有機ＥＬ表示装置、および有機ＥＬ表示装置の製造方法
【課題】一方の配線が他方の配線に乗り上がる乗り上がり部が形成されて一方の配線と他方の配線とが電気的に接続される有機ＥＬ表示装置において、一方の配線の断線を生じにくくする。
【解決手段】ガラス基板１０上にＩＴＯを成膜した後、ＩＴＯをエッチングして陽極配線１を形成する。次いで、ＩＴＯの表面を研磨する。ＩＴＯは既にパターニングされているので、すなわち陽極配線１が形成されているので、陽極配線１の角部も研磨される。つまり、陽極配線１において角部Ｑに向かって立ち上がる部分は、平坦部から垂直に立ち上がるのではなく傾斜を有するテーパ状に加工され、かつ、角部が丸みを帯びた形状に変形する。次いで、陽極配線１の上層にＡｌ等の金属膜を成膜し、金属膜をエッチングして、陽極引き回し配線１１を形成する。
【解決手段】ガラス基板１０上にＩＴＯを成膜した後、ＩＴＯをエッチングして陽極配線１を形成する。次いで、ＩＴＯの表面を研磨する。ＩＴＯは既にパターニングされているので、すなわち陽極配線１が形成されているので、陽極配線１の角部も研磨される。つまり、陽極配線１において角部Ｑに向かって立ち上がる部分は、平坦部から垂直に立ち上がるのではなく傾斜を有するテーパ状に加工され、かつ、角部が丸みを帯びた形状に変形する。次いで、陽極配線１の上層にＡｌ等の金属膜を成膜し、金属膜をエッチングして、陽極引き回し配線１１を形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置、および有機ＥＬ表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス)表示装置では、陽極に接続されるか、または陽極そのものを形成する陽極配線と、陰極に接続されるか、または陰極そのものを形成する陰極配線とが、対向し、かつ、交差するように設けられる。一般に、陰極配線は金属で形成され、陽極配線はＩＴＯ（インジウム・錫・酸化物）などの透明導電膜で形成される。また、陽極配線と陰極配線との間に有機薄膜（有機ＥＬ層）が配置される。そして、有機ＥＬ表示装置は、陽極配線と陰極配線との間に配置された有機薄膜に電流が供給されると自発光する電流駆動型の表示装置である。陽極配線と陰極配線とがマトリクス状に配置された有機ＥＬパネルにおいて、陽極配線と陰極配線との交点が画素となる。すなわち、画素がマトリクス状に配置されている。有機ＥＬ素子は、陽極配線と陰極配線、およびそれらの間に存在する有機薄膜で形成される。陽極配線側を高電圧側とし、所定の電圧を両電極配線間に印加して有機薄膜に電流を供給すると発光する。逆に、陰極配線側を高電位とした場合には電流がほとんど流れず発光しない。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、ガラス基板などの基板上に形成されるが、一般に、その基板に有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路が搭載される（例えば、特許文献１参照。）。よって、ガラス基板上に、有機ＥＬ素子における陰極および陽極を駆動回路に接続して駆動回路からの信号を陰極および陽極に伝達する配線が設けられる。以下、陰極と駆動回路を接続する配線を陰極引き回し配線といい、陽極と駆動回路を接続する配線を陽極引き回し配線という。
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１６４６７９号公報（段落００２７、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図４（Ａ）は、有機ＥＬ表示装置の構成例の一部を示す平面図であり、図４（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図である。図４に示す有機ＥＬ表示装置は、ガラス基板１０上に透明導電膜（例えば、ＩＴＯ）を材質とする陽極配線１が形成されている。また、陽極配線１の上部（ガラス基板１０と反対側）に有機薄膜９が積層され、有機薄膜９の上部にＡｌ等の金属を材質とする陰極配線２が形成されている。陽極配線１と陰極配線２は、絶縁膜８で絶縁されている。さらに、それぞれの陰極配線２を分離するための隔壁１６が形成されている。絶縁膜８には絶縁膜穴１７が設けられ、絶縁膜穴１７を介して陰極配線２と陰極引き回し配線１３とが電気的に接続される。また、各画素の発光部となる開口部を形成するための絶縁膜穴１５も形成されている。
【０００６】
図４に示すように陰極配線２は陰極引き回し配線１３に接続されるが、陽極配線１は、陽極引き回し配線（図４において図示せず）に接続される。図５（Ａ）は、陽極配線１と陽極引き回し配線１１の接続の仕方の一例を示す平面図であり、図５（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図である。図５に示す例では、陽極引き回し配線１１は、陽極配線１を形成しているＩＴＯを延長したＩＴＯ部１１Ｂの上に、Ａｌ等の金属による配線１１Ａが成膜されて形成されている。そして、配線１１Ａが駆動回路に接続される。
【０００７】
図５に示す接続の仕方を用いると、すなわち金属による配線１１Ａの下部にＩＴＯ部１１Ｂが存在するような陽極引き回し配線１１を用いると、配線１１Ａの間隔が大きくなってしまう。
【０００８】
図６は、配線１１Ａの間隔を説明するための説明図である。金属による配線１１Ａの下部にＩＴＯ部１１Ｂが存在するような陽極引き回し配線１１を形成するには、まず、ＩＴＯをパターニングしてＩＴＯ部１１Ｂを形成し、次に、金属を成膜し、金属をパターニングして配線１１Ａを形成する必要がある。すると、図６（Ａ）に示すように、配線１１Ａの幅をＩＴＯ部１１Ｂの幅よりも大きくすることはできない。また、２つのＩＴＯ部１１Ｂ間にマージンを設ける必要がある。その結果、図６（Ｂ）に示すように金属による配線１１Ａのみで陽極引き回し配線１１を形成する場合の配線１１Ａの間隔ｂに比べて、図６（Ａ）に示す配線１１Ａの間隔ａは大きくなる。
【０００９】
有機ＥＬ表示装置において、実際に表示に寄与する部分に対して、表示に寄与しない部分（いわゆる額縁部分）の面積を小さくできる等の理由から、配線１１Ａの間隔は小さいことが望ましい。
【００１０】
図７は、金属のみで陽極引き回し配線１１が形成された有機ＥＬ表示装置の一部を示す平面図であり、図７（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図である。
【００１１】
金属による配線１１Ａのみで陽極引き回し配線１１が形成される場合には、図７（Ｂ）に示すように、陽極配線１を形成しているＩＴＯ部に金属による配線１１Ａが乗り上げるような構造になる。すると、陽極配線１における段差部分に金属が乗っている部分Ｐに角部Ｑが存在することになる。その部分Ｐでは、ＩＴＯで形成されている陽極配線１における平坦部に金属が乗っている部分Ｒに比べて、陽極引き回し配線１１（配線１１Ａ）の断線が生じやすくなる。図８は、断線が生じている様子を模式的に示す断面図である。
【００１２】
つまり、金属のみで陽極引き回し配線１１が形成されている場合には、図５に示されたようなＩＴＯ部と金属とで陽極引き回し配線１１が形成されている場合に比べて、陽極引き回し配線１１の間隔を小さくすることができるのであるが、断線が生じやすくなる。断線が生じやすくなることによって、有機ＥＬ表示装置の製造時の歩留まりが低くなって生産性が低下するという課題が生ずる。
【００１３】
そこで、本発明は、一方の配線に他方の配線が乗り上がる乗り上がり部が形成されて一方の配線と他方の配線とが電気的に接続される有機ＥＬ表示装置において、一方の配線の断線を生じにくくすることを目的とする。
【００１４】
また、陽極引き回し配線が乗り上がる乗り上がり部が陽極配線に形成されて陽極配線と陽極引き回し配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置において、陽極引き回し配線の断線を生じにくくすることができる有機ＥＬ表示装置、および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明による有機ＥＬ表示装置は、透明導電膜で形成された第１の配線、有機ＥＬ層、および金属で形成された第２の配線を備え、第１の配線と第２の配線のうちの一方の配線に他方の配線が乗り上がる乗り上がり部が形成されて一方の配線と他方の配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置であって、乗り上がり部で、一方の配線における立ち上がり部分が傾斜し、かつ、立ち上がり部分の上部が丸みを帯びた形状に形成されていることを特徴とする。
【００１６】
本発明による他の態様有機ＥＬ表示装置は、透明導電膜で形成された陽極配線、有機ＥＬ層、および陰極配線を備え、金属で形成され陽極配線に信号を伝達する陽極引き回し配線が乗り上がる乗り上がり部が陽極配線に形成されて陽極配線と陽極引き回し配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置であって、乗り上がり部で、陽極配線における立ち上がり部分が傾斜し、かつ、立ち上がり部分の上部が丸みを帯びた形状に形成されていることを特徴とする。
【００１７】
本発明による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、透明導電膜で形成された陽極配線、有機ＥＬ層、および陰極配線を備え、金属で形成され陽極配線に信号を伝達する陽極引き回し配線が乗り上がる乗り上がり部が陽極配線に形成されて陽極配線と陽極引き回し配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置を製造する製造方法であって、基板上に成膜した透明導電膜をパターニングして陽極配線を形成し、乗り上がり部で、陽極配線における立ち上がり部分を傾斜させ、かつ、立ち上がり部分の上部を丸みを帯びた形状に加工し、乗り上がり部で陽極配線と電気的に接続されるように、陽極配線の上層に成膜した金属をパターニングして陽極引き回し配線を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、一方の配線における立ち上がり部分が傾斜し、かつ、立ち上がり部分の上部が丸みを帯びた形状に形成されるので、一方の配線に乗り上がる他方の配線の断線を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００２０】
（実施の形態１）
図１は、本発明の第１の実施の形態（実施の形態１）の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示すフローチャートである。以下、有機ＥＬ表示装置を有機ＥＬパネルという。なお、形成される有機ＥＬパネルの構造は、例えば図４に示されたような構造である。従って、以下の説明において、図４等において付された符号を引用する。
【００２１】
図１に示すように、まず、基板（ガラス基板１０）上にＩＴＯを成膜した後（ステップＳ１）、ＩＴＯをパターニングする（ステップＳ２）。具体的には、ＩＴＯをエッチングして陽極配線１を形成する。次いで、ＩＴＯの表面を研磨する（ステップＳ３）。
【００２２】
研磨方法として、機械的研磨方法を用いてもよいし化学的研磨方法を用いてもよい。例えば、研磨剤が供給される研磨布を、ＩＴＯがパターニングされた基板に当てて、研磨布または基板を機械的に回転させることによって、ＩＴＯの表面を研磨する。ＩＴＯは既にパターニングされているので、すなわち陽極配線１が形成されているので、陽極配線１の角部も研磨される。つまり、陽極配線１において角部（例えば、図７（Ｂ）における角部Ｑに相当）に向かって立ち上がる部分（例えば、図７（Ｂ）における部分Ｐ参照）は、平坦部から垂直に立ち上がるのではなく傾斜を有するテーパ状に加工され、かつ、角部が丸みを帯びた形状（断面が円形の一部、楕円形の一部、またはそれら以外の曲線である形状）に変形する。
【００２３】
次いで、陽極配線１の上層にＡｌ等の金属膜を成膜し（ステップＳ４）、金属膜をエッチングして、陽極引き回し配線１１、および陰極引き回し配線１３を形成する（ステップＳ５）。
【００２４】
さらに、金属膜で形成された部材の層の上に、感光性のポリイミド樹脂である絶縁膜８を塗布する。絶縁膜８は、その開口部が有機ＥＬパネルの発光領域を規定するための構造物である。そして、露光現像等を行って、有機ＥＬパネルにおいて各画素の発光部となる開口部を形成するために絶縁膜穴１５を形成する。有機ＥＬパネルにおいて開口部を形成する際に、陰極引き回し配線１３における所定部位の絶縁膜を除去して絶縁膜穴１７も形成する（ステップＳ６）。
【００２５】
さらに、ネガ型（露光時に光があたった部分が残る）の感光性樹脂を塗布した後、露光現像して隔壁１６を形成する（ステップＳ７）。形成された隔壁１６によって、この後の工程で蒸着によって形成される各陰極配線２が分離される。また、隔壁１６によって、陰極引き回し配線１３も分離される。以上のようにして陽極配線１等が形成された基板の上に、有機ＥＬ層としての有機薄膜９を蒸着によって積層する（ステップＳ８）。有機薄膜９として、順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層を形成する。次に、蒸着によって、アルミニウム等の金属で陰極配線２を形成する（ステップＳ９）。陰極配線２は、絶縁膜穴１７の部位で陰極引き回し配線１３に電気的に接続される。
【００２６】
そして、ステップＳ１０の封止工程において、ガラス基板１０上に形成された有機ＥＬ層を水分から守るために、第２の基板としての他のガラス基板１枚を、ガラス基板に対して対向配置し、間隙材としてのシール材によって双方のガラス基板を接合する。そして、２枚のガラス基板とシール材とによって形成された封止空間の内部に乾燥窒素ガスを封入する。
【００２７】
図２は、本実施の形態の製造方法で製造される有機ＥＬパネルであって、金属のみで陽極引き回し配線が形成された有機ＥＬパネルの一部を示す平面図であり、図２（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図である。
【００２８】
図２（Ｂ）に示すように、陽極引き回し配線１１は、ＩＴＯで形成されている陽極配線１に乗り上げるような構造になる。しかし、図２に示す構造では、図７に示された構造とは異なり、段差を形成している部分Ｐにおいて、陽極配線１の角部Ｑが丸みを帯びた形状に変わっている。
【００２９】
図７に示された構造では、段差を形成している部分Ｐにおいて、陽極配線１の角部Ｑは角張っている形状になっているので、陽極引き回し配線１１の断線が生じやすくなる。しかし、本実施の形態では、段差を形成している部分Ｐにおいて陽極配線１は丸みを帯びた形状になっているので、陽極引き回し配線１１の断線が生じにくくなる。
【００３０】
（実施の形態２）
上記の実施の形態では、透明導電膜（上記の例ではＩＴＯ）で形成された配線１Ａに金属配線が乗り上げるようにして、透明導電膜による配線と金属配線とが電気的に接続される構造を例にした。しかし、図３に示すように、先に金属配線が形成され、その後にＩＴＯなどの透明導電膜による配線１Ａが乗り上げるように形成して金属配線と透明導電膜による配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬパネルに対して本発明を適用することができる。
【００３１】
その場合、金属膜をパターニングして金属配線等を形成した後、透明導電膜を成膜する前に、金属配線等を研磨する。研磨方法として機械的研磨方法を用いることができる。例えば、研磨剤としてアルミナ等を使用し、研磨布を用いることによって金属配線等を研磨することができる。
【００３２】
この場合にも、金属配線等において、角部に向かって立ち上がる部分はテーパ状に加工され、かつ、角部が丸みを帯びた形状に変形する程に研磨することが好ましい。
【００３３】
なお、上記の各実施の形態では、陽極配線１または金属配線の角部に丸みを付けるために研磨を用いる場合を例にした。しかし、角部に丸みを付けることができるのであれば、他の方法を用いてもよい。
【００３４】
以上に説明したように、第１および第２の実施の形態では、透明導電膜で形成された配線と金属配線とが電気的に接続される構造であって、一方の配線が他方の配線に乗り上げるような構造を有する有機ＥＬパネルにおいて、上層に設けられる配線を形成する前に、下層に形成された配線上の角部Ｑに向かって立ち上がる部分をテーパ状に形成し、かつ、角部を丸みを帯びた形状に加工するので、上層の配線の断線を生じにくくすることができる。
【００３５】
特に、第１の実施の形態のように、ＩＴＯで形成された陽極配線１における角部Ｑに向かって立ち上がる部分をテーパ状に形成し、かつ、角部Ｑを丸みを帯びた形状に加工する場合には、陽極引き回し配線１１の断線を生じにくくすることができる。
【００３６】
その結果、有機ＥＬパネルの製造時の歩留まりが高くなるので、生産性が向上する。また、金属のみで陽極引き回し配線１１が形成されているので、多数の陽極引き回し配線１１のそれぞれの間隔を小さくするという効果を維持できる。よって、多数の陽極引き回し配線１１が占める面積を小さくすることができ、表示に寄与しない部分（いわゆる額縁部分）の面積を小さくできる。また、陽極引き回し配線１１の間隔を小さくできることから、多数の陽極引き回し配線１１が占める面積を維持した場合には、陽極引き回し配線１１の幅を広げることができる。すなわち、それぞれの陽極引き回し配線１１自体の面積を大きくして陽極引き回し配線１１の抵抗値を下げることもできる。
【実施例】
【００３７】
第１の実施の形態の有機ＥＬ表示装置を作製するときに、研磨によって、ＩＴＯで形成された陽極配線１の端部の面（図２（Ｂ）の断面図において角部Ｑに向かって斜めに立ち上がっている線で表わされる面）の斜度を１２〜１５度（ガラス基板１０の表面と平行な面の方向を０度とする。）にしたところ、陽極引き回し配線１１の断線が生じにくくなることが確認された。なお、研磨しない場合、すなわち従来の有機ＥＬ表示装置の製造方法を用いた場合には、陽極配線１の端部の面の斜度は２６〜２７度であり、断線が生じた。よって、斜度を２０度程度以下にすると、陽極引き回し配線１１の断線が生じにくくなると考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明は、透明導電膜で形成された配線と金属配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬパネルに効果的に適用される。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明による有機ＥＬ表示装置の製造方法を示すフローチャート。
【図２】（Ａ）は金属のみで陽極引き回し配線が形成された有機ＥＬ表示装置の一部を示す平面図、（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図。
【図３】第２の実施の形態を示す断面図。
【図４】（Ａ）は一例としての有機ＥＬ表示装置の一部を示す平面図、（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図。
【図５】（Ａ）は陽極配線１と陽極引き回し配線の接続の仕方の一例を示す平面図、（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図。
【図６】配線の間隔を説明するための説明図。
【図７】（Ａ）は本発明を適用しない場合の金属のみで陽極引き回し配線が形成された有機ＥＬ表示装置の一部を示す平面図、（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図図。
【図８】陽極引き回し配線に断線が生じている様子を模式的に示す断面図。
【符号の説明】
【００４０】
１ 陽極配線
２ 陰極配線
８ 絶縁膜
９ 有機薄膜
１０ ガラス基板
１１ 陽極引き回し配線
１１Ａ 配線
１１Ｂ ＩＴＯ部
１３ 陰極引き回し配線
１５ 絶縁膜穴
１６ 隔壁
１７ 絶縁膜穴
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置、および有機ＥＬ表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス)表示装置では、陽極に接続されるか、または陽極そのものを形成する陽極配線と、陰極に接続されるか、または陰極そのものを形成する陰極配線とが、対向し、かつ、交差するように設けられる。一般に、陰極配線は金属で形成され、陽極配線はＩＴＯ（インジウム・錫・酸化物）などの透明導電膜で形成される。また、陽極配線と陰極配線との間に有機薄膜（有機ＥＬ層）が配置される。そして、有機ＥＬ表示装置は、陽極配線と陰極配線との間に配置された有機薄膜に電流が供給されると自発光する電流駆動型の表示装置である。陽極配線と陰極配線とがマトリクス状に配置された有機ＥＬパネルにおいて、陽極配線と陰極配線との交点が画素となる。すなわち、画素がマトリクス状に配置されている。有機ＥＬ素子は、陽極配線と陰極配線、およびそれらの間に存在する有機薄膜で形成される。陽極配線側を高電圧側とし、所定の電圧を両電極配線間に印加して有機薄膜に電流を供給すると発光する。逆に、陰極配線側を高電位とした場合には電流がほとんど流れず発光しない。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、ガラス基板などの基板上に形成されるが、一般に、その基板に有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路が搭載される（例えば、特許文献１参照。）。よって、ガラス基板上に、有機ＥＬ素子における陰極および陽極を駆動回路に接続して駆動回路からの信号を陰極および陽極に伝達する配線が設けられる。以下、陰極と駆動回路を接続する配線を陰極引き回し配線といい、陽極と駆動回路を接続する配線を陽極引き回し配線という。
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１６４６７９号公報（段落００２７、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図４（Ａ）は、有機ＥＬ表示装置の構成例の一部を示す平面図であり、図４（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図である。図４に示す有機ＥＬ表示装置は、ガラス基板１０上に透明導電膜（例えば、ＩＴＯ）を材質とする陽極配線１が形成されている。また、陽極配線１の上部（ガラス基板１０と反対側）に有機薄膜９が積層され、有機薄膜９の上部にＡｌ等の金属を材質とする陰極配線２が形成されている。陽極配線１と陰極配線２は、絶縁膜８で絶縁されている。さらに、それぞれの陰極配線２を分離するための隔壁１６が形成されている。絶縁膜８には絶縁膜穴１７が設けられ、絶縁膜穴１７を介して陰極配線２と陰極引き回し配線１３とが電気的に接続される。また、各画素の発光部となる開口部を形成するための絶縁膜穴１５も形成されている。
【０００６】
図４に示すように陰極配線２は陰極引き回し配線１３に接続されるが、陽極配線１は、陽極引き回し配線（図４において図示せず）に接続される。図５（Ａ）は、陽極配線１と陽極引き回し配線１１の接続の仕方の一例を示す平面図であり、図５（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図である。図５に示す例では、陽極引き回し配線１１は、陽極配線１を形成しているＩＴＯを延長したＩＴＯ部１１Ｂの上に、Ａｌ等の金属による配線１１Ａが成膜されて形成されている。そして、配線１１Ａが駆動回路に接続される。
【０００７】
図５に示す接続の仕方を用いると、すなわち金属による配線１１Ａの下部にＩＴＯ部１１Ｂが存在するような陽極引き回し配線１１を用いると、配線１１Ａの間隔が大きくなってしまう。
【０００８】
図６は、配線１１Ａの間隔を説明するための説明図である。金属による配線１１Ａの下部にＩＴＯ部１１Ｂが存在するような陽極引き回し配線１１を形成するには、まず、ＩＴＯをパターニングしてＩＴＯ部１１Ｂを形成し、次に、金属を成膜し、金属をパターニングして配線１１Ａを形成する必要がある。すると、図６（Ａ）に示すように、配線１１Ａの幅をＩＴＯ部１１Ｂの幅よりも大きくすることはできない。また、２つのＩＴＯ部１１Ｂ間にマージンを設ける必要がある。その結果、図６（Ｂ）に示すように金属による配線１１Ａのみで陽極引き回し配線１１を形成する場合の配線１１Ａの間隔ｂに比べて、図６（Ａ）に示す配線１１Ａの間隔ａは大きくなる。
【０００９】
有機ＥＬ表示装置において、実際に表示に寄与する部分に対して、表示に寄与しない部分（いわゆる額縁部分）の面積を小さくできる等の理由から、配線１１Ａの間隔は小さいことが望ましい。
【００１０】
図７は、金属のみで陽極引き回し配線１１が形成された有機ＥＬ表示装置の一部を示す平面図であり、図７（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図である。
【００１１】
金属による配線１１Ａのみで陽極引き回し配線１１が形成される場合には、図７（Ｂ）に示すように、陽極配線１を形成しているＩＴＯ部に金属による配線１１Ａが乗り上げるような構造になる。すると、陽極配線１における段差部分に金属が乗っている部分Ｐに角部Ｑが存在することになる。その部分Ｐでは、ＩＴＯで形成されている陽極配線１における平坦部に金属が乗っている部分Ｒに比べて、陽極引き回し配線１１（配線１１Ａ）の断線が生じやすくなる。図８は、断線が生じている様子を模式的に示す断面図である。
【００１２】
つまり、金属のみで陽極引き回し配線１１が形成されている場合には、図５に示されたようなＩＴＯ部と金属とで陽極引き回し配線１１が形成されている場合に比べて、陽極引き回し配線１１の間隔を小さくすることができるのであるが、断線が生じやすくなる。断線が生じやすくなることによって、有機ＥＬ表示装置の製造時の歩留まりが低くなって生産性が低下するという課題が生ずる。
【００１３】
そこで、本発明は、一方の配線に他方の配線が乗り上がる乗り上がり部が形成されて一方の配線と他方の配線とが電気的に接続される有機ＥＬ表示装置において、一方の配線の断線を生じにくくすることを目的とする。
【００１４】
また、陽極引き回し配線が乗り上がる乗り上がり部が陽極配線に形成されて陽極配線と陽極引き回し配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置において、陽極引き回し配線の断線を生じにくくすることができる有機ＥＬ表示装置、および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明による有機ＥＬ表示装置は、透明導電膜で形成された第１の配線、有機ＥＬ層、および金属で形成された第２の配線を備え、第１の配線と第２の配線のうちの一方の配線に他方の配線が乗り上がる乗り上がり部が形成されて一方の配線と他方の配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置であって、乗り上がり部で、一方の配線における立ち上がり部分が傾斜し、かつ、立ち上がり部分の上部が丸みを帯びた形状に形成されていることを特徴とする。
【００１６】
本発明による他の態様有機ＥＬ表示装置は、透明導電膜で形成された陽極配線、有機ＥＬ層、および陰極配線を備え、金属で形成され陽極配線に信号を伝達する陽極引き回し配線が乗り上がる乗り上がり部が陽極配線に形成されて陽極配線と陽極引き回し配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置であって、乗り上がり部で、陽極配線における立ち上がり部分が傾斜し、かつ、立ち上がり部分の上部が丸みを帯びた形状に形成されていることを特徴とする。
【００１７】
本発明による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、透明導電膜で形成された陽極配線、有機ＥＬ層、および陰極配線を備え、金属で形成され陽極配線に信号を伝達する陽極引き回し配線が乗り上がる乗り上がり部が陽極配線に形成されて陽極配線と陽極引き回し配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置を製造する製造方法であって、基板上に成膜した透明導電膜をパターニングして陽極配線を形成し、乗り上がり部で、陽極配線における立ち上がり部分を傾斜させ、かつ、立ち上がり部分の上部を丸みを帯びた形状に加工し、乗り上がり部で陽極配線と電気的に接続されるように、陽極配線の上層に成膜した金属をパターニングして陽極引き回し配線を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、一方の配線における立ち上がり部分が傾斜し、かつ、立ち上がり部分の上部が丸みを帯びた形状に形成されるので、一方の配線に乗り上がる他方の配線の断線を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００２０】
（実施の形態１）
図１は、本発明の第１の実施の形態（実施の形態１）の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示すフローチャートである。以下、有機ＥＬ表示装置を有機ＥＬパネルという。なお、形成される有機ＥＬパネルの構造は、例えば図４に示されたような構造である。従って、以下の説明において、図４等において付された符号を引用する。
【００２１】
図１に示すように、まず、基板（ガラス基板１０）上にＩＴＯを成膜した後（ステップＳ１）、ＩＴＯをパターニングする（ステップＳ２）。具体的には、ＩＴＯをエッチングして陽極配線１を形成する。次いで、ＩＴＯの表面を研磨する（ステップＳ３）。
【００２２】
研磨方法として、機械的研磨方法を用いてもよいし化学的研磨方法を用いてもよい。例えば、研磨剤が供給される研磨布を、ＩＴＯがパターニングされた基板に当てて、研磨布または基板を機械的に回転させることによって、ＩＴＯの表面を研磨する。ＩＴＯは既にパターニングされているので、すなわち陽極配線１が形成されているので、陽極配線１の角部も研磨される。つまり、陽極配線１において角部（例えば、図７（Ｂ）における角部Ｑに相当）に向かって立ち上がる部分（例えば、図７（Ｂ）における部分Ｐ参照）は、平坦部から垂直に立ち上がるのではなく傾斜を有するテーパ状に加工され、かつ、角部が丸みを帯びた形状（断面が円形の一部、楕円形の一部、またはそれら以外の曲線である形状）に変形する。
【００２３】
次いで、陽極配線１の上層にＡｌ等の金属膜を成膜し（ステップＳ４）、金属膜をエッチングして、陽極引き回し配線１１、および陰極引き回し配線１３を形成する（ステップＳ５）。
【００２４】
さらに、金属膜で形成された部材の層の上に、感光性のポリイミド樹脂である絶縁膜８を塗布する。絶縁膜８は、その開口部が有機ＥＬパネルの発光領域を規定するための構造物である。そして、露光現像等を行って、有機ＥＬパネルにおいて各画素の発光部となる開口部を形成するために絶縁膜穴１５を形成する。有機ＥＬパネルにおいて開口部を形成する際に、陰極引き回し配線１３における所定部位の絶縁膜を除去して絶縁膜穴１７も形成する（ステップＳ６）。
【００２５】
さらに、ネガ型（露光時に光があたった部分が残る）の感光性樹脂を塗布した後、露光現像して隔壁１６を形成する（ステップＳ７）。形成された隔壁１６によって、この後の工程で蒸着によって形成される各陰極配線２が分離される。また、隔壁１６によって、陰極引き回し配線１３も分離される。以上のようにして陽極配線１等が形成された基板の上に、有機ＥＬ層としての有機薄膜９を蒸着によって積層する（ステップＳ８）。有機薄膜９として、順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層を形成する。次に、蒸着によって、アルミニウム等の金属で陰極配線２を形成する（ステップＳ９）。陰極配線２は、絶縁膜穴１７の部位で陰極引き回し配線１３に電気的に接続される。
【００２６】
そして、ステップＳ１０の封止工程において、ガラス基板１０上に形成された有機ＥＬ層を水分から守るために、第２の基板としての他のガラス基板１枚を、ガラス基板に対して対向配置し、間隙材としてのシール材によって双方のガラス基板を接合する。そして、２枚のガラス基板とシール材とによって形成された封止空間の内部に乾燥窒素ガスを封入する。
【００２７】
図２は、本実施の形態の製造方法で製造される有機ＥＬパネルであって、金属のみで陽極引き回し配線が形成された有機ＥＬパネルの一部を示す平面図であり、図２（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図である。
【００２８】
図２（Ｂ）に示すように、陽極引き回し配線１１は、ＩＴＯで形成されている陽極配線１に乗り上げるような構造になる。しかし、図２に示す構造では、図７に示された構造とは異なり、段差を形成している部分Ｐにおいて、陽極配線１の角部Ｑが丸みを帯びた形状に変わっている。
【００２９】
図７に示された構造では、段差を形成している部分Ｐにおいて、陽極配線１の角部Ｑは角張っている形状になっているので、陽極引き回し配線１１の断線が生じやすくなる。しかし、本実施の形態では、段差を形成している部分Ｐにおいて陽極配線１は丸みを帯びた形状になっているので、陽極引き回し配線１１の断線が生じにくくなる。
【００３０】
（実施の形態２）
上記の実施の形態では、透明導電膜（上記の例ではＩＴＯ）で形成された配線１Ａに金属配線が乗り上げるようにして、透明導電膜による配線と金属配線とが電気的に接続される構造を例にした。しかし、図３に示すように、先に金属配線が形成され、その後にＩＴＯなどの透明導電膜による配線１Ａが乗り上げるように形成して金属配線と透明導電膜による配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬパネルに対して本発明を適用することができる。
【００３１】
その場合、金属膜をパターニングして金属配線等を形成した後、透明導電膜を成膜する前に、金属配線等を研磨する。研磨方法として機械的研磨方法を用いることができる。例えば、研磨剤としてアルミナ等を使用し、研磨布を用いることによって金属配線等を研磨することができる。
【００３２】
この場合にも、金属配線等において、角部に向かって立ち上がる部分はテーパ状に加工され、かつ、角部が丸みを帯びた形状に変形する程に研磨することが好ましい。
【００３３】
なお、上記の各実施の形態では、陽極配線１または金属配線の角部に丸みを付けるために研磨を用いる場合を例にした。しかし、角部に丸みを付けることができるのであれば、他の方法を用いてもよい。
【００３４】
以上に説明したように、第１および第２の実施の形態では、透明導電膜で形成された配線と金属配線とが電気的に接続される構造であって、一方の配線が他方の配線に乗り上げるような構造を有する有機ＥＬパネルにおいて、上層に設けられる配線を形成する前に、下層に形成された配線上の角部Ｑに向かって立ち上がる部分をテーパ状に形成し、かつ、角部を丸みを帯びた形状に加工するので、上層の配線の断線を生じにくくすることができる。
【００３５】
特に、第１の実施の形態のように、ＩＴＯで形成された陽極配線１における角部Ｑに向かって立ち上がる部分をテーパ状に形成し、かつ、角部Ｑを丸みを帯びた形状に加工する場合には、陽極引き回し配線１１の断線を生じにくくすることができる。
【００３６】
その結果、有機ＥＬパネルの製造時の歩留まりが高くなるので、生産性が向上する。また、金属のみで陽極引き回し配線１１が形成されているので、多数の陽極引き回し配線１１のそれぞれの間隔を小さくするという効果を維持できる。よって、多数の陽極引き回し配線１１が占める面積を小さくすることができ、表示に寄与しない部分（いわゆる額縁部分）の面積を小さくできる。また、陽極引き回し配線１１の間隔を小さくできることから、多数の陽極引き回し配線１１が占める面積を維持した場合には、陽極引き回し配線１１の幅を広げることができる。すなわち、それぞれの陽極引き回し配線１１自体の面積を大きくして陽極引き回し配線１１の抵抗値を下げることもできる。
【実施例】
【００３７】
第１の実施の形態の有機ＥＬ表示装置を作製するときに、研磨によって、ＩＴＯで形成された陽極配線１の端部の面（図２（Ｂ）の断面図において角部Ｑに向かって斜めに立ち上がっている線で表わされる面）の斜度を１２〜１５度（ガラス基板１０の表面と平行な面の方向を０度とする。）にしたところ、陽極引き回し配線１１の断線が生じにくくなることが確認された。なお、研磨しない場合、すなわち従来の有機ＥＬ表示装置の製造方法を用いた場合には、陽極配線１の端部の面の斜度は２６〜２７度であり、断線が生じた。よって、斜度を２０度程度以下にすると、陽極引き回し配線１１の断線が生じにくくなると考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明は、透明導電膜で形成された配線と金属配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬパネルに効果的に適用される。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明による有機ＥＬ表示装置の製造方法を示すフローチャート。
【図２】（Ａ）は金属のみで陽極引き回し配線が形成された有機ＥＬ表示装置の一部を示す平面図、（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図。
【図３】第２の実施の形態を示す断面図。
【図４】（Ａ）は一例としての有機ＥＬ表示装置の一部を示す平面図、（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図。
【図５】（Ａ）は陽極配線１と陽極引き回し配線の接続の仕方の一例を示す平面図、（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図。
【図６】配線の間隔を説明するための説明図。
【図７】（Ａ）は本発明を適用しない場合の金属のみで陽極引き回し配線が形成された有機ＥＬ表示装置の一部を示す平面図、（Ｂ）はＢ−Ｂ断面を示す断面図図。
【図８】陽極引き回し配線に断線が生じている様子を模式的に示す断面図。
【符号の説明】
【００４０】
１ 陽極配線
２ 陰極配線
８ 絶縁膜
９ 有機薄膜
１０ ガラス基板
１１ 陽極引き回し配線
１１Ａ 配線
１１Ｂ ＩＴＯ部
１３ 陰極引き回し配線
１５ 絶縁膜穴
１６ 隔壁
１７ 絶縁膜穴
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明導電膜で形成された第１の配線、有機ＥＬ層、および金属で形成された第２の配線を備え、前記第１の配線と前記第２の配線のうちの一方の配線に他方の配線が乗り上がる乗り上がり部が形成されて一方の配線と他方の配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置において、
前記乗り上がり部で、前記一方の配線における立ち上がり部分が傾斜し、かつ、立ち上がり部分の上部が丸みを帯びた形状に形成されている
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
透明導電膜で形成された陽極配線、有機ＥＬ層、および陰極配線を備え、金属で形成され前記陽極配線に信号を伝達する陽極引き回し配線が乗り上がる乗り上がり部が前記陽極配線に形成されて前記陽極配線と前記陽極引き回し配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置において、
前記乗り上がり部で、前記陽極配線における立ち上がり部分が傾斜し、かつ、立ち上がり部分の上部が丸みを帯びた形状に形成されている
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
透明導電膜で形成された陽極配線、有機ＥＬ層、および陰極配線を備え、金属で形成され前記陽極配線に信号を伝達する陽極引き回し配線が乗り上がる乗り上がり部が前記陽極配線に形成されて前記陽極配線と前記陽極引き回し配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置を製造する製造方法において、
基板上に成膜した透明導電膜をパターニングして前記陽極配線を形成し、
前記乗り上がり部で、前記陽極配線における立ち上がり部分を傾斜させ、かつ、立ち上がり部分の上部を丸みを帯びた形状に加工し、
前記乗り上がり部で前記陽極配線と電気的に接続されるように、前記陽極配線の上層に成膜した金属をパターニングして前記陽極引き回し配線を形成する
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１】
透明導電膜で形成された第１の配線、有機ＥＬ層、および金属で形成された第２の配線を備え、前記第１の配線と前記第２の配線のうちの一方の配線に他方の配線が乗り上がる乗り上がり部が形成されて一方の配線と他方の配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置において、
前記乗り上がり部で、前記一方の配線における立ち上がり部分が傾斜し、かつ、立ち上がり部分の上部が丸みを帯びた形状に形成されている
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
透明導電膜で形成された陽極配線、有機ＥＬ層、および陰極配線を備え、金属で形成され前記陽極配線に信号を伝達する陽極引き回し配線が乗り上がる乗り上がり部が前記陽極配線に形成されて前記陽極配線と前記陽極引き回し配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置において、
前記乗り上がり部で、前記陽極配線における立ち上がり部分が傾斜し、かつ、立ち上がり部分の上部が丸みを帯びた形状に形成されている
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
透明導電膜で形成された陽極配線、有機ＥＬ層、および陰極配線を備え、金属で形成され前記陽極配線に信号を伝達する陽極引き回し配線が乗り上がる乗り上がり部が前記陽極配線に形成されて前記陽極配線と前記陽極引き回し配線とが電気的に接続される構造を有する有機ＥＬ表示装置を製造する製造方法において、
基板上に成膜した透明導電膜をパターニングして前記陽極配線を形成し、
前記乗り上がり部で、前記陽極配線における立ち上がり部分を傾斜させ、かつ、立ち上がり部分の上部を丸みを帯びた形状に加工し、
前記乗り上がり部で前記陽極配線と電気的に接続されるように、前記陽極配線の上層に成膜した金属をパターニングして前記陽極引き回し配線を形成する
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２００７−２３４８１９（Ｐ２００７−２３４８１９Ａ）
【公開日】平成１９年９月１３日（２００７．９．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５３７２０（Ｐ２００６−５３７２０）
【出願日】平成１８年２月２８日（２００６．２．２８）
【出願人】（０００１０３７４７）オプトレックス株式会社 (843)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年９月１３日（２００７．９．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年２月２８日（２００６．２．２８）
【出願人】（０００１０３７４７）オプトレックス株式会社 (843)
【Ｆターム（参考）】
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