長尺光導波路およびその製造方法
【課題】容易に製造することができる長尺光導波路およびその製造方法を提供する。
【解決手段】アンダークラッド層の表面にコア層３を、蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンに形成し、そのコア層を包含するようにオーバークラッド層を形成し、そのようにして形成した３層構造体を、コア層３の、非直線状の帯状パターンに沿った形状の光導波路Ａに形成し、その光導波路Ａの両端部を相互に逆方向に引っ張ることにより、蛇行状等の光導波路Ａを引き伸ばして長尺に形成する。
【解決手段】アンダークラッド層の表面にコア層３を、蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンに形成し、そのコア層を包含するようにオーバークラッド層を形成し、そのようにして形成した３層構造体を、コア層３の、非直線状の帯状パターンに沿った形状の光導波路Ａに形成し、その光導波路Ａの両端部を相互に逆方向に引っ張ることにより、蛇行状等の光導波路Ａを引き伸ばして長尺に形成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光通信，光情報処理，その他一般光学で広く用いられる長尺光導波路およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光導波路は、光導波路デバイス，光集積回路，光配線基板等の光デバイスに組み込まれており、光通信，光情報処理，その他一般光学の分野で広く用いられている。光導波路としては、例えば、アンダークラッド層上に、コア層が所定パターンに形成され、このコア層を包含するようにオーバークラッド層が形成された三層構造のものがあげられる。上記コア層のパターン形成は、フォトリソグラフィ工程により行われる（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、最近では、光通信の発達により、光配線基板等の光デバイス間の情報通信が、金属ケーブルから光導波路を用いた光インタコネクションへ移行しつつある。それに対応して、長尺の光導波路が要請されている。
【特許文献１】特開２００５−２６６７３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したように、光導波路の作製には、フォトリソグラフィ工程を要し、そのフォトリソグラフィ工程で使用する露光装置の露光エリアは、通常、２５０ｍｍ×２５０ｍｍ程度である。このため、そのエリアを超える長さの光導波路を作製するためには、露光を複数回に分けて行う必要がある。しかしながら、この場合、隣接し合う露光領域間（連結部）では、露光の管理が困難となり、位置ずれが起こり易く、その位置ずれにより、露光が重なる部分や露光されない部分が生じ、その結果として、光導波路に断線が生じるおそれがある。
【０００５】
また、露光エリアが長い露光装置を使用することも考えられるが、均一な露光が可能なエリアは、上記エリアであり、露光エリアが長い露光装置を新たに開発することは、コスト的に実用的ではない。また、上記通常の露光エリアを利用し路長の短い光導波路を複数つくり、これらを連結して路長の長い光導波路を得ることも可能であるが、高価な連結具を要し、工程も長くなるという難点がある。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、容易に製造することができる長尺光導波路およびその製造方法の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するため、本発明は、蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンに形成された路長の長い光導波路であって、蛇行状等における上記屈曲部を折り畳み代に形成し、この折り畳み代を利用して折り曲げることにより、蛇行状等の非直線状の帯状光導波路を略直線状に形成可能に構成した長尺光導波路を第１の要旨とする。
【０００８】
また、本発明は、アンダークラッド層を形成する工程と、このアンダークラッド層の表面にコア層を、蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンに形成する工程と、そのコア層を包含するようにオーバークラッド層を形成する工程と、これらアンダークラッド層，コア層およびオーバークラッド層からなる３層構造体を上記コア層の上記非直線状の帯状パターンに沿った形状の光導波路に形成する工程と、その光導波路の両端部を相互に逆方向に引っ張ることにより蛇行状等の形状を引き伸ばし上記光導波路を長尺に形成する工程とを備えている長尺光導波路の製造方法を第２の要旨とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の長尺光導波路は、蛇行状等における屈曲部等を折り畳み代に形成し、この折り畳み代を利用して折り曲げることにより、蛇行形状等の非直線状の帯状光導波路を略直線状に形成可能に構成したものであるため、その製造において、路長を露光エリアよりも長くすることが容易なものとなっている。すなわち、本発明によれば、露光装置が有する露光エリア内で、蛇行状等の、屈曲部を有するパターンを無理なく形成し、その後、蛇行状等の形状を引き伸ばすという簡単な工程で路長の長い光導波路を得ることができる。このため、連結部（連結具）や煩雑な連結作業が不要になる。また、路長の長い光導波路に連結部（連結具）がないことから、その連結部（連結具）による障害（断線等）も生じない。
【００１０】
本発明の長尺光導波路の製造方法によれば、上記のような路長の長い光導波路を、蛇行状等の、屈曲部を有する光導波路の両端部を相互に逆方向に引っ張るという簡単な工程により、得ることができる。このため、露光エリアよりも長い長尺の光導波路を容易に製造することができる。
【００１１】
特に、上記コア層の非直線状の帯状パターンが、１箇所以上のＵ字状の屈曲部を有する折り返し形状である場合には、限られた露光エリアにおいて、光導波路をより有効に長く形成することができ、光導波路の長尺化がより容易にできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。
【００１３】
図１〜図７は、本発明の長尺光導波路の製造方法の第１の実施の形態を示し、そのうち図７は、その製造方法によって得られる本発明の長尺光導波路の第１の実施の形態を示している。この実施の形態の長尺光導波路は、図７に示すように、隣り合う短冊状光導波路１０がそれぞれの一端部の側方部分（後に説明する屈曲部１１）で連続し、その屈曲部１１から互いに反対方向に曲げられて長尺に形成されているものであり、この実施の形態では、４本の短冊状光導波路１０が連続したものとなっている。
【００１４】
上記長尺光導波路の製造方法をより詳しく説明する。
【００１５】
まず、上記光導波路を製造する土台となる基材フィルム１（図１参照）を準備する。この基材フィルム１の形成材料としては、特に限定されないが、例えば、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート），ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート），ＳＵＳ（ステンレス）等があげられる。上記基材フィルム１の寸法は、露光エリア（２５０ｍｍ×２５０ｍｍ程度）に近づける観点から、２５０ｍｍ×２５０ｍｍ程度にすることが好ましく、その厚みは、特に限定されないが、通常、形成材料がＰＥＮやＰＥＴの場合は１８０μｍ程度、形成材料がＳＵＳの場合は２０μｍ程度である。
【００１６】
ついで、図１に示すように、上記基材フィルム１の表面に、アンダークラッド層２を形成する。このアンダークラッド層２の形成材料としては、ポリイミド樹脂，エポキシ樹脂，光重合性樹脂，感光性樹脂等があげられる。そして、そのアンダークラッド層２の形成方法は、特に制限されないが、例えば、上記樹脂が溶媒に溶解しているワニスを基板上に塗布した後、硬化することにより行われる。上記ワニスの塗布は、例えば、スピンコート法，ディッピング法，キャスティング法，インジェクション法，インクジェット法等により行われる。また、上記硬化は、アンダークラッド層２の形成材料や厚み等により適宜行われ、例えば、アンダークラッド層２がポリイミド樹脂からなる場合は、３００〜４００℃×６０〜１８０分間の加熱処理により行われ、アンダークラッド層２が光重合性樹脂からなる場合は、１０００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射した後、８０〜１２０℃×１０〜３０分間の加熱処理により行われる。そして、アンダークラッド層２の厚みは、通常、マルチモード光導波路の場合には、５〜５０μｍに設定され、シングルモード光導波路の場合には、１〜２０μｍに設定される。
【００１７】
つぎに、図２に示すように、上記アンダークラッド層２の表面に、後にコア層３〔図３（ａ），（ｂ）参照〕となる樹脂層３ａを形成する。この樹脂層３ａの形成材料としては、通常、光重合性樹脂があげられ、上記アンダークラッド層２および下記オーバークラッド層４〔図４（ａ），（ｂ）参照〕の形成材料よりも屈折率が大きい材料となっている。そして、その樹脂層３ａの形成は、特に制限されないが、上記と同様、例えば、光重合性樹脂が溶媒に溶解しているワニスをアンダークラッド層２上に塗布した後、乾燥することにより行われる。なお、上記ワニスの塗布は、上記と同様、例えば、スピンコート法，ディッピング法，キャスティング法，インジェクション法，インクジェット法等により行われる。また、上記乾燥は、５０〜１２０℃×１０〜３０分間の加熱処理により行われる。
【００１８】
そして、上記樹脂層３ａを、所望のコア層３〔図３（ａ），（ｂ）参照〕パターンに対応する開口パターンが形成されているフォトマスクＭを介して照射線Ｌにより露光する。この実施の形態では、上記コア層３パターンは、図３（ｂ）に示すように、各コア層３が略Ｗ字状（３箇所のＵ字状の屈曲部１１を有する折り返し形状）に形成されているとともに、その略Ｗ字状のコア層３が複数横に並んだ状態に形成されている。また、露光方法としては、例えば、投影露光，プロキシミティ露光，コンタクト露光等があげられる。樹脂層３ａに粘着性がない場合は、フォトマスクＭを樹脂層３ａに接触させるコンタクト露光法が好適に用いられる。作業性が向上し、潜像の確実なパターン形成が可能になるからである。また、露光用の照射線Ｌとしては、例えば、可視光，紫外線，赤外線，Ｘ線，α線，β線，γ線等が用いられる。好適には、紫外線が用いられる。紫外線を用いると、大きなエネルギーを照射して、大きな硬化速度を得ることができ、しかも、照射装置も小型かつ安価であり、生産コストの低減化を図ることができるからである。紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯，高圧水銀灯，超高圧水銀灯等があげられ、紫外線の照射量は、通常、１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ2 、好ましくは、５０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2 である。
【００１９】
上記露光後、光反応を完結させるために、加熱処理を行う。この加熱処理は、８０〜２５０℃、好ましくは、１００〜２００℃にて、１０秒〜２時間、好ましくは、５分〜１時間の範囲内で行う。その後、現像液を用いて現像を行うことにより、図３（ａ），（ｂ）に示すように、樹脂層３ａにおける未露光部分を溶解させて除去し、樹脂層３ａをパターン形成する。そして、そのパターン形成された樹脂層３ａ中の現像液を加熱処理により除去し、コア層３を形成する。この加熱処理は、通常、８０〜１２０℃×１０〜３０分間行われる。また、コア層３の厚みは、通常、マルチモード光導波路の場合には、２０〜１００μｍに設定され、シングルモード光導波路の場合には、２〜１０μｍに設定される。なお、現像は、例えば、浸漬法，スプレー法，パドル法等が用いられる。また、現像剤としては、例えば、有機系の溶媒，アルカリ系水溶液を含有する有機系の溶媒等が用いられる。このような現像剤および現像条件は、光重合性樹脂組成物の組成によって、適宜選択される。
【００２０】
このようにして、図３（ｂ）に示すように、略Ｗ字状の各コア層３が複数横に並んだ状態に形成される。また、図３（ａ）に示すように、この略Ｗ字状の各コア層３には、１本ないし複数本の帯状のコア３０が略Ｗ字状に平行に形成されており、図３（ｂ）では、それらコア３０を１本にまとめて図示している。
【００２１】
つぎに、図４（ａ），（ｂ）に示すように、上記コア層３（コア３０）を包含するように、オーバークラッド層４を形成する。このオーバークラッド層４の形成材料としては、上記アンダークラッド層２と同様の材料があげられる。このオーバークラッド層４の形成材料は、上記アンダークラッド層２の形成材料と同じであってもよいし、異なっていてもよい。また、オーバークラッド層４の形成方法も上記アンダークラッド層２の形成方法と同様にして行われる。そして、オーバークラッド層４の厚みは、通常、マルチモード光導波路の場合には、５〜１００μｍに設定され、シングルモード光導波路の場合には、１〜２０μｍに設定される。このようにして、図４（ｂ）に示すように、光導波路予定部（略Ｗ字状の各コア層３に沿う部分）が複数横に並んだ状態に形成される。
【００２２】
つぎに、上記各光導波路予定部を、図５（ａ）に示すように、コア層３の略Ｗ字状に沿って、基材フィルム１とともに、金型を用いた打ち抜きにより切断する。これにより、略Ｗ字状（３箇所のＵ字状の屈曲部１１を有する折り返し形状）の光導波路Ａが、略Ｗ字状の基材フィルム１の表面に接着された状態で得られる。この略Ｗ字状の光導波路Ａの寸法は、例えば、全長Ｌ1 ：２２０ｍｍ、全幅Ｗ1 ：８．３ｍｍ、略Ｗ字状を形成する短冊状光導波路１０の幅Ｗ2 ：２ｍｍ、隣り合う短冊状光導波路１０の隙間Ｄ：０．１ｍｍ、Ｕ字状の屈曲部１１（折り返し部分）の長さＬ2 ：３ｍｍに設定される。また、各コア層３には、例えば、図５（ｂ）に示すように、４本の帯状のコア３０が形成され、各コア３０の断面寸法は５０μｍ×５０μｍに設定される。また、アンダークラッド層２の厚みは２５μｍに設定され、オーバークラッド層４の厚み（コア層３上での厚み）も２５μｍに設定される。
【００２３】
そして、図６に示すように、上記略Ｗ字状の光導波路Ａの両端部を相互に逆方向（図６に図示した矢印Ｘ方向）に引っ張ると、上記略Ｗ字状の光導波路Ａが、図７に示すように、引き伸ばされて長尺になり、長尺光導波路を得ることができる。この長尺光導波路の路長は、前記露光エリア（２５０ｍｍ×２５０ｍｍ程度）よりも長く（例えば３００ｍｍ以上）なっている。なお、図６および図７では、基材フィルム１やアンダークラッド層２等の各層の側面を省略して図示している。
【００２４】
本発明の長尺光導波路の製造方法の第２の実施の形態は、上記第１の実施の形態において、金型を用いた打ち抜きによる切断に先立って、基材フィルム１をアンダークラッド層２から剥離する製造方法である。この製造方法において、基材フィルム１とアンダークラッド層２とは、その形成材料から、接着力が弱く、基材フィルム１とオーバークラッド層４とをエアー吸着により引っ張ることにより、簡単に剥離することができる。そして、この製造方法は、長尺光導波路をよりフレキシブルなものとして使用する場合に有効である。
【００２５】
図８および図９は、本発明の長尺光導波路の製造方法の第３の実施の形態を示している。この実施の形態では、上記第２の実施の形態において、基材フィルム１をアンダークラッド層２から剥離した後、図８に示すように、光導波路予定部が並んでいる横方向に沿う両端縁部の片面または両面に、補強用テープＴを貼り、その後、金型を用いた打ち抜きにより切断する製造方法である。この製造方法において、上記補強用テープＴとしては、ポリエチレンテープ，ポリエステルテープ等があげられる。そして、この製造方法では、図９に示すように、略Ｗ字状の光導波路Ａの３箇所のＵ字状の屈曲部１１（折り返し部分）および両端部分に上記補強用テープＴが位置決めされ、上記略Ｗ字状の光導波路Ａを長尺にした状態（図７参照）において、上記Ｕ字状の屈曲部１１の内側にかかる応力に対する耐性を得ることができる。
【００２６】
図１０および図１１は、本発明の長尺光導波路の製造方法の第４の実施の形態を示している。この実施の形態では、上記第１の実施の形態において、基材フィルム１をＳＵＳ製とし、図１０に示すように、アンダークラッド層２もオーバークラッド層４も略Ｗ字状にパターニングしている（但し、この第４の実施の形態では、隣接し合う光導波路予定部のアンダークラッド層２同士およびオーバークラッド層４同士は繋がっている）。このようにアンダークラッド層２およびオーバークラッド層４をパターニングする場合は、それらの形成材料として、光重合性樹脂または感光性樹脂等が用いられ、各形成材料を塗布した後、所望の開口パターンが形成されているフォトマスクを介して照射線により露光してパターニングする。また、隣接し合う光導波路予定部の切断に先立って、図１１に示すように、略Ｗ字状の光導波路Ａの３箇所のＵ字状の屈曲部１１および両端部分に対応するＳＵＳ製基材フィルム部分を残して、それ以外のＳＵＳ製基材フィルム部分をエッチング除去する。この製造方法では、残ったＳＵＳ製基材フィルム部分が上記第３の実施の形態における補強用テープＴ（図９参照）と同様の作用・効果を奏する。
【００２７】
本発明の長尺光導波路の製造方法の第５の実施の形態は、上記第２の実施の形態において、隣接し合う光導波路予定部のアンダークラッド層２同士およびオーバークラッド層４同士が繋がらないよう、アンダークラッド層２およびオーバークラッド層４を、略Ｗ字状にパターニングする製造方法である。この製造方法では、基材フィルム１を剥離した際に、略Ｗ字状の光導波路Ａが得られるため、金型を用いた打ち抜き等による切断工程が不要にすることができる。
【００２８】
なお、上記各実施の形態において、上記略Ｗ字状の光導波路Ａの３箇所のＵ字状の屈曲部１１（折り返し部分）の内側部分は、応力集中を避けるために、例えば、図１２に示すように、丸みを有する形状に形成してもよい。
【００２９】
また、上記各実施の形態では、光導波路Ａを、３箇所のＵ字状の屈曲部１１（折り返し部分）を有する略Ｗ字状としたが、これに限定されるものではなく、Ｕ字状の屈曲部１１を１箇所にした略Ｖ字状でもよいし、Ｕ字状の屈曲部１１を２箇所にした略Ｎ字状でもよいし、Ｕ字状の屈曲部１１を４箇所にした蛇行形状でもよい。
【００３０】
さらに、光導波路の形状は、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンであれば、その屈曲部はＵ字状でなくてもよく、例えば、渦巻き状等に形成してもよい。この渦巻き状に形成する場合、その渦巻き状は、円状（屈曲部が連続的になっている）でもよいし、三角形以上の多角形状（角部が屈曲部になっている）でもよい。
【００３１】
また、上記各実施の形態では、光導波路Ａを製造する土台として基材フィルム１を用いたが、そのうちの上記第２，３，５の各実施の形態については、基材フィルム１をアンダークラッド層２から剥離し、その基材フィルム１を切断やエッチングする必要がないため、上記基材フィルム１に代えて、青板ガラス，合成石英，シリコンウエハー，二酸化ケイ素付シリコンウエハー等の板状基材を用いてもよい。
【００３２】
つぎに、実施例について説明する。但し、本発明は、これに限定されるわけではない。
【実施例】
【００３３】
〔アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料〕
下記の一般式（１）で示されるビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル（成分Ａ）３５重量部、脂環式エポキシである３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート（ダイセル化学社製、セロキサイド２０２１Ｐ）（成分Ｂ）４０重量部、シクロヘキセンオキシド骨格を有する脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学社製、セロキサイド２０８１）（成分Ｃ）２５重量部、４，４−ビス〔ジ（βヒドロキシエトキシ）フェニルスルフィニオ〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネートの５０％プロピオンカーボネート溶液２重量部とを混合することにより、アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料を調製した。
【００３４】
【化１】
【００３５】
〔コア層の形成材料〕
上記成分Ａ：７０重量部、１，３，３−トリス（４−（２−（３−オキセタニル）ブトキシフェニル）ブタン：３０重量部、上記成分Ｂ：１重量部を乳酸エチルに溶解することにより、コア層の形成材料を調製した。
【００３６】
〔長尺光導波路の作製〕
上記第４の実施の形態（図１０および図１１参照）と同様にして長尺光導波路を作製した。すなわち、ＳＵＳ製基材フィルム〔２５０ｍｍ×２５０ｍｍ×２０μｍ（厚み）〕の表面に、上記アンダークラッド層の形成材料をスピンコート法により塗布した後、所望の開口パターンが形成されているフォトマスクを介して２０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線照射による露光を行った。つづいて、１００℃×１５分間の加熱処理を行うことにより、アンダークラッド層を形成した。このアンダークラッド層の厚みを接触式膜厚計で測定すると２５μｍであった。また、このアンダークラッド層の、波長８３０ｎｍにおける屈折率は、１．５４２であった。
【００３７】
そして、上記アンダークラッド層の表面に、コア層の形成材料をスピンコート法により塗布した後、１００℃×１５分間の乾燥処理を行った。ついで、その上方に、略Ｗ字状のパターンが形成された合成石英系のクロムマスク（フォトマスク）を配置し、その上方から、コンタクト露光法にて４０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線照射による露光を行った。さらに、１２０℃×１５分間の加熱処理を行った。つぎに、γ−ブチロラクトン水溶液を用いて現像することにより、未露光部分を溶解除去した後、１２０℃×３０分間の加熱処理を行うことにより、略Ｗ字状のコア層を形成した〔図３（ｂ）参照〕。このコア層には４本のコアが形成され〔図５（ｂ）参照〕、各コアの断面寸法は、ＳＥＭで測定したところ、幅５０μｍ×高さ５０μｍであった。また、コア層の、波長８３０ｎｍにおける屈折率は、１．６０２であった。
【００３８】
ついで、上記コア層の各コアを包含するように、上記オーバークラッド層の形成材料をスピンコート法により塗布した後、所望の開口パターンが形成されているフォトマスクを介して２０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線照射による露光を行った。つづいて、１５０℃×６０分間の加熱処理を行うことにより、オーバークラッド層を形成した（図１０参照）。このオーバークラッド層の厚みを接触式膜厚計で測定すると２５μｍであった。また、このオーバークラッド層の、波長８３０ｎｍにおける屈折率は、１．５４２であった。
【００３９】
その後、略Ｗ字状の光導波路の３箇所のＵ字状の屈曲部および両端部分に対応するＳＵＳ製基材フィルム部分を残すよう、フォトレジストでマスクし、それ以外のＳＵＳ製基材フィルム部分をエッチング除去した（図１１参照）。
【００４０】
上記略Ｗ字状の光導波路の寸法〔図５（ａ）参照〕は、全長２２０ｍｍ、全幅８．３ｍｍ、短冊状光導波路の幅２ｍｍ、隣り合う短冊状光導波路の隙間０．１ｍｍ、Ｕ字状の屈曲部（折り返し部分）の長さ３ｍｍであった。
【００４１】
そして、上記略Ｗ字状の光導波路の両端部を相互に逆方向に引っ張ることにより、長尺光導波路を得ることができた（図７参照）。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の長尺光導波路の製造方法の第１の実施の形態を示す断面図である。
【図２】上記長尺光導波路の製造方法を示す断面図である。
【図３】上記長尺光導波路の製造方法を示し、（ａ）はその断面図であり、（ｂ）はその平面図である。
【図４】上記長尺光導波路の製造方法を示し、（ａ）はその断面図であり、（ｂ）はその平面図である。
【図５】上記長尺光導波路の製造方法を示し、（ａ）はその平面図であり、（ｂ）はその一部の拡大図である。
【図６】上記長尺光導波路の製造方法を示す斜視図である。
【図７】上記長尺光導波路の製造方法により得られる長尺光導波路を示す斜視図である。
【図８】上記長尺光導波路の第３の実施の形態を示す平面図である。
【図９】上記第３の実施の形態により得られる長尺光導波路を示す平面図である。
【図１０】上記長尺光導波路の第４の実施の形態を示す平面図である。
【図１１】上記第４の実施の形態により得られる長尺光導波路を示す平面図である。
【図１２】上記長尺光導波路の変形例を示す平面図である。
【符号の説明】
【００４３】
Ａ 光導波路
３ コア層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光通信，光情報処理，その他一般光学で広く用いられる長尺光導波路およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光導波路は、光導波路デバイス，光集積回路，光配線基板等の光デバイスに組み込まれており、光通信，光情報処理，その他一般光学の分野で広く用いられている。光導波路としては、例えば、アンダークラッド層上に、コア層が所定パターンに形成され、このコア層を包含するようにオーバークラッド層が形成された三層構造のものがあげられる。上記コア層のパターン形成は、フォトリソグラフィ工程により行われる（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、最近では、光通信の発達により、光配線基板等の光デバイス間の情報通信が、金属ケーブルから光導波路を用いた光インタコネクションへ移行しつつある。それに対応して、長尺の光導波路が要請されている。
【特許文献１】特開２００５−２６６７３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したように、光導波路の作製には、フォトリソグラフィ工程を要し、そのフォトリソグラフィ工程で使用する露光装置の露光エリアは、通常、２５０ｍｍ×２５０ｍｍ程度である。このため、そのエリアを超える長さの光導波路を作製するためには、露光を複数回に分けて行う必要がある。しかしながら、この場合、隣接し合う露光領域間（連結部）では、露光の管理が困難となり、位置ずれが起こり易く、その位置ずれにより、露光が重なる部分や露光されない部分が生じ、その結果として、光導波路に断線が生じるおそれがある。
【０００５】
また、露光エリアが長い露光装置を使用することも考えられるが、均一な露光が可能なエリアは、上記エリアであり、露光エリアが長い露光装置を新たに開発することは、コスト的に実用的ではない。また、上記通常の露光エリアを利用し路長の短い光導波路を複数つくり、これらを連結して路長の長い光導波路を得ることも可能であるが、高価な連結具を要し、工程も長くなるという難点がある。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、容易に製造することができる長尺光導波路およびその製造方法の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するため、本発明は、蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンに形成された路長の長い光導波路であって、蛇行状等における上記屈曲部を折り畳み代に形成し、この折り畳み代を利用して折り曲げることにより、蛇行状等の非直線状の帯状光導波路を略直線状に形成可能に構成した長尺光導波路を第１の要旨とする。
【０００８】
また、本発明は、アンダークラッド層を形成する工程と、このアンダークラッド層の表面にコア層を、蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンに形成する工程と、そのコア層を包含するようにオーバークラッド層を形成する工程と、これらアンダークラッド層，コア層およびオーバークラッド層からなる３層構造体を上記コア層の上記非直線状の帯状パターンに沿った形状の光導波路に形成する工程と、その光導波路の両端部を相互に逆方向に引っ張ることにより蛇行状等の形状を引き伸ばし上記光導波路を長尺に形成する工程とを備えている長尺光導波路の製造方法を第２の要旨とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の長尺光導波路は、蛇行状等における屈曲部等を折り畳み代に形成し、この折り畳み代を利用して折り曲げることにより、蛇行形状等の非直線状の帯状光導波路を略直線状に形成可能に構成したものであるため、その製造において、路長を露光エリアよりも長くすることが容易なものとなっている。すなわち、本発明によれば、露光装置が有する露光エリア内で、蛇行状等の、屈曲部を有するパターンを無理なく形成し、その後、蛇行状等の形状を引き伸ばすという簡単な工程で路長の長い光導波路を得ることができる。このため、連結部（連結具）や煩雑な連結作業が不要になる。また、路長の長い光導波路に連結部（連結具）がないことから、その連結部（連結具）による障害（断線等）も生じない。
【００１０】
本発明の長尺光導波路の製造方法によれば、上記のような路長の長い光導波路を、蛇行状等の、屈曲部を有する光導波路の両端部を相互に逆方向に引っ張るという簡単な工程により、得ることができる。このため、露光エリアよりも長い長尺の光導波路を容易に製造することができる。
【００１１】
特に、上記コア層の非直線状の帯状パターンが、１箇所以上のＵ字状の屈曲部を有する折り返し形状である場合には、限られた露光エリアにおいて、光導波路をより有効に長く形成することができ、光導波路の長尺化がより容易にできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。
【００１３】
図１〜図７は、本発明の長尺光導波路の製造方法の第１の実施の形態を示し、そのうち図７は、その製造方法によって得られる本発明の長尺光導波路の第１の実施の形態を示している。この実施の形態の長尺光導波路は、図７に示すように、隣り合う短冊状光導波路１０がそれぞれの一端部の側方部分（後に説明する屈曲部１１）で連続し、その屈曲部１１から互いに反対方向に曲げられて長尺に形成されているものであり、この実施の形態では、４本の短冊状光導波路１０が連続したものとなっている。
【００１４】
上記長尺光導波路の製造方法をより詳しく説明する。
【００１５】
まず、上記光導波路を製造する土台となる基材フィルム１（図１参照）を準備する。この基材フィルム１の形成材料としては、特に限定されないが、例えば、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート），ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート），ＳＵＳ（ステンレス）等があげられる。上記基材フィルム１の寸法は、露光エリア（２５０ｍｍ×２５０ｍｍ程度）に近づける観点から、２５０ｍｍ×２５０ｍｍ程度にすることが好ましく、その厚みは、特に限定されないが、通常、形成材料がＰＥＮやＰＥＴの場合は１８０μｍ程度、形成材料がＳＵＳの場合は２０μｍ程度である。
【００１６】
ついで、図１に示すように、上記基材フィルム１の表面に、アンダークラッド層２を形成する。このアンダークラッド層２の形成材料としては、ポリイミド樹脂，エポキシ樹脂，光重合性樹脂，感光性樹脂等があげられる。そして、そのアンダークラッド層２の形成方法は、特に制限されないが、例えば、上記樹脂が溶媒に溶解しているワニスを基板上に塗布した後、硬化することにより行われる。上記ワニスの塗布は、例えば、スピンコート法，ディッピング法，キャスティング法，インジェクション法，インクジェット法等により行われる。また、上記硬化は、アンダークラッド層２の形成材料や厚み等により適宜行われ、例えば、アンダークラッド層２がポリイミド樹脂からなる場合は、３００〜４００℃×６０〜１８０分間の加熱処理により行われ、アンダークラッド層２が光重合性樹脂からなる場合は、１０００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射した後、８０〜１２０℃×１０〜３０分間の加熱処理により行われる。そして、アンダークラッド層２の厚みは、通常、マルチモード光導波路の場合には、５〜５０μｍに設定され、シングルモード光導波路の場合には、１〜２０μｍに設定される。
【００１７】
つぎに、図２に示すように、上記アンダークラッド層２の表面に、後にコア層３〔図３（ａ），（ｂ）参照〕となる樹脂層３ａを形成する。この樹脂層３ａの形成材料としては、通常、光重合性樹脂があげられ、上記アンダークラッド層２および下記オーバークラッド層４〔図４（ａ），（ｂ）参照〕の形成材料よりも屈折率が大きい材料となっている。そして、その樹脂層３ａの形成は、特に制限されないが、上記と同様、例えば、光重合性樹脂が溶媒に溶解しているワニスをアンダークラッド層２上に塗布した後、乾燥することにより行われる。なお、上記ワニスの塗布は、上記と同様、例えば、スピンコート法，ディッピング法，キャスティング法，インジェクション法，インクジェット法等により行われる。また、上記乾燥は、５０〜１２０℃×１０〜３０分間の加熱処理により行われる。
【００１８】
そして、上記樹脂層３ａを、所望のコア層３〔図３（ａ），（ｂ）参照〕パターンに対応する開口パターンが形成されているフォトマスクＭを介して照射線Ｌにより露光する。この実施の形態では、上記コア層３パターンは、図３（ｂ）に示すように、各コア層３が略Ｗ字状（３箇所のＵ字状の屈曲部１１を有する折り返し形状）に形成されているとともに、その略Ｗ字状のコア層３が複数横に並んだ状態に形成されている。また、露光方法としては、例えば、投影露光，プロキシミティ露光，コンタクト露光等があげられる。樹脂層３ａに粘着性がない場合は、フォトマスクＭを樹脂層３ａに接触させるコンタクト露光法が好適に用いられる。作業性が向上し、潜像の確実なパターン形成が可能になるからである。また、露光用の照射線Ｌとしては、例えば、可視光，紫外線，赤外線，Ｘ線，α線，β線，γ線等が用いられる。好適には、紫外線が用いられる。紫外線を用いると、大きなエネルギーを照射して、大きな硬化速度を得ることができ、しかも、照射装置も小型かつ安価であり、生産コストの低減化を図ることができるからである。紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯，高圧水銀灯，超高圧水銀灯等があげられ、紫外線の照射量は、通常、１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ2 、好ましくは、５０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2 である。
【００１９】
上記露光後、光反応を完結させるために、加熱処理を行う。この加熱処理は、８０〜２５０℃、好ましくは、１００〜２００℃にて、１０秒〜２時間、好ましくは、５分〜１時間の範囲内で行う。その後、現像液を用いて現像を行うことにより、図３（ａ），（ｂ）に示すように、樹脂層３ａにおける未露光部分を溶解させて除去し、樹脂層３ａをパターン形成する。そして、そのパターン形成された樹脂層３ａ中の現像液を加熱処理により除去し、コア層３を形成する。この加熱処理は、通常、８０〜１２０℃×１０〜３０分間行われる。また、コア層３の厚みは、通常、マルチモード光導波路の場合には、２０〜１００μｍに設定され、シングルモード光導波路の場合には、２〜１０μｍに設定される。なお、現像は、例えば、浸漬法，スプレー法，パドル法等が用いられる。また、現像剤としては、例えば、有機系の溶媒，アルカリ系水溶液を含有する有機系の溶媒等が用いられる。このような現像剤および現像条件は、光重合性樹脂組成物の組成によって、適宜選択される。
【００２０】
このようにして、図３（ｂ）に示すように、略Ｗ字状の各コア層３が複数横に並んだ状態に形成される。また、図３（ａ）に示すように、この略Ｗ字状の各コア層３には、１本ないし複数本の帯状のコア３０が略Ｗ字状に平行に形成されており、図３（ｂ）では、それらコア３０を１本にまとめて図示している。
【００２１】
つぎに、図４（ａ），（ｂ）に示すように、上記コア層３（コア３０）を包含するように、オーバークラッド層４を形成する。このオーバークラッド層４の形成材料としては、上記アンダークラッド層２と同様の材料があげられる。このオーバークラッド層４の形成材料は、上記アンダークラッド層２の形成材料と同じであってもよいし、異なっていてもよい。また、オーバークラッド層４の形成方法も上記アンダークラッド層２の形成方法と同様にして行われる。そして、オーバークラッド層４の厚みは、通常、マルチモード光導波路の場合には、５〜１００μｍに設定され、シングルモード光導波路の場合には、１〜２０μｍに設定される。このようにして、図４（ｂ）に示すように、光導波路予定部（略Ｗ字状の各コア層３に沿う部分）が複数横に並んだ状態に形成される。
【００２２】
つぎに、上記各光導波路予定部を、図５（ａ）に示すように、コア層３の略Ｗ字状に沿って、基材フィルム１とともに、金型を用いた打ち抜きにより切断する。これにより、略Ｗ字状（３箇所のＵ字状の屈曲部１１を有する折り返し形状）の光導波路Ａが、略Ｗ字状の基材フィルム１の表面に接着された状態で得られる。この略Ｗ字状の光導波路Ａの寸法は、例えば、全長Ｌ1 ：２２０ｍｍ、全幅Ｗ1 ：８．３ｍｍ、略Ｗ字状を形成する短冊状光導波路１０の幅Ｗ2 ：２ｍｍ、隣り合う短冊状光導波路１０の隙間Ｄ：０．１ｍｍ、Ｕ字状の屈曲部１１（折り返し部分）の長さＬ2 ：３ｍｍに設定される。また、各コア層３には、例えば、図５（ｂ）に示すように、４本の帯状のコア３０が形成され、各コア３０の断面寸法は５０μｍ×５０μｍに設定される。また、アンダークラッド層２の厚みは２５μｍに設定され、オーバークラッド層４の厚み（コア層３上での厚み）も２５μｍに設定される。
【００２３】
そして、図６に示すように、上記略Ｗ字状の光導波路Ａの両端部を相互に逆方向（図６に図示した矢印Ｘ方向）に引っ張ると、上記略Ｗ字状の光導波路Ａが、図７に示すように、引き伸ばされて長尺になり、長尺光導波路を得ることができる。この長尺光導波路の路長は、前記露光エリア（２５０ｍｍ×２５０ｍｍ程度）よりも長く（例えば３００ｍｍ以上）なっている。なお、図６および図７では、基材フィルム１やアンダークラッド層２等の各層の側面を省略して図示している。
【００２４】
本発明の長尺光導波路の製造方法の第２の実施の形態は、上記第１の実施の形態において、金型を用いた打ち抜きによる切断に先立って、基材フィルム１をアンダークラッド層２から剥離する製造方法である。この製造方法において、基材フィルム１とアンダークラッド層２とは、その形成材料から、接着力が弱く、基材フィルム１とオーバークラッド層４とをエアー吸着により引っ張ることにより、簡単に剥離することができる。そして、この製造方法は、長尺光導波路をよりフレキシブルなものとして使用する場合に有効である。
【００２５】
図８および図９は、本発明の長尺光導波路の製造方法の第３の実施の形態を示している。この実施の形態では、上記第２の実施の形態において、基材フィルム１をアンダークラッド層２から剥離した後、図８に示すように、光導波路予定部が並んでいる横方向に沿う両端縁部の片面または両面に、補強用テープＴを貼り、その後、金型を用いた打ち抜きにより切断する製造方法である。この製造方法において、上記補強用テープＴとしては、ポリエチレンテープ，ポリエステルテープ等があげられる。そして、この製造方法では、図９に示すように、略Ｗ字状の光導波路Ａの３箇所のＵ字状の屈曲部１１（折り返し部分）および両端部分に上記補強用テープＴが位置決めされ、上記略Ｗ字状の光導波路Ａを長尺にした状態（図７参照）において、上記Ｕ字状の屈曲部１１の内側にかかる応力に対する耐性を得ることができる。
【００２６】
図１０および図１１は、本発明の長尺光導波路の製造方法の第４の実施の形態を示している。この実施の形態では、上記第１の実施の形態において、基材フィルム１をＳＵＳ製とし、図１０に示すように、アンダークラッド層２もオーバークラッド層４も略Ｗ字状にパターニングしている（但し、この第４の実施の形態では、隣接し合う光導波路予定部のアンダークラッド層２同士およびオーバークラッド層４同士は繋がっている）。このようにアンダークラッド層２およびオーバークラッド層４をパターニングする場合は、それらの形成材料として、光重合性樹脂または感光性樹脂等が用いられ、各形成材料を塗布した後、所望の開口パターンが形成されているフォトマスクを介して照射線により露光してパターニングする。また、隣接し合う光導波路予定部の切断に先立って、図１１に示すように、略Ｗ字状の光導波路Ａの３箇所のＵ字状の屈曲部１１および両端部分に対応するＳＵＳ製基材フィルム部分を残して、それ以外のＳＵＳ製基材フィルム部分をエッチング除去する。この製造方法では、残ったＳＵＳ製基材フィルム部分が上記第３の実施の形態における補強用テープＴ（図９参照）と同様の作用・効果を奏する。
【００２７】
本発明の長尺光導波路の製造方法の第５の実施の形態は、上記第２の実施の形態において、隣接し合う光導波路予定部のアンダークラッド層２同士およびオーバークラッド層４同士が繋がらないよう、アンダークラッド層２およびオーバークラッド層４を、略Ｗ字状にパターニングする製造方法である。この製造方法では、基材フィルム１を剥離した際に、略Ｗ字状の光導波路Ａが得られるため、金型を用いた打ち抜き等による切断工程が不要にすることができる。
【００２８】
なお、上記各実施の形態において、上記略Ｗ字状の光導波路Ａの３箇所のＵ字状の屈曲部１１（折り返し部分）の内側部分は、応力集中を避けるために、例えば、図１２に示すように、丸みを有する形状に形成してもよい。
【００２９】
また、上記各実施の形態では、光導波路Ａを、３箇所のＵ字状の屈曲部１１（折り返し部分）を有する略Ｗ字状としたが、これに限定されるものではなく、Ｕ字状の屈曲部１１を１箇所にした略Ｖ字状でもよいし、Ｕ字状の屈曲部１１を２箇所にした略Ｎ字状でもよいし、Ｕ字状の屈曲部１１を４箇所にした蛇行形状でもよい。
【００３０】
さらに、光導波路の形状は、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンであれば、その屈曲部はＵ字状でなくてもよく、例えば、渦巻き状等に形成してもよい。この渦巻き状に形成する場合、その渦巻き状は、円状（屈曲部が連続的になっている）でもよいし、三角形以上の多角形状（角部が屈曲部になっている）でもよい。
【００３１】
また、上記各実施の形態では、光導波路Ａを製造する土台として基材フィルム１を用いたが、そのうちの上記第２，３，５の各実施の形態については、基材フィルム１をアンダークラッド層２から剥離し、その基材フィルム１を切断やエッチングする必要がないため、上記基材フィルム１に代えて、青板ガラス，合成石英，シリコンウエハー，二酸化ケイ素付シリコンウエハー等の板状基材を用いてもよい。
【００３２】
つぎに、実施例について説明する。但し、本発明は、これに限定されるわけではない。
【実施例】
【００３３】
〔アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料〕
下記の一般式（１）で示されるビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル（成分Ａ）３５重量部、脂環式エポキシである３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート（ダイセル化学社製、セロキサイド２０２１Ｐ）（成分Ｂ）４０重量部、シクロヘキセンオキシド骨格を有する脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学社製、セロキサイド２０８１）（成分Ｃ）２５重量部、４，４−ビス〔ジ（βヒドロキシエトキシ）フェニルスルフィニオ〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネートの５０％プロピオンカーボネート溶液２重量部とを混合することにより、アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料を調製した。
【００３４】
【化１】
【００３５】
〔コア層の形成材料〕
上記成分Ａ：７０重量部、１，３，３−トリス（４−（２−（３−オキセタニル）ブトキシフェニル）ブタン：３０重量部、上記成分Ｂ：１重量部を乳酸エチルに溶解することにより、コア層の形成材料を調製した。
【００３６】
〔長尺光導波路の作製〕
上記第４の実施の形態（図１０および図１１参照）と同様にして長尺光導波路を作製した。すなわち、ＳＵＳ製基材フィルム〔２５０ｍｍ×２５０ｍｍ×２０μｍ（厚み）〕の表面に、上記アンダークラッド層の形成材料をスピンコート法により塗布した後、所望の開口パターンが形成されているフォトマスクを介して２０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線照射による露光を行った。つづいて、１００℃×１５分間の加熱処理を行うことにより、アンダークラッド層を形成した。このアンダークラッド層の厚みを接触式膜厚計で測定すると２５μｍであった。また、このアンダークラッド層の、波長８３０ｎｍにおける屈折率は、１．５４２であった。
【００３７】
そして、上記アンダークラッド層の表面に、コア層の形成材料をスピンコート法により塗布した後、１００℃×１５分間の乾燥処理を行った。ついで、その上方に、略Ｗ字状のパターンが形成された合成石英系のクロムマスク（フォトマスク）を配置し、その上方から、コンタクト露光法にて４０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線照射による露光を行った。さらに、１２０℃×１５分間の加熱処理を行った。つぎに、γ−ブチロラクトン水溶液を用いて現像することにより、未露光部分を溶解除去した後、１２０℃×３０分間の加熱処理を行うことにより、略Ｗ字状のコア層を形成した〔図３（ｂ）参照〕。このコア層には４本のコアが形成され〔図５（ｂ）参照〕、各コアの断面寸法は、ＳＥＭで測定したところ、幅５０μｍ×高さ５０μｍであった。また、コア層の、波長８３０ｎｍにおける屈折率は、１．６０２であった。
【００３８】
ついで、上記コア層の各コアを包含するように、上記オーバークラッド層の形成材料をスピンコート法により塗布した後、所望の開口パターンが形成されているフォトマスクを介して２０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線照射による露光を行った。つづいて、１５０℃×６０分間の加熱処理を行うことにより、オーバークラッド層を形成した（図１０参照）。このオーバークラッド層の厚みを接触式膜厚計で測定すると２５μｍであった。また、このオーバークラッド層の、波長８３０ｎｍにおける屈折率は、１．５４２であった。
【００３９】
その後、略Ｗ字状の光導波路の３箇所のＵ字状の屈曲部および両端部分に対応するＳＵＳ製基材フィルム部分を残すよう、フォトレジストでマスクし、それ以外のＳＵＳ製基材フィルム部分をエッチング除去した（図１１参照）。
【００４０】
上記略Ｗ字状の光導波路の寸法〔図５（ａ）参照〕は、全長２２０ｍｍ、全幅８．３ｍｍ、短冊状光導波路の幅２ｍｍ、隣り合う短冊状光導波路の隙間０．１ｍｍ、Ｕ字状の屈曲部（折り返し部分）の長さ３ｍｍであった。
【００４１】
そして、上記略Ｗ字状の光導波路の両端部を相互に逆方向に引っ張ることにより、長尺光導波路を得ることができた（図７参照）。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の長尺光導波路の製造方法の第１の実施の形態を示す断面図である。
【図２】上記長尺光導波路の製造方法を示す断面図である。
【図３】上記長尺光導波路の製造方法を示し、（ａ）はその断面図であり、（ｂ）はその平面図である。
【図４】上記長尺光導波路の製造方法を示し、（ａ）はその断面図であり、（ｂ）はその平面図である。
【図５】上記長尺光導波路の製造方法を示し、（ａ）はその平面図であり、（ｂ）はその一部の拡大図である。
【図６】上記長尺光導波路の製造方法を示す斜視図である。
【図７】上記長尺光導波路の製造方法により得られる長尺光導波路を示す斜視図である。
【図８】上記長尺光導波路の第３の実施の形態を示す平面図である。
【図９】上記第３の実施の形態により得られる長尺光導波路を示す平面図である。
【図１０】上記長尺光導波路の第４の実施の形態を示す平面図である。
【図１１】上記第４の実施の形態により得られる長尺光導波路を示す平面図である。
【図１２】上記長尺光導波路の変形例を示す平面図である。
【符号の説明】
【００４３】
Ａ 光導波路
３ コア層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンに形成された路長の長い光導波路であって、蛇行状等における上記屈曲部を折り畳み代に形成し、この折り畳み代を利用して折り曲げることにより、蛇行状等の非直線状の帯状光導波路を略直線状に形成可能に構成したことを特徴とする長尺光導波路。
【請求項２】
蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンの路長が３００ｍｍ以上である請求項１記載の長尺光導波路。
【請求項３】
折り畳む前の帯状パターン全体の大きさが２５０ｍｍ×２５０ｍｍの正方形領域内に納まる大きさである請求項１または２記載の長尺光導波路。
【請求項４】
アンダークラッド層を形成する工程と、このアンダークラッド層の表面にコア層を、蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンに形成する工程と、そのコア層を包含するようにオーバークラッド層を形成する工程と、これらアンダークラッド層，コア層およびオーバークラッド層からなる３層構造体を上記コア層の上記非直線状の帯状パターンに沿った形状の光導波路に形成する工程と、その光導波路の両端部を相互に逆方向に引っ張ることにより蛇行状等の形状を引き伸ばし上記光導波路を長尺に形成する工程とを備えていることを特徴とする長尺光導波路の製造方法。
【請求項５】
上記コア層の非直線状の帯状パターンが、１箇所以上のＵ字状の屈曲部を有する折り返し形状である請求項４記載の長尺光導波路の製造方法。
【請求項１】
蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンに形成された路長の長い光導波路であって、蛇行状等における上記屈曲部を折り畳み代に形成し、この折り畳み代を利用して折り曲げることにより、蛇行状等の非直線状の帯状光導波路を略直線状に形成可能に構成したことを特徴とする長尺光導波路。
【請求項２】
蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンの路長が３００ｍｍ以上である請求項１記載の長尺光導波路。
【請求項３】
折り畳む前の帯状パターン全体の大きさが２５０ｍｍ×２５０ｍｍの正方形領域内に納まる大きさである請求項１または２記載の長尺光導波路。
【請求項４】
アンダークラッド層を形成する工程と、このアンダークラッド層の表面にコア層を、蛇行状等の、屈曲部を有する非直線状の帯状パターンに形成する工程と、そのコア層を包含するようにオーバークラッド層を形成する工程と、これらアンダークラッド層，コア層およびオーバークラッド層からなる３層構造体を上記コア層の上記非直線状の帯状パターンに沿った形状の光導波路に形成する工程と、その光導波路の両端部を相互に逆方向に引っ張ることにより蛇行状等の形状を引き伸ばし上記光導波路を長尺に形成する工程とを備えていることを特徴とする長尺光導波路の製造方法。
【請求項５】
上記コア層の非直線状の帯状パターンが、１箇所以上のＵ字状の屈曲部を有する折り返し形状である請求項４記載の長尺光導波路の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２００８−１０２２９６（Ｐ２００８−１０２２９６Ａ）
【公開日】平成２０年５月１日（２００８．５．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２８４３９２（Ｐ２００６−２８４３９２）
【出願日】平成１８年１０月１８日（２００６．１０．１８）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年５月１日（２００８．５．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１０月１８日（２００６．１０．１８）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
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