磁気記録媒体およびその製造方法
【課題】配向性、高充填性、かつ平滑性が高い磁性層の形成が可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体の製造方法であって、非磁性支持体の一方の主面側に、磁性塗料を塗布して磁性塗膜を形成し、磁性塗膜から第１溶媒を除去する乾燥処理を所定の期間行いながら、磁性塗膜に含まれる磁性粉末を所定方向に磁場配向させる、磁性層形成工程を含み、磁性層形成工程において、乾燥処理は、予熱過程と、恒率乾燥過程と、減率乾燥過程とからなり、恒率乾燥過程が行われる恒率乾燥期間は、０．２秒以上であり、磁場配向は、予熱過程開始後において、第１配向手段および第２配向手段をこの順に用いて行なわれ、（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９、および、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係を満たすことを特徴とする。
【解決手段】磁気記録媒体の製造方法であって、非磁性支持体の一方の主面側に、磁性塗料を塗布して磁性塗膜を形成し、磁性塗膜から第１溶媒を除去する乾燥処理を所定の期間行いながら、磁性塗膜に含まれる磁性粉末を所定方向に磁場配向させる、磁性層形成工程を含み、磁性層形成工程において、乾燥処理は、予熱過程と、恒率乾燥過程と、減率乾燥過程とからなり、恒率乾燥過程が行われる恒率乾燥期間は、０．２秒以上であり、磁場配向は、予熱過程開始後において、第１配向手段および第２配向手段をこの順に用いて行なわれ、（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９、および、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係を満たすことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体には磁気テープや磁気ディスク、磁気カード等がある。その一つである磁気テープの用途には、オーディオ用、ビデオ用、コンピュータ用等、種々の用途がある。コンピュータ用のデータバックアップ用テープについては、バックアップの対象となるハードディスクの大容量化にともない、磁気テープ１巻当たりの記録容量が数百ＧＢの磁気テープが商品化されている。しかし、ハードディスクのさらなる大容量化にともない、１ＴＢを超える大容量バックアップテープが要望されることは必至であり、よって、磁気テープのさらなる大容量化は不可欠である。
【０００３】
大容量化の方法には、記録再生装置へのアプローチと記録媒体へのアプローチがある。
【０００４】
記録再生装置へのアプローチは、例えば、記録信号の短波長化やトラックピッチの狭幅化である。この場合、磁気テープからの漏れ磁束が小さくなるため、再生ヘッドには、微小磁束でも高い出力が得られるＭＲヘッドが使用される場合が多い。
【０００５】
記録媒体へのアプローチは、磁性粉末の微粒子化と、磁性粉末の磁気特性の改善である。
【０００６】
従来、コンピュータ用のデータバックアップ用テープを構成する磁気粉末には、オーディオ用のテープや家庭用ビデオテープに使用されていた磁性粉末（例えば、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、酸化クロム等の磁性粉末）と同様の磁性粉末が用いられていた。現在では、粒子径が２５ｎｍ〜６５ｎｍ程度の針状の強磁性鉄系金属粉末を用いることが提案されている。
【０００７】
針状の磁性粉末は、その形状磁気異方性により磁気特性を発現させているため、粒子径が減少すると保磁力（Ｈｃ）が低下し短波長記録特性が低下する傾向がある。しかし、粒子径が５ｎｍ〜３０ｎｍ程度と小さくても結晶磁気異方性により磁気特性を発現する、板状や粒状の、六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末や窒化鉄磁性粉末等（微粒子磁性粉末）については、磁気記録媒体の材料として用いることが提案されている。
【０００８】
しかし、上記針状、粒状、または板状等のいずれの磁性粉末を使用する場合でも、磁性層中の空隙を小さくして磁性層の充填性を高くしなければ、十分な大容量化は実現できない。大容量化のためには同時に磁性粉末を高度に配向させる必要がある。さらに、前述したＭＲヘッドの使用に適応させるには、磁性層表面の粗度を小さくし平滑にする必要がある。そのため、溶媒が除去されることにより磁性層となる磁性塗膜の乾燥方法や、磁性粉末の配向方法が、種々提案されている（例えば特許文献１〜７等）。特許文献１〜３には、磁性粉末を高度に配向させる方法として、高磁場を比較的安価に得ることができる永久磁石と、一定方向の磁場を得ることができるソレノイドコイルとを組み合せて磁場配向を行うことが開示されている。特許文献４〜７には、磁性層表面の粗度を小さくし平滑にする乾燥方法が開示されている。
【０００９】
具体的には、特許文献１には、磁性塗膜に対して乾燥処理を開始する前に、１８００Ｏｅ（１．８ｋＯｅ）以上の強度の磁場（第１磁場）を作用させ、その後、磁性塗膜に対して乾燥処理を行いながら、４００Ｏｅ（０．４ｋＯｅ）以上の強度の磁場（第２磁場）を作用させる、乾燥および配向方法が開示されている。磁性塗膜に含まれる磁性粉末の保磁力は６００Ｏｅ程度である。
【００１０】
特許文献２に記載の配向・乾燥方法では、まず、高磁場コイルにて高強度磁場を磁性塗膜に印加して磁性粉末の配向を行った後、低磁場コイルにて低強度磁場を磁性塗膜に印加して、磁性粉末の戻り配向を防止するとともに、磁性塗膜の乾燥を行う。低強度磁場では、最大磁場強度の２０％以下の磁場強度を与える。高強度磁場の強度は５〜１０ｋＯｅであり、低強度磁場の強度は５０〜１０００Ｏｅである。
【００１１】
特許文献３に記載の配向・乾燥方法についても、特許文献１に記載の方法と同様に、乾燥装置による磁性塗料の乾燥開始前に第１の磁場発生手段によって第１の磁場配向を行い、次いで、乾燥装置内において第２の磁場発生手段によって第２の磁場配向を行っている。第２の磁場発生手段により発生する平均磁場強度は、第１の磁場発生手段による最大磁場強度の１／３以下である。磁性塗膜に含まれる磁性粉末の保磁力は例えば５２０Ｏｅである。
【００１２】
特許文献４には、配向用のマグネットとドライヤとを備えた配向装置を複数台備えた磁気記録媒体製造装置が開示されている。この製造装置では、各ドライヤから供給される温風の風速や温度を、配向装置毎にコントロールできる。そして、この製造装置では、複数の配向装置から供給される温風の風速が、非磁性支持体の進行方向に沿って順次増加するように設定されている。
【００１３】
特許文献５には、乾燥ゾーンを２以上含む乾燥装置が開示されている。この乾燥装置では、最も上流に低温乾燥ゾーンが配置されており、この低温乾燥ゾーンより下流側に高温乾燥ゾーンが配置されている。低温乾燥ゾーンには、低温かつ低湿のガスを吹出し可能とする低温ガス吹出ノズルが配置されており、高温乾燥ゾーンには、上記低温ガス吹出ノズルから吹出されるガスよりも高温のガスを吹出可能とする高温ガス吹出ノズルが配置されている。
【００１４】
特許文献６に開示された磁気記録媒体の製造方法の一例では、磁性塗料に含まれる溶媒の沸点を１３０℃以下としている。そして、恒率乾燥過程と減率乾燥過程とを含む乾燥処理中において、減率乾燥過程以後の雰囲気温度を４０℃〜乃至８０℃としている。また、同文献において、恒率乾燥過程における雰囲気温度は、通常、減率乾燥過程におけるそれよりも高い。よって、同文献に記載の磁気記録媒体の製造方法では、乾燥速度（溶媒の単位時間当たりの除去量）が一定になる瞬間はあるものの、積極的な恒率乾燥は行なわれていない。なお、恒率乾燥過程では、乾燥速度が一定であるのに対して、減率乾燥過程では、塗膜中の溶媒減少に伴い乾燥速度も低下している。
【００１５】
特許文献７には、磁気記録媒体およびその製造方法が開示されている。この磁気記録媒体の磁性層に含まれる残存溶媒量は５ｍｇ／ｍ2である。特許文献７には、乾燥処理中において、恒率乾燥過程における乾燥速度を１〜２０ｋｇ／ｍ2・ｈｒとすることが開示されている。
【００１６】
以上のとおり、特許文献４〜７に開示された製造装置や製造方法等では、いずれも、比較的長い恒率乾燥過程を経ることなく減率乾燥過程へと移行している。その理由は、恒率乾燥過程を長くすると、乾燥設備および配向設備の大型化や、生産速度低下等の不利益を伴うからである。
【特許文献１】特開昭６２−１７５９３１号公報
【特許文献２】特開平６−２０２７３号公報
【特許文献３】特開平７−１３４８２５号公報
【特許文献４】特開平１０−１２４８６６号公報
【特許文献５】特開２００４−１９９５８号公報
【特許文献６】特開昭６３−４２０３０号公報
【特許文献７】特開平４−２２９４１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
しかし、これらの文献に記載の方法では、磁性層における磁性粉末の充填率を十分に高くし、かつ、磁性粉末を高度に配向させることはできないし、平滑性も不十分となる。
【００１８】
また、特許文献１に記載の方法では、第１磁場が乾燥手段の外に形成され、第２磁場が乾燥手段内に形成されるので、磁性塗膜が第１磁場を通過してから第２磁場内に入るまでの間に、磁性塗膜が晒される磁場強度は零に近い値になる。そのため、磁性粉末の粒子サイズが小さく、かつ保磁力が高い場合、第１磁場による磁化の後にいわゆる戻り配向が生じ易い。また、一旦もどり配向が生じてしまうと、第２磁場による磁化では再度良好に配向させることは困難である。
【００１９】
特許文献２に記載の方法でも、乾燥工程の前に高磁場配向を行い、低磁場配向を行いながら乾燥を行うために、高強度磁場による磁化の後にいわゆる戻り配向が生じ易く、低強度磁場による磁化では、もどり配向してしまった磁性粉末を再度良好に配向させることは困難である。
【００２０】
特許文献３に記載の方法においても、第１の磁場発生手段が乾燥装置の外に設けられ、第２の磁場配向手段が乾燥手段内に設けられているので、磁性塗膜が第１の磁場発生手段内を通過してから第２の磁場配向手段内に入るまでの間に、磁性塗膜が晒される磁場強度が零に近い値となる。そのため、磁性粉末の粒子サイズが小さくかつ保磁力が高い場合、第１の磁場配向手段による磁化の後にいわゆる戻り配向が生じ易い。また、第２の磁場配向手段による磁化では、もどり配向してしまった磁性粉末を再度良好に配向させることは困難である。
【００２１】
高い配向性を得る方法として、磁場発生手段を、塗料の塗布直後から塗布された磁性塗料が完全に乾燥するまでの間、磁場が磁性塗膜に付与され続けるように配置することが考えられる。しかし、設備が非常に高価なものになり現実的ではない。
【００２２】
以上の状況に鑑み、本発明では、配向性、充填性、かつ平滑性が高い磁性層の形成が可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体の一方の主面側に磁性層が配置された磁気記録媒体の製造方法であって、前記非磁性支持体の一方の主面側に、磁性粉末と第１バインダ樹脂と第１溶媒とを含む磁性塗料を塗布して磁性塗膜を形成し、前記磁性塗膜から前記第１溶媒を除去する乾燥処理を所定の期間行いながら、前記磁性塗膜に含まれる磁性粉末を所定方向に磁場配向させる、磁性層形成工程を含み、前記磁性層形成工程において、前記乾燥処理は、前記磁性塗膜の表面温度の上昇が停止して略一定の温度に達するまで前記磁性塗膜を加熱する予熱過程と、前記予熱過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が略一定に保たれる恒率乾燥過程と、前記恒率乾燥過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が、前記恒率乾燥過程を行っている際のそれよりも高くなり、前記磁性塗膜を固化させる減率乾燥過程とからなり、前記恒率乾燥過程が行われる恒率乾燥期間は、０．２秒以上であり、前記磁場配向は、前記予熱過程開始後において、第１配向手段および第２配向手段をこの順に用いて行なわれ、前記第１配向手段内の磁場強度が最も大きい箇所から前記第２配向手段に達する間で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最小値をＷ1min、前記第２配向手段内で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最大値をＷ2max、前記第２配向手段内で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最小値をＷ2minとしたときに、これらの値が（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９、および、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係を満たすことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明では、高配向、高充填、かつ平滑性が高い磁性層の形成が可能な磁気記録媒体の製造方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明者らは、磁性塗料の塗布後に行なわれる、乾燥処理の条件や磁場配向の条件等について検討を重ねた結果、乾燥処理について従来は想定し得なかった条件を選択し、上記乾燥処理の開始後に、磁場配向処理を開始し、かつ、磁場配向処理を所定の条件で行うことにより、高配向、高充填、かつ平滑性が高い磁性層が得られることを見出した。本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する前に、先ず、図７を用いて従来の磁気記録媒体の製造方法における乾燥処理について説明する。
【００２６】
なお、図７において、実線からなる曲線は、塗膜中の溶媒の含有率の変化を示しており、点線からなる曲線は塗膜表面の温度変化を示している。
【００２７】
非磁性支持体の一方の主面側に磁性塗料を塗布することによって形成された磁性塗膜に対して、乾燥機内で乾燥処理が開始されると、図７に示すように、塗膜表面は、溶媒が急激に蒸発し始める温度に達するまで上昇する（予熱期間）。この予熱期間中における塗膜中の含溶媒率の減少は少ない。この期間を過ぎると、溶媒の蒸発が本格化する。従来例では、温度が比較的高く、かつ、風速が比較的大きい熱風を塗膜に供給している。そのため、塗膜から溶媒が蒸発することによって塗膜から奪われる蒸発潜熱よりも、塗膜が周囲から受け取る熱量の方が圧倒的に多い。よって、極めて短時間のうちに溶媒の蒸発が行われる。塗膜の表面温度Ｔｓについては急上昇し、塗膜の含溶媒率は急激に減少する。そのうちに、塗膜中の溶媒はほとんどなくなり、塗膜が固定化され、塗膜の表面温度Ｔｓは乾燥機内の雰囲気温度に近づく（減率乾燥期間）。なお、「固定化」とは、磁化容易軸が戻り配向しない状態となることを意味する。
【００２８】
塗膜に含まれる磁性粉末の磁化容易軸を揃える磁場配向については、従来、塗布終了後から減率乾燥期間が終了する前までの間に行われていた。磁場配向は塗膜に外部から磁場を印加して行う。図７に示した従来の磁気記録媒体の製造方法における乾燥処理では、比較的短時間で溶媒の除去（乾燥）が完了するので、塗布速度を大きくすることができ、乾燥機長も短くでき、磁場配向に必要な設備も小さくてすむ。そのため、このような乾燥処理を行う従来の磁気記録媒体の製造方法は、生産効率が良く、設備投資も少なくて済むという利点を有している。しかし、この製造方法は、生産性の効率化およびコスト低減に有利である一方で、磁気記録媒体を構成する磁性層における磁性粉末のさらなる高配向化、高充填化、および平滑化については不十分であった。
【００２９】
一方、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法では、磁性塗膜の表面温度Ｔｓについて、図１に示すような温度管理がなされた乾燥処理を経て、磁性層を得る。なお、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体上に直接磁性層が設けられた単層構造の磁気記録媒体のほか、非磁性支持体上に非磁性層を介して磁性層が設けられた重層構造の磁気記録媒体等にも適用される。
【００３０】
図１に示すように、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においても従来の製造方法の場合と同様に、まず、磁性塗膜の表面の温度は、磁性塗膜中の第１溶媒が急激に蒸発し始める温度にまで上昇される（予熱過程）。その後、磁性塗膜の表面温度Ｔｓは、０．２秒以上（恒率乾燥期間）略一定に保たれる。恒率乾燥過程中は、磁性塗膜から第１溶媒が蒸発することによって磁性塗膜から奪われる蒸発潜熱と、磁性塗膜が周囲から受け取る熱量との釣合いがほぼ取れている。そのため、磁性塗膜の表面温度Ｔｓは略一定に保たれる。この間は、磁性塗膜の含溶媒率がほぼ定率で減少する。その後、磁性塗膜中の第１溶媒がほとんどなくなると、塗膜は固定化され、磁性塗膜の表面温度Ｔｓは乾燥機内雰囲気の温度に近づいていく（減率乾燥過程）。
【００３１】
このように、乾燥処理中に、恒率乾燥過程があると、第１溶媒を含む流動性のある磁性塗膜中で沸騰等に伴う激しい流動が生じたり、気泡が発生したりすることが抑制される。また、乾燥処理中に、恒率乾燥過程を積極的に設けると、磁性塗膜の含溶媒率がほぼ定率で減少する期間が長くなる。そのため、磁性溶媒の除去に伴って磁性塗膜中に発生し得る空隙も少なくなり、磁性層中に磁性粉末をより密に充填させることが可能となる。さらに、得られる磁性層の表面の平滑性も向上するので、磁気記録媒体の出力が向上する。
【００３２】
恒率乾燥期間は、０．２秒以上である。恒率乾燥期間が０．２秒以上であると、乾燥中の塗膜内で激しい対流が生じることを抑制でき、そのため、充填性が高く、表面の平滑性が高い磁性層を生産性よく形成できる。恒率乾燥期間の上限について特に制限はないが、長すぎると、生産性が著しく低下する。また、固定化に時間がかかるため、配向磁石がたくさん必要になり、設備にコストがかかる。そのため、恒率乾燥期間の上限は１０秒以下であると好ましい。また、充填性、平滑性、および配向性をよりいっそう高める観点から、恒率乾燥期間は、１秒以上１０秒以下であるとより好ましい。
【００３３】
次に、図８Ａおよび図８Ｂを用いて、従来の磁気記録媒体の製造方法の一例について説明する。図８Ａは、従来の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する概念図であり、図８Ｂは、図８Ａに示した乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフである。
【００３４】
図８Ａに示すように、まず、塗布ゾーンＡ'において、帯状の非磁性支持体７１の一方の主面側に磁性粉末を含む磁性塗料８１を塗布して、磁性塗膜を形成する。次いで、非磁性支持体７１と磁性塗膜とを含む帯状の積層体ｔ１を、１対の永久磁石を備えた配向手段（第１配向手段）の間を通過させて配向処理を行う。第１配向手段内を通過した積層体ｔ１を、乾燥機６１内に搬送する。搬送手段は、例えば、複数のガイドロール５１等から構成されている。
【００３５】
乾燥機６１内には、複数の熱風供給部１１１、溶媒蒸気を含んだ熱風を排気する排気部２１、第２配向手段３１ｂが配置されている。第２配向手段３１ｂは、複数のソレノイドコイル３１１を備えている。複数の熱風供給部１１１は、第２配向手段３１ｂよりも上流側に配置された熱風供給部１１ａと、積層体ｔ１の進行方向に隣合うソレノイドコイル３１１間に配置された熱風供給部１１ｂと、第２配向手段３１ｂよりも下流側に配設された熱風供給部１１ｃとを含む。ここで、「上流側」とは、積層体Ｔが搬送される方向において、塗布ゾーンＡ'に近い側をいい、「下流側」とは、塗布ゾーンＡ'から遠い側をいう。
【００３６】
図８Ａに示すような従来の磁気記録媒体の製造方法の一例では、コータ４１による塗布の作業性、および、熱風供給部の配置性等が考慮された上で、１対の永久磁石３１ａを備えた配向手段（第１配向手段）が塗布ゾーンＡ'と乾燥機６１の間に配置されている。また、熱風供給部１１ｂによる風量を確保するために、積層体ｔ１の進行方向に隣り合うソレノイドコイル３１１の間隔は比較的大きく設計されている。そのため、図８Ｂに示すように、積層体ｔ１が第１配向手段３１ａ内を通過してから第２配向手段３１ｂ内に入るまでの間に、磁性塗膜が晒される磁場強度が零近くまで低下している。また、積層体ｔ１の進行方向に隣り合うソレノイドコイル３１１の間隔が大きいので、第２配向手段３１ｂを用いた磁場配向の際に磁性塗膜が晒される磁場強度の最大値と最小値との差は極めて大きい。そのため、磁性粉末を高度に配向させ、平滑で充填度の高い塗膜を得ることは困難であった。
【００３７】
本発明の磁気記録媒体の製造方法では、磁場配向を、予熱過程開始後において、第１配向手段３ａと第２配向手段３ｂとをこの順に用いて行う（図２Ａ参照）。そして、磁性塗膜が第１配向手段３ａ内の磁場強度が最も大きい箇所から第２配向手段３ｂ内に入るまでの間で磁性塗膜が晒される磁場強度の最小値をＷ1min、第２配向手段３ｂ内で磁性塗膜が晒される磁場強度の最大値をＷ2max、第２配向手段３ｂ内で磁性塗膜が晒される最小値をＷ2minとしたときに、これらの値が（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９、および、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係を満たすようにする（図２Ｂ参照）。
【００３８】
このように、予熱処理を開始して塗料の流動性を高めた状態で磁場配向を開始し、さらに（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９の関係が満たされるように、第１配向手段３ａを乾燥機６内に配置し、第１配向手段３ａと第２配向手段３ｂとを接して配置するか（図２Ａ参照）、可能なかぎり相互に近づけて配置する（図６Ａ参照）。これにより、磁性塗膜が第１配向手段３ａ内の磁場強度が最も大きい箇所を通過してから第２配向手段３ｂ内に入るまでの間において、磁性塗膜が晒される磁場強度の著しい低減が抑制されるため、いわゆる戻り配向を効果的に抑制できる。さらに、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係が満たされるように、例えば、第２配向手段３ｂを構成する複数のソレノイドコイル３０１を密着させて配置する。これにより、第２配向手段３ｂにより印加され磁性塗膜が晒される磁場強度の変動を抑制できるので、磁性塗膜が固定化されることにより磁性層となるまで、上記戻り配向を抑制できる。よって、後述する実施例における結果にも示されるように、高充填で、表面の平滑性が高く、かつ磁性粉末が高度に配向した磁性層を形成できる。
【００３９】
第１配向手段３ａにより印加され磁性塗膜が晒される磁場強度は、３９８ｋＡ／ｍ〜１１９４ｋＡ／ｍ（５ｋＯｅ〜１５ｋＯｅ）が好ましく、第２配向手段により印加され磁性塗膜が晒される磁場強度は、１１９ｋＡ／ｍ〜７９６ｋＡ／ｍ（１.５ｋＯｅ〜１０ｋＯｅ）が好ましい。第１配向手段３ａにより印加される磁場強度が上記範囲内にあると、磁性粉末が高度に配向し、磁性塗膜内の磁気的な凝集が抑制されることにより平滑性の高い磁性層を得ることができる。第２配向手段３ｂにより印加される磁場強度が上記範囲内にあると、第１配向手段により高度に配向した磁性粉末の戻り配向による配向の乱れを効果的に防ぐことができる。また、第２配向手段３ｂにより印加される磁場強度が、第１配向手段３ａにより印加される磁場強度の３０％以上１００％未満であると、磁性粉末を低廉かつ効率良く配向させることができ、好ましい。
【００４０】
第１配向手段３ａとしては、複数の永久磁石を含む配向手段および複数のソレノイドコイルを備えた配向手段のうちの少なくとも１種が挙げられるが、比較的低コストで高強度の磁場が得られる点で、永久磁石の同極を対向させる配向手段（反発磁石）が好ましい。第２配向手段３ｂとしては、複数の永久磁石を含む配向手段および複数のソレノイドコイルを備えた配向手段のうちの少なくとも１種が挙げられるが、比較的磁場強度の一定な磁場が一定の長さで得られる複数のソレノイドコイルを備えた配向手段がましい。
【００４１】
塗膜の厚さ（以下「ウエット厚さ」とも言う。）は乾燥すると、乾燥前の１／３〜１／８になる。磁気記録媒体が、図３に示すように、非磁性支持体１１上に直接磁性層１３が配置された単層構造の場合、磁性層１３の厚さ（以下「ドライ厚さ」ともいう。）は、好ましくは０．１μｍ〜３μｍ、より好ましくは０．５μｍ〜２μｍである。よって、磁性塗料の塗布は、ウエット厚さが好ましくは０．３μｍ〜２４μｍ、より好ましくは１．５μｍ〜１６μｍ、となるように行なわれると好ましい。磁気記録媒体が、図４に示すように、非磁性支持体１１上に非磁性層１２を介して磁性層１３が設けられた構造の場合、磁性層の厚さと非磁性層の厚さの総和は、好ましくは０．１μｍ〜３μｍ、より好ましくは０．５μｍ〜２．０μｍである。そのため、非磁性塗膜（乾燥後、非磁性層となる）の上に、ウエット・オン・ウエットで磁性塗膜が形成される場合には、磁性塗膜厚さと非磁性塗膜の厚さの総和は、好ましくは０．３μｍ〜２４μｍであり、より好ましくは１．５μｍ〜１６μｍである。この場合、磁性塗膜の厚さは、好ましくは０．０３μｍ〜１．６μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜０．８μｍであり、非磁性塗布膜の厚さは、好ましくは０．２７μｍ〜２２．４μｍ、より好ましくは１．４μｍ〜１５．２μｍである。
【００４２】
恒率乾燥過程中の磁性塗膜の表面温度Ｔｓは、磁性塗膜に含まれる溶媒（以下「第１溶媒」とも言う。）の沸点等に応じて異なる。第１溶媒は１種の溶媒からなるか、または、沸点の異なる２種以上の溶媒からなるが、第１溶媒に含まれる１種以上の溶媒のうちの沸点が最も低い溶媒の沸点Ｔbと磁性塗膜の表面温度Ｔsと差（Ｔb−Ｔs）は、１℃〜５０℃であると好ましい。具体的には、恒率乾燥過程中の磁性塗膜の表面温度Ｔsは３０℃〜８０℃であると好ましいので、上記Ｔbは、この温度範囲のいずれかの温度よりも１℃〜５０℃低いと好ましい。このような溶媒を選択することにより、恒率乾燥期間の制御がしやすくなる。
【００４３】
恒率乾燥過程中の磁性塗膜の表面温度Ｔsの制御は、従来公知の方法を用いることができる。基本的には、磁性塗膜から第１溶媒が蒸発することによって磁性塗膜から奪われる蒸発潜熱と、磁性塗膜が周囲から受け取る熱量との釣合いがほぼ取れるようにすればよい。具体的には、加熱手段としてドライヤ等を用い、熱風の温度や風速、磁性塗膜と加熱手段との距離等を適宜調節すればよい。加熱手段として、遠赤外線ヒータを用いてもよい。これらの加熱手段はそれぞれ単独で用いてもよいし、両方を組み合せて用いてもよい。
【００４４】
蒸発した第１溶媒を乾燥処理雰囲気外に排出させる方法についても、特に制限はなく、従来公知の方法を用いて行えばよい。例えば、蒸気の状態で上記雰囲気外に排出させてもよいし、凝縮手段によって一旦凝縮させてから上記雰囲気外に排出させてもよい。
【００４５】
磁性塗膜の形成に用いられる磁性塗料の全成分のうちの、第１溶媒を除く残りの成分（以下、「溶媒除外成分」ともいう。）の総濃度は、１０〜５０ｗｔ％が好ましく、２０〜３５ｗｔ％がより好ましい。磁性塗料中の溶媒除外成分濃度が上記範囲内の濃度であると、磁性塗料中における溶媒除外成分の分散性がよく、より均質な磁性塗膜を形成できる。
【００４６】
磁性塗膜の形成に用いられる磁性塗料中の第１溶媒の含有量は、磁性塗料の塗布が良好に行えるという理由から、５０〜９０ｗｔ％が好ましく、６５〜８０ｗｔ％がより好ましい。
【００４７】
磁性塗料に含まれる第１溶媒は、従来公知の磁性層形成用の塗料に含まれる溶媒であれば特に制限はないが、例えば、メチルエチルケトン（沸点８０℃）、シクロヘキサノン（沸点１５６℃）、メチルイソブチルケトン（沸点１１６℃）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン（沸点６６℃）、ジオキサン（沸点１０１℃）等のエーテル系溶媒、酢酸エチル（沸点７７℃）、酢酸ブチル（沸点１２７℃）等の酢酸エステル系溶媒、トルエン（沸点１１１℃）等が挙げられる。これらは、一種類だけで用いてもいいし、２種以上組み合せて用いてもよい。なかでも、第１バインダ樹脂に対する溶解性、磁性粉末に対する分散性、蒸発速度、およびコストの観点から、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、またはトルエン等が好ましい。
【００４８】
上記のとおり、磁気記録媒体が単層構造の場合、磁性塗膜の厚みは、０．３μｍ〜２４μｍであると好ましく、１．５μｍ〜１６μｍであるとより好ましい。また、磁気記録媒体が重層構造の場合、磁性塗膜の厚さは、０．０３μｍ〜１．６μｍであると好ましく、０．１μｍ〜０．８μｍであるとより好ましい。磁性塗膜の厚みがこれらの範囲内にあると、より均質な磁性塗膜を形成できる。
【００４９】
次ぎに、図２Ａおよび図２Ｂを用いて、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例についてより具体的に説明する。図２Ａは、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する概念図であり、図２Ｂは、後述する乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフである。
【００５０】
まず、塗布ゾーンＡにて、帯状の非磁性支持体７の一方の主面側に磁性粉末を含む磁性塗料８を塗布して、磁性塗膜を形成する。磁性塗料の塗布方法は、例えば、グラビアコート法、ダイコート法等の従来から公知の方法にて行う。
【００５１】
次いで、非磁性支持体７と磁性塗膜とを含む帯状の積層体Ｔ１を、乾燥機６内に搬送する。搬送手段は、例えば、複数のガイドロール５等から構成されている。
【００５２】
乾燥機６内には、複数の熱風供給部１、溶媒蒸気を含んだ熱風を排気する排気部２、第１配向手段３ａ、第２配向手段３ｂが配置されている。第１配向手段３ａは、例えば、一対の永久磁石を備えた配向手段であり、第２配向手段３ｂは、複数のソレノイドコイル３０１を備えた配向手段である。複数の熱風供給部１は、第１配向手段３ａおよび第２配向手段３ｂよりも上流側に配置された第１熱風供給部１ａと、第１配向手段３ａよりも下流側に配設された第２熱風供給部１ｂ、第３熱風供給部１ｃとを含む。ここで、「上流側」とは、積層体Ｔ１が搬送される方向において、塗布ゾーンＡに近い側をいい、「下流側」とは、塗布ゾーンＡから遠い側をいう。
【００５３】
熱風供給部１は、例えば、熱風を吹出し可能なドライヤである。熱風供給部１や排気部２の数および位置等については、塗布速度、乾燥ゾーン長さ等を考慮して適切に決定される。
【００５４】
乾燥室６に入った積層体Ｔ１は、第１配向手段３ａよりも上流側に配置された第１熱風供給部１ａにより予熱される。第１熱風供給部１ａから供給される熱風の温度および風速は、比較的低く、風速は比較的遅いほうが好ましい。熱風の風速、塗膜の厚さ、塗膜中の溶媒組成、塗布速度等により異なるが、温度は３５〜９０℃が好ましく、風速は０．５〜１５ｍ／秒であると好ましい。熱風の温度および風速が上記範囲内にあると、予熱が十分に行え、かつ、恒率乾燥期間の好ましい範囲の制御が容易に行え、かつ、製造設備が大きくなりすぎることを抑制できる。
【００５５】
第１熱風供給部１ａの吹出し口と塗膜との距離は１〜１００ｃｍが好ましい。上記距離が１〜１００ｃｍであると、予熱過程が充分に行え、かつ、熱風が塗膜に強く当り過ぎることによって生じる乾燥むらの発生を抑制できる。
【００５６】
予熱過程は、第１配向手段３ａよりも上流側で終了すると、後の恒率乾燥期間を好ましい範囲に制御しやすくなるという理由から好ましい。
【００５７】
次ぎに、予熱されまたは予熱中の積層体Ｔ１は、例えば、第２熱風供給部１ｂから供給される熱風により、例えば、０．２秒〜１０秒間、磁性塗膜の表面温度Ｔｓが略一定に保たれるように加熱される。上記「略一定」には、厳密に一定である場合のみならず、略一定の場合も含まれ、例えば、±１℃の範囲内にある場合も含まれる。
【００５８】
第２熱風供給部１ｂから吹出される熱風は、複数のソレノイドコイル３０１で形成される筒状の内部空間を下流側から上流側に向って流れ、第２配向手段３ｂよりも上流側に配置された排気部２より排気される。恒率乾燥期間は、例えば、第２熱風供給部１ｂから供給される熱風の温度および風速により制御できる。
【００５９】
第２熱風供給部１ｂから供給される熱風の、好ましい温度、好ましい風速は、磁性塗膜の厚さ、磁性塗膜中の溶媒組成、磁性塗料の塗布速度等により異なるが、温度は４０〜１００℃が好ましく、風速は０．５〜１５ｍ／秒が好ましい。熱風の温度および風速が上記範囲内であれば、高充填、かつ平滑性の高い磁性層を、生産性よく形成できる。
【００６０】
第２熱風供給部１ｂの吹出し口と塗膜との距離は１〜１００ｃｍが好ましい。上記距離が１〜１００ｃｍであると、恒率乾燥が充分に行え、かつ、熱風が塗膜に強く当り過ぎることによって生じる乾燥むらの発生を抑制できる。
【００６１】
恒率乾燥過程中の磁性塗膜の表面温度Ｔｓは、磁性塗膜の厚さ、磁性塗膜中の溶媒組成、磁性塗料の塗布速度により異なるが、３０℃〜８０℃であると好ましく、４０℃〜７０℃であるとより好ましい。塗膜の表面温度Ｔｓをこれらの範囲に制御することにより、恒率乾燥期間を好ましい範囲に制御することができるからである。
【００６２】
恒率乾燥過程は、第２配向手段３ｂにより形成される磁場内で終了すると、戻り配向が生じないという理由から好ましい。
【００６３】
次に、第２熱風供給部１ｂ下を通過した積層体Ｔ１は、第３熱風供給部１ｃから吹出された熱風によりさらに加熱される。第３熱風供給部１ｃにより供給される熱風の温度は比較的高く、風速も比較的速いほうが好ましい。恒率乾燥時よりも、より多くの熱を磁性塗膜に供給することにより、磁性塗膜中に残った溶媒を比較的短時間でできるだけ除去して、減率乾燥期間を短縮化するためである。これにより、恒率乾燥を所定の期間行うことにより伴う設備の大型化を抑制できる。また、磁性塗膜中の最終残存溶媒量を少なくして、磁性層の走行耐久性を向上させることができる。ここで、磁性塗膜中の最終残存溶媒量とは、乾燥処理を経ても除去しきれなかった微量溶媒の残存量である。
【００６４】
第３熱風供給部１ｃから供給される熱風の好ましい温度、好ましい風速は、磁性塗膜の厚さ、磁性塗膜に含まれる溶媒の種類（溶媒組成）、磁性塗料の塗布速度等により異なるが、恒率乾燥過程の最中よりも、より多くの熱が磁性塗膜に供給されるべく、通常、温度は６０〜１２０℃が好ましく、風速は０．５〜３０ｍ／秒が好ましい。熱風の温度および風速が上記範囲内であれば、高充填で、平滑性が高く、かつ、最終残存溶媒量が少ないことにより走行耐久性が高い磁性層を形成できる。
【００６５】
第３熱風供給部１ｃと積層体Ｔ１との距離は１ｃｍ〜１００ｃｍが好ましい。上記距離が１〜１００ｃｍであると、減率乾燥処理が充分に行え、かつ、熱風が塗膜に強く当り過ぎることによって生じる乾燥むらの発生を抑制できる。
【００６６】
必要に応じて、製造ラインの、第３熱風供給部１ｃよりさらに下流側に、ドライヤや遠赤外線ヒータ等の加熱手段を設けて、磁性塗膜中の微量の最終残存溶媒を除去すれば、磁性層の耐久性を向上させることができる。
【００６７】
なお、図２Ａを用いて説明した例では、熱風の供給方向は、積層体Ｔ１の進行方向と直交しているが、熱風の供給方向はこの例に限定されない。恒温乾燥期間を好ましい範囲に制御するために、例えば、熱風供給部１から供給される熱風が下流側から上流側へよりスムーズに流れるように、熱風供給部１を傾けてもよい。また、排気部２の位置および個数を適切に設定することで、恒温乾燥期間を所望の範囲に調整することもできる。
【００６８】
また、第１熱風供給部１ａ，第２熱風供給部１ｂ，第３熱風供給部１ｃから供給される熱風の温度および風速は、必ずしも相互に異なっている必要はなく、例えば、いずれも同じであってもよい。しかし、例えば、恒率乾燥期間を所定時間以上確保しながら、第１熱風供給部１ａから供給される熱風、第２熱風供給部１ｂから供給される熱風、および第３熱風供給部１ｃから供給される熱風について、温度および風速を同じにすると、乾燥機の長さが長くなり、さらには、磁場配向を行うために必要な設備も大きくなる。そのため、熱風供給部等の加熱手段によって供給される熱量は、第１熱風供給部１ａ、第２熱風供給部１ｂ，第３熱風供給部１ｃの順に大きくなると好ましい。
【００６９】
以上、非磁性支持体の一方の主面上に直接磁性層が配置される単層構造の磁気記録媒体の製造方法を例に挙げて説明したが、非磁性支持体の一方の主面上に非磁性層を介して磁性層が配置される重層構造の磁気記録媒体においても、同様にして製造できる。
【００７０】
積層体Ｔ１の進行方向における第１配向手段３ａと第２配向手段３ｂとの距離については、（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９の関係が満たされる限り、特に制限はない。しかし、第１配向手段３ａと第２配向手段３ｂとは、上記差（Ｗ2max−Ｗ1min）が可能な限り小さくなるよう、相互に接するように配置するか、可能なかぎり相互に近づけて配置されていると好ましい。また上記差（Ｗ2max−Ｗ1min）の値は正の数である場合もあるし、負の数である場合もある。
【００７１】
第２配向手段３ｂが例えば、複数のソレノイドコイル３０１を備えている場合、積層体Ｔ１の進行方向に相互に隣合うソレノイドコイル３０１間の距離は、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係が満たされる限り、特に限定されない。しかし、第２配向手段３ｂ内で磁性塗膜が晒される磁場強度Ｗ2maxとＷ2minとの差（Ｗ2max−Ｗ2min）が可能な限り小さくなるよう、上記距離は可能なかぎり短いと好ましい。
【００７２】
図５Ａは、本発明の磁気記録媒体の製造方法の他の一例を説明する概念図であり、図５Ｂは、図５Ａ中に記載された乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフである。
【００７３】
図５Ａに示した磁気記録媒体の製造方法では、複数の第２熱風供給部１ｂを用いており、積層体Ｔ１の進行方向に沿って隣り合うソレノイドコイル３０１の間に第２熱風供給部１ｂが配置されている。以上のこと以外は、図５Ａに示した磁気記録媒体の製造方法は図２Ａに示した磁気記録媒体の製造方法と同様である。この場合、積層体Ｔ１の進行方向に沿って隣合うソレノイドコイル３０１間の間隔が、図２Ａおよび図２Ｂを用いて説明した例におけるそれよりも大きいので、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2maxの値も大きくなる。しかし、本例は、図２Ａを用い説明された例よりも、恒率乾燥期間の制御がより容易である点で好ましい。
【００７４】
図６Ａは、本発明の磁気記録媒体の製造方法のさらに別の一例を説明する概念図であり、図６Ｂは、図６Ａ中に示された乾燥機６内における磁場強度の変化を示したグラフである。
【００７５】
図６Ａに示した磁気記録媒体の製造方法は、（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９の関係が満たされる範囲内において、第１配向手段３ａと第２配向手段３ｂとが相互に離れて配置されていること以外は、図２Ａを用いて説明した例と同じである。
【００７６】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法によって製造される磁気記録媒体の一例について説明する。
【００７７】
この磁気記録媒体の製造方法の一例によって製造される磁気記録媒体１０は、図４に示したように、非磁性支持体１１の一方の主面上に、非磁性層１２、磁性層１３がこの順に配置されている。そして、非磁性支持体１１の他方の主面上には、バックコート層１４が配置されている。しかし、非磁性層１２およびバックコート層１４は必ずしも必要ではなく、あってもなくてもよい。
【００７８】
なお、本願において、強磁性粉末の磁気特性は、いずれも外部磁場１２７３．３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）をかけたときに、試料振動形磁束計で測定した値である。
【００７９】
また、本願において、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて撮影した写真から１００個の粒子の最大径（針状粉では長軸径、板状粉では板径）をそれぞれ実測し、これらの値を平均した値（数平均粒子径）である。
【００８０】
〈非磁性支持体〉
非磁性支持体１１の厚さは、磁気記録媒体の用途によって異なるが、通常、２μｍ〜８μｍであり、より好ましくは２．５μｍ〜６μｍである。非磁性支持体１１の厚さが薄すぎると磁性塗膜の形成や、非磁性塗料を用いて形成される非磁性塗膜の形成が難しく、磁気記録媒体の強度が小さくなるからである。また、非磁性支持体１１の厚さが厚すぎると、磁気記録媒体全厚が厚くなり、例えば磁気テープの場合１巻当りの記録容量が小さくなるからである。
【００８１】
非磁性支持体１１の長手方向のヤング率は、磁気テープの走行が安定化するため、６ＧＰａ（６１２ｋｇ／ｍｍ2）以上であると好ましく、８ＧＰａ（８１６ｋｇ／ｍｍ2）以上であるとより好ましい。ヘリキャルスキャン方式で情報が記録される磁気テープでは、（長手方向（ＭＤ）のヤング率／幅方向（ＴＤ）のヤング率）が、０．６０〜０．８０であると好ましく、０．６５〜０．７５であるとより好ましい。（ＭＤのヤング率／ＴＤのヤング率）が０．６０〜０．８０であると、メカニズムは現在のところ不明であるが、磁気ヘッドのトラックの入側と出側との間の出力のばらつき（フラットネス）が小さくなる。上記フラットネスは、（ＭＤのヤング率／ＴＤのヤング率）が０．７０付近のときに最小になる。リニアレコーディング方式により情報が記録される磁気テープでは、理由は明らかではないが、（ＭＤのヤング率／ＴＤのヤング率）が０．７０〜１．３０であると上記フラットネスを小さく抑えることができ、好ましい。これらの特性を満足する非磁性支持体１１には、例えば、二軸延伸された芳香族ポリアミドベースフィルム、二軸延伸された芳香族ポリイミドフィルム等が挙げられる。
【００８２】
〈非磁性層〉
後述のとおり、厚さ損失を少なくし、または、短波長で情報を記録した際の分解能を大きくするためには、磁性層１３の厚さを０．１μｍ以下にすると好ましい。磁性層１３の厚さを０．１μｍ以下とする場合、磁性層１３の耐久性を確保し、かつ、形成過程において磁性塗料を均一性よく塗布可能とするために、非磁性支持体１１と磁性層１３との間に非磁性層１２を設けると好ましい。非磁性層１２は、例えば、非磁性粉末とバインダ樹脂（第２バインダ樹脂）等を含んでいる。非磁性層１２に含まれる第２バインダ樹脂には、例えば磁性層１３を構成するバインダ樹脂（第１バインダ樹脂）と同様のバインダ樹脂が用いられる。
【００８３】
非磁性層の厚さは０．２μｍ以上１．０μｍ以下が好ましく、０．８μｍ以下がより好ましく、０．５μｍ以下がさらにより好ましい。非磁性層の厚さが０．２μｍ以上１．０μｍ以下であると、非磁性層１２を設けることによる磁性層１３の厚さむらの低減効果が充分に発揮され、磁性層１３の耐久性が高くなり、かつ高い記録容量（磁気テープ１巻当り）を確保できる。なお、非磁性支持体の表面の凹凸は、磁性層の平滑性のレベルと比較するとかなり大きい。
【００８４】
非磁性層には、非磁性層１２の膜厚の均一性の向上、表面平滑性の向上、剛性の制御、寸法安定性の制御のために、粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍ（より好ましくは１０ｎｍ〜４９ｎｍ）の非磁性板状粒子が含まれていると好ましい。非磁性板状粒子の成分としては、酸化アルミニウム、セリウムなどの希土類元素、酸化ジルコニウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化マンガン、酸化鉄等の酸化物、または、インジウムと
スズとの複合酸化物が挙げられる。
【００８５】
非磁性層の導電性を向上させるために、平均粒子径１０〜１００ｎｍのグラファイトのような板状炭素性粉末や、平均粒子径１０〜１００ｎｍの板状ＩＴＯ（インジウム−スズ複合酸化物）粉末等を非磁性板状粉末として添加してもよい。非磁性層には、非磁性層中の全無機粉体の全重量のうち、板状ＩＴＯ粉末が１５〜９５重量％含まれていると好ましい。
【００８６】
板状ＩＴＯ粒子に代えて、粉末状の炭素材料を用いてもよい。粉末状の炭素材料には必要に応じてカーボンブラックが含まれていてもよい。カーボンブラックは粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。
【００８７】
非磁性層には、酸化鉄、酸化アルミニウムなどの酸化物粒子が含まれていてもよい。酸化物粒子の平均粒子径は、１０ｎｍ〜１００ｎｍであると好ましい。
【００８８】
非磁性層に含まれるバインダ樹脂には、例えば、磁性層に含まれるバインダ樹脂と同様のものが用いられる。
【００８９】
非磁性層１２を形成するための非磁性塗料に含まれる第２溶媒としては、例えば、磁性塗料に含まれる第１溶媒と同様のものを用いればよい。第２溶媒についても第１溶媒と同様、１種の溶媒からなるか、または、沸点の異なる２種以上の溶媒からなる。第１溶媒および第２溶媒に含まれる溶媒の内の沸点が最も低い溶媒の沸点ｔｂと、前述した恒率乾燥過程中における磁性塗膜の表面温度Ｔｓとの差（ｔｂ−Ｔｓ）は、１℃以上５０℃以下であると好ましい。このような溶媒を選択することにより、恒率乾燥期間が制御しやすくなる。
【００９０】
非磁性塗料中の溶媒除外成分濃度（第２溶媒を除く他の成分の総濃度）は、１０〜５０重量％が好ましく、２０〜３５重量％がより好ましい。非磁性塗料中の溶媒除外成分の濃度が低すぎると粘度が小さすぎて非磁性粉末の分散性が低下し、それにより、磁性塗膜と非磁性塗膜との界面が凸凹になるからである。一方、非磁性塗料中の溶媒除外成分濃度が高すぎると、粘度が大きくなりすぎて、非磁性塗料の塗布適性が低下するからである。よって、非磁性塗料における第２溶媒の含有量は５０〜９０重量％が好ましく、６５〜８０重量％がより好ましい。
【００９１】
〈表面処理剤〉
非磁性層１２に含まれる非磁性粉末や、磁性層１３に含まれる磁性粉末や非磁性粉末には、分散性の向上のために、表面処理がなされていると好ましい。この表面処理に用いられる表面処理剤としては、リン酸系表面処理剤、カルボン酸系表面処理剤、アミン系表面処理剤、キレ―ト剤、各種シランカップリング剤等が好適である。
【００９２】
リン酸系表面処理剤としては、リン酸モノメチル、リン酸ジメチル、リン酸モノエチル、リン酸ジエチル等のアルキルリン酸エステル類、フエニルホスホン酸、モノオクチルフエニルホスホン酸等の芳香族リン酸類等が挙げられる。市販品としては、東邦化学製の「ＧＡＲＦＡＣ ＲＳ４１０」、城北化学工業製の「ＪＰ−５０２」、「ＪＰ−５０４」、
「ＪＰ−５０８」等を用いることができる。
【００９３】
カルボン酸系表面処理剤としては、安息香酸、フタル酸、テトラカルボキシルナフタレン、ジカルボキシルナフタレン、炭素数１２〜２２の脂肪酸等が挙げられる。
【００９４】
アミン系表面処理剤としては炭素数８〜２２の脂肪族アミン、芳香族アミン、アルカノールアミン、アルコキシアルキルアミン等が挙げられる。
【００９５】
キレ―ト剤としては、１，１０−フエナントロリン、ＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）、ジメチルグリオキシム、アセチルアセトン、グリシン、ジチアゾン、ニトリロ三酢酸等が挙げられる。
【００９６】
表面処理剤の使用量としては、磁性粉末１００重量部、または非磁性粉末１００重量部に対して、０．５〜５重量部であると好ましい。表面処理剤の分子量は、１０００以下が好ましく、さらには５００以下がより好ましい。これらの表面処理剤は、非磁性塗料の各成分や、磁性塗料の各成分を、混練する前、混練中、混練後溶媒への分散前、または溶媒への分散中に配合すると好ましい。
【００９７】
〈磁性層〉
磁性層１３の厚さは、非磁性支持体１１の上に直接形成される場合は、０．１μｍ〜３μｍが好ましく、０．５μｍ〜２μｍがより好ましい。非磁性層１２を介して非磁性支持体１１の上に形成される場合、磁性層１３の厚さは０．０１μｍ以上０．２μｍ未満が好ましく、０．０３以上０．１μｍ以下がより好ましい。これらの範囲が好ましいのは、充分な大きさの出力が得られ、かつ、均質な磁性層１３の形成が容易に行え、かつ、厚さが厚すぎることにより生じる、短波長記録に対する分解能特性の低下を抑制できるからである。
【００９８】
磁性層１３に含まれる磁性粉末としては、強磁性鉄系金属磁性粉末、窒化鉄磁性粉末、または板状の六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末等が好ましい。これらの粉末の平均粒子径は６０ｎｍ以下であると好ましい。
【００９９】
強磁性鉄系金属磁性粉末の平均粒子径は、１０ｎｍ〜６０ｎｍであるとさらに好ましく、１５ｎｍ〜４５ｎｍであるとより好ましい。平均粒子径が１０ｎｍ〜６０ｎｍであると、十分な大きさの保磁力（Ｈｃ）が得られ、磁性塗料中での分散も良好に行え、平均粒子径が大きすぎることに起因して生じる粒子ノイズを抑制でき、好ましい。
からである。
【０１００】
強磁性鉄系金属磁性粉末の保磁力は、１６０〜３２０ｋＡ／ｍ（２０１０〜４０２０Ｏｅ）であると好ましく、２００〜３００ｋＡ／ｍ（２５１５〜３７７０Ｏｅ）であるとより好ましい。飽和磁化量（Ｂｓ）は、６０〜２００Ａ・ｍ2／Ｋｇ（６０〜２００ｅｍｕ／ｇ）であると好ましく、８０〜１８０Ａ・ｍ2／Ｋｇ（８０〜１８０ｅｍｕ／ｇ）であるとより好ましい。
【０１０１】
磁気記録媒体の磁性粉末の配向性を示す指標の一つとして角型（Ｂｒ／Ｂｓ）が挙げられるが、（Ｂｒ／Ｂｓ）は０．８以上であると好ましく、０．８４以上であるとより好ましい。なお、Ｂｓは飽和磁化量であり、Ｂｒは残存磁化量である。
【０１０２】
強磁性鉄系金属磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ2／ｇ以上が好ましく、４０ｍ2／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ2／ｇ以上がよりいっそう好ましい。ＢＥＴ比表面積の上限については特に制限はないが、通常、１００ｍ2／ｇ以下である。
【０１０３】
強磁性鉄系金属磁性粉末には、磁性粉末を構成する金属元素として、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏ等の遷移金属が含まれていてもよい。中でも、ＣｏまたはＮｉが含まれていると好ましく、これらのうち、Ｃｏは飽和磁化量を最も向上させることができる点において、特に好ましい。
【０１０４】
上記遷移金属元素の含有量は、原子比で表わすと、磁性粉末中のＦｅの含有量１００に対して、５〜５０であると好ましく、１０〜３０であるとより好ましい。
【０１０５】
また、強磁性鉄系金属磁性粉末には、上記遷移金属元素に加え、磁性粉末を構成する他の金属元素として、イツトリウム、セリウム、イツテルビウム、セシウム、プラセオジウム、サマリウム、ランタン、ユ―ロピウム、ネオジム、テルビウム等から選ばれる少なくとも１種の希土類元素がさらに含まれていてもよい。中でも、セリウム、ネオジムとサマリウム、テルビウムおよびイツトリウムから選ばれる少なくとも１種が含まれていると、高い保磁力（Ｈｃ）が得られるので好ましい。上記希土類元素の含有量は、原子比で表わすと、合金中のＦｅの含有量１００に対して、０．２〜２０であると好ましく、０．３〜１５であるとより好ましく、０．５〜１０であるとさらに好ましい。
【０１０６】
窒化鉄磁性粉末には，公知のものを用いることができる。窒化鉄磁性粉末の形状は、針状の他に球状や、立方体形状等の不定形であってもよい。
【０１０７】
窒化鉄磁性粉末の保磁力は、１６０〜３２０ｋＡ／ｍ（２０１０〜４０２０Ｏｅ）であると好ましく、２００〜３００ｋＡ／ｍ（２５１５〜３７７０Ｏｅ）であるとより好ましい。窒化鉄磁性粉末の飽和磁化量は、６０〜２００Ａ・ｍ2／Ｋｇ（６０〜２００ｅｍｕ／ｇ）であると好ましく、８０〜１８０Ａ・ｍ2／Ｋｇ（８０〜１８０ｅｍｕ／ｇ）であるとより好ましい。
【０１０８】
窒化鉄磁性粉末の平均粒子径としては、充分な大きさの保磁力が得られ、かつ、磁性塗料中での分散が良好に行え、かつ、平均粒子径の大きさに起因して生じる粒子ノイズが小さい点で、５〜２０ｎｍが好ましく、１０〜１７ｎｍがより好ましい。
【０１０９】
窒化鉄磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ2／ｇ以上が好ましく、４０ｍ2／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ2／ｇ以上がよりいっそう好ましい。上記ＢＥＴ比表面積の上限について特に制限はないが、通常、１００ｍ2／ｇ以下であると好ましい。
【０１１０】
強磁性鉄系金属磁性粉末および／または窒化鉄磁性粉末は、耐食性の向上、分散性を向上、保磁力の制御のために、Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ｙ，Ｚｒまたはこれらの酸化物によって表面処理されていてもよい。
【０１１１】
六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍであると好ましく、飽和磁化量は、４０〜６０Ａ・ｍ2／ｋｇ（４０〜６０ｅｍｕ／ｇ）であると好ましい。また、六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末の平均粒子径（板面の一番長い部分の長さ、板径）は、１０ｎｍ〜３０ｎｍであると好ましく、１０ｎｍ〜２５ｎｍであるとより好ましく、１０ｎｍ〜２０ｎｍであるとさらに好ましい。平均粒子径が小さすぎると、粒子の表面エネルギーが増大するため磁性塗料中での分散が困難になり、大きすぎると、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるからである。また、板状比（板径／板厚）は３未満であると好ましく、２以下であるとより好ましい。また、六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、１〜１００ｍ2／ｇであると好ましい。
【０１１２】
磁性層１３のテープ長手方向の残留磁束密度と磁性層厚さの積は、短波長記録を可能とし、ＭＲヘッドで再生した時の再生出力が大きく、しかも再生出力の歪が小さく、出力対ノイズ比を大きくするために、０．００１８〜０．０５μＴｍであると好ましく、０．００３６〜０．０５μＴｍであるとより好ましく、０．００４〜０．０５μＴｍであるとさらに好ましい。
【０１１３】
磁性層１３に含まれるバインダ樹脂（第１バインダ樹脂）または非磁性層１２に含まれるバインダ樹脂（第２バインダ樹脂）としては、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体、およびセルロース系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種と、ポリウレタンとの組み合せが挙げられる。セルロース系樹脂としては例えばニトロセルロース樹脂が挙げられる。
【０１１４】
中でも、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体とポリウレタンとの組み合せが好ましい。ポリウレタンとしては、例えば、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン等が挙げられる。
【０１１５】
また、ポリウレタンとしては、官能基として、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）3、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2［これらの式中、Ｍは水素原子、アルカリ金属塩基又はアミン塩を示す］、−ＯＨ、−ＮＲ'Ｒ''、−Ｎ＋Ｒ'''Ｒ''''Ｒ'''''［これらの式中、Ｒ'、Ｒ''、Ｒ'''、Ｒ''''、Ｒ'''''は水素または炭化水素基を示す］、またはエポキシ基を有する高分子からなるポリウレタンも使用できる。このようなポリウレタンを使用すれば、磁性粉末等の粉体の磁性塗料中での分散性が向上する。
【０１１６】
２種以上のバインダ樹脂を併用する場合には、官能基の極性を一致させると好ましく、中でも２種のバインダ樹脂のそれぞれが−ＳＯ3Ｍ基を有していると好ましい。
【０１１７】
磁性層形成用の磁性塗料中、第１バインダ樹脂は、磁性粉末１００重量部に対して、７〜５０重量部含まれていると好ましく、１０〜３５重量部含まれているとより好ましい。そして、バインダ樹脂が塩化ビニル系樹脂とポリウレタン樹脂とを含む場合は、磁性粉末１００重量部に対して、塩化ビニル系樹脂が５〜３０重量部、ポリウレタン樹脂が２〜２０重量部含まれていると好ましい。
【０１１８】
非磁性層形成用の非磁性塗料中に含まれる第２バインダ樹脂の含有量は、非磁性粉末１００重量部に対して、１０〜５５重量部であると好ましく、１５〜４０重量部であるとより好ましい。
【０１１９】
磁性層形成用の磁性塗料または非磁性層形成用の非磁性塗料中には、上記第１バインダ樹脂または第２バインダ樹脂とともに、第１バインダ樹脂または第２バインダ樹脂が有する官能基と結合して架橋する熱硬化性の架橋剤がさらに含まれていると好ましい。この架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、これらのイソシアネート類とトリメチロールプロパン等の水酸基を複数個有する化合物とが反応して得られる反応生成物、または上記イソシアネート類の縮合生成物等の各種のポリイソシアネートが好ましい。これらの架橋剤は、第１バインダ樹脂または第２バインダ樹脂１００重量部に対して、それぞれ、好ましくは１〜３０重量部用いられ、より好ましくは５〜２０重量部用いられる。しかし、非磁性塗料を非磁性支持体上に塗布することにより形成される非磁性塗膜の上に、ウエット・オン・ウエットで磁性塗膜が形成される場合には、非磁性塗膜中のポリイソシアネートの一部が磁性塗膜に拡散供給される。そのため、磁性塗料はポリイソシアネートを含んでいなくても、ある程度は磁性塗膜中で架橋が行われる。
【０１２０】
磁性層１３は、磁性粉末以外に、非磁性粉末を含んでいてもよい。非磁性粉末としては、研磨材やカーボンブラック等が挙げられる。カーボンブラックを含むと、磁性層１３の導電性が向上する。
【０１２１】
研磨材としては、α−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素等、主としてモース硬度６以上のものが挙げられる。これらは単独で用いてもいいし２種以上を組み合せて用いてもよい。
【０１２２】
研磨材の平均粒子径としては、磁性層１３の厚さが０．０１〜０．２μｍと薄い場合は、通常１０ｎｍ〜２５０ｎｍであると好ましい。磁性層１３の厚さが０．２μｍよりも厚い場合、研磨材の平均粒子径は５０〜１０００ｎｍであると好ましい。研磨材の含有量は、磁性粉末１００重量部に対して、５〜２０重量部であると好ましく、８〜１８重量部であるとより好ましい。
【０１２３】
カーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等が挙げられる。
【０１２４】
カーボンブラックの平均粒子径は、分散性の向上、磁性層１３の表面の平滑性の向上、および、磁性層１３の表面が粗くなることに起因して生じる出力低下の抑制の観点から、１０ｎｍ〜１００ｎｍであると好ましい。平均粒子径が小さすぎるとカーボンブラックの分散が難しく、平均粒子径が大きすぎると多量のカーボンブラックが必要になる。カーボンブラックの含有量は、磁性粉末１００重量部に対して、０．２〜５重量部であると好ましく、０．５〜４重量部であるとより好ましい。
【０１２５】
＜潤滑剤＞
非磁性層１２は、脂肪酸と脂肪酸のエステルとを潤滑剤としてさらに含んでいると好ましい。非磁性層１２がこれらをそれぞれ所定量含んでいると、磁気テープのヘッドとの摩擦係数が小さくなるからである。非磁性塗料には、摩擦係数低減効果が充分に発揮され、非磁性層１の高い強靭性を確保し、磁性層１３への脂肪酸のエステルの移入量を抑制して磁気テープとヘッドとが貼り付く等の副作用が生じることを防止する観点から、非磁性層１２に含まれる非磁性粉末１００重量部に対して脂肪酸が０．５〜５．０重量部、脂肪酸のエステルが０．２〜３．０重量部、配合されていると好ましい。
【０１２６】
脂肪酸としては、炭素数１０以上のものを用いると好ましい。炭素数１０以上の脂肪酸としては、直鎖、分岐、シス・トランスなどの異性体のいずれでもよいが、潤滑性能が優れた直鎖型が好ましい。このような脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸などが挙げられる。これらの中でも、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸などが好ましい。
【０１２７】
脂肪酸のエステルとしては例えば、ブチルステアレートとブチルパルミテートとの混合物、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルをステアリン酸でアシル化したもの、ヘキサメチレンジオールをミリスチン酸でアシル化してジオールとしたもの、グリセリンのオレエート等の種々のエステル化合物、ブチルステアレート、sec-ブチルステアレート、イソプロピルステアレート、ブチルオレエート、アミルステアレート、３−メチルブチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−ヘキシルデシルステアレート、ブチルパルミテート、２−エチルヘキシルミリステート、オレイルオレエート、ブトキシエチルステアレート、２−ブトキシ−１−プロピルステアレート、ジエチレングリコールジパルミテート等を挙げることができる。
【０１２８】
磁性層１３にも上記脂肪酸が含まれていてもよい。この場合、非磁性層１２と磁性層１３との間で脂肪酸が転移するので、磁性塗料における脂肪酸の配合量については、磁性層１３に含まれる脂肪酸の含有量と非磁性層１２に含まれる脂肪酸の含有量の総和が、磁性層１３に含まれる全粉末（磁性粉末と非磁性粉末）と非磁性層１２に含まれる非磁性粉末の総量を１００重量部とした場合に、０．５〜５．０重量部であれば好ましい。なお、非磁性塗料に脂肪酸が配合される場合、磁性塗料には脂肪酸は必ずしも配合されていなくてもよい。
【０１２９】
磁性層１３には、潤滑剤として、脂肪酸アミドと脂肪酸のエステルの両方が含まれていてもよい。テープ走行時のテープのヘッドに対する摩擦係数が小さくなるからである。これらの磁性塗料への配合量は、磁性粉末１００重量部に対して、脂肪酸アミドは０．５〜３．０重量部、脂肪酸のエステルは０．２〜３．０重量部であると好ましい。脂肪酸アミドの含有量が０．５重量部未満であると、ヘッドと磁性層１３とが相互接触することにより生じる焼付きを防止する効果が小さくなるからである。また、脂肪酸アミドの含有量が３．０重量部を越えると脂肪酸アミドがブリードアウトしてしまうおそれがあるからである。また、脂肪酸のエステルの含有量が０．２重量部未満であると、摩擦係数低減効果が小さくなるからである。また、脂肪酸のエステルの含有量が３．０重量部を越えると、磁性層１３がヘッドに貼り付く等の副作用を生じるおそれがあるからである。なお、磁性層１３の潤滑剤と非磁性層１２の潤滑剤は相互移動し得る。
【０１３０】
脂肪酸アミドとしては、パルミチン酸、ステアリン酸等の炭素数が１０以上の脂肪酸アミド等が挙げられる。磁性層１３に含まれる脂肪酸のエステルは、上記で列挙した脂肪酸のエステルと同様であってもよい。
【０１３１】
〈バックコート層〉
非磁性支持体１１の磁性層１３が形成されている面とは反対側の面には、走行性の向上
等を目的としてバックコート層１４が設けられていると好ましい。バックコート層１４の厚さは、高い走行性向上効果が得られ、かつ、磁気テープ１巻当たりの記録容量を大きくする観点から、０．２〜０．８μｍであると好ましい。
【０１３２】
バックコート層１４は、例えば、カーボンブラック（ＣＢ）を含む。カーボンブラック（ＣＢ）としては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等が挙げられる。通常、粒子径が相対的に異なる、小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラックとが併用される。小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラックとを併用すると、走行性向上効果も大きくなるので好ましい。大粒径カーボンブラックは、小粒径カーボンブラック１００重量部に対して５〜１５重量部含まれていると好ましい。
【０１３３】
小粒径カーボンブラックの平均粒子径は、塗料中での分散性が高く、カーボンブラックの添加量が多くなりすぎることを抑制して、平滑性の高いバックコート層を得る観点から、５ｎｍ以上２００ｎｍ未満であると好ましく、１０〜１００ｎｍであるとより好ましい。
【０１３４】
大粒径カーボンブラックの平均粒子径は、２００〜４００ｎｍであると好ましい。
【０１３５】
小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラック合計量は、バックコート層に含まれる全粉末重量のうち６０〜９８重量％であると好ましく、７０〜９５重量部であるとより好ましい。
【０１３６】
バックコート層１４の平均表面粗さＲａは、３〜８ｎｍであると好ましく、４〜７ｎｍであるとより好ましい。バックコート層に磁性があると磁性層１３に記録される磁気信号が乱れる場合があるので、通常、バックコート層は非磁性である。
【０１３７】
なお、本願では、ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗ５０００を用い、走査型白色光干渉法にて、１０視野の表面粗さを測定し、その平均値を平均表面粗さ（Ｒａ）としている。測定の際には、５０倍の対物レンズを用い、２倍ズームで測定した。よって、倍率は１００倍である。測定視野は７２μｍ×５４μｍである。
【０１３８】
バックコート層には、強度向上を目的として、例えば酸化鉄が含まれていると好ましい。酸化鉄の平均粒子径は１００〜６００ｎｍが好ましく、２００〜５００ｎｍがより好ましい。酸化鉄の含有量は、全粉末重量のうち２〜４０重量％が好ましく、５〜３０重量％がより好ましい。また、平均粒子径が１００〜６００ｎｍのアルミナが全粉体重量のうち０．５〜５重量％添加されていると、さらにバックコート層の強度が向上するので、好ましい。
【０１３９】
バックコート層１４にはバインダ樹脂が含まれるが、バックコート層１４中のバインダ樹脂は、前述した磁性層１３や非磁性層１２に含まれるバインダ樹脂と同様のものであってもよい。しかし、摩擦係数を低くして磁気ヘッドの走行性を向上させるために、セルロース系樹脂とポリウレタン系樹脂とを併用することが好ましい。バインダ樹脂の含有量は、強度が高く摩擦係数の低いバックコート層１４を形成する観点から、バックコート層に含まれる全粉末重量１００重量部に対して、４０〜１５０重量部であると好ましく、５０〜１２０重量部であるとより好ましく、６０〜１１０重量部であるとさらに好ましく、７０〜１１０重量部であるとよりいっそう好ましい。バックコート層に含まれる全粉末重量を１００重量部とすると、上記バインダ樹脂には、セルロース系樹脂が３０〜７０重量部、ポリウレタン系樹脂は２０〜５０重量部含まれていると好ましい。バックコート層１４を形成するための塗料は、バインダ樹脂を硬化させるために、架橋剤を含んでいると好ましい。架橋剤としては、例えば、ポリイソシアネート化合物等が挙げられる。
【０１４０】
バックコート層１４を形成するための塗料に含まれる架橋剤は、例えば、前述した磁性層１３形成用の磁性塗料や非磁性層１２形成用の非磁性塗料に含まれる架橋剤と同様ものであってよい。架橋剤の含有量は、強度が高くＳＵＳ（ステンレス）に対する動摩擦係数が小さいバックコート層１４を形成する観点から、バインダ樹脂１００重量部に対して、通常、１０〜５０重量部であると好ましく、１０〜３５重量部であるとより好ましく、１０〜３０重量部であるとよりいっそう好ましい。
【０１４１】
〈有機溶媒〉
非磁性層１２形成用の非磁性塗料に含まれる第２溶媒、バックコート層１４形成用の塗料に含まれる溶媒には、磁性層１３形成用の磁性塗料に含まれる第１溶媒のもの用いればよい。また、非磁性層の形成に用いられる非磁性塗料中の溶媒除外成分濃度、バックコート層１４形成用の塗料の溶媒除外成分濃度は、磁性塗料の場合と同様の理由から、１０〜５０ｗｔ％が好ましく、２０〜３５ｗｔ％がより好ましい。よって、非磁性塗料に含まれる第２溶媒の含有量は、５０〜９０ｗｔ％が好ましく、６５〜８０ｗｔ％がより好ましく、バックコート層１４形成用の塗料に含まれる溶媒の含有量も、５０〜９０ｗｔ％が好ましく、６５〜８０ｗｔ％がより好ましい。
【０１４２】
以下に実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例および比較例における平均粒子径は、数平均粒子径を示す
【実施例】
【０１４３】
（実施例１）
＜非磁性層形成用の非磁性塗料＞
（１）Ａ成分
針状酸化鉄（平均粒子径：０．１１μｍ） ６８重量部
カーボンブラック（平均粒子径：０．０２５μｍ） ２０重量部
粒状アルミナ粉末（平均粒子径：０．４μｍ） １２重量部
メチルアシッドフォスフェート １重量部
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 ９重量部
（含有−ＳＯ3Ｎａ基：０．７×１０-4当量／ｇ）
ポリエステルポリウレタン樹脂 ５重量部
（ガラス転移温度：４０℃、含有−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4当量／ｇ）
テトラヒドロフラン １３重量部
シクロヘキサノン ６３重量部
メチルエチルケトン １３７重量部
（２）Ｂ成分
ステアリン酸ブチル ２重量部
シクロヘキサノン ５０重量部
トルエン ５０重量部
（３）Ｃ成分
ポリイソシアネート ６重量部
シクロヘキサノン ９重量部
トルエン ９重量部
＜磁性層形成用の磁性塗料＞
（１）ａ成分
強磁性鉄系金属磁性粉末 １００重量部
（Ａｌ−Ｙ−Ｆｅ−Ｃｏ）〔σｓ：１２０Ａ・ｍ2／ｋｇ（１２０ｅｍｕ／ｇ）
Ｈｃ：１７６．３ｋＡ／ｍ（２２１５Ｏｅ）平均粒子径：４５ｎｍ、真密度ρ：５．７ｇ／ｃｃ〕
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 １７重量部
ポリエステルポリウレタン樹脂 ６重量部
粒状アルミナ粉末（平均粒子径：０．２μｍ） １０重量部
メチルアシッドフォスフェート ４重量部
メチルエチルケトン ３５重量部
シクロヘキサノン １１０重量部
トルエン １１０重量部
（２）ｂ成分
パルミチン酸アミド １重量部
ステアリン酸ブチル １重量部
シクロヘキサノン ３０重量部
トルエン ３０重量部
（３）ｃ成分
ポリイソシアネート ６重量部
メチルエチルケトン ２重量部
シクロヘキサノン ８重量部
トルエン ８重量部
【０１４４】
上記の非磁性層形成用の塗料成分のうちＡ成分を回分式ニーダで混練した。混練されたＡ成分にＢ成分を加えて撹拌した後、サンドミルを用いて６０分間（滞留時間）分散処理をした。さらに、分散処理をしたＡ成分とＢ成分の混合物にＣ成分を加え、これらを撹拌し、得られたものをろ過して、非磁性層形成用の非磁性塗料を得た。
【０１４５】
一方で、ａ成分を回分式ニーダで混練した。次ぎに混練されたａ成分にｂ成分を加えて撹拌して未分散塗料を得た。続いて、未分散塗料に対して、ナノミル（浅田鉄工社製）を用いて、９０分間（滞留時間）分散処理をした。さらに、分散処理をしたａ成分とｂ成分の混合物にｃ成分を加えて撹拌し、得られたものをろ過して、磁性層形成用の磁性塗料を得た。
【０１４６】
上記非磁性層形成用の非磁性塗料を、厚さ８μｍのポリエチレンナフタレートフィルムからなる非磁性支持体上に、エクストルージョン型コータを用いて塗布して非磁性塗膜を形成した。次いで、この非磁性塗膜上に、磁性層形成用の磁性塗料をエクストルージョン型コータを用いて、ウエット・オン・ウエットで塗布して磁性塗膜を形成した。
【０１４７】
非磁性塗膜の厚さは、乾燥およびカレンダ後の厚さ（すなわち非磁性層の厚さ）が０．９μｍとなるようにし、磁性塗膜の厚さは、乾燥およびカレンダ後の厚さ（すなわち磁性層の厚さ）が０．０８μｍとなるようにした。磁性層形成用の磁性塗料の塗布速度は１５０ｍ／分とした。
【０１４８】
次いで、非磁性支持体上に非磁性塗膜と磁性塗膜とがこの順に形成された積層体を、図２Ａに示された要領で、非磁性塗膜中および磁性塗膜中に含まれる溶媒を除去しながら、磁場配向を行った。具体的には、まず、第１熱風供給部１ａにより予熱過程を開始し、その後、第１配向手段の一例であるＮ−Ｎ対向磁石を含む配向手段内（Ｗ1max：７ｋＯｅ（５５７ｋＡ／ｍ））を通過させた。次いで、第２配向手段により磁場配向を行いながら、第２熱風供給部１ｂおよび第３熱風供給部１ｃにより、恒率乾燥過程および減率乾燥過程をこの順で行った。搬送手段による積層体の搬送速度は１５０ｍ/分とした。このとき、第１配向手段と第２配向手段との距離を調節することにより、Ｗ1minが３ｋＯｅとなるように設定した。
【０１４９】
なお、本実施例では、図２に示すように、第２配向手段として４基のソレノイドコイルを備えた配向手段（Ｗ2max：３ｋＯｅ（２３９ｋＡ／ｍ））を用いた。熱風の温度、風速、熱風供給部と磁性塗膜との距離等の、乾燥条件については表１に示している。
【０１５０】
＜バックコート層形成用塗料の成分＞
カーボンブラック(平均粒子径２５ｎｍ) ８０重量部
カーボンブラック(平均粒子径３５０ｎｍ) １０重量部
粒状酸化鉄(平均粒子径５０ｎｍ) １０重量部
ニトロセルロース ４５重量部
ポリウレタン樹脂 ３０重量部
シクロヘキサノン ２６０重量部
トルエン ２６０重量部
メチルエチルケトン ５２５重量部
ポリイソシアネート １５重量部
【０１５１】
上記のバックコート層形成用の塗料の成分のうちポリイソシアネートを除く他の成分全てをサンドミル中で分散混合させた後、それにポリイソシアネートを加えた。得られた混合物をろ過して、バックコート層形成用の塗料を得た。この塗料を、非磁性支持体の磁性層側の面の反対面に塗布し、乾燥させた。
【０１５２】
このようにして得られた磁気シートを金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線圧１９６ｋＮ／ｍの条件で鏡面化処理(カレンダ処理)した。次いで、磁気シートをコアに巻いた状態で６０℃４８時間エージングして評価用磁気テープを作製した。
【０１５３】
（実施例２）
第１配向手段と第２配向手段との距離を調節して、Ｗ1minを０．９ｋＯｅとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例２の評価用磁気テープを作成した。
【０１５４】
（実施例３）
第１配向手段と第２配向手段との距離を調節して、Ｗ1minを０．３ｋＯｅとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の評価用磁気テープを作成した。
【０１５５】
（実施例４）
図５Ａに示した乾燥・配向装置を用いた以外は実施例１と同様にして、実施例４の評価用の磁気テープを作製した。
【０１５６】
（実施例５）
図５Ａに示した乾燥・配向装置を用い、第１〜第３熱風供給部の条件を表１の記載のとおり設定し、恒率乾燥期間を０．２秒としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例５の評価用磁気テープを作成した。
【０１５７】
（実施例６）
図２Ａに示した乾燥・配向装置を用い、第１〜第３熱風供給部の条件を表１の記載のとおり設定し、恒率乾燥期間を１０秒としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例５の評価用磁気テープを作成した。
【０１５８】
[比較例１]
第２熱風供給部１ｂによる乾燥処理を行わず、恒率乾燥期間を０．１秒としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例１の評価用の磁気テープを作製した。
【０１５９】
[比較例２]
第１熱風供給部１ａによる乾燥処理を行わなかったこと以外は実施例１と同様にして、比較例２の評価用の磁気テープを作製した。
【０１６０】
[比較例３]
第１熱風供給部１ａを用いた乾燥処理を行わず、第２、第３熱風供給部の条件を表１に記載の条件に変更し、恒率乾燥期間を０．１秒としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例３の評価用の磁気テープを作製した。
【０１６１】
[比較例４]
図８Ａに示した従来技術の製造装置を用い、第１熱風供給部１１ａを用いた乾燥処理を行わず、第２、第３熱風供給部１１ｂ，１１ｃの条件を表１に記載の条件に変更し、恒率乾燥期間を０．１秒とし、更に第１配向手段３１ａと第２配向手段３１ｂとの距離を調節して、Ｗ1minを０．０２ｋＯｅとしたこと以外は実施例１と同様にして、比較例４の評価用の磁気テープを作製した。
【０１６２】
[比較例５]
第１配向手段と第２配向手段との距離を調節して、Ｗ1minを０．１５ｋＯｅとしたこと以外は実施例１と同様にして、比較例５の評価用磁気テープを作成した。
【０１６３】
[比較例６]
第２配向手段を構成するソレノイドコイルに関して、磁気シートの進行方向に隣り合うソレノイドコイル間距離を調節することにより、Ｗ2minを０．９ｋＯｅとしたこと以外は実施例１と同様にして、比較例６の評価用磁気テープを作成した。
【０１６４】
[比較例７]
図７Ａに示した従来技術の製造装置を用いたこと以外は実施例１と同様にして、比較例７の評価用磁気テープを作成した。
【０１６５】
得られた評価用の磁気シートの評価は以下のようにして行った。その結果は表１に示している。尚、表１中の、Ｗ1max、Ｗ1min、Ｗ2max、Ｗ2minは、第１配向手段と第２配向手段との距離や、第２配向手段を構成するソレノイドコイルの配置位置などを適宜調節した装置について、予め、非磁性支持体上に非磁性塗膜と磁性塗膜とがこの順に形成された積層体が通ることとなる経路にガウスメーター（Ｆ．Ｗ．ＢＥＬＬ社製、４０４８型）を一定速度で走らせるながら、装置内の磁場強度を測定することにより得た。
【０１６６】
【表１】
【０１６７】
〈恒率乾燥期間〉
乾燥機内に２０ｃｍ間隔で赤外線センサ（ファイバー型赤外放射温度計（ＦＴＺ６型 ジャパンセンサー（株）製））を配置し、各赤外線センサにより磁性層の表面温度Ｔｓを測定した。連続配置された３つのセンサから得られた各磁性層の表面温度Ｔｓをどのように組み合せても温度差が２℃以内であれば、恒率乾燥が行なわれていると判断して、恒率乾燥期間を測定した。
【０１６８】
〈磁性層の表面粗さ〉
ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗ５０００を用い、走査型白色光干渉法にて、１０点の表面粗さを測定し、その平均値を平均粗さＲｚとした。測定の際には、５０倍の対物レンズを用い、２倍ズームで測定した。よって、倍率は１００倍である。測定視野は７２μｍ×５４μｍである。
【０１６９】
〈磁気特性〉
磁気シートに、外部磁場０．８ＭＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）をかけた後、角型（Ｂｒ／Ｂｓ）および磁性層単位面積当たりの飽和磁化量Ｍｓｔ(ｍｅｍｕ／ｃｍ2)を測定した。これらの測定には、東英工業製の試料振動型磁束計ＶＳＭ−Ｐ７を用いた。
【０１７０】
〈体積充填度〉
磁気テープを樹脂封止した後、それを集束イオンビーム加工装置を用いて、磁気テープの厚さ方向の断面をテープの長手方向に切り出した。次いで、その断面の写真撮影（ＢＳＥ像、倍率：１０万倍）を、走査型電子顕微鏡(ＳＥＭ)を用いて行った。写真撮影は、互いに重複部分を含まないように１０視野について行った。次いで、各写真に、磁性層と非磁性層との界面に境界線を引き、その境界線と対向する磁性層の外形にも線を引いた。線幅は０.５ｍｍとした。
【０１７１】
次ぎに、各写真について、上記境界線とそれに対応する線との距離を５箇所測定し、その平均値を磁性層の厚さｔ（μｍ）として測定した。そして、Ｍｓｔおよび磁性層の厚さｔ（μｍ）を用いて次式（１）により飽和磁束密度Ｂｓ（Ｇ）を求めた。また、Ｂｓおよび磁性粉末のσｓ（ｅｍｕ／ｇ）および真密度ρ（ｇ／ｃｃ）を用いて次式（２）から磁性粉末の充填度（Ｖｏｌ％）を求めた。
Ｂｓ＝４π×Ｍｓｔ／ｔ （１）
充填度（Ｖｏｌ％）＝Ｂｓ／（４π・σｓ・ρ）×１００ （２）
【０１７２】
表１に示すように、恒率乾燥期間が０．２秒よりも短い比較例１〜４の評価用磁気テープについては、（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９、および、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係が満たされていても、平滑性、配向性、充填性のうちの少なくとも１つが実施例１〜６の評価用磁気テープのそれよりも劣っている。上記２つの関係式のうちの少なくとも一方が満たされていない比較例４〜７の評価用磁気テープについては、配向性が、実施例１〜６の評価用磁気テープのそれよりも劣っている。これに対して、実施例１〜６の評価用磁気テープについては、磁性塗膜の平滑性が高く（粗度が小さい）、磁性粉末の配向性が優れ（角型が大きく）、かつ、磁性粉末の充填性が高い（体積充填度が大きい）。
【産業上の利用可能性】
【０１７３】
本発明は、磁性粉末の充填率が高く、表面の平滑性が優れ、かつ、磁性粉末の配向性が良好な磁性層を形成できるので、本発明は、より大容量化され高出力可能な磁気記録媒体の製造方法として有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１７４】
【図１】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例における塗膜表面の温度の変化と塗膜中の含溶媒率の変化を示した概念図
【図２Ａ】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する概念図
【図２Ｂ】図２Ａに示した乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフ
【図３】本発明の磁気記録媒体の一例の部分断面図
【図４】本発明の磁気記録媒体の他の一例の部分断面図
【図５Ａ】本発明の磁気記録媒体の製造方法の他の例を説明する概念図
【図５Ｂ】図５Ａに示した乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフ
【図６Ａ】本発明の磁気記録媒体の製造方法のさらに別の例を説明する概念図
【図６Ｂ】図６Ａに示した乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフ
【図７】従来の磁気記録媒体の製造方法の一例における塗膜表面の温度の変化と塗膜中の含溶媒率の変化を示した概念図
【図８Ａ】従来の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する概念図
【図８Ｂ】図７Ａに示した乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフ
【符号の説明】
【０１７５】
１ 熱風供給部
１ａ 第１熱風供給部
１ｂ 第２熱風供給部
１ｃ 第３熱風供給部
２ 排気部
３ａ 第１配向手段
３ｂ 第２配向手段
５ ガイドロール
Ｔ１ 積層体
１０ 磁気記録媒体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体には磁気テープや磁気ディスク、磁気カード等がある。その一つである磁気テープの用途には、オーディオ用、ビデオ用、コンピュータ用等、種々の用途がある。コンピュータ用のデータバックアップ用テープについては、バックアップの対象となるハードディスクの大容量化にともない、磁気テープ１巻当たりの記録容量が数百ＧＢの磁気テープが商品化されている。しかし、ハードディスクのさらなる大容量化にともない、１ＴＢを超える大容量バックアップテープが要望されることは必至であり、よって、磁気テープのさらなる大容量化は不可欠である。
【０００３】
大容量化の方法には、記録再生装置へのアプローチと記録媒体へのアプローチがある。
【０００４】
記録再生装置へのアプローチは、例えば、記録信号の短波長化やトラックピッチの狭幅化である。この場合、磁気テープからの漏れ磁束が小さくなるため、再生ヘッドには、微小磁束でも高い出力が得られるＭＲヘッドが使用される場合が多い。
【０００５】
記録媒体へのアプローチは、磁性粉末の微粒子化と、磁性粉末の磁気特性の改善である。
【０００６】
従来、コンピュータ用のデータバックアップ用テープを構成する磁気粉末には、オーディオ用のテープや家庭用ビデオテープに使用されていた磁性粉末（例えば、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、酸化クロム等の磁性粉末）と同様の磁性粉末が用いられていた。現在では、粒子径が２５ｎｍ〜６５ｎｍ程度の針状の強磁性鉄系金属粉末を用いることが提案されている。
【０００７】
針状の磁性粉末は、その形状磁気異方性により磁気特性を発現させているため、粒子径が減少すると保磁力（Ｈｃ）が低下し短波長記録特性が低下する傾向がある。しかし、粒子径が５ｎｍ〜３０ｎｍ程度と小さくても結晶磁気異方性により磁気特性を発現する、板状や粒状の、六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末や窒化鉄磁性粉末等（微粒子磁性粉末）については、磁気記録媒体の材料として用いることが提案されている。
【０００８】
しかし、上記針状、粒状、または板状等のいずれの磁性粉末を使用する場合でも、磁性層中の空隙を小さくして磁性層の充填性を高くしなければ、十分な大容量化は実現できない。大容量化のためには同時に磁性粉末を高度に配向させる必要がある。さらに、前述したＭＲヘッドの使用に適応させるには、磁性層表面の粗度を小さくし平滑にする必要がある。そのため、溶媒が除去されることにより磁性層となる磁性塗膜の乾燥方法や、磁性粉末の配向方法が、種々提案されている（例えば特許文献１〜７等）。特許文献１〜３には、磁性粉末を高度に配向させる方法として、高磁場を比較的安価に得ることができる永久磁石と、一定方向の磁場を得ることができるソレノイドコイルとを組み合せて磁場配向を行うことが開示されている。特許文献４〜７には、磁性層表面の粗度を小さくし平滑にする乾燥方法が開示されている。
【０００９】
具体的には、特許文献１には、磁性塗膜に対して乾燥処理を開始する前に、１８００Ｏｅ（１．８ｋＯｅ）以上の強度の磁場（第１磁場）を作用させ、その後、磁性塗膜に対して乾燥処理を行いながら、４００Ｏｅ（０．４ｋＯｅ）以上の強度の磁場（第２磁場）を作用させる、乾燥および配向方法が開示されている。磁性塗膜に含まれる磁性粉末の保磁力は６００Ｏｅ程度である。
【００１０】
特許文献２に記載の配向・乾燥方法では、まず、高磁場コイルにて高強度磁場を磁性塗膜に印加して磁性粉末の配向を行った後、低磁場コイルにて低強度磁場を磁性塗膜に印加して、磁性粉末の戻り配向を防止するとともに、磁性塗膜の乾燥を行う。低強度磁場では、最大磁場強度の２０％以下の磁場強度を与える。高強度磁場の強度は５〜１０ｋＯｅであり、低強度磁場の強度は５０〜１０００Ｏｅである。
【００１１】
特許文献３に記載の配向・乾燥方法についても、特許文献１に記載の方法と同様に、乾燥装置による磁性塗料の乾燥開始前に第１の磁場発生手段によって第１の磁場配向を行い、次いで、乾燥装置内において第２の磁場発生手段によって第２の磁場配向を行っている。第２の磁場発生手段により発生する平均磁場強度は、第１の磁場発生手段による最大磁場強度の１／３以下である。磁性塗膜に含まれる磁性粉末の保磁力は例えば５２０Ｏｅである。
【００１２】
特許文献４には、配向用のマグネットとドライヤとを備えた配向装置を複数台備えた磁気記録媒体製造装置が開示されている。この製造装置では、各ドライヤから供給される温風の風速や温度を、配向装置毎にコントロールできる。そして、この製造装置では、複数の配向装置から供給される温風の風速が、非磁性支持体の進行方向に沿って順次増加するように設定されている。
【００１３】
特許文献５には、乾燥ゾーンを２以上含む乾燥装置が開示されている。この乾燥装置では、最も上流に低温乾燥ゾーンが配置されており、この低温乾燥ゾーンより下流側に高温乾燥ゾーンが配置されている。低温乾燥ゾーンには、低温かつ低湿のガスを吹出し可能とする低温ガス吹出ノズルが配置されており、高温乾燥ゾーンには、上記低温ガス吹出ノズルから吹出されるガスよりも高温のガスを吹出可能とする高温ガス吹出ノズルが配置されている。
【００１４】
特許文献６に開示された磁気記録媒体の製造方法の一例では、磁性塗料に含まれる溶媒の沸点を１３０℃以下としている。そして、恒率乾燥過程と減率乾燥過程とを含む乾燥処理中において、減率乾燥過程以後の雰囲気温度を４０℃〜乃至８０℃としている。また、同文献において、恒率乾燥過程における雰囲気温度は、通常、減率乾燥過程におけるそれよりも高い。よって、同文献に記載の磁気記録媒体の製造方法では、乾燥速度（溶媒の単位時間当たりの除去量）が一定になる瞬間はあるものの、積極的な恒率乾燥は行なわれていない。なお、恒率乾燥過程では、乾燥速度が一定であるのに対して、減率乾燥過程では、塗膜中の溶媒減少に伴い乾燥速度も低下している。
【００１５】
特許文献７には、磁気記録媒体およびその製造方法が開示されている。この磁気記録媒体の磁性層に含まれる残存溶媒量は５ｍｇ／ｍ2である。特許文献７には、乾燥処理中において、恒率乾燥過程における乾燥速度を１〜２０ｋｇ／ｍ2・ｈｒとすることが開示されている。
【００１６】
以上のとおり、特許文献４〜７に開示された製造装置や製造方法等では、いずれも、比較的長い恒率乾燥過程を経ることなく減率乾燥過程へと移行している。その理由は、恒率乾燥過程を長くすると、乾燥設備および配向設備の大型化や、生産速度低下等の不利益を伴うからである。
【特許文献１】特開昭６２−１７５９３１号公報
【特許文献２】特開平６−２０２７３号公報
【特許文献３】特開平７−１３４８２５号公報
【特許文献４】特開平１０−１２４８６６号公報
【特許文献５】特開２００４−１９９５８号公報
【特許文献６】特開昭６３−４２０３０号公報
【特許文献７】特開平４−２２９４１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
しかし、これらの文献に記載の方法では、磁性層における磁性粉末の充填率を十分に高くし、かつ、磁性粉末を高度に配向させることはできないし、平滑性も不十分となる。
【００１８】
また、特許文献１に記載の方法では、第１磁場が乾燥手段の外に形成され、第２磁場が乾燥手段内に形成されるので、磁性塗膜が第１磁場を通過してから第２磁場内に入るまでの間に、磁性塗膜が晒される磁場強度は零に近い値になる。そのため、磁性粉末の粒子サイズが小さく、かつ保磁力が高い場合、第１磁場による磁化の後にいわゆる戻り配向が生じ易い。また、一旦もどり配向が生じてしまうと、第２磁場による磁化では再度良好に配向させることは困難である。
【００１９】
特許文献２に記載の方法でも、乾燥工程の前に高磁場配向を行い、低磁場配向を行いながら乾燥を行うために、高強度磁場による磁化の後にいわゆる戻り配向が生じ易く、低強度磁場による磁化では、もどり配向してしまった磁性粉末を再度良好に配向させることは困難である。
【００２０】
特許文献３に記載の方法においても、第１の磁場発生手段が乾燥装置の外に設けられ、第２の磁場配向手段が乾燥手段内に設けられているので、磁性塗膜が第１の磁場発生手段内を通過してから第２の磁場配向手段内に入るまでの間に、磁性塗膜が晒される磁場強度が零に近い値となる。そのため、磁性粉末の粒子サイズが小さくかつ保磁力が高い場合、第１の磁場配向手段による磁化の後にいわゆる戻り配向が生じ易い。また、第２の磁場配向手段による磁化では、もどり配向してしまった磁性粉末を再度良好に配向させることは困難である。
【００２１】
高い配向性を得る方法として、磁場発生手段を、塗料の塗布直後から塗布された磁性塗料が完全に乾燥するまでの間、磁場が磁性塗膜に付与され続けるように配置することが考えられる。しかし、設備が非常に高価なものになり現実的ではない。
【００２２】
以上の状況に鑑み、本発明では、配向性、充填性、かつ平滑性が高い磁性層の形成が可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体の一方の主面側に磁性層が配置された磁気記録媒体の製造方法であって、前記非磁性支持体の一方の主面側に、磁性粉末と第１バインダ樹脂と第１溶媒とを含む磁性塗料を塗布して磁性塗膜を形成し、前記磁性塗膜から前記第１溶媒を除去する乾燥処理を所定の期間行いながら、前記磁性塗膜に含まれる磁性粉末を所定方向に磁場配向させる、磁性層形成工程を含み、前記磁性層形成工程において、前記乾燥処理は、前記磁性塗膜の表面温度の上昇が停止して略一定の温度に達するまで前記磁性塗膜を加熱する予熱過程と、前記予熱過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が略一定に保たれる恒率乾燥過程と、前記恒率乾燥過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が、前記恒率乾燥過程を行っている際のそれよりも高くなり、前記磁性塗膜を固化させる減率乾燥過程とからなり、前記恒率乾燥過程が行われる恒率乾燥期間は、０．２秒以上であり、前記磁場配向は、前記予熱過程開始後において、第１配向手段および第２配向手段をこの順に用いて行なわれ、前記第１配向手段内の磁場強度が最も大きい箇所から前記第２配向手段に達する間で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最小値をＷ1min、前記第２配向手段内で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最大値をＷ2max、前記第２配向手段内で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最小値をＷ2minとしたときに、これらの値が（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９、および、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係を満たすことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
本発明では、高配向、高充填、かつ平滑性が高い磁性層の形成が可能な磁気記録媒体の製造方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明者らは、磁性塗料の塗布後に行なわれる、乾燥処理の条件や磁場配向の条件等について検討を重ねた結果、乾燥処理について従来は想定し得なかった条件を選択し、上記乾燥処理の開始後に、磁場配向処理を開始し、かつ、磁場配向処理を所定の条件で行うことにより、高配向、高充填、かつ平滑性が高い磁性層が得られることを見出した。本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する前に、先ず、図７を用いて従来の磁気記録媒体の製造方法における乾燥処理について説明する。
【００２６】
なお、図７において、実線からなる曲線は、塗膜中の溶媒の含有率の変化を示しており、点線からなる曲線は塗膜表面の温度変化を示している。
【００２７】
非磁性支持体の一方の主面側に磁性塗料を塗布することによって形成された磁性塗膜に対して、乾燥機内で乾燥処理が開始されると、図７に示すように、塗膜表面は、溶媒が急激に蒸発し始める温度に達するまで上昇する（予熱期間）。この予熱期間中における塗膜中の含溶媒率の減少は少ない。この期間を過ぎると、溶媒の蒸発が本格化する。従来例では、温度が比較的高く、かつ、風速が比較的大きい熱風を塗膜に供給している。そのため、塗膜から溶媒が蒸発することによって塗膜から奪われる蒸発潜熱よりも、塗膜が周囲から受け取る熱量の方が圧倒的に多い。よって、極めて短時間のうちに溶媒の蒸発が行われる。塗膜の表面温度Ｔｓについては急上昇し、塗膜の含溶媒率は急激に減少する。そのうちに、塗膜中の溶媒はほとんどなくなり、塗膜が固定化され、塗膜の表面温度Ｔｓは乾燥機内の雰囲気温度に近づく（減率乾燥期間）。なお、「固定化」とは、磁化容易軸が戻り配向しない状態となることを意味する。
【００２８】
塗膜に含まれる磁性粉末の磁化容易軸を揃える磁場配向については、従来、塗布終了後から減率乾燥期間が終了する前までの間に行われていた。磁場配向は塗膜に外部から磁場を印加して行う。図７に示した従来の磁気記録媒体の製造方法における乾燥処理では、比較的短時間で溶媒の除去（乾燥）が完了するので、塗布速度を大きくすることができ、乾燥機長も短くでき、磁場配向に必要な設備も小さくてすむ。そのため、このような乾燥処理を行う従来の磁気記録媒体の製造方法は、生産効率が良く、設備投資も少なくて済むという利点を有している。しかし、この製造方法は、生産性の効率化およびコスト低減に有利である一方で、磁気記録媒体を構成する磁性層における磁性粉末のさらなる高配向化、高充填化、および平滑化については不十分であった。
【００２９】
一方、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法では、磁性塗膜の表面温度Ｔｓについて、図１に示すような温度管理がなされた乾燥処理を経て、磁性層を得る。なお、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性支持体上に直接磁性層が設けられた単層構造の磁気記録媒体のほか、非磁性支持体上に非磁性層を介して磁性層が設けられた重層構造の磁気記録媒体等にも適用される。
【００３０】
図１に示すように、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法においても従来の製造方法の場合と同様に、まず、磁性塗膜の表面の温度は、磁性塗膜中の第１溶媒が急激に蒸発し始める温度にまで上昇される（予熱過程）。その後、磁性塗膜の表面温度Ｔｓは、０．２秒以上（恒率乾燥期間）略一定に保たれる。恒率乾燥過程中は、磁性塗膜から第１溶媒が蒸発することによって磁性塗膜から奪われる蒸発潜熱と、磁性塗膜が周囲から受け取る熱量との釣合いがほぼ取れている。そのため、磁性塗膜の表面温度Ｔｓは略一定に保たれる。この間は、磁性塗膜の含溶媒率がほぼ定率で減少する。その後、磁性塗膜中の第１溶媒がほとんどなくなると、塗膜は固定化され、磁性塗膜の表面温度Ｔｓは乾燥機内雰囲気の温度に近づいていく（減率乾燥過程）。
【００３１】
このように、乾燥処理中に、恒率乾燥過程があると、第１溶媒を含む流動性のある磁性塗膜中で沸騰等に伴う激しい流動が生じたり、気泡が発生したりすることが抑制される。また、乾燥処理中に、恒率乾燥過程を積極的に設けると、磁性塗膜の含溶媒率がほぼ定率で減少する期間が長くなる。そのため、磁性溶媒の除去に伴って磁性塗膜中に発生し得る空隙も少なくなり、磁性層中に磁性粉末をより密に充填させることが可能となる。さらに、得られる磁性層の表面の平滑性も向上するので、磁気記録媒体の出力が向上する。
【００３２】
恒率乾燥期間は、０．２秒以上である。恒率乾燥期間が０．２秒以上であると、乾燥中の塗膜内で激しい対流が生じることを抑制でき、そのため、充填性が高く、表面の平滑性が高い磁性層を生産性よく形成できる。恒率乾燥期間の上限について特に制限はないが、長すぎると、生産性が著しく低下する。また、固定化に時間がかかるため、配向磁石がたくさん必要になり、設備にコストがかかる。そのため、恒率乾燥期間の上限は１０秒以下であると好ましい。また、充填性、平滑性、および配向性をよりいっそう高める観点から、恒率乾燥期間は、１秒以上１０秒以下であるとより好ましい。
【００３３】
次に、図８Ａおよび図８Ｂを用いて、従来の磁気記録媒体の製造方法の一例について説明する。図８Ａは、従来の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する概念図であり、図８Ｂは、図８Ａに示した乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフである。
【００３４】
図８Ａに示すように、まず、塗布ゾーンＡ'において、帯状の非磁性支持体７１の一方の主面側に磁性粉末を含む磁性塗料８１を塗布して、磁性塗膜を形成する。次いで、非磁性支持体７１と磁性塗膜とを含む帯状の積層体ｔ１を、１対の永久磁石を備えた配向手段（第１配向手段）の間を通過させて配向処理を行う。第１配向手段内を通過した積層体ｔ１を、乾燥機６１内に搬送する。搬送手段は、例えば、複数のガイドロール５１等から構成されている。
【００３５】
乾燥機６１内には、複数の熱風供給部１１１、溶媒蒸気を含んだ熱風を排気する排気部２１、第２配向手段３１ｂが配置されている。第２配向手段３１ｂは、複数のソレノイドコイル３１１を備えている。複数の熱風供給部１１１は、第２配向手段３１ｂよりも上流側に配置された熱風供給部１１ａと、積層体ｔ１の進行方向に隣合うソレノイドコイル３１１間に配置された熱風供給部１１ｂと、第２配向手段３１ｂよりも下流側に配設された熱風供給部１１ｃとを含む。ここで、「上流側」とは、積層体Ｔが搬送される方向において、塗布ゾーンＡ'に近い側をいい、「下流側」とは、塗布ゾーンＡ'から遠い側をいう。
【００３６】
図８Ａに示すような従来の磁気記録媒体の製造方法の一例では、コータ４１による塗布の作業性、および、熱風供給部の配置性等が考慮された上で、１対の永久磁石３１ａを備えた配向手段（第１配向手段）が塗布ゾーンＡ'と乾燥機６１の間に配置されている。また、熱風供給部１１ｂによる風量を確保するために、積層体ｔ１の進行方向に隣り合うソレノイドコイル３１１の間隔は比較的大きく設計されている。そのため、図８Ｂに示すように、積層体ｔ１が第１配向手段３１ａ内を通過してから第２配向手段３１ｂ内に入るまでの間に、磁性塗膜が晒される磁場強度が零近くまで低下している。また、積層体ｔ１の進行方向に隣り合うソレノイドコイル３１１の間隔が大きいので、第２配向手段３１ｂを用いた磁場配向の際に磁性塗膜が晒される磁場強度の最大値と最小値との差は極めて大きい。そのため、磁性粉末を高度に配向させ、平滑で充填度の高い塗膜を得ることは困難であった。
【００３７】
本発明の磁気記録媒体の製造方法では、磁場配向を、予熱過程開始後において、第１配向手段３ａと第２配向手段３ｂとをこの順に用いて行う（図２Ａ参照）。そして、磁性塗膜が第１配向手段３ａ内の磁場強度が最も大きい箇所から第２配向手段３ｂ内に入るまでの間で磁性塗膜が晒される磁場強度の最小値をＷ1min、第２配向手段３ｂ内で磁性塗膜が晒される磁場強度の最大値をＷ2max、第２配向手段３ｂ内で磁性塗膜が晒される最小値をＷ2minとしたときに、これらの値が（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９、および、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係を満たすようにする（図２Ｂ参照）。
【００３８】
このように、予熱処理を開始して塗料の流動性を高めた状態で磁場配向を開始し、さらに（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９の関係が満たされるように、第１配向手段３ａを乾燥機６内に配置し、第１配向手段３ａと第２配向手段３ｂとを接して配置するか（図２Ａ参照）、可能なかぎり相互に近づけて配置する（図６Ａ参照）。これにより、磁性塗膜が第１配向手段３ａ内の磁場強度が最も大きい箇所を通過してから第２配向手段３ｂ内に入るまでの間において、磁性塗膜が晒される磁場強度の著しい低減が抑制されるため、いわゆる戻り配向を効果的に抑制できる。さらに、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係が満たされるように、例えば、第２配向手段３ｂを構成する複数のソレノイドコイル３０１を密着させて配置する。これにより、第２配向手段３ｂにより印加され磁性塗膜が晒される磁場強度の変動を抑制できるので、磁性塗膜が固定化されることにより磁性層となるまで、上記戻り配向を抑制できる。よって、後述する実施例における結果にも示されるように、高充填で、表面の平滑性が高く、かつ磁性粉末が高度に配向した磁性層を形成できる。
【００３９】
第１配向手段３ａにより印加され磁性塗膜が晒される磁場強度は、３９８ｋＡ／ｍ〜１１９４ｋＡ／ｍ（５ｋＯｅ〜１５ｋＯｅ）が好ましく、第２配向手段により印加され磁性塗膜が晒される磁場強度は、１１９ｋＡ／ｍ〜７９６ｋＡ／ｍ（１.５ｋＯｅ〜１０ｋＯｅ）が好ましい。第１配向手段３ａにより印加される磁場強度が上記範囲内にあると、磁性粉末が高度に配向し、磁性塗膜内の磁気的な凝集が抑制されることにより平滑性の高い磁性層を得ることができる。第２配向手段３ｂにより印加される磁場強度が上記範囲内にあると、第１配向手段により高度に配向した磁性粉末の戻り配向による配向の乱れを効果的に防ぐことができる。また、第２配向手段３ｂにより印加される磁場強度が、第１配向手段３ａにより印加される磁場強度の３０％以上１００％未満であると、磁性粉末を低廉かつ効率良く配向させることができ、好ましい。
【００４０】
第１配向手段３ａとしては、複数の永久磁石を含む配向手段および複数のソレノイドコイルを備えた配向手段のうちの少なくとも１種が挙げられるが、比較的低コストで高強度の磁場が得られる点で、永久磁石の同極を対向させる配向手段（反発磁石）が好ましい。第２配向手段３ｂとしては、複数の永久磁石を含む配向手段および複数のソレノイドコイルを備えた配向手段のうちの少なくとも１種が挙げられるが、比較的磁場強度の一定な磁場が一定の長さで得られる複数のソレノイドコイルを備えた配向手段がましい。
【００４１】
塗膜の厚さ（以下「ウエット厚さ」とも言う。）は乾燥すると、乾燥前の１／３〜１／８になる。磁気記録媒体が、図３に示すように、非磁性支持体１１上に直接磁性層１３が配置された単層構造の場合、磁性層１３の厚さ（以下「ドライ厚さ」ともいう。）は、好ましくは０．１μｍ〜３μｍ、より好ましくは０．５μｍ〜２μｍである。よって、磁性塗料の塗布は、ウエット厚さが好ましくは０．３μｍ〜２４μｍ、より好ましくは１．５μｍ〜１６μｍ、となるように行なわれると好ましい。磁気記録媒体が、図４に示すように、非磁性支持体１１上に非磁性層１２を介して磁性層１３が設けられた構造の場合、磁性層の厚さと非磁性層の厚さの総和は、好ましくは０．１μｍ〜３μｍ、より好ましくは０．５μｍ〜２．０μｍである。そのため、非磁性塗膜（乾燥後、非磁性層となる）の上に、ウエット・オン・ウエットで磁性塗膜が形成される場合には、磁性塗膜厚さと非磁性塗膜の厚さの総和は、好ましくは０．３μｍ〜２４μｍであり、より好ましくは１．５μｍ〜１６μｍである。この場合、磁性塗膜の厚さは、好ましくは０．０３μｍ〜１．６μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜０．８μｍであり、非磁性塗布膜の厚さは、好ましくは０．２７μｍ〜２２．４μｍ、より好ましくは１．４μｍ〜１５．２μｍである。
【００４２】
恒率乾燥過程中の磁性塗膜の表面温度Ｔｓは、磁性塗膜に含まれる溶媒（以下「第１溶媒」とも言う。）の沸点等に応じて異なる。第１溶媒は１種の溶媒からなるか、または、沸点の異なる２種以上の溶媒からなるが、第１溶媒に含まれる１種以上の溶媒のうちの沸点が最も低い溶媒の沸点Ｔbと磁性塗膜の表面温度Ｔsと差（Ｔb−Ｔs）は、１℃〜５０℃であると好ましい。具体的には、恒率乾燥過程中の磁性塗膜の表面温度Ｔsは３０℃〜８０℃であると好ましいので、上記Ｔbは、この温度範囲のいずれかの温度よりも１℃〜５０℃低いと好ましい。このような溶媒を選択することにより、恒率乾燥期間の制御がしやすくなる。
【００４３】
恒率乾燥過程中の磁性塗膜の表面温度Ｔsの制御は、従来公知の方法を用いることができる。基本的には、磁性塗膜から第１溶媒が蒸発することによって磁性塗膜から奪われる蒸発潜熱と、磁性塗膜が周囲から受け取る熱量との釣合いがほぼ取れるようにすればよい。具体的には、加熱手段としてドライヤ等を用い、熱風の温度や風速、磁性塗膜と加熱手段との距離等を適宜調節すればよい。加熱手段として、遠赤外線ヒータを用いてもよい。これらの加熱手段はそれぞれ単独で用いてもよいし、両方を組み合せて用いてもよい。
【００４４】
蒸発した第１溶媒を乾燥処理雰囲気外に排出させる方法についても、特に制限はなく、従来公知の方法を用いて行えばよい。例えば、蒸気の状態で上記雰囲気外に排出させてもよいし、凝縮手段によって一旦凝縮させてから上記雰囲気外に排出させてもよい。
【００４５】
磁性塗膜の形成に用いられる磁性塗料の全成分のうちの、第１溶媒を除く残りの成分（以下、「溶媒除外成分」ともいう。）の総濃度は、１０〜５０ｗｔ％が好ましく、２０〜３５ｗｔ％がより好ましい。磁性塗料中の溶媒除外成分濃度が上記範囲内の濃度であると、磁性塗料中における溶媒除外成分の分散性がよく、より均質な磁性塗膜を形成できる。
【００４６】
磁性塗膜の形成に用いられる磁性塗料中の第１溶媒の含有量は、磁性塗料の塗布が良好に行えるという理由から、５０〜９０ｗｔ％が好ましく、６５〜８０ｗｔ％がより好ましい。
【００４７】
磁性塗料に含まれる第１溶媒は、従来公知の磁性層形成用の塗料に含まれる溶媒であれば特に制限はないが、例えば、メチルエチルケトン（沸点８０℃）、シクロヘキサノン（沸点１５６℃）、メチルイソブチルケトン（沸点１１６℃）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン（沸点６６℃）、ジオキサン（沸点１０１℃）等のエーテル系溶媒、酢酸エチル（沸点７７℃）、酢酸ブチル（沸点１２７℃）等の酢酸エステル系溶媒、トルエン（沸点１１１℃）等が挙げられる。これらは、一種類だけで用いてもいいし、２種以上組み合せて用いてもよい。なかでも、第１バインダ樹脂に対する溶解性、磁性粉末に対する分散性、蒸発速度、およびコストの観点から、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、またはトルエン等が好ましい。
【００４８】
上記のとおり、磁気記録媒体が単層構造の場合、磁性塗膜の厚みは、０．３μｍ〜２４μｍであると好ましく、１．５μｍ〜１６μｍであるとより好ましい。また、磁気記録媒体が重層構造の場合、磁性塗膜の厚さは、０．０３μｍ〜１．６μｍであると好ましく、０．１μｍ〜０．８μｍであるとより好ましい。磁性塗膜の厚みがこれらの範囲内にあると、より均質な磁性塗膜を形成できる。
【００４９】
次ぎに、図２Ａおよび図２Ｂを用いて、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例についてより具体的に説明する。図２Ａは、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する概念図であり、図２Ｂは、後述する乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフである。
【００５０】
まず、塗布ゾーンＡにて、帯状の非磁性支持体７の一方の主面側に磁性粉末を含む磁性塗料８を塗布して、磁性塗膜を形成する。磁性塗料の塗布方法は、例えば、グラビアコート法、ダイコート法等の従来から公知の方法にて行う。
【００５１】
次いで、非磁性支持体７と磁性塗膜とを含む帯状の積層体Ｔ１を、乾燥機６内に搬送する。搬送手段は、例えば、複数のガイドロール５等から構成されている。
【００５２】
乾燥機６内には、複数の熱風供給部１、溶媒蒸気を含んだ熱風を排気する排気部２、第１配向手段３ａ、第２配向手段３ｂが配置されている。第１配向手段３ａは、例えば、一対の永久磁石を備えた配向手段であり、第２配向手段３ｂは、複数のソレノイドコイル３０１を備えた配向手段である。複数の熱風供給部１は、第１配向手段３ａおよび第２配向手段３ｂよりも上流側に配置された第１熱風供給部１ａと、第１配向手段３ａよりも下流側に配設された第２熱風供給部１ｂ、第３熱風供給部１ｃとを含む。ここで、「上流側」とは、積層体Ｔ１が搬送される方向において、塗布ゾーンＡに近い側をいい、「下流側」とは、塗布ゾーンＡから遠い側をいう。
【００５３】
熱風供給部１は、例えば、熱風を吹出し可能なドライヤである。熱風供給部１や排気部２の数および位置等については、塗布速度、乾燥ゾーン長さ等を考慮して適切に決定される。
【００５４】
乾燥室６に入った積層体Ｔ１は、第１配向手段３ａよりも上流側に配置された第１熱風供給部１ａにより予熱される。第１熱風供給部１ａから供給される熱風の温度および風速は、比較的低く、風速は比較的遅いほうが好ましい。熱風の風速、塗膜の厚さ、塗膜中の溶媒組成、塗布速度等により異なるが、温度は３５〜９０℃が好ましく、風速は０．５〜１５ｍ／秒であると好ましい。熱風の温度および風速が上記範囲内にあると、予熱が十分に行え、かつ、恒率乾燥期間の好ましい範囲の制御が容易に行え、かつ、製造設備が大きくなりすぎることを抑制できる。
【００５５】
第１熱風供給部１ａの吹出し口と塗膜との距離は１〜１００ｃｍが好ましい。上記距離が１〜１００ｃｍであると、予熱過程が充分に行え、かつ、熱風が塗膜に強く当り過ぎることによって生じる乾燥むらの発生を抑制できる。
【００５６】
予熱過程は、第１配向手段３ａよりも上流側で終了すると、後の恒率乾燥期間を好ましい範囲に制御しやすくなるという理由から好ましい。
【００５７】
次ぎに、予熱されまたは予熱中の積層体Ｔ１は、例えば、第２熱風供給部１ｂから供給される熱風により、例えば、０．２秒〜１０秒間、磁性塗膜の表面温度Ｔｓが略一定に保たれるように加熱される。上記「略一定」には、厳密に一定である場合のみならず、略一定の場合も含まれ、例えば、±１℃の範囲内にある場合も含まれる。
【００５８】
第２熱風供給部１ｂから吹出される熱風は、複数のソレノイドコイル３０１で形成される筒状の内部空間を下流側から上流側に向って流れ、第２配向手段３ｂよりも上流側に配置された排気部２より排気される。恒率乾燥期間は、例えば、第２熱風供給部１ｂから供給される熱風の温度および風速により制御できる。
【００５９】
第２熱風供給部１ｂから供給される熱風の、好ましい温度、好ましい風速は、磁性塗膜の厚さ、磁性塗膜中の溶媒組成、磁性塗料の塗布速度等により異なるが、温度は４０〜１００℃が好ましく、風速は０．５〜１５ｍ／秒が好ましい。熱風の温度および風速が上記範囲内であれば、高充填、かつ平滑性の高い磁性層を、生産性よく形成できる。
【００６０】
第２熱風供給部１ｂの吹出し口と塗膜との距離は１〜１００ｃｍが好ましい。上記距離が１〜１００ｃｍであると、恒率乾燥が充分に行え、かつ、熱風が塗膜に強く当り過ぎることによって生じる乾燥むらの発生を抑制できる。
【００６１】
恒率乾燥過程中の磁性塗膜の表面温度Ｔｓは、磁性塗膜の厚さ、磁性塗膜中の溶媒組成、磁性塗料の塗布速度により異なるが、３０℃〜８０℃であると好ましく、４０℃〜７０℃であるとより好ましい。塗膜の表面温度Ｔｓをこれらの範囲に制御することにより、恒率乾燥期間を好ましい範囲に制御することができるからである。
【００６２】
恒率乾燥過程は、第２配向手段３ｂにより形成される磁場内で終了すると、戻り配向が生じないという理由から好ましい。
【００６３】
次に、第２熱風供給部１ｂ下を通過した積層体Ｔ１は、第３熱風供給部１ｃから吹出された熱風によりさらに加熱される。第３熱風供給部１ｃにより供給される熱風の温度は比較的高く、風速も比較的速いほうが好ましい。恒率乾燥時よりも、より多くの熱を磁性塗膜に供給することにより、磁性塗膜中に残った溶媒を比較的短時間でできるだけ除去して、減率乾燥期間を短縮化するためである。これにより、恒率乾燥を所定の期間行うことにより伴う設備の大型化を抑制できる。また、磁性塗膜中の最終残存溶媒量を少なくして、磁性層の走行耐久性を向上させることができる。ここで、磁性塗膜中の最終残存溶媒量とは、乾燥処理を経ても除去しきれなかった微量溶媒の残存量である。
【００６４】
第３熱風供給部１ｃから供給される熱風の好ましい温度、好ましい風速は、磁性塗膜の厚さ、磁性塗膜に含まれる溶媒の種類（溶媒組成）、磁性塗料の塗布速度等により異なるが、恒率乾燥過程の最中よりも、より多くの熱が磁性塗膜に供給されるべく、通常、温度は６０〜１２０℃が好ましく、風速は０．５〜３０ｍ／秒が好ましい。熱風の温度および風速が上記範囲内であれば、高充填で、平滑性が高く、かつ、最終残存溶媒量が少ないことにより走行耐久性が高い磁性層を形成できる。
【００６５】
第３熱風供給部１ｃと積層体Ｔ１との距離は１ｃｍ〜１００ｃｍが好ましい。上記距離が１〜１００ｃｍであると、減率乾燥処理が充分に行え、かつ、熱風が塗膜に強く当り過ぎることによって生じる乾燥むらの発生を抑制できる。
【００６６】
必要に応じて、製造ラインの、第３熱風供給部１ｃよりさらに下流側に、ドライヤや遠赤外線ヒータ等の加熱手段を設けて、磁性塗膜中の微量の最終残存溶媒を除去すれば、磁性層の耐久性を向上させることができる。
【００６７】
なお、図２Ａを用いて説明した例では、熱風の供給方向は、積層体Ｔ１の進行方向と直交しているが、熱風の供給方向はこの例に限定されない。恒温乾燥期間を好ましい範囲に制御するために、例えば、熱風供給部１から供給される熱風が下流側から上流側へよりスムーズに流れるように、熱風供給部１を傾けてもよい。また、排気部２の位置および個数を適切に設定することで、恒温乾燥期間を所望の範囲に調整することもできる。
【００６８】
また、第１熱風供給部１ａ，第２熱風供給部１ｂ，第３熱風供給部１ｃから供給される熱風の温度および風速は、必ずしも相互に異なっている必要はなく、例えば、いずれも同じであってもよい。しかし、例えば、恒率乾燥期間を所定時間以上確保しながら、第１熱風供給部１ａから供給される熱風、第２熱風供給部１ｂから供給される熱風、および第３熱風供給部１ｃから供給される熱風について、温度および風速を同じにすると、乾燥機の長さが長くなり、さらには、磁場配向を行うために必要な設備も大きくなる。そのため、熱風供給部等の加熱手段によって供給される熱量は、第１熱風供給部１ａ、第２熱風供給部１ｂ，第３熱風供給部１ｃの順に大きくなると好ましい。
【００６９】
以上、非磁性支持体の一方の主面上に直接磁性層が配置される単層構造の磁気記録媒体の製造方法を例に挙げて説明したが、非磁性支持体の一方の主面上に非磁性層を介して磁性層が配置される重層構造の磁気記録媒体においても、同様にして製造できる。
【００７０】
積層体Ｔ１の進行方向における第１配向手段３ａと第２配向手段３ｂとの距離については、（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９の関係が満たされる限り、特に制限はない。しかし、第１配向手段３ａと第２配向手段３ｂとは、上記差（Ｗ2max−Ｗ1min）が可能な限り小さくなるよう、相互に接するように配置するか、可能なかぎり相互に近づけて配置されていると好ましい。また上記差（Ｗ2max−Ｗ1min）の値は正の数である場合もあるし、負の数である場合もある。
【００７１】
第２配向手段３ｂが例えば、複数のソレノイドコイル３０１を備えている場合、積層体Ｔ１の進行方向に相互に隣合うソレノイドコイル３０１間の距離は、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係が満たされる限り、特に限定されない。しかし、第２配向手段３ｂ内で磁性塗膜が晒される磁場強度Ｗ2maxとＷ2minとの差（Ｗ2max−Ｗ2min）が可能な限り小さくなるよう、上記距離は可能なかぎり短いと好ましい。
【００７２】
図５Ａは、本発明の磁気記録媒体の製造方法の他の一例を説明する概念図であり、図５Ｂは、図５Ａ中に記載された乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフである。
【００７３】
図５Ａに示した磁気記録媒体の製造方法では、複数の第２熱風供給部１ｂを用いており、積層体Ｔ１の進行方向に沿って隣り合うソレノイドコイル３０１の間に第２熱風供給部１ｂが配置されている。以上のこと以外は、図５Ａに示した磁気記録媒体の製造方法は図２Ａに示した磁気記録媒体の製造方法と同様である。この場合、積層体Ｔ１の進行方向に沿って隣合うソレノイドコイル３０１間の間隔が、図２Ａおよび図２Ｂを用いて説明した例におけるそれよりも大きいので、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2maxの値も大きくなる。しかし、本例は、図２Ａを用い説明された例よりも、恒率乾燥期間の制御がより容易である点で好ましい。
【００７４】
図６Ａは、本発明の磁気記録媒体の製造方法のさらに別の一例を説明する概念図であり、図６Ｂは、図６Ａ中に示された乾燥機６内における磁場強度の変化を示したグラフである。
【００７５】
図６Ａに示した磁気記録媒体の製造方法は、（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９の関係が満たされる範囲内において、第１配向手段３ａと第２配向手段３ｂとが相互に離れて配置されていること以外は、図２Ａを用いて説明した例と同じである。
【００７６】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法によって製造される磁気記録媒体の一例について説明する。
【００７７】
この磁気記録媒体の製造方法の一例によって製造される磁気記録媒体１０は、図４に示したように、非磁性支持体１１の一方の主面上に、非磁性層１２、磁性層１３がこの順に配置されている。そして、非磁性支持体１１の他方の主面上には、バックコート層１４が配置されている。しかし、非磁性層１２およびバックコート層１４は必ずしも必要ではなく、あってもなくてもよい。
【００７８】
なお、本願において、強磁性粉末の磁気特性は、いずれも外部磁場１２７３．３ｋＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）をかけたときに、試料振動形磁束計で測定した値である。
【００７９】
また、本願において、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて撮影した写真から１００個の粒子の最大径（針状粉では長軸径、板状粉では板径）をそれぞれ実測し、これらの値を平均した値（数平均粒子径）である。
【００８０】
〈非磁性支持体〉
非磁性支持体１１の厚さは、磁気記録媒体の用途によって異なるが、通常、２μｍ〜８μｍであり、より好ましくは２．５μｍ〜６μｍである。非磁性支持体１１の厚さが薄すぎると磁性塗膜の形成や、非磁性塗料を用いて形成される非磁性塗膜の形成が難しく、磁気記録媒体の強度が小さくなるからである。また、非磁性支持体１１の厚さが厚すぎると、磁気記録媒体全厚が厚くなり、例えば磁気テープの場合１巻当りの記録容量が小さくなるからである。
【００８１】
非磁性支持体１１の長手方向のヤング率は、磁気テープの走行が安定化するため、６ＧＰａ（６１２ｋｇ／ｍｍ2）以上であると好ましく、８ＧＰａ（８１６ｋｇ／ｍｍ2）以上であるとより好ましい。ヘリキャルスキャン方式で情報が記録される磁気テープでは、（長手方向（ＭＤ）のヤング率／幅方向（ＴＤ）のヤング率）が、０．６０〜０．８０であると好ましく、０．６５〜０．７５であるとより好ましい。（ＭＤのヤング率／ＴＤのヤング率）が０．６０〜０．８０であると、メカニズムは現在のところ不明であるが、磁気ヘッドのトラックの入側と出側との間の出力のばらつき（フラットネス）が小さくなる。上記フラットネスは、（ＭＤのヤング率／ＴＤのヤング率）が０．７０付近のときに最小になる。リニアレコーディング方式により情報が記録される磁気テープでは、理由は明らかではないが、（ＭＤのヤング率／ＴＤのヤング率）が０．７０〜１．３０であると上記フラットネスを小さく抑えることができ、好ましい。これらの特性を満足する非磁性支持体１１には、例えば、二軸延伸された芳香族ポリアミドベースフィルム、二軸延伸された芳香族ポリイミドフィルム等が挙げられる。
【００８２】
〈非磁性層〉
後述のとおり、厚さ損失を少なくし、または、短波長で情報を記録した際の分解能を大きくするためには、磁性層１３の厚さを０．１μｍ以下にすると好ましい。磁性層１３の厚さを０．１μｍ以下とする場合、磁性層１３の耐久性を確保し、かつ、形成過程において磁性塗料を均一性よく塗布可能とするために、非磁性支持体１１と磁性層１３との間に非磁性層１２を設けると好ましい。非磁性層１２は、例えば、非磁性粉末とバインダ樹脂（第２バインダ樹脂）等を含んでいる。非磁性層１２に含まれる第２バインダ樹脂には、例えば磁性層１３を構成するバインダ樹脂（第１バインダ樹脂）と同様のバインダ樹脂が用いられる。
【００８３】
非磁性層の厚さは０．２μｍ以上１．０μｍ以下が好ましく、０．８μｍ以下がより好ましく、０．５μｍ以下がさらにより好ましい。非磁性層の厚さが０．２μｍ以上１．０μｍ以下であると、非磁性層１２を設けることによる磁性層１３の厚さむらの低減効果が充分に発揮され、磁性層１３の耐久性が高くなり、かつ高い記録容量（磁気テープ１巻当り）を確保できる。なお、非磁性支持体の表面の凹凸は、磁性層の平滑性のレベルと比較するとかなり大きい。
【００８４】
非磁性層には、非磁性層１２の膜厚の均一性の向上、表面平滑性の向上、剛性の制御、寸法安定性の制御のために、粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍ（より好ましくは１０ｎｍ〜４９ｎｍ）の非磁性板状粒子が含まれていると好ましい。非磁性板状粒子の成分としては、酸化アルミニウム、セリウムなどの希土類元素、酸化ジルコニウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化マンガン、酸化鉄等の酸化物、または、インジウムと
スズとの複合酸化物が挙げられる。
【００８５】
非磁性層の導電性を向上させるために、平均粒子径１０〜１００ｎｍのグラファイトのような板状炭素性粉末や、平均粒子径１０〜１００ｎｍの板状ＩＴＯ（インジウム−スズ複合酸化物）粉末等を非磁性板状粉末として添加してもよい。非磁性層には、非磁性層中の全無機粉体の全重量のうち、板状ＩＴＯ粉末が１５〜９５重量％含まれていると好ましい。
【００８６】
板状ＩＴＯ粒子に代えて、粉末状の炭素材料を用いてもよい。粉末状の炭素材料には必要に応じてカーボンブラックが含まれていてもよい。カーボンブラックは粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。
【００８７】
非磁性層には、酸化鉄、酸化アルミニウムなどの酸化物粒子が含まれていてもよい。酸化物粒子の平均粒子径は、１０ｎｍ〜１００ｎｍであると好ましい。
【００８８】
非磁性層に含まれるバインダ樹脂には、例えば、磁性層に含まれるバインダ樹脂と同様のものが用いられる。
【００８９】
非磁性層１２を形成するための非磁性塗料に含まれる第２溶媒としては、例えば、磁性塗料に含まれる第１溶媒と同様のものを用いればよい。第２溶媒についても第１溶媒と同様、１種の溶媒からなるか、または、沸点の異なる２種以上の溶媒からなる。第１溶媒および第２溶媒に含まれる溶媒の内の沸点が最も低い溶媒の沸点ｔｂと、前述した恒率乾燥過程中における磁性塗膜の表面温度Ｔｓとの差（ｔｂ−Ｔｓ）は、１℃以上５０℃以下であると好ましい。このような溶媒を選択することにより、恒率乾燥期間が制御しやすくなる。
【００９０】
非磁性塗料中の溶媒除外成分濃度（第２溶媒を除く他の成分の総濃度）は、１０〜５０重量％が好ましく、２０〜３５重量％がより好ましい。非磁性塗料中の溶媒除外成分の濃度が低すぎると粘度が小さすぎて非磁性粉末の分散性が低下し、それにより、磁性塗膜と非磁性塗膜との界面が凸凹になるからである。一方、非磁性塗料中の溶媒除外成分濃度が高すぎると、粘度が大きくなりすぎて、非磁性塗料の塗布適性が低下するからである。よって、非磁性塗料における第２溶媒の含有量は５０〜９０重量％が好ましく、６５〜８０重量％がより好ましい。
【００９１】
〈表面処理剤〉
非磁性層１２に含まれる非磁性粉末や、磁性層１３に含まれる磁性粉末や非磁性粉末には、分散性の向上のために、表面処理がなされていると好ましい。この表面処理に用いられる表面処理剤としては、リン酸系表面処理剤、カルボン酸系表面処理剤、アミン系表面処理剤、キレ―ト剤、各種シランカップリング剤等が好適である。
【００９２】
リン酸系表面処理剤としては、リン酸モノメチル、リン酸ジメチル、リン酸モノエチル、リン酸ジエチル等のアルキルリン酸エステル類、フエニルホスホン酸、モノオクチルフエニルホスホン酸等の芳香族リン酸類等が挙げられる。市販品としては、東邦化学製の「ＧＡＲＦＡＣ ＲＳ４１０」、城北化学工業製の「ＪＰ−５０２」、「ＪＰ−５０４」、
「ＪＰ−５０８」等を用いることができる。
【００９３】
カルボン酸系表面処理剤としては、安息香酸、フタル酸、テトラカルボキシルナフタレン、ジカルボキシルナフタレン、炭素数１２〜２２の脂肪酸等が挙げられる。
【００９４】
アミン系表面処理剤としては炭素数８〜２２の脂肪族アミン、芳香族アミン、アルカノールアミン、アルコキシアルキルアミン等が挙げられる。
【００９５】
キレ―ト剤としては、１，１０−フエナントロリン、ＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）、ジメチルグリオキシム、アセチルアセトン、グリシン、ジチアゾン、ニトリロ三酢酸等が挙げられる。
【００９６】
表面処理剤の使用量としては、磁性粉末１００重量部、または非磁性粉末１００重量部に対して、０．５〜５重量部であると好ましい。表面処理剤の分子量は、１０００以下が好ましく、さらには５００以下がより好ましい。これらの表面処理剤は、非磁性塗料の各成分や、磁性塗料の各成分を、混練する前、混練中、混練後溶媒への分散前、または溶媒への分散中に配合すると好ましい。
【００９７】
〈磁性層〉
磁性層１３の厚さは、非磁性支持体１１の上に直接形成される場合は、０．１μｍ〜３μｍが好ましく、０．５μｍ〜２μｍがより好ましい。非磁性層１２を介して非磁性支持体１１の上に形成される場合、磁性層１３の厚さは０．０１μｍ以上０．２μｍ未満が好ましく、０．０３以上０．１μｍ以下がより好ましい。これらの範囲が好ましいのは、充分な大きさの出力が得られ、かつ、均質な磁性層１３の形成が容易に行え、かつ、厚さが厚すぎることにより生じる、短波長記録に対する分解能特性の低下を抑制できるからである。
【００９８】
磁性層１３に含まれる磁性粉末としては、強磁性鉄系金属磁性粉末、窒化鉄磁性粉末、または板状の六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末等が好ましい。これらの粉末の平均粒子径は６０ｎｍ以下であると好ましい。
【００９９】
強磁性鉄系金属磁性粉末の平均粒子径は、１０ｎｍ〜６０ｎｍであるとさらに好ましく、１５ｎｍ〜４５ｎｍであるとより好ましい。平均粒子径が１０ｎｍ〜６０ｎｍであると、十分な大きさの保磁力（Ｈｃ）が得られ、磁性塗料中での分散も良好に行え、平均粒子径が大きすぎることに起因して生じる粒子ノイズを抑制でき、好ましい。
からである。
【０１００】
強磁性鉄系金属磁性粉末の保磁力は、１６０〜３２０ｋＡ／ｍ（２０１０〜４０２０Ｏｅ）であると好ましく、２００〜３００ｋＡ／ｍ（２５１５〜３７７０Ｏｅ）であるとより好ましい。飽和磁化量（Ｂｓ）は、６０〜２００Ａ・ｍ2／Ｋｇ（６０〜２００ｅｍｕ／ｇ）であると好ましく、８０〜１８０Ａ・ｍ2／Ｋｇ（８０〜１８０ｅｍｕ／ｇ）であるとより好ましい。
【０１０１】
磁気記録媒体の磁性粉末の配向性を示す指標の一つとして角型（Ｂｒ／Ｂｓ）が挙げられるが、（Ｂｒ／Ｂｓ）は０．８以上であると好ましく、０．８４以上であるとより好ましい。なお、Ｂｓは飽和磁化量であり、Ｂｒは残存磁化量である。
【０１０２】
強磁性鉄系金属磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ2／ｇ以上が好ましく、４０ｍ2／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ2／ｇ以上がよりいっそう好ましい。ＢＥＴ比表面積の上限については特に制限はないが、通常、１００ｍ2／ｇ以下である。
【０１０３】
強磁性鉄系金属磁性粉末には、磁性粉末を構成する金属元素として、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏ等の遷移金属が含まれていてもよい。中でも、ＣｏまたはＮｉが含まれていると好ましく、これらのうち、Ｃｏは飽和磁化量を最も向上させることができる点において、特に好ましい。
【０１０４】
上記遷移金属元素の含有量は、原子比で表わすと、磁性粉末中のＦｅの含有量１００に対して、５〜５０であると好ましく、１０〜３０であるとより好ましい。
【０１０５】
また、強磁性鉄系金属磁性粉末には、上記遷移金属元素に加え、磁性粉末を構成する他の金属元素として、イツトリウム、セリウム、イツテルビウム、セシウム、プラセオジウム、サマリウム、ランタン、ユ―ロピウム、ネオジム、テルビウム等から選ばれる少なくとも１種の希土類元素がさらに含まれていてもよい。中でも、セリウム、ネオジムとサマリウム、テルビウムおよびイツトリウムから選ばれる少なくとも１種が含まれていると、高い保磁力（Ｈｃ）が得られるので好ましい。上記希土類元素の含有量は、原子比で表わすと、合金中のＦｅの含有量１００に対して、０．２〜２０であると好ましく、０．３〜１５であるとより好ましく、０．５〜１０であるとさらに好ましい。
【０１０６】
窒化鉄磁性粉末には，公知のものを用いることができる。窒化鉄磁性粉末の形状は、針状の他に球状や、立方体形状等の不定形であってもよい。
【０１０７】
窒化鉄磁性粉末の保磁力は、１６０〜３２０ｋＡ／ｍ（２０１０〜４０２０Ｏｅ）であると好ましく、２００〜３００ｋＡ／ｍ（２５１５〜３７７０Ｏｅ）であるとより好ましい。窒化鉄磁性粉末の飽和磁化量は、６０〜２００Ａ・ｍ2／Ｋｇ（６０〜２００ｅｍｕ／ｇ）であると好ましく、８０〜１８０Ａ・ｍ2／Ｋｇ（８０〜１８０ｅｍｕ／ｇ）であるとより好ましい。
【０１０８】
窒化鉄磁性粉末の平均粒子径としては、充分な大きさの保磁力が得られ、かつ、磁性塗料中での分散が良好に行え、かつ、平均粒子径の大きさに起因して生じる粒子ノイズが小さい点で、５〜２０ｎｍが好ましく、１０〜１７ｎｍがより好ましい。
【０１０９】
窒化鉄磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ2／ｇ以上が好ましく、４０ｍ2／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ2／ｇ以上がよりいっそう好ましい。上記ＢＥＴ比表面積の上限について特に制限はないが、通常、１００ｍ2／ｇ以下であると好ましい。
【０１１０】
強磁性鉄系金属磁性粉末および／または窒化鉄磁性粉末は、耐食性の向上、分散性を向上、保磁力の制御のために、Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ｙ，Ｚｒまたはこれらの酸化物によって表面処理されていてもよい。
【０１１１】
六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍであると好ましく、飽和磁化量は、４０〜６０Ａ・ｍ2／ｋｇ（４０〜６０ｅｍｕ／ｇ）であると好ましい。また、六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末の平均粒子径（板面の一番長い部分の長さ、板径）は、１０ｎｍ〜３０ｎｍであると好ましく、１０ｎｍ〜２５ｎｍであるとより好ましく、１０ｎｍ〜２０ｎｍであるとさらに好ましい。平均粒子径が小さすぎると、粒子の表面エネルギーが増大するため磁性塗料中での分散が困難になり、大きすぎると、粒子の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるからである。また、板状比（板径／板厚）は３未満であると好ましく、２以下であるとより好ましい。また、六方晶Ｂａ−フェライト磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、１〜１００ｍ2／ｇであると好ましい。
【０１１２】
磁性層１３のテープ長手方向の残留磁束密度と磁性層厚さの積は、短波長記録を可能とし、ＭＲヘッドで再生した時の再生出力が大きく、しかも再生出力の歪が小さく、出力対ノイズ比を大きくするために、０．００１８〜０．０５μＴｍであると好ましく、０．００３６〜０．０５μＴｍであるとより好ましく、０．００４〜０．０５μＴｍであるとさらに好ましい。
【０１１３】
磁性層１３に含まれるバインダ樹脂（第１バインダ樹脂）または非磁性層１２に含まれるバインダ樹脂（第２バインダ樹脂）としては、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体、およびセルロース系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種と、ポリウレタンとの組み合せが挙げられる。セルロース系樹脂としては例えばニトロセルロース樹脂が挙げられる。
【０１１４】
中でも、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体とポリウレタンとの組み合せが好ましい。ポリウレタンとしては、例えば、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン等が挙げられる。
【０１１５】
また、ポリウレタンとしては、官能基として、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）3、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2［これらの式中、Ｍは水素原子、アルカリ金属塩基又はアミン塩を示す］、−ＯＨ、−ＮＲ'Ｒ''、−Ｎ＋Ｒ'''Ｒ''''Ｒ'''''［これらの式中、Ｒ'、Ｒ''、Ｒ'''、Ｒ''''、Ｒ'''''は水素または炭化水素基を示す］、またはエポキシ基を有する高分子からなるポリウレタンも使用できる。このようなポリウレタンを使用すれば、磁性粉末等の粉体の磁性塗料中での分散性が向上する。
【０１１６】
２種以上のバインダ樹脂を併用する場合には、官能基の極性を一致させると好ましく、中でも２種のバインダ樹脂のそれぞれが−ＳＯ3Ｍ基を有していると好ましい。
【０１１７】
磁性層形成用の磁性塗料中、第１バインダ樹脂は、磁性粉末１００重量部に対して、７〜５０重量部含まれていると好ましく、１０〜３５重量部含まれているとより好ましい。そして、バインダ樹脂が塩化ビニル系樹脂とポリウレタン樹脂とを含む場合は、磁性粉末１００重量部に対して、塩化ビニル系樹脂が５〜３０重量部、ポリウレタン樹脂が２〜２０重量部含まれていると好ましい。
【０１１８】
非磁性層形成用の非磁性塗料中に含まれる第２バインダ樹脂の含有量は、非磁性粉末１００重量部に対して、１０〜５５重量部であると好ましく、１５〜４０重量部であるとより好ましい。
【０１１９】
磁性層形成用の磁性塗料または非磁性層形成用の非磁性塗料中には、上記第１バインダ樹脂または第２バインダ樹脂とともに、第１バインダ樹脂または第２バインダ樹脂が有する官能基と結合して架橋する熱硬化性の架橋剤がさらに含まれていると好ましい。この架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、これらのイソシアネート類とトリメチロールプロパン等の水酸基を複数個有する化合物とが反応して得られる反応生成物、または上記イソシアネート類の縮合生成物等の各種のポリイソシアネートが好ましい。これらの架橋剤は、第１バインダ樹脂または第２バインダ樹脂１００重量部に対して、それぞれ、好ましくは１〜３０重量部用いられ、より好ましくは５〜２０重量部用いられる。しかし、非磁性塗料を非磁性支持体上に塗布することにより形成される非磁性塗膜の上に、ウエット・オン・ウエットで磁性塗膜が形成される場合には、非磁性塗膜中のポリイソシアネートの一部が磁性塗膜に拡散供給される。そのため、磁性塗料はポリイソシアネートを含んでいなくても、ある程度は磁性塗膜中で架橋が行われる。
【０１２０】
磁性層１３は、磁性粉末以外に、非磁性粉末を含んでいてもよい。非磁性粉末としては、研磨材やカーボンブラック等が挙げられる。カーボンブラックを含むと、磁性層１３の導電性が向上する。
【０１２１】
研磨材としては、α−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素等、主としてモース硬度６以上のものが挙げられる。これらは単独で用いてもいいし２種以上を組み合せて用いてもよい。
【０１２２】
研磨材の平均粒子径としては、磁性層１３の厚さが０．０１〜０．２μｍと薄い場合は、通常１０ｎｍ〜２５０ｎｍであると好ましい。磁性層１３の厚さが０．２μｍよりも厚い場合、研磨材の平均粒子径は５０〜１０００ｎｍであると好ましい。研磨材の含有量は、磁性粉末１００重量部に対して、５〜２０重量部であると好ましく、８〜１８重量部であるとより好ましい。
【０１２３】
カーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等が挙げられる。
【０１２４】
カーボンブラックの平均粒子径は、分散性の向上、磁性層１３の表面の平滑性の向上、および、磁性層１３の表面が粗くなることに起因して生じる出力低下の抑制の観点から、１０ｎｍ〜１００ｎｍであると好ましい。平均粒子径が小さすぎるとカーボンブラックの分散が難しく、平均粒子径が大きすぎると多量のカーボンブラックが必要になる。カーボンブラックの含有量は、磁性粉末１００重量部に対して、０．２〜５重量部であると好ましく、０．５〜４重量部であるとより好ましい。
【０１２５】
＜潤滑剤＞
非磁性層１２は、脂肪酸と脂肪酸のエステルとを潤滑剤としてさらに含んでいると好ましい。非磁性層１２がこれらをそれぞれ所定量含んでいると、磁気テープのヘッドとの摩擦係数が小さくなるからである。非磁性塗料には、摩擦係数低減効果が充分に発揮され、非磁性層１の高い強靭性を確保し、磁性層１３への脂肪酸のエステルの移入量を抑制して磁気テープとヘッドとが貼り付く等の副作用が生じることを防止する観点から、非磁性層１２に含まれる非磁性粉末１００重量部に対して脂肪酸が０．５〜５．０重量部、脂肪酸のエステルが０．２〜３．０重量部、配合されていると好ましい。
【０１２６】
脂肪酸としては、炭素数１０以上のものを用いると好ましい。炭素数１０以上の脂肪酸としては、直鎖、分岐、シス・トランスなどの異性体のいずれでもよいが、潤滑性能が優れた直鎖型が好ましい。このような脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸などが挙げられる。これらの中でも、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸などが好ましい。
【０１２７】
脂肪酸のエステルとしては例えば、ブチルステアレートとブチルパルミテートとの混合物、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルをステアリン酸でアシル化したもの、ヘキサメチレンジオールをミリスチン酸でアシル化してジオールとしたもの、グリセリンのオレエート等の種々のエステル化合物、ブチルステアレート、sec-ブチルステアレート、イソプロピルステアレート、ブチルオレエート、アミルステアレート、３−メチルブチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−ヘキシルデシルステアレート、ブチルパルミテート、２−エチルヘキシルミリステート、オレイルオレエート、ブトキシエチルステアレート、２−ブトキシ−１−プロピルステアレート、ジエチレングリコールジパルミテート等を挙げることができる。
【０１２８】
磁性層１３にも上記脂肪酸が含まれていてもよい。この場合、非磁性層１２と磁性層１３との間で脂肪酸が転移するので、磁性塗料における脂肪酸の配合量については、磁性層１３に含まれる脂肪酸の含有量と非磁性層１２に含まれる脂肪酸の含有量の総和が、磁性層１３に含まれる全粉末（磁性粉末と非磁性粉末）と非磁性層１２に含まれる非磁性粉末の総量を１００重量部とした場合に、０．５〜５．０重量部であれば好ましい。なお、非磁性塗料に脂肪酸が配合される場合、磁性塗料には脂肪酸は必ずしも配合されていなくてもよい。
【０１２９】
磁性層１３には、潤滑剤として、脂肪酸アミドと脂肪酸のエステルの両方が含まれていてもよい。テープ走行時のテープのヘッドに対する摩擦係数が小さくなるからである。これらの磁性塗料への配合量は、磁性粉末１００重量部に対して、脂肪酸アミドは０．５〜３．０重量部、脂肪酸のエステルは０．２〜３．０重量部であると好ましい。脂肪酸アミドの含有量が０．５重量部未満であると、ヘッドと磁性層１３とが相互接触することにより生じる焼付きを防止する効果が小さくなるからである。また、脂肪酸アミドの含有量が３．０重量部を越えると脂肪酸アミドがブリードアウトしてしまうおそれがあるからである。また、脂肪酸のエステルの含有量が０．２重量部未満であると、摩擦係数低減効果が小さくなるからである。また、脂肪酸のエステルの含有量が３．０重量部を越えると、磁性層１３がヘッドに貼り付く等の副作用を生じるおそれがあるからである。なお、磁性層１３の潤滑剤と非磁性層１２の潤滑剤は相互移動し得る。
【０１３０】
脂肪酸アミドとしては、パルミチン酸、ステアリン酸等の炭素数が１０以上の脂肪酸アミド等が挙げられる。磁性層１３に含まれる脂肪酸のエステルは、上記で列挙した脂肪酸のエステルと同様であってもよい。
【０１３１】
〈バックコート層〉
非磁性支持体１１の磁性層１３が形成されている面とは反対側の面には、走行性の向上
等を目的としてバックコート層１４が設けられていると好ましい。バックコート層１４の厚さは、高い走行性向上効果が得られ、かつ、磁気テープ１巻当たりの記録容量を大きくする観点から、０．２〜０．８μｍであると好ましい。
【０１３２】
バックコート層１４は、例えば、カーボンブラック（ＣＢ）を含む。カーボンブラック（ＣＢ）としては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等が挙げられる。通常、粒子径が相対的に異なる、小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラックとが併用される。小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラックとを併用すると、走行性向上効果も大きくなるので好ましい。大粒径カーボンブラックは、小粒径カーボンブラック１００重量部に対して５〜１５重量部含まれていると好ましい。
【０１３３】
小粒径カーボンブラックの平均粒子径は、塗料中での分散性が高く、カーボンブラックの添加量が多くなりすぎることを抑制して、平滑性の高いバックコート層を得る観点から、５ｎｍ以上２００ｎｍ未満であると好ましく、１０〜１００ｎｍであるとより好ましい。
【０１３４】
大粒径カーボンブラックの平均粒子径は、２００〜４００ｎｍであると好ましい。
【０１３５】
小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラック合計量は、バックコート層に含まれる全粉末重量のうち６０〜９８重量％であると好ましく、７０〜９５重量部であるとより好ましい。
【０１３６】
バックコート層１４の平均表面粗さＲａは、３〜８ｎｍであると好ましく、４〜７ｎｍであるとより好ましい。バックコート層に磁性があると磁性層１３に記録される磁気信号が乱れる場合があるので、通常、バックコート層は非磁性である。
【０１３７】
なお、本願では、ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗ５０００を用い、走査型白色光干渉法にて、１０視野の表面粗さを測定し、その平均値を平均表面粗さ（Ｒａ）としている。測定の際には、５０倍の対物レンズを用い、２倍ズームで測定した。よって、倍率は１００倍である。測定視野は７２μｍ×５４μｍである。
【０１３８】
バックコート層には、強度向上を目的として、例えば酸化鉄が含まれていると好ましい。酸化鉄の平均粒子径は１００〜６００ｎｍが好ましく、２００〜５００ｎｍがより好ましい。酸化鉄の含有量は、全粉末重量のうち２〜４０重量％が好ましく、５〜３０重量％がより好ましい。また、平均粒子径が１００〜６００ｎｍのアルミナが全粉体重量のうち０．５〜５重量％添加されていると、さらにバックコート層の強度が向上するので、好ましい。
【０１３９】
バックコート層１４にはバインダ樹脂が含まれるが、バックコート層１４中のバインダ樹脂は、前述した磁性層１３や非磁性層１２に含まれるバインダ樹脂と同様のものであってもよい。しかし、摩擦係数を低くして磁気ヘッドの走行性を向上させるために、セルロース系樹脂とポリウレタン系樹脂とを併用することが好ましい。バインダ樹脂の含有量は、強度が高く摩擦係数の低いバックコート層１４を形成する観点から、バックコート層に含まれる全粉末重量１００重量部に対して、４０〜１５０重量部であると好ましく、５０〜１２０重量部であるとより好ましく、６０〜１１０重量部であるとさらに好ましく、７０〜１１０重量部であるとよりいっそう好ましい。バックコート層に含まれる全粉末重量を１００重量部とすると、上記バインダ樹脂には、セルロース系樹脂が３０〜７０重量部、ポリウレタン系樹脂は２０〜５０重量部含まれていると好ましい。バックコート層１４を形成するための塗料は、バインダ樹脂を硬化させるために、架橋剤を含んでいると好ましい。架橋剤としては、例えば、ポリイソシアネート化合物等が挙げられる。
【０１４０】
バックコート層１４を形成するための塗料に含まれる架橋剤は、例えば、前述した磁性層１３形成用の磁性塗料や非磁性層１２形成用の非磁性塗料に含まれる架橋剤と同様ものであってよい。架橋剤の含有量は、強度が高くＳＵＳ（ステンレス）に対する動摩擦係数が小さいバックコート層１４を形成する観点から、バインダ樹脂１００重量部に対して、通常、１０〜５０重量部であると好ましく、１０〜３５重量部であるとより好ましく、１０〜３０重量部であるとよりいっそう好ましい。
【０１４１】
〈有機溶媒〉
非磁性層１２形成用の非磁性塗料に含まれる第２溶媒、バックコート層１４形成用の塗料に含まれる溶媒には、磁性層１３形成用の磁性塗料に含まれる第１溶媒のもの用いればよい。また、非磁性層の形成に用いられる非磁性塗料中の溶媒除外成分濃度、バックコート層１４形成用の塗料の溶媒除外成分濃度は、磁性塗料の場合と同様の理由から、１０〜５０ｗｔ％が好ましく、２０〜３５ｗｔ％がより好ましい。よって、非磁性塗料に含まれる第２溶媒の含有量は、５０〜９０ｗｔ％が好ましく、６５〜８０ｗｔ％がより好ましく、バックコート層１４形成用の塗料に含まれる溶媒の含有量も、５０〜９０ｗｔ％が好ましく、６５〜８０ｗｔ％がより好ましい。
【０１４２】
以下に実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例および比較例における平均粒子径は、数平均粒子径を示す
【実施例】
【０１４３】
（実施例１）
＜非磁性層形成用の非磁性塗料＞
（１）Ａ成分
針状酸化鉄（平均粒子径：０．１１μｍ） ６８重量部
カーボンブラック（平均粒子径：０．０２５μｍ） ２０重量部
粒状アルミナ粉末（平均粒子径：０．４μｍ） １２重量部
メチルアシッドフォスフェート １重量部
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 ９重量部
（含有−ＳＯ3Ｎａ基：０．７×１０-4当量／ｇ）
ポリエステルポリウレタン樹脂 ５重量部
（ガラス転移温度：４０℃、含有−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4当量／ｇ）
テトラヒドロフラン １３重量部
シクロヘキサノン ６３重量部
メチルエチルケトン １３７重量部
（２）Ｂ成分
ステアリン酸ブチル ２重量部
シクロヘキサノン ５０重量部
トルエン ５０重量部
（３）Ｃ成分
ポリイソシアネート ６重量部
シクロヘキサノン ９重量部
トルエン ９重量部
＜磁性層形成用の磁性塗料＞
（１）ａ成分
強磁性鉄系金属磁性粉末 １００重量部
（Ａｌ−Ｙ−Ｆｅ−Ｃｏ）〔σｓ：１２０Ａ・ｍ2／ｋｇ（１２０ｅｍｕ／ｇ）
Ｈｃ：１７６．３ｋＡ／ｍ（２２１５Ｏｅ）平均粒子径：４５ｎｍ、真密度ρ：５．７ｇ／ｃｃ〕
塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 １７重量部
ポリエステルポリウレタン樹脂 ６重量部
粒状アルミナ粉末（平均粒子径：０．２μｍ） １０重量部
メチルアシッドフォスフェート ４重量部
メチルエチルケトン ３５重量部
シクロヘキサノン １１０重量部
トルエン １１０重量部
（２）ｂ成分
パルミチン酸アミド １重量部
ステアリン酸ブチル １重量部
シクロヘキサノン ３０重量部
トルエン ３０重量部
（３）ｃ成分
ポリイソシアネート ６重量部
メチルエチルケトン ２重量部
シクロヘキサノン ８重量部
トルエン ８重量部
【０１４４】
上記の非磁性層形成用の塗料成分のうちＡ成分を回分式ニーダで混練した。混練されたＡ成分にＢ成分を加えて撹拌した後、サンドミルを用いて６０分間（滞留時間）分散処理をした。さらに、分散処理をしたＡ成分とＢ成分の混合物にＣ成分を加え、これらを撹拌し、得られたものをろ過して、非磁性層形成用の非磁性塗料を得た。
【０１４５】
一方で、ａ成分を回分式ニーダで混練した。次ぎに混練されたａ成分にｂ成分を加えて撹拌して未分散塗料を得た。続いて、未分散塗料に対して、ナノミル（浅田鉄工社製）を用いて、９０分間（滞留時間）分散処理をした。さらに、分散処理をしたａ成分とｂ成分の混合物にｃ成分を加えて撹拌し、得られたものをろ過して、磁性層形成用の磁性塗料を得た。
【０１４６】
上記非磁性層形成用の非磁性塗料を、厚さ８μｍのポリエチレンナフタレートフィルムからなる非磁性支持体上に、エクストルージョン型コータを用いて塗布して非磁性塗膜を形成した。次いで、この非磁性塗膜上に、磁性層形成用の磁性塗料をエクストルージョン型コータを用いて、ウエット・オン・ウエットで塗布して磁性塗膜を形成した。
【０１４７】
非磁性塗膜の厚さは、乾燥およびカレンダ後の厚さ（すなわち非磁性層の厚さ）が０．９μｍとなるようにし、磁性塗膜の厚さは、乾燥およびカレンダ後の厚さ（すなわち磁性層の厚さ）が０．０８μｍとなるようにした。磁性層形成用の磁性塗料の塗布速度は１５０ｍ／分とした。
【０１４８】
次いで、非磁性支持体上に非磁性塗膜と磁性塗膜とがこの順に形成された積層体を、図２Ａに示された要領で、非磁性塗膜中および磁性塗膜中に含まれる溶媒を除去しながら、磁場配向を行った。具体的には、まず、第１熱風供給部１ａにより予熱過程を開始し、その後、第１配向手段の一例であるＮ−Ｎ対向磁石を含む配向手段内（Ｗ1max：７ｋＯｅ（５５７ｋＡ／ｍ））を通過させた。次いで、第２配向手段により磁場配向を行いながら、第２熱風供給部１ｂおよび第３熱風供給部１ｃにより、恒率乾燥過程および減率乾燥過程をこの順で行った。搬送手段による積層体の搬送速度は１５０ｍ/分とした。このとき、第１配向手段と第２配向手段との距離を調節することにより、Ｗ1minが３ｋＯｅとなるように設定した。
【０１４９】
なお、本実施例では、図２に示すように、第２配向手段として４基のソレノイドコイルを備えた配向手段（Ｗ2max：３ｋＯｅ（２３９ｋＡ／ｍ））を用いた。熱風の温度、風速、熱風供給部と磁性塗膜との距離等の、乾燥条件については表１に示している。
【０１５０】
＜バックコート層形成用塗料の成分＞
カーボンブラック(平均粒子径２５ｎｍ) ８０重量部
カーボンブラック(平均粒子径３５０ｎｍ) １０重量部
粒状酸化鉄(平均粒子径５０ｎｍ) １０重量部
ニトロセルロース ４５重量部
ポリウレタン樹脂 ３０重量部
シクロヘキサノン ２６０重量部
トルエン ２６０重量部
メチルエチルケトン ５２５重量部
ポリイソシアネート １５重量部
【０１５１】
上記のバックコート層形成用の塗料の成分のうちポリイソシアネートを除く他の成分全てをサンドミル中で分散混合させた後、それにポリイソシアネートを加えた。得られた混合物をろ過して、バックコート層形成用の塗料を得た。この塗料を、非磁性支持体の磁性層側の面の反対面に塗布し、乾燥させた。
【０１５２】
このようにして得られた磁気シートを金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線圧１９６ｋＮ／ｍの条件で鏡面化処理(カレンダ処理)した。次いで、磁気シートをコアに巻いた状態で６０℃４８時間エージングして評価用磁気テープを作製した。
【０１５３】
（実施例２）
第１配向手段と第２配向手段との距離を調節して、Ｗ1minを０．９ｋＯｅとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例２の評価用磁気テープを作成した。
【０１５４】
（実施例３）
第１配向手段と第２配向手段との距離を調節して、Ｗ1minを０．３ｋＯｅとしたこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の評価用磁気テープを作成した。
【０１５５】
（実施例４）
図５Ａに示した乾燥・配向装置を用いた以外は実施例１と同様にして、実施例４の評価用の磁気テープを作製した。
【０１５６】
（実施例５）
図５Ａに示した乾燥・配向装置を用い、第１〜第３熱風供給部の条件を表１の記載のとおり設定し、恒率乾燥期間を０．２秒としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例５の評価用磁気テープを作成した。
【０１５７】
（実施例６）
図２Ａに示した乾燥・配向装置を用い、第１〜第３熱風供給部の条件を表１の記載のとおり設定し、恒率乾燥期間を１０秒としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例５の評価用磁気テープを作成した。
【０１５８】
[比較例１]
第２熱風供給部１ｂによる乾燥処理を行わず、恒率乾燥期間を０．１秒としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例１の評価用の磁気テープを作製した。
【０１５９】
[比較例２]
第１熱風供給部１ａによる乾燥処理を行わなかったこと以外は実施例１と同様にして、比較例２の評価用の磁気テープを作製した。
【０１６０】
[比較例３]
第１熱風供給部１ａを用いた乾燥処理を行わず、第２、第３熱風供給部の条件を表１に記載の条件に変更し、恒率乾燥期間を０．１秒としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例３の評価用の磁気テープを作製した。
【０１６１】
[比較例４]
図８Ａに示した従来技術の製造装置を用い、第１熱風供給部１１ａを用いた乾燥処理を行わず、第２、第３熱風供給部１１ｂ，１１ｃの条件を表１に記載の条件に変更し、恒率乾燥期間を０．１秒とし、更に第１配向手段３１ａと第２配向手段３１ｂとの距離を調節して、Ｗ1minを０．０２ｋＯｅとしたこと以外は実施例１と同様にして、比較例４の評価用の磁気テープを作製した。
【０１６２】
[比較例５]
第１配向手段と第２配向手段との距離を調節して、Ｗ1minを０．１５ｋＯｅとしたこと以外は実施例１と同様にして、比較例５の評価用磁気テープを作成した。
【０１６３】
[比較例６]
第２配向手段を構成するソレノイドコイルに関して、磁気シートの進行方向に隣り合うソレノイドコイル間距離を調節することにより、Ｗ2minを０．９ｋＯｅとしたこと以外は実施例１と同様にして、比較例６の評価用磁気テープを作成した。
【０１６４】
[比較例７]
図７Ａに示した従来技術の製造装置を用いたこと以外は実施例１と同様にして、比較例７の評価用磁気テープを作成した。
【０１６５】
得られた評価用の磁気シートの評価は以下のようにして行った。その結果は表１に示している。尚、表１中の、Ｗ1max、Ｗ1min、Ｗ2max、Ｗ2minは、第１配向手段と第２配向手段との距離や、第２配向手段を構成するソレノイドコイルの配置位置などを適宜調節した装置について、予め、非磁性支持体上に非磁性塗膜と磁性塗膜とがこの順に形成された積層体が通ることとなる経路にガウスメーター（Ｆ．Ｗ．ＢＥＬＬ社製、４０４８型）を一定速度で走らせるながら、装置内の磁場強度を測定することにより得た。
【０１６６】
【表１】
【０１６７】
〈恒率乾燥期間〉
乾燥機内に２０ｃｍ間隔で赤外線センサ（ファイバー型赤外放射温度計（ＦＴＺ６型 ジャパンセンサー（株）製））を配置し、各赤外線センサにより磁性層の表面温度Ｔｓを測定した。連続配置された３つのセンサから得られた各磁性層の表面温度Ｔｓをどのように組み合せても温度差が２℃以内であれば、恒率乾燥が行なわれていると判断して、恒率乾燥期間を測定した。
【０１６８】
〈磁性層の表面粗さ〉
ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗ５０００を用い、走査型白色光干渉法にて、１０点の表面粗さを測定し、その平均値を平均粗さＲｚとした。測定の際には、５０倍の対物レンズを用い、２倍ズームで測定した。よって、倍率は１００倍である。測定視野は７２μｍ×５４μｍである。
【０１６９】
〈磁気特性〉
磁気シートに、外部磁場０．８ＭＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）をかけた後、角型（Ｂｒ／Ｂｓ）および磁性層単位面積当たりの飽和磁化量Ｍｓｔ(ｍｅｍｕ／ｃｍ2)を測定した。これらの測定には、東英工業製の試料振動型磁束計ＶＳＭ−Ｐ７を用いた。
【０１７０】
〈体積充填度〉
磁気テープを樹脂封止した後、それを集束イオンビーム加工装置を用いて、磁気テープの厚さ方向の断面をテープの長手方向に切り出した。次いで、その断面の写真撮影（ＢＳＥ像、倍率：１０万倍）を、走査型電子顕微鏡(ＳＥＭ)を用いて行った。写真撮影は、互いに重複部分を含まないように１０視野について行った。次いで、各写真に、磁性層と非磁性層との界面に境界線を引き、その境界線と対向する磁性層の外形にも線を引いた。線幅は０.５ｍｍとした。
【０１７１】
次ぎに、各写真について、上記境界線とそれに対応する線との距離を５箇所測定し、その平均値を磁性層の厚さｔ（μｍ）として測定した。そして、Ｍｓｔおよび磁性層の厚さｔ（μｍ）を用いて次式（１）により飽和磁束密度Ｂｓ（Ｇ）を求めた。また、Ｂｓおよび磁性粉末のσｓ（ｅｍｕ／ｇ）および真密度ρ（ｇ／ｃｃ）を用いて次式（２）から磁性粉末の充填度（Ｖｏｌ％）を求めた。
Ｂｓ＝４π×Ｍｓｔ／ｔ （１）
充填度（Ｖｏｌ％）＝Ｂｓ／（４π・σｓ・ρ）×１００ （２）
【０１７２】
表１に示すように、恒率乾燥期間が０．２秒よりも短い比較例１〜４の評価用磁気テープについては、（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９、および、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係が満たされていても、平滑性、配向性、充填性のうちの少なくとも１つが実施例１〜６の評価用磁気テープのそれよりも劣っている。上記２つの関係式のうちの少なくとも一方が満たされていない比較例４〜７の評価用磁気テープについては、配向性が、実施例１〜６の評価用磁気テープのそれよりも劣っている。これに対して、実施例１〜６の評価用磁気テープについては、磁性塗膜の平滑性が高く（粗度が小さい）、磁性粉末の配向性が優れ（角型が大きく）、かつ、磁性粉末の充填性が高い（体積充填度が大きい）。
【産業上の利用可能性】
【０１７３】
本発明は、磁性粉末の充填率が高く、表面の平滑性が優れ、かつ、磁性粉末の配向性が良好な磁性層を形成できるので、本発明は、より大容量化され高出力可能な磁気記録媒体の製造方法として有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１７４】
【図１】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例における塗膜表面の温度の変化と塗膜中の含溶媒率の変化を示した概念図
【図２Ａ】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する概念図
【図２Ｂ】図２Ａに示した乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフ
【図３】本発明の磁気記録媒体の一例の部分断面図
【図４】本発明の磁気記録媒体の他の一例の部分断面図
【図５Ａ】本発明の磁気記録媒体の製造方法の他の例を説明する概念図
【図５Ｂ】図５Ａに示した乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフ
【図６Ａ】本発明の磁気記録媒体の製造方法のさらに別の例を説明する概念図
【図６Ｂ】図６Ａに示した乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフ
【図７】従来の磁気記録媒体の製造方法の一例における塗膜表面の温度の変化と塗膜中の含溶媒率の変化を示した概念図
【図８Ａ】従来の磁気記録媒体の製造方法の一例を説明する概念図
【図８Ｂ】図７Ａに示した乾燥機内における磁場強度の変化を示したグラフ
【符号の説明】
【０１７５】
１ 熱風供給部
１ａ 第１熱風供給部
１ｂ 第２熱風供給部
１ｃ 第３熱風供給部
２ 排気部
３ａ 第１配向手段
３ｂ 第２配向手段
５ ガイドロール
Ｔ１ 積層体
１０ 磁気記録媒体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体の一方の主面側に磁性層が配置された磁気記録媒体の製造方法であって、
前記非磁性支持体の一方の主面側に、磁性粉末と第１バインダ樹脂と第１溶媒とを含む磁性塗料を塗布して磁性塗膜を形成し、前記磁性塗膜から前記第１溶媒を除去する乾燥処理を所定の期間行いながら、前記磁性塗膜に含まれる磁性粉末を所定方向に磁場配向させる、磁性層形成工程を含み、
前記磁性層形成工程において、前記乾燥処理は、前記磁性塗膜の表面温度の上昇が停止して略一定の温度に達するまで前記磁性塗膜を加熱する予熱過程と、前記予熱過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が略一定に保たれる恒率乾燥過程と、前記恒率乾燥過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が、前記恒率乾燥過程を行っている際のそれよりも高くなり、前記磁性塗膜を固化させる減率乾燥過程とからなり、
前記恒率乾燥過程が行われる恒率乾燥期間は、０．２秒以上であり、
前記磁場配向は、前記予熱過程開始後において、第１配向手段および第２配向手段をこの順に用いて行なわれ、
前記第１配向手段内の磁場強度が最も大きい箇所から前記第２配向手段に達する間で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最小値をＷ1min、前記第２配向手段内で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最大値をＷ2max、前記第２配向手段内で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最小値をＷ2minとしたときに、これらの値が（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９、および、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係を満たすことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記磁性粉末の平均粒子径は、６０ｎｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記磁性粉末の保磁力は、１６０〜３２０ｋＡ／ｍである請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記恒率乾燥期間は、１０秒以下である請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記恒率乾燥過程中における、前記磁性塗膜の表面温度は３０℃〜８０℃である請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記第１溶媒は１種の溶媒からなるか、または沸点の異なる２種以上の溶媒からなり、
前記第１溶媒に含まれる溶媒のうちの沸点が最も低い溶媒の沸点と、前記恒率乾燥過程中における前記磁性塗膜の表面温度との差は、１℃〜５０℃である請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記乾燥処理が行なわれる前の前記磁性塗膜の厚さは０．３μｍ〜２４μｍである請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記磁性塗料の塗布前に、
前記非磁性支持体の前記一方の主面側に、非磁性粉末と第２バインダ樹脂と第２溶媒とを含む非磁性塗料を塗布して、非磁性塗膜を形成する工程をさらに含み、
前記磁性層形成工程で行なわれる前記乾燥処理によって、前記非磁性塗膜に含まれる前記第２溶媒が除去されて、前記非磁性塗膜が非磁性層となる、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】
前記乾燥処理が行なわれる前の前記磁性塗膜の厚さと、前記乾燥処理が行なわれる前の前記非磁性塗膜の厚さとの和が、０.３μｍ〜２４μｍである請求項８に記載の磁気記録
媒体の製造方法。
【請求項１０】
前記第２溶媒は１種の溶媒からなるか、または沸点の異なる２種以上の溶媒からなり、
前記第１溶媒および前記第２溶媒に含まれる溶媒のうちの沸点が最も低い溶媒の沸点と、前記恒率乾燥過程中における前記磁性塗膜の表面温度との差は、１℃〜５０℃である請求項６に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０に記載の磁気記録媒体の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１】
非磁性支持体の一方の主面側に磁性層が配置された磁気記録媒体の製造方法であって、
前記非磁性支持体の一方の主面側に、磁性粉末と第１バインダ樹脂と第１溶媒とを含む磁性塗料を塗布して磁性塗膜を形成し、前記磁性塗膜から前記第１溶媒を除去する乾燥処理を所定の期間行いながら、前記磁性塗膜に含まれる磁性粉末を所定方向に磁場配向させる、磁性層形成工程を含み、
前記磁性層形成工程において、前記乾燥処理は、前記磁性塗膜の表面温度の上昇が停止して略一定の温度に達するまで前記磁性塗膜を加熱する予熱過程と、前記予熱過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が略一定に保たれる恒率乾燥過程と、前記恒率乾燥過程後に行なわれ前記磁性塗膜の表面温度が、前記恒率乾燥過程を行っている際のそれよりも高くなり、前記磁性塗膜を固化させる減率乾燥過程とからなり、
前記恒率乾燥過程が行われる恒率乾燥期間は、０．２秒以上であり、
前記磁場配向は、前記予熱過程開始後において、第１配向手段および第２配向手段をこの順に用いて行なわれ、
前記第１配向手段内の磁場強度が最も大きい箇所から前記第２配向手段に達する間で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最小値をＷ1min、前記第２配向手段内で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最大値をＷ2max、前記第２配向手段内で前記磁性塗膜が晒される磁場強度の最小値をＷ2minとしたときに、これらの値が（Ｗ2max−Ｗ1min）／Ｗ2max≦０．９、および、（Ｗ2max−Ｗ2min）／Ｗ2max≦０．５の関係を満たすことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記磁性粉末の平均粒子径は、６０ｎｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記磁性粉末の保磁力は、１６０〜３２０ｋＡ／ｍである請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記恒率乾燥期間は、１０秒以下である請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記恒率乾燥過程中における、前記磁性塗膜の表面温度は３０℃〜８０℃である請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記第１溶媒は１種の溶媒からなるか、または沸点の異なる２種以上の溶媒からなり、
前記第１溶媒に含まれる溶媒のうちの沸点が最も低い溶媒の沸点と、前記恒率乾燥過程中における前記磁性塗膜の表面温度との差は、１℃〜５０℃である請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記乾燥処理が行なわれる前の前記磁性塗膜の厚さは０．３μｍ〜２４μｍである請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記磁性塗料の塗布前に、
前記非磁性支持体の前記一方の主面側に、非磁性粉末と第２バインダ樹脂と第２溶媒とを含む非磁性塗料を塗布して、非磁性塗膜を形成する工程をさらに含み、
前記磁性層形成工程で行なわれる前記乾燥処理によって、前記非磁性塗膜に含まれる前記第２溶媒が除去されて、前記非磁性塗膜が非磁性層となる、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】
前記乾燥処理が行なわれる前の前記磁性塗膜の厚さと、前記乾燥処理が行なわれる前の前記非磁性塗膜の厚さとの和が、０.３μｍ〜２４μｍである請求項８に記載の磁気記録
媒体の製造方法。
【請求項１０】
前記第２溶媒は１種の溶媒からなるか、または沸点の異なる２種以上の溶媒からなり、
前記第１溶媒および前記第２溶媒に含まれる溶媒のうちの沸点が最も低い溶媒の沸点と、前記恒率乾燥過程中における前記磁性塗膜の表面温度との差は、１℃〜５０℃である請求項６に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０に記載の磁気記録媒体の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【図１】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３】
【図４】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図７】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【図２Ａ】
【図２Ｂ】
【図３】
【図４】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図６Ａ】
【図６Ｂ】
【図７】
【図８Ａ】
【図８Ｂ】
【公開番号】特開２００９−９３７６５（Ｐ２００９−９３７６５Ａ）
【公開日】平成２１年４月３０日（２００９．４．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２６４９７２（Ｐ２００７−２６４９７２）
【出願日】平成１９年１０月１０日（２００７．１０．１０）
【出願人】（０００００５８１０）日立マクセル株式会社 (2,366)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年４月３０日（２００９．４．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１０月１０日（２００７．１０．１０）
【出願人】（０００００５８１０）日立マクセル株式会社 (2,366)
【Ｆターム（参考）】
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