１は、発光体及び／又は受光体、例えば有機発光ダイオード又は太陽電池（photovoltaic cell）とすることができる。有機コンポーネント１は有機トランジスタとすることもできる。基板２は、例えばシリコン又はガラスで作られた硬質基板、又は、例えばポリマー材料、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、又はＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等で作られたフレキシブル基板とすることができる。コンポーネントが発光及び／又は受光コンポーネントである場合、装置は、光電有機コンポーネント１の動作波長（work wavelength）を透過させることができる少なくとも１つの透明面を有する。
【００１０】
基板２上に配置された有機コンポーネント１は、外部雰囲気の湿気から保護するためのパッケージ層３に覆われている。パッケージ層３は、それ自身が湿気反応材料を含む連続湿気反応層５を有する。また、パッケージ層３は、外部雰囲気の湿気に対して低い透過性を示すバリヤ材料層６を有する。
【００１１】
図２に示される特定の実施形態では、湿気反応層５は、バリヤ材料層６上に堆積された湿気反応材料の連続膜により形成される。
【００１２】
図３に示される第２の実施形態では、湿気反応層５は、有機基質７に分散された湿気反応材料の複数のノジュール（nodule:小塊）４により形成される。
【００１３】
湿気反応材料は、例えば、アルカリ元素、アルカリ土類元素、又はこれらの材料の１つに基づく合金から選択される。反応材料は、物理気相成長により堆積されたカルシウムＣａ、セシウムＣｅ、又はバリウムＢａからなることが好ましい。しかし、湿気反応材料は例えば、ＡｌＱ３（トリス(８−キノリノラト)アルミニウム）、ＧａＱ３、又はＩｎＱ３等の有機金属誘導体とすることができる。
【００１４】
層５がアルカリ元素又はアルカリ土類元素からなる連続膜によって形成される場合、その厚さは典型的には少しの単原子層程度であり、透明のままにすることができる。反応層５の厚さは５ｎｍ未満が有利である。例えば、有機発光ダイオードが基板を介して光放射を発する（裏面発光）場合又はコンポーネントが有機トランジスタの場合など、パッケージ層を実質的に不透明にできる場合は、さらに厚くすることができる。反応層５は、典型的には５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みのＡｌＱ３から作ることもできる。
【００１５】
層５が湿気反応材料４のノジュールを有する有機基質７により形成される場合、有機基質７はコンポーネント１の動作波長における透明材料から選択され、透明層５が得られる。
【００１６】
有機基質７は、ＢＰｈｅｎ（4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン）系材料、８−ヒドロキシキノリン系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＡＤ（2,2’,7,7’-テトラキス（ジフェニルアミノ）-9,9’-スピロビフルオレン）系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＴＢ（2,2’,7,7’-テトラキス（N,N’-ジ-ｐ-メチルフェニルアミノ）-9,9’-スピロビフルオレン）系材料、Ｓｐｉｒｏ−ＮＰＢ（N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス（1-ナフチル）-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン）材料、Ｓｐｉｒｏ−ＴＰＤ（2,2’,7,7’-テトラ-（m-トリル-フェニルアミノ）-9,9’-スピロビフルオレン）系材料、ＴＭＭ４系材料、ＳＥＢ０１０系材料、及びＢＣＰ系材料から選択されることが有利である。この層が透明のままである場合、有機基質の厚みは、典型的には１００ｎｍ以下である。しかし、透明性が求められない場合は、より厚く組み入れることができる。アクティブ有機層としてダイオード製造プロセスに既に組み込まれている場合、これらの材料を利用することが有利である。特に、ダイオード自体と同じ堆積チャンバで堆積できる。
【００１７】
また、有利な方法では、有機基質７は、透明のままであるために、湿気反応材料の重さの２％未満含む。例えば、湿気反応層５は、２％のカルシウムを含むＢＰｈｅｎ（4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン）の層により形成できる。
【００１８】
好ましくは、反応層５が透明となるように、反応層５の厚み／湿気反応材料濃度の組み合わせが決定される。
【００１９】
図２及び図３に示されるように、外部雰囲気中の湿気と反応層５との間の接触を遅らせるために、バリヤ層６は反応層５の上に配置される。パッケージ層３が光電有機コンポーネント１から反応層５を分離するもう１つのバリヤ層６を有することが有利である。
【００２０】
バリヤ層６が反応層５上に堆積された時、この反応層と、特に有機基質の材料は、このような堆積物に適合しなければならない。起こり得る結晶化問題を避けるために、ガラス転移温度が十分高い、例えば１００℃より高い有機材料が選択されることが好ましい。ＢＰｈｅｎはガラス転移温度が低いため、使用しないことが有利である。
【００２１】
パッケージ層３はバリヤ層６及び反応層５が交互になるもので形成され、バリヤ層６と共に始まって終わることが好ましい。
【００２２】
バリヤ層６は原子層堆積（ＡＬＤ）で堆積されたアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）で作られることが有利である。しかし、バリヤ層６は、例えばプラズマ化学気相成長又は原子層堆積により堆積されたシリコン酸化物（ＳｉＯ２）、化学量論又はそうでないシリコン窒化物（ＳｉｘＮｙ）、又はシリコン酸窒化物（ＳｉＯｘＮｙ）によって作ることができる。バリヤ層６の厚みは、典型的には、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
【００２３】
光透過がパッケージ層３を介して起こった場合、パッケージ層を形成する異なる層の厚さは、後者が透明となるように選択される。
【００２４】
反応層５が材料４の連続膜により形成される場合、反応層５の合計膜厚はカルシウム層５では５ｎｍ以下が有利であり、ＡｌＱ３の層５では１００ｎｍ以下が有利である。さらに、反応層５が材料ノジュール４を含む有機基質膜により形成される場合、この合計膜厚は１００ｎｍ未満が有利である。
【００２５】
基板がプラスチック又はポリマーで形成される場合、コンポーネント１と基板２との間にさらなる湿気反応層を堆積することが有利である。
【００２６】
後者が湿気に対するバリヤを形成するのに十分な固有の特性を示さない場合、反応材料のノジュール４も基板に配置することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に配置された少なくとも１つの有機コンポーネント（organic component）を備える装置に関し、前記コンポーネントは少なくとも１つの湿気反応層(moisture-reactive layer)を有するパッケージ層に覆われ、前記反応層は基質（matrix）に分散された湿気反応材料のノジュール（nodule:小塊）を含む。
【背景技術】
【０００２】
光電有機コンポーネント、例えば有機発光ダイオードの使用が増え、その活用の数も絶え間なく増えている。しかし、これらの新しい活用の要求を満たすために、外部環境に対する抵抗となる、より小さい透明保護手段を製造することが必要になってきている。実際、有機発光ダイオードが保護されていなかったり、保護が外部状況に完全には適合していなかったりする場合、ダイオードは劣化する。ダイオードの劣化は、基本的に、パッケージ手段を通過し、ダイオードを構成する材料と反応する外部雰囲気中の湿気により引き起こされる。
【０００３】
従来は、図１に示すように、ダイオードはガラスカバー９とダイオード１が組み込まれた基板２との間で線引きされた閉キャビティ（closed cavity）に封入される。このキャビティは、周辺シール（peripheral seal）を形成する粘着剤のベッド（bed）１０により境界される。しかし、この粘着剤のベッド１０は湿気の不浸透性について限られた性能を示す。壁を通過した湿気と反応させるために固体ゲッター材料１１をキャビティに配置して、ダイオードを保護する。しかし、このタイプのパッケージは、ダイオードの隣にゲッター材料を組み入れるための十分広い硬質基板及び／又はキャビティにのみ使用することができる。従って、このタイプの集積は、低価格の通常品用に産業化することは困難である。
【０００４】
また、モノリシックパッケージ、すなわち、例えば、Ａｌ２Ｏ３／ポリマー／Ａｌ２Ｏ３積層体やＳｉＯｘ／ＳｉＮ／ＳｉＯｘ積層体などの、湿気に対して優れたバリヤ性能を有する１つ以上の層から形成されたパッケージを使用することが知られている。しかし、パッケージ層の厚みは限定されており、パッケージ層の不浸透性は、時間と共に、十分な強度を保障することができなくなる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、実装が容易で、外部雰囲気の湿気に対して光電有機コンポーネントの改良された保護を与える装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、この目的は添付した請求の範囲により達成され、さらに詳しくは、前記基質が有機であり、前記湿気反応材料はアルカリ土類材料及びアルカリ材料から選択され、前記有機基質は、ナフチルフェニルビフェニル（BPhen）系材料、８−ヒドロキシキノリン系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＡＤ系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＴＢ系材料、Ｓｐｉｒｏ−ＮＰＢ材料、Ｓｐｉｒｏ−ＴＰＤ系材料、ＴＭＭ４系材料、ＳＥＢ０１０系材料、及びＢＣＰ系材料から選択されるという事実により達成される。
【０００７】
他の利点及び特徴は以下の限定しない例示のためだけに与えられ、添付の図面に示される本発明の特定の実施形態の記載からさらに明確になるであろう。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】従来技術による装置の断面図である。
【図２】本発明の一実施形態による装置の断面図である。
【図３】本発明の一実施形態による装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
図２に示されるように、装置の全部又は一部を形成するために、基板２上に少なくとも１つの有機コンポーネント１が配置される。有機コンポーネント１は、発光体及び／又は受光体、例えば有機発光ダイオード又は太陽電池（photovoltaic cell）とすることができる。有機コンポーネント１は有機トランジスタとすることもできる。基板２は、例えばシリコン又はガラスで作られた硬質基板、又は、例えばポリマー材料、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、又はＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等で作られたフレキシブル基板とすることができる。コンポーネントが発光及び／又は受光コンポーネントである場合、装置は、光電有機コンポーネント１の動作波長（work wavelength）を透過させることができる少なくとも１つの透明面を有する。
【００１０】
基板２上に配置された有機コンポーネント１は、外部雰囲気の湿気から保護するためのパッケージ層３に覆われている。パッケージ層３は、それ自身が湿気反応材料を含む連続湿気反応層５を有する。また、パッケージ層３は、外部雰囲気の湿気に対して低い透過性を示すバリヤ材料層６を有する。
【００１１】
図２に示される特定の実施形態では、湿気反応層５は、バリヤ材料層６上に堆積された湿気反応材料の連続膜により形成される。
【００１２】
図３に示される第２の実施形態では、湿気反応層５は、有機基質７に分散された湿気反応材料の複数のノジュール（nodule:小塊）４により形成される。
【００１３】
湿気反応材料は、例えば、アルカリ元素、アルカリ土類元素、又はこれらの材料の１つに基づく合金から選択される。反応材料は、物理気相成長により堆積されたカルシウムＣａ、セシウムＣｅ、又はバリウムＢａからなることが好ましい。しかし、湿気反応材料は例えば、ＡｌＱ３（トリス(８−キノリノラト)アルミニウム）、ＧａＱ３、又はＩｎＱ３等の有機金属誘導体とすることができる。
【００１４】
層５がアルカリ元素又はアルカリ土類元素からなる連続膜によって形成される場合、その厚さは典型的には少しの単原子層程度であり、透明のままにすることができる。反応層５の厚さは５ｎｍ未満が有利である。例えば、有機発光ダイオードが基板を介して光放射を発する（裏面発光）場合又はコンポーネントが有機トランジスタの場合など、パッケージ層を実質的に不透明にできる場合は、さらに厚くすることができる。反応層５は、典型的には５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚みのＡｌＱ３から作ることもできる。
【００１５】
層５が湿気反応材料４のノジュールを有する有機基質７により形成される場合、有機基質７はコンポーネント１の動作波長における透明材料から選択され、透明層５が得られる。
【００１６】
有機基質７は、ＢＰｈｅｎ（4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン）系材料、８−ヒドロキシキノリン系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＡＤ（2,2’,7,7’-テトラキス（ジフェニルアミノ）-9,9’-スピロビフルオレン）系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＴＢ（2,2’,7,7’-テトラキス（N,N’-ジ-ｐ-メチルフェニルアミノ）-9,9’-スピロビフルオレン）系材料、Ｓｐｉｒｏ−ＮＰＢ（N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス（1-ナフチル）-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン）材料、Ｓｐｉｒｏ−ＴＰＤ（2,2’,7,7’-テトラ-（m-トリル-フェニルアミノ）-9,9’-スピロビフルオレン）系材料、ＴＭＭ４系材料、ＳＥＢ０１０系材料、及びＢＣＰ系材料から選択されることが有利である。この層が透明のままである場合、有機基質の厚みは、典型的には１００ｎｍ以下である。しかし、透明性が求められない場合は、より厚く組み入れることができる。アクティブ有機層としてダイオード製造プロセスに既に組み込まれている場合、これらの材料を利用することが有利である。特に、ダイオード自体と同じ堆積チャンバで堆積できる。
【００１７】
また、有利な方法では、有機基質７は、透明のままであるために、湿気反応材料の重さの２％未満含む。例えば、湿気反応層５は、２％のカルシウムを含むＢＰｈｅｎ（4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン）の層により形成できる。
【００１８】
好ましくは、反応層５が透明となるように、反応層５の厚み／湿気反応材料濃度の組み合わせが決定される。
【００１９】
図２及び図３に示されるように、外部雰囲気中の湿気と反応層５との間の接触を遅らせるために、バリヤ層６は反応層５の上に配置される。パッケージ層３が光電有機コンポーネント１から反応層５を分離するもう１つのバリヤ層６を有することが有利である。
【００２０】
バリヤ層６が反応層５上に堆積された時、この反応層と、特に有機基質の材料は、このような堆積物に適合しなければならない。起こり得る結晶化問題を避けるために、ガラス転移温度が十分高い、例えば１００℃より高い有機材料が選択されることが好ましい。ＢＰｈｅｎはガラス転移温度が低いため、使用しないことが有利である。
【００２１】
パッケージ層３はバリヤ層６及び反応層５が交互になるもので形成され、バリヤ層６と共に始まって終わることが好ましい。
【００２２】
バリヤ層６は原子層堆積（ＡＬＤ）で堆積されたアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）で作られることが有利である。しかし、バリヤ層６は、例えばプラズマ化学気相成長又は原子層堆積により堆積されたシリコン酸化物（ＳｉＯ２）、化学量論又はそうでないシリコン窒化物（ＳｉｘＮｙ）、又はシリコン酸窒化物（ＳｉＯｘＮｙ）によって作ることができる。バリヤ層６の厚みは、典型的には、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
【００２３】
光透過がパッケージ層３を介して起こった場合、パッケージ層を形成する異なる層の厚さは、後者が透明となるように選択される。
【００２４】
反応層５が材料４の連続膜により形成される場合、反応層５の合計膜厚はカルシウム層５では５ｎｍ以下が有利であり、ＡｌＱ３の層５では１００ｎｍ以下が有利である。さらに、反応層５が材料ノジュール４を含む有機基質膜により形成される場合、この合計膜厚は１００ｎｍ未満が有利である。
【００２５】
基板がプラスチック又はポリマーで形成される場合、コンポーネント１と基板２との間にさらなる湿気反応層を堆積することが有利である。
【００２６】
後者が湿気に対するバリヤを形成するのに十分な固有の特性を示さない場合、反応材料のノジュール４も基板に配置することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（２）上に配置された少なくとも１つの有機コンポーネント（１）を備え、前記コンポーネント（１）は少なくとも１つの湿気反応層（５）を有するパッケージ層（３）に覆われ、前記反応層は基質に分散された湿気反応材料（４）のノジュール（４）を有する装置であって、前記基質は有機（７）であり、前記湿気反応材料はアルカリ土類材料及びアルカリ材料から選択され、前記有機基質は、ナフチルフェニルビフェニル（BPhen）系材料、８−ヒドロキシキノリン系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＡＤ系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＴＢ系材料、Ｓｐｉｒｏ−ＮＰＢ材料、Ｓｐｉｒｏ−ＴＰＤ系材料、ＴＭＭ４系材料、ＳＥＢ０１０系材料、及びＢＣＰ系材料から選択されることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記湿気反応材料は、カルシウム、セシウム、及びバリウムから選択されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記湿気反応材料はカルシウムであり、前記有機基質はナフチルフェニルビフェニル（BPhen）系材料であることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記湿気反応材料（５）は前記湿気反応材料の連続膜により形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
少なくとも１つのバリヤ層（６）を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
バリヤ層（６）は前記反応層（５）の上方に配置されることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】
バリヤ層（６）は、前記反応層（５）とコンポーネント（１）との間に配置されることを特徴とする請求項５又は６に記載の装置。
【請求項８】
前記パッケージ層（３）は、バリヤ層（６）及び反応層（５）が交互になるものにより形成されることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項９】
前記基板（２）はポリマー材料で作られることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の装置。
【請求項１０】
前記コンポーネント（１）と基板（２）との間に、さらなる湿気反応層が配置されることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】
前記有機コンポーネント（１）は発光ダイオード、太陽電池、又は有機トランジスタであることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１】
基板（２）上に配置された少なくとも１つの有機コンポーネント（１）を備え、前記コンポーネント（１）は少なくとも１つの湿気反応層（５）を有するパッケージ層（３）に覆われ、前記反応層は基質に分散された湿気反応材料（４）のノジュール（４）を有する装置であって、前記基質は有機（７）であり、前記湿気反応材料はアルカリ土類材料及びアルカリ材料から選択され、前記有機基質は、ナフチルフェニルビフェニル（BPhen）系材料、８−ヒドロキシキノリン系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＡＤ系材料、Ｓｐｉｒｏ ＴＴＢ系材料、Ｓｐｉｒｏ−ＮＰＢ材料、Ｓｐｉｒｏ−ＴＰＤ系材料、ＴＭＭ４系材料、ＳＥＢ０１０系材料、及びＢＣＰ系材料から選択されることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記湿気反応材料は、カルシウム、セシウム、及びバリウムから選択されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記湿気反応材料はカルシウムであり、前記有機基質はナフチルフェニルビフェニル（BPhen）系材料であることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記湿気反応材料（５）は前記湿気反応材料の連続膜により形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
少なくとも１つのバリヤ層（６）を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
バリヤ層（６）は前記反応層（５）の上方に配置されることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項７】
バリヤ層（６）は、前記反応層（５）とコンポーネント（１）との間に配置されることを特徴とする請求項５又は６に記載の装置。
【請求項８】
前記パッケージ層（３）は、バリヤ層（６）及び反応層（５）が交互になるものにより形成されることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項９】
前記基板（２）はポリマー材料で作られることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の装置。
【請求項１０】
前記コンポーネント（１）と基板（２）との間に、さらなる湿気反応層が配置されることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の装置。
【請求項１１】
前記有機コンポーネント（１）は発光ダイオード、太陽電池、又は有機トランジスタであることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載の装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公表番号】特表２０１１−５０７２５２（Ｐ２０１１−５０７２５２Ａ）
【公表日】平成２３年３月３日（２０１１．３．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５３７４８５（Ｐ２０１０−５３７４８５）
【出願日】平成２０年１２月８日（２００８．１２．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＦＲ２００８／００１７０３
【国際公開番号】ＷＯ２００９／１０１２９９
【国際公開日】平成２１年８月２０日（２００９．８．２０）
【出願人】（５１０２２５２９２）コミサリア ア レネルジー アトミック エ オ ゼネルジー アルテルナティブ (97)
【氏名又は名称原語表記】ＣＯＭＭＩＳＳＡＲＩＡＴ Ａ Ｌ’ＥＮＥＲＧＩＥ ＡＴＯＭＩＱＵＥ ＥＴ ＡＵＸ ＥＮＥＲＧＩＥＳ ＡＬＴＥＲＮＡＴＩＶＥＳ
【住所又は居所原語表記】Ｂａｔｉｍｅｎｔ Ｌｅ Ｐｏｎａｎｔ Ｄ，２５ ｒｕｅ Ｌｅｂｌａｎｃ，Ｆ−７５０１５ Ｐａｒｉｓ， ＦＲＡＮＣＥ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２３年３月３日（２０１１．３．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１２月８日（２００８．１２．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＦＲ２００８／００１７０３
【国際公開番号】ＷＯ２００９／１０１２９９
【国際公開日】平成２１年８月２０日（２００９．８．２０）
【出願人】（５１０２２５２９２）コミサリア ア レネルジー アトミック エ オ ゼネルジー アルテルナティブ (97)
【氏名又は名称原語表記】ＣＯＭＭＩＳＳＡＲＩＡＴ Ａ Ｌ’ＥＮＥＲＧＩＥ ＡＴＯＭＩＱＵＥ ＥＴ ＡＵＸ ＥＮＥＲＧＩＥＳ ＡＬＴＥＲＮＡＴＩＶＥＳ
【住所又は居所原語表記】Ｂａｔｉｍｅｎｔ Ｌｅ Ｐｏｎａｎｔ Ｄ，２５ ｒｕｅ Ｌｅｂｌａｎｃ，Ｆ−７５０１５ Ｐａｒｉｓ， ＦＲＡＮＣＥ
【Ｆターム（参考）】
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