３Ｄ表示システム
【課題】見込み角によって発生する輝度ムラを改善した時分割方式３Ｄ表示システムの提供。
【解決手段】視認側に配置される第１の偏光膜と、前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、λ／４機能を有する保護部材Ａ１と、を少なくとも有する画像表示装置(1)；及びλ／４板Ｂを少なくとも有し、前記画像表示装置に同期して作動する時分割画像表示遮断機器(2)；を備えた時分割３Ｄ表示システムであって、前記保護部材Ａの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍを満たす時分割方式３Ｄ表示システムである。
【解決手段】視認側に配置される第１の偏光膜と、前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、λ／４機能を有する保護部材Ａ１と、を少なくとも有する画像表示装置(1)；及びλ／４板Ｂを少なくとも有し、前記画像表示装置に同期して作動する時分割画像表示遮断機器(2)；を備えた時分割３Ｄ表示システムであって、前記保護部材Ａの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍを満たす時分割方式３Ｄ表示システムである。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、時分割方式及び空間分割方式の３Ｄ表示システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
立体（３Ｄ）表示方法には従来からさまざまな方式が提案されており、その一つに液晶シャッターメガネ等を使用する時分割方式がある。この方式では、左目用と右目用の画像を時間的に交互に表示しながら、画像の表示に同期してメガネのシャッターを開閉し、それぞれの画像が対応する眼に入るように制御する方式である（例えば特許文献１）。この方式による３Ｄ表示装置として、表示モニタに液晶パネルを利用するものが提案されている（例えば特許文献２）。また、３Ｄ表示の他の方式として、いわゆる空間分割方式と呼ばれる、偏光眼鏡方式（パッシブ眼鏡）がある（例えば特許文献３）。この空間分割方式では、表示パネルからの出射光を異なる２種の偏光状態（例えば、右偏光と左偏光）にし、一方の偏光のみを透過する偏光板を右眼用に、及び他方の偏光のみを透過する偏光板を左眼用にして構成された偏光眼鏡を通じて表示画面を観察させることで、立体感のある画像として認識させるものである。
【０００３】
しかし、いずれの３Ｄ表示方式でも、偏光メガネを到着した観察者が顔を傾けた時に生じる、輝度低下やクロストークの悪化の問題がある。時分割方式については、画像表示装置側表面及びシャッターメガネの表面に、λ／４板をそれぞれ配置し、円偏光画像を利用することでこの問題を解決することが提案されている（例えば特許文献４）。
【０００４】
しかし、λ／４板を利用する時分割方式及び空間分割方式の３Ｄ表示方法では、正面（表示面に対して法線方向）から画面を観察した際、画面の隅が暗くなるという問題があった。この問題は、画面が大型化する場合に、益々顕著になる傾向がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭５３−５１９１７号公報
【特許文献２】特開２００３−２５９３９５号公報
【特許文献３】米国特許第５,３２７,２８５号明細書
【特許文献４】特開２００２−８２３０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであって、正面方向から観察した際の輝度ムラが軽減された時分割方式及び空間分割方式３Ｄ表示システムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
正面方向から画面の隅を観察すると、見込み角が生じた状態で画面を観察することになる。本発明者らが鋭意検討した結果、この見込み角に起因する輝度ムラは、時分割方式及び空間分割方式３Ｄ表示システムに利用されているλ／４板のＲｔｈが影響しているとの知見を得た。理想のλ／４板はＲｔｈが０であり、画像表示装置及びシャッター等の偏光メガネ側のいずれにも理想のλ／４板を利用すれば、正面方向から見込み角のある状態で画面を観察しても、輝度ムラの問題は生じない。一方で、理想のλ／４板の作製は困難であり、実用に沿わない。本発明者がさらに鋭意検討した結果、画像表示装置及びシャッター等の偏光メガネ側に配置されるλ／４板のＲｔｈの合計の絶対値が、所定の範囲であると、見込み角が生じた状態で画面を観察しても輝度ムラが生じず、上記問題を解決できるとの知見を得、本発明を完成するに至った。本発明では理想のλ／４板を使用しなくても、上記課題を解決でき、実用に沿うものである。
【０００８】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］ 視認側に配置される第１の偏光膜と、前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、λ／４機能を有する保護部材Ａ１と、を少なくとも有する画像表示装置；及びλ／４板Ｂを少なくとも有し、前記画像表示装置に同期して作動する時分割画像表示遮断機器；を備えた時分割３Ｄ表示システムであって、前記保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする時分割方式３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
［２］ 下記式（ＩＩ）の関係を満たす［１］の時分割３Ｄ表示システム：
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ 。
［３］ 前記保護部材Ａ１及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、セルロースアシレートフィルム及び環状オレフィン系ポリマーフィルムの少なくともいずれかを含む［１］又は［２］の時分割方式３Ｄ表示システム。
［４］ 前記保護部材Ａ１及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を少なくとも含む［１］〜［３］のいずれかの時分割方式３Ｄ表示システム。
［５］ 前記液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記円盤状液晶化合物が垂直に配向している［４］の時分割方式３Ｄ表示システム。
［６］ 前記液晶化合物が、棒状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記棒状液晶化合物が水平に配向している［４］の時分割方式３Ｄ表示システム。
［７］ 前記保護部材Ａ１が、視認側表面に反射防止層を有する［１］〜［６］のいずれかの時分割方式３Ｄ表示システム。
［８］ 前記保護部材Ａ１が、紫外線吸収剤を含有する［１］〜［７］のいずれかの時分割方式３Ｄ表示システム。
［９］ 前記画像表示装置が、液晶パネルである［１］〜［８］のいずれかの時分割方式３Ｄ表示システム。
［１０］ 前記時分割画像表示遮断機器が、液晶セル及び第２の偏光膜をさらに有し、前記画像表示装置に対向する側から、前記λ／４板Ｂ、前記液晶セル、及び前記第２の偏光膜の順に、又は前記第２の偏光膜、前記液晶セル、及び前記λ／４板Ｂの順に配置されている［９］の時分割３Ｄ表示システム。
［１１］ 前記時分割画像表示遮断機器が、第３の偏光膜をさらに有し、前記画像表示装置に対向する側から、前記λ／４板Ｂ、前記第３の偏光膜、前記液晶セル、及び前記第２偏光膜の順に、又は前記第２の偏光膜、前記液晶セル、前記第３の偏光膜、及び前記λ／４板Ｂの順に配置されている［９］又は［１０］の時分割３Ｄ表示システム。
［１２］ 視認側に配置される第１の偏光膜と、前記第１の偏光膜の視認側に配置される液晶セルと、前記液晶セルの視認側表面に配置されるλ／４機能を有する保護部材Ａ１と、を少なくとも有する画像表示装置；及びλ／４板Ｂを少なくとも有するメガネ；を備えた時分割３Ｄ表示システムであって、前記液晶セルは、画像表示装置に同期して作動し、前記保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする時分割方式３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
【０００９】
［１３］ 視認側に配置される第１の偏光膜と、
前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、それぞれλ／４機能を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する保護部材Ａ２と、
を少なくとも有する画像表示装置；及び
λ／４板Ｂを少なくとも有する偏光変換素子；
を備えた３Ｄ表示システムであって、
前記保護部材Ａ２の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
［１４］ 下記式（ＩＩ）の関係を満たす［１３］の３Ｄ表示システム：
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ 。
［１５］ 前記保護部材Ａ２及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、セルロースアシレートフィルム及び環状オレフィン系ポリマーフィルムの少なくともいずれかを含む［１３］又は［１４］の３Ｄ表示システム。
［１６］ 前記保護部材Ａ２及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を少なくとも含む［１３］〜［１５］のいずれかの３Ｄ表示システム。
［１７］ 前記液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記円盤状液晶化合物が垂直に配向している［１６］の３Ｄ表示システム。
［１８］ 前記液晶化合物が、棒状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記棒状液晶化合物が水平に配向している［１６］の３Ｄ表示システム。
［１９］ 前記保護部材Ａ２が、視認側表面に反射防止層を有する［１３］〜［１８］のいずれかの３Ｄ表示システム。
［２０］ 前記保護部材Ａ２が、紫外線吸収剤を含有する［１３］〜［１９］のいずれかの３Ｄ表示システム。
［２１］ 前記画像表示装置が、液晶パネルである［１３］〜［２０］のいずれかの３Ｄ表示システム。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、正面方向から観察した際の輝度ムラが軽減された時分割方式及び空間分割方式の３Ｄ表示システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例を示した模式図である。
【図２】本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例の断面模式図である。
【図３】本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例の断面模式図である。
【図４】保護部材Ａ１又はＡ２及びλ／４板Ｂ層の一例の断面模式図である。
【図５】第１の偏光板の一例の断面模式図である。
【図６】第１の偏光板の一例の断面模式図である。
【図７】本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例の断面模式図である。
【図８】本発明の空間分割方式３Ｄ表示システムの一例の断面模式図である。
【図９】偏光膜の吸収軸とパターン光学異方性層の面内遅相軸との関係の一例を示した概略図である。
【図１０】実施例で作製したパターン光学異方性層の上面模式図である。
【図１１】実施例で作製した空間分割方式３Ｄ画像表示装置の断面模式図である。
【図１２】実施例で使用した露光マスクの上面模式図である
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明について、実施の形態を挙げて詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
まず、本明細書で用いられる用語について説明する。
【００１３】
Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルタをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、及び式（Ｂ）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１４】
【数１】
なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（Ｂ）
【００１５】
測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００１６】
本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがより好ましい。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。
なお、屈折率の測定波長は、特に断らない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値であり、Ｒｅ及びＲｔｈの測定波長については、特に断らない限り、５５０ｎｍとする。
【００１７】
また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。なお、「λ／４板」は、「λ／４フィルム」及び「λ／４層」と同義である。
【００１８】
まず、本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの実施態様について、図面を用いて説明する。
図１は、本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一態様の概略模式図である。図１に示す時分割方式３Ｄ表示システムは、画像表示装置１と、シャッター機能を有するメガネ２（時分割画像表示遮断機器）とを備え、画像表示装置１の画像を、メガネ２を装着した観察者が観察する。図１中には示さないが、画像表示装置１の表示面側には、偏光膜とλ／４機能を有する保護部材が配置されていて、画像表示装置１からは、円偏光画像が観察者側に表示され、且つメガネ２もλ／４層を含み、円偏光画像の透過率をＯＮ−ＯＦＦするシャッター機能を有する。
【００１９】
画像表示装置１には、例えば、所定の周波数（例えば、６０Ｈｚ以上の周波数）で左目用画像及び右目用画像が交互に表示される。一例では、立体視用の画像信号は、画像処理部において、左目用画像信号と右目用画像信号とに処理された後、表示用モニタ駆動回路に送られ、画像表示装置１の各々の画素部に、左目用画像信号と右目用画像信号とがフィールド毎に交互に割り当てられて、所定の時間毎に、左目用画像と右目用画像とが画像表示装置１の同一画面上に交互に表示され、視認側表面に配置されている偏光膜とλ／４機能を有する保護部材によって、左目用円偏光画像と右目用円偏光画像に変換される。
【００２０】
画像表示装置１の左目用及び右目用画像表示の切り替えに同期回路３により同期させて、メガネ２に、駆動電圧等が印加され、具体的には、左目用画像が表示されているときは、左目シャッター２ａの円偏光に対する透過率が最大になり、左目に画像が入力され、且つ右目シャッター２ｂの円偏光に対する透過率は最小になり、右目には画像は入力されず、一方、右目用画像が表示されているときは、右目シャッター２ｂの円偏光透過率が最大になり、右目に画像が入力され、且つ左目シャッター２ａの円偏光透過率は最小になり左目には画像は入力されなくなっている。観察者は、左目用画像を左目だけで、右目用画像を右目だけで選択的に見ることで、表示画像を立体画像として認識する。なお、メガネ２の透過率のＯＮ／ＯＦＦの機構については特に制限はない。液晶セルによるシャッター機能を利用したメガネが好ましい。
【００２１】
上記した通り、画像表示装置１の表示面側には、偏光膜とλ／４機能を有する保護部材Ａ１が配置されていて、円偏光画像が観察者に対して表示され、またメガネ２もλ／４板Ｂを含み、円偏光画像の透過率をＯＮ−ＯＦＦするシャッター機能を有する。従来、λ／４板を利用した時分割３Ｄ表示システムでは、正面方向から画像を観察した際に、画面の隅が暗くなるという問題があった。この問題は、画面の隅を正面から観察する場合には、見込み角が生じていることに起因するものである。本発明では、画像表示装置１に配置されているλ／４機能を有する保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、メガネ２に含まれるλ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）（より好ましくは下記式（ＩＩ））の関係を満たしているので、見込み角がある状態で正面方向から観察しても、輝度の低下がなく、正面方向から観察した際に、輝度ムラのない、良好な３Ｄ表示が可能になる。
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ
【００２２】
保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Aと、メガネ２に含まれるλ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Bは、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１５ｎｍ〜１６０ｎｍであるのが好ましい。一方で、Ｒｅ（５５０）AとＲｅ（５５０）Bの差はより小さいほうが、表示特性の観点で好ましい。具体的には、下記式（ＩＩＩ）の関係を満たすことが好ましく、下記式（ＩＶ）の関係を満たすことがより好ましい。
（ＩＩＩ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦３０ｎｍ
（ＩＶ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦１６ｎｍ
【００２３】
画像表示装置１の構成については特に制限はない。例えば、液晶層を含む液晶パネルであっても、有機ＥＬ層を含む有機ＥＬ表示パネルであってもよい。いずれの態様でも、種々の可能な構成を採用することができる。また、メガネ２のシャッター機能についても特に制限はなく、種々の構成を採用できる。好ましくは液晶セルのシャッター機能を利用したメガネである。
図２に、画像表示装置１として液晶パネルを、メガネ２として、液晶シャッターメガネをそれぞれ利用した構成例を、断面模式図として示す。なお、図中、各層の厚みの相対的関係は、実際の画像表示装置等の各層の厚みの相対的関係と必ずしも一致しているものではない。
【００２４】
画像表示装置１は、液晶セル１３を有する液晶パネルであり、その視認側に第１の偏光膜１２、さらにその視認側表面に保護部材１１を有する。液晶シャッターメガネ２は、液晶セル２３、及びその視認側にλ／４フィルム２１を有する液晶シャッターメガネである。保護部材１１はλ／４機能を有し、そのＲｔｈ（５５０）とλ／４フィルム２１のＲｔｈ（５５０）とは、上記式（Ｉ）を満足する。
【００２５】
画像表示装置１の液晶セル１３の後方には、バックライト４が配置され、バックライト４と液晶セル１３との間には偏光板１４が配置され、透過モードとして構成されている。偏光板１４の吸収軸は、第１の偏光膜１２の吸収軸と直交になっている。また、第１の偏光膜１２と液晶セル１３との間には、視野角補償のための、及び／又は偏光膜１２の保護のためのフィルム１５が配置されている。偏光板１４も、偏光膜とともに、偏光膜の液晶セル側表面及びバックライト側表面に、保護フィルムを有していてもよい。
【００２６】
液晶セル１３の構成については特に制限はなく、一般的な構成の液晶セルを採用することができる。液晶セル１３は、例えば、図示しない対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持された液晶層とを含み、必要に応じて、カラーフィルタ層などを含んでいてもよい。液晶セル１３の駆動モードについても特に制限はなく、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードを利用することができる。
【００２７】
表示側に配置される第１の偏光膜１２は、視認側表面に、λ／４機能を有する保護部材１１を有する。保護部材１１の構成については特に制限はなく、単層構造であっても、積層構造であってもよい。λ／４機能を有する部材としては、位相差ポリマーフィルム、位相差ポリマーフィルムの積層体、液晶組成物の配向を固定して形成される光学異方性層、及び該光学異方性層とそれを支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられる。保護部材１１が、ポリマーフィルムを含んでいると、偏光膜１１の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。また、保護部材１１は、視認側表面に反射防止層を有しているのも好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。
【００２８】
メガネ２は、λ／４板２１、偏光膜２２、液晶セル２３、及び偏光膜２４を有し、液晶画像装置部１の画像表示と同期するシャッター機能を備えている。メガネ２の構成としては、図２に示すような偏光板２枚方式であってもよく、図２に示す構成以外に、図３（ａ）、図３（ｂ）に示す偏光板１枚方式の構成であってもよい。
【００２９】
λ／４板２１の構成についても特に制限はない。単層構造であっても、積層構造であってもよい。観察者が装着することを考慮すると、軽量且つ薄層であるのが好ましく、従って、単層構造であるのが好ましい。λ／４板２１に利用可能な部材としては、位相差ポリマーフィルム、位相差フィルムの積層体、液晶組成物の配向を固定して形成される光学異方性層、及び該光学異方性層とそれを支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられる。λ／４板２１が、ポリマーフィルムを含んでいると、偏光膜２２の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。また、λ／４板２１は、表面にハードコート層や反射防止層を有しているのも好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。
【００３０】
画像表示装置１の第１の偏光膜１２の吸収軸と、λ／４機能を有する保護部材１１の遅相軸とは、４５°を中心として±１０°、即ち３５〜５５°であるか、又は１３５°を中心として±１０°、即ち１２５〜１４５°であるのが好ましい。また、第１の偏光膜１２の吸収軸及び偏光膜２２の吸収軸は、直交又は平行に配置するのが好ましく、且つ保護部材１１及びλ／４板２１の遅相軸は直交又は平行であるのが好ましい。
なお、保護部材１１及びλ／４板２１が複数の位相差層及び／又は位相差フィルムを含む態様では、遅相軸は、保護部材１１及びλ／４板２１全体で測定したときの遅相軸として特定される。
【００３１】
本発明の時分割方式３Ｄ表示システムは、図２に示す部材以外に、さらに、立体視用の画像信号を左目用画像信号と右目用画像信号とに処理する画像処理部、当該画像信号をディスプレイに送る表示用モニタ駆動回路、当該画像信号に応じて、液晶シャッターメガネに信号を送り、左右液晶シャッターの透過率をＯＮ／ＯＦＦさせる、同期回路を備えているのが好ましい。
【００３２】
図２の構成は、観察者が、液晶セル２３を利用したシャッター機能を有するメガネ２を介して画像を観察することで３Ｄ表示する構成であるが、液晶セル２３を、図７に示すように画像表示装置１に配置させても、同様の効果が得られる。この場合、液晶セル２３は画像表示装置１の出射光を右円偏光と左円偏光に時分割で変換するアクティブリターダー用のセルとして機能する。一方、偏光メガネ２０側にはシャッター機能は不要となる。画像表示装置が時分割で表示する左右目用円偏光画像が、それぞれ左目のみ又は右目のみに入射するのを可能にするために、互いに逆向きの円偏光板を左右目用に有する偏光メガネ２０が用いられる。
【００３３】
本発明は、空間分割方式の３Ｄ表示システムにも関する。
図８は、本発明の空間分割方式３Ｄ表示システムの一態様の概略模式図である。図８中、図１〜図７中の部材と同一の部材については同一の符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
図８に示す空間分割方式３Ｄ表示システムは、画像表示装置１０と、偏光メガネ２０（偏光変換素子）とを備え、画像表示装置１０の画像を、偏光メガネ２０を装着した観察者が観察する。画像表示装置１０の表示面側には、偏光膜と、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、それぞれλ／４機能を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する保護部材３１（保護部材Ａ２）が配置されている。例えば、互いに直交する方向に面内遅相軸を有する第１及び第２領域をそれぞれ通過した直線偏光画像は、それぞれ逆向きの円偏光画像に変換されて、観察者に対して表示される。偏光メガネ２０も、直線偏光膜とλ／４層（λ／４板Ｂ）を含み、互いに逆向きの円偏光画像の一方を左目のみに、及び他方を右目のみに入射する機能を有する。従来、λ／４板を利用した空間分割３Ｄ表示システムでは、偏光メガネを装着した観察者が、正面方向から画像を観察した際に、画面の隅が暗くなるという問題があった。この問題は、画面の隅を正面から観察する場合には、見込み角が生じていることに起因するものである。本発明では、画像表示装置１０に配置されているλ／４機能を有する保護部材３１（保護部材Ａ２）の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、偏光メガネ２０に含まれるλ／４層２１（λ／４板Ｂ）の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）（より好ましくは下記式（ＩＩ））の関係を満たしているので、見込み角がある状態で正面方向から観察しても、輝度の低下がなく、正面方向から観察した際に、輝度ムラのない、良好な３Ｄ表示が可能になる。
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ
【００３４】
保護部材３１（保護部材Ａ２）の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Aと、メガネ２０に含まれるλ／４層２１（λ／４板Ｂ）の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Bは、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１５ｎｍ〜１６０ｎｍであるのが好ましい。一方で、Ｒｅ（５５０）AとＲｅ（５５０）Bの差はより小さいほうが、表示特性の観点で好ましい。具体的には、下記式（ＩＩＩ）の関係を満たすことが好ましく、下記式（ＩＶ）の関係を満たすことがより好ましい。
（ＩＩＩ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦３０ｎｍ
（ＩＶ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦１６ｎｍ
【００３５】
表示側に配置される第１の偏光膜１２は、視認側表面に、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、それぞれλ／４機能を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する保護部材３１（保護部材Ａ２）を有する。保護部材３１の構成については特に制限はなく、単層構造であっても、積層構造であってもよい。一例は、液晶組成物の配向を固定して形成されるパターン光学異方性層と、該パターン光学異方性層を支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられる。保護部材３１が、ポリマーフィルムを含んでいると、偏光膜１１の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。また、保護部材３１は、視認側表面に反射防止層を有しているのも好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。
【００３６】
偏光メガネ２０は、λ／４層２１（λ／４板Ｂ）、及び偏光膜２４を有する。シャッター機能は不要である。左右目用のレンズが、互いに逆向きの円偏光板となる構成が好ましい。
【００３７】
λ／４層２１の構成についても特に制限はない。単層構造であっても、積層構造であってもよい。観察者が装着することを考慮すると、軽量且つ薄層であるのが好ましく、従って、単層構造であるのが好ましい。λ／４層２１に利用可能な部材としては、位相差ポリマーフィルム、位相差フィルムの積層体、液晶組成物の配向を固定して形成される光学異方性層、及び該光学異方性層とそれを支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられる。λ／４層２１が、ポリマーフィルムを含んでいると、偏光膜２２の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。また、λ／４層２１は、表面にハードコート層や反射防止層を有しているのも好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。
【００３８】
画像表示装置１０の第１の偏光膜１２の吸収軸と、保護部材３１の、第１及び第２位相差領域の面内遅相軸とは、４５°で交差させて配置する。４５°を中心として±１０°、即ち３５〜５５°であるのが好ましい。一例を図９に示す。図９に示す例では、第１の偏光膜１２の吸収軸ｐは左右方向にあり、及び保護部材３１の第１及び第２位相差領域３１ａ及び３１ｂそれぞれの互いに直交する面内遅相軸ａ及びｂは、左右方向を０°方向とすると、それぞれ±４５°の方向にあり、即ち、吸収軸ｐと面内遅相軸ａ及びｂのそれぞれとは４５°で交差している。
【００３９】
なお、保護部材３１及びλ／４層２１が複数の位相差層及び／又は位相差フィルムを含む態様では、遅相軸は、保護部材３１及びλ／４層２１全体で測定したときの遅相軸として特定される。
【００４０】
以下、本発明の３Ｄ表示システムに用いられる種々の部材について詳細に説明する。
【００４１】
１．λ／４機能を有する部材
本発明の時分割方式の態様では、画像表示装置の視認側に配置される第１の偏光膜の、視認側表面に配置される保護部材Ａ１として、及び時分割画像表示遮断器が有するλ／４板Ｂとして、λ／４機能を有する部材が用いられる。また、本発明の空間分割方式の態様では、画像表示装置の視認側に配置される第１の偏光膜の、視認側表面に配置される保護部材Ａ２として、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、λ／４機能を有するパターン光学異方性層を有する部材が用いられ、及び偏光変換素子が有するλ／４板Ｂとして、λ／４機能を有する部材が用いられる。
なお、λ／４板Ｂは、図２及び図３（ａ）に示す態様では、液晶セル２３よりも画像表示装置１側にある層すべての総称であり、図３（ｂ）に示す態様では、偏光膜２４と液晶セル２３の間にある層すべての総称である。
【００４２】
本発明では、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとは、下記式（Ｉ）の関係を満たし、下記式（ＩＩ）の関係を満たすことが好ましい。
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ
【００４３】
理想的なλ／４フィルムは、Ｒｅ（５５０）＝１３７．５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝０ｎｍ、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５＝０．５である。しかし、このようなλ／４フィルムは製造困難なことが多い。本発明では、Ｒｔｈ（５５０）A及びＲｔｈ（５５０）Bが上記関係式（Ｉ）を満足する限り、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂに対して、Ｒｔｈ＝０は要求されない。Ｒｔｈの観点で理想的でなくても、上記式（Ｉ）を満足すれば、正面方向から見込み角がある状態で画面を観察しても、輝度ムラのない良好な３Ｄ表示が可能である。但し、Ｒｔｈ（５５０）A及びＲｔｈ（５５０）Bの絶対値が過度に高いと、斜め方向から見た場合の輝度ムラの点で好ましくない場合があり、その観点では、Ｒｔｈ（５５０）Aは、−１６０〜１６０ｎｍが好ましく、−１００〜１００ｎｍがより好ましく、−８０〜８０ｎｍが特に好ましい。Ｒｔｈ（５５０）Bは、−２００〜２００ｎｍが好ましく、−１５０〜１５０ｎｍがより好ましく、−１００〜１００ｎｍが特に好ましい。
【００４４】
保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Aと、メガネ２に含まれるλ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Bは、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１５ｎｍ〜１６０ｎｍであるのが好ましい。一方で、Ｒｅ（５５０）AとＲｅ（５５０）Bの差はより小さいほうが、表示特性の観点で好ましい。具体的には、下記式（ＩＩＩ）の関係を満たすことが好ましく、下記式（ＩＶ）の関係を満たすことがより好ましい。
（ＩＩＩ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦３０ｎｍ
（ＩＶ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦１６ｎｍ
【００４５】
なお、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂがそれぞれ積層体である態様では、Ｒｅ（５５０）AとＲｔｈ（５５０）A、及びＲｅ（５５０）BとＲｔｈ（５５０）Bは、それぞれ積層体全体のＲｔｈ（５５０）及びＲｅ（５５０）を意味する。
【００４６】
保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂはそれぞれ、単層構造であっても、積層構造であってもよい。λ／４板Ｂは、メガネとして観察者が装着する時分割画像表示遮断機器に含まれるので、より軽量且つ薄層であるのが好ましい。また、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂが、ポリマーフィルムを含んでいると、隣接して配置される偏光膜の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。また、表面に反射防止層を含んでいるのも好ましい。λ／４機能を有する部材としては、位相差ポリマーフィルム、位相差ポリマーフィルムの積層体、液晶組成物の配向を固定して形成される光学異方性層、及び該光学異方性層とそれを支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられ、いずれも用いることができる。位相差ポリマーフィルムの例には、ポリマーフィルムを延伸してフィルム中の高分子を配向させて発現させた光学異方性を有するフィルムが含まれる。１枚又は２枚以上の二軸性フィルムによって構成することができるし、またＣプレートとＡプレートとの組合せ等、一軸性フィルムを２枚以上組合せることでも構成することができる。勿論、１枚以上の二軸性フィルムと、１枚以上の一軸性フィルムとを組み合わせることによっても構成することもできる。前記光学異方性層は、液晶性化合物の分子の配向によって発現された光学異方性を示す層である。光学異方性層単独でλ／４機能を有していてもよいし、支持体となるポリマーフィルムとともに、全体として、λ／４機能を有していてもよい。
【００４７】
保護部材Ａ２は、互いに異なる方向（一例は互いに直交する方向）に面内遅相軸を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する。パターンの形状等については特に制限はないが、左右画像が不均一とならないようにするためには、、第１及び第２位相差領域は、互いに等しい形状であるのが好ましく、またそれぞれの配置は、均等且つ対称的であるのが好ましい。一例は、同一の幅のストライプ状の第１及び第２位相差領域が交互に配置されたパターン光学異方性層である。
【００４８】
図４及び以下に、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂの構成例を示す。なお、図中及び以下の説明では、「光学異方性支持体」とは、位相差ポリマーフィルムを意味し、「支持体」とは、位相差ポリマーフィルムと低位相差の光学的に等方性に近いポリマーフィルムの双方を含む意味とする。また、光学異方性層については、保護部材Ａ１及びλ／４板Ｂでは、一様な光学異方性層を、及び保護部材Ａ２では互いに異なる方向に面内遅相軸を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を意味するものとする。
後述する図５及び図６においても同様である。
光学異方性支持体（図４（ｉ））
光学異方性支持体／ハードコート層（図４（ｉｉ））
光学異方性支持体／低屈折率層（図４（ｉｉｉ））
光学異方性支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｉｖ））
光学異方性支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｖ））
光学異方性支持体／支持体／ハードコート層（図４（ｖｉ））
光学異方性支持体／支持体／低屈折率層（図４（ｖｉｉ））
光学異方性支持体／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｖｉｉｉ））
光学異方性支持体／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｉｘ））
支持体／光学異方性層（図４（ｘ））
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層（図４（ｘｉ））
支持体／光学異方性層／支持体／低屈折率層（図４（ｘｉｉ））
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｉｉｉ））
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｉｖ））
光学異方性層／支持体（図４（ｘｖ））
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層（図４（ｘｖｉ））
光学異方性層／支持体／支持体／低屈折率層（図４（ｘｖｉｉ））
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｖｉｉｉ））
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｉｘ））
光学異方性層／支持体／ハードコート層（図４（ｘｘ））
光学異方性層／支持体／低屈折率層（図４（ｘｘｉ））
光学異方性層／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｘｉｉ））
光学異方性層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｘｉｉｉ））
支持体／光学異方性層／ハードコート層（図４（ｘｘｉｖ））
支持体／光学異方性層／低屈折率層（図４（ｘｘｖ））
支持体／光学異方性層／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｘｖｉ））
支持体／光学異方性層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｘｖｉｉ））
【００４９】
（１）ポリマーフィルム
前記位相差ポリマーフィルム、又は前記光学異方性層の支持体として用いられるポリマーフィルムの材料については、特に制限はない。種々のポリマーフィルム、例えば、セルロースアシレート（例えば、セルローストリアセテートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ノルボルネン等の環状オレフィン系ポリマー、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーを混合したポリマー等が挙げられる。１種又は２種以上のポリマーを、主成分として用いることができる。市販品を用いても良く、環状オレフィン系ポリマーであるアートン（ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィンであるゼオネックス（日本ゼオン社製））などを用いてもよい。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、環状オレフィン系ポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
【００５０】
前記位相差ポリマーフィルム等の製造方法については特に制限はない。溶液製膜方法及び溶融製膜方法のいずれも利用することができる。所望の特性とするために、製膜後に延伸処理を行ってもよい。また、その上に、液晶組成物からなる光学異方性層を形成する場合は、ポリマーフィルムを表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理、鹸化処理）等してもよい。
【００５１】
前記位相差ポリマーフィルムの厚みについては特に制限はないが、通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものが使用される。
【００５２】
なお、後述する液晶組成物からなる光学異方性層の支持体として用いるポリマーフィルムは、低Ｒｅであってもよく、例えば、０〜５０ｎｍ、０〜３０ｎｍ、又は０〜１０ｎｍであってもよい。また、支持体として用いられるポリマーフィルムのＲｔｈについても、特に制限はなく、例えば、−３００ｎｍ〜３００ｎｍ、−１００ｎｍ〜２００ｎｍ、又は−６０ｎｍ〜６０ｎｍであってもよい。支持体の光学特性は、その上に設けられる光学異方性層との組み合わせによって選択することが好ましい。
【００５３】
支持体のＲｅ、Ｒｔｈについては各種公知のレターデーション調整剤、延伸などにより調整することもできる。
【００５４】
（２）液晶性化合物を含む光学異方性層
前記保護部材Ａ１、保護部材Ａ２又はλ／４板Ｂは、液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を１以上有していてもよい。液晶性化合物の種類については特に制限されない。例えば、低分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層や、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることもできる。なお本発明では、光学異方性層に液晶性化合物が用いられる場合であっても、光学異方性層は、該液晶性化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。重合性液晶性化合物は、多官能性重合性液晶でもよいし、単官能性重合性液晶性化合物でもよい。また、液晶性化合物は、ディスコティック液晶性化合物でもよいし、棒状液晶性化合物でもよい。
【００５５】
前記光学異方性層において、液晶化合物の分子は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向及び傾斜配向のいずれかの配向状態に固定化されていることが好ましい。一例は、ディスコティック液晶性化合物の円盤面がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に垂直に配向している例であり、他の例は、棒状液晶性化合物の長軸がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に水平に配向している例である。ディスコティック液晶性化合物が実質的に垂直とは、フィルム面（光学異方性層面）とディスコティック液晶性化合物の円盤面とのなす角度の平均値が７０°〜９０°の範囲内であることを意味する。８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°が更に好ましい。棒状液晶性化合物が実質的に水平とは、フィルム面（光学異方性層面）と棒状液晶性化合物のダイレクターとのなす角度が０°〜２０°の範囲内であることを意味する。０°〜１０°がより好ましく、０°〜５°が更に好ましい。
液晶化合物の分子をハイブリッド配向させて視野角依存性が非対称である光学補償フィルムを作製する場合、液晶化合物のダイレクターの平均傾斜角は５〜８５°であることが好ましく、１０〜８０°であることがより好ましく、１５〜７５°であることが更に好ましい。
【００５６】
前記光学異方性層は、棒状液晶性化合物又は円盤状（ディスコティック）液晶性化合物等の液晶性化合物と、所望により、後述する重合開始剤や配向制御剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体上に塗布することで形成することができる。支持体上に配向膜を形成し、該配向膜表面に前記塗布液を塗布して形成するのが好ましい。
【００５７】
［棒状液晶性化合物］
光学異方性層の形成に利用可能な棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶性化合物には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。
【００５８】
［ディスコティック液晶性化合物］
前記光学異方性層の形成に利用可能なディスコティック液晶性化合物については、特に制限はない。ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【００５９】
ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式で表される化合物であることが好ましい。
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは１〜１２の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。なお、液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、３０〜３００℃が好ましく、３０〜１７０℃が更に好ましい。
【００６０】
下記式（Ｉ）で表わされるディスコティック液晶性化合物は、面内レターデーションの波長分散性が低く、高い面内レターデーションを発現可能であり、また特殊な配向膜や添加剤を使用しなくても高い平均傾斜角で均一性に優れた垂直配向を達成できるので、光学異方性層の形成に利用するのが好ましい。更に該液晶性化合物を含有する塗布液は、その粘度が比較的低くなる傾向があり、塗布性が良好である点でも好ましい。
【００６１】
（１）−１ 一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶化合物
【化１】
【００６２】
式中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ｈ1、Ｈ2及びＨ3は、それぞれ独立に一般式（Ｉ−Ａ）又は（Ｉ−Ｂ）の基を表し；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ−Ｒ）を表す；
【化２】
【００６３】
一般式（Ｉ−Ａ）中、ＹＡ1及びＹＡ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す；
【００６４】
【化３】
【００６５】
一般式（Ｉ−Ｂ）中、ＹＢ1及びＹＢ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す；
【００６６】
一般式（Ｉ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｑ2）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
一般式（Ｉ−Ｒ）中、＊は、一般式（Ｉ）におけるＨ1〜Ｈ3側と結合する位置を表す；Ｌ21は単結合又は二価の連結基を表す；Ｑ2は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基（環状基）を表す；ｎ１は、０〜４の整数を表す；Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊＊−ＮＨ−、＊＊−ＳＯ2−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表す；Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す；Ｑ1は重合性基又は水素原子を表す。
【００６７】
前記式（Ｉ）で表される３置換ベンゼン系ディスコティック液晶化合物の各符号の好ましい範囲、及び前記式（Ｉ）の化合物の具体例については、特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［００７７］記載を参照することができる。但し、本発明に使用可能なディスコティック液晶化合物は、前記式（Ｉ）の３置換ベンゼン系ディスコティック液晶化合物に限定されるものではない。
【００６８】
トリフェニレン化合物としては、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００６２］〜［００６７］記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６９】
なお、前記３置換ベンゼン又はトリフェニレン化合物とともに、下記一般式（ＩＩ）（より好ましくは一般式(II’)）で表されるピリジニウム化合物の少なくとも１種、及び下記一般式（ＩＩＩ）で表されるトリアジン環基を含む化合物の少なくとも１種を含有させ逆ハイブリッド配向状態を達成可能な組成物としてもよい。前記ピリジニウム化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物１００質量部に対し、０．５〜３質量部であるのが好ましい。また、前記トリアジン環基を含む化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物１００質量部に対し、０．２〜０．４質量部であるのが好ましい。
【００７０】
【化４】
【００７１】
式中、Ｌ23及びＬ24はそれぞれ二価の連結基であり；Ｒ22は水素原子、無置換アミノ基、又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基であり；Ｘはアニオンであり；Ｙ22及びＹ23はそれぞれ、置換されていてもよい５又は６員環を部分構造として有する２価の連結基であり；Ｚ21はハロゲン置換フェニル、ニトロ置換フェニル、シアノ置換フェニル、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル、炭素原子数が１〜１２のアルキル基、炭素原子数が２〜２０のアルキニル基、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基および炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基からなる群より選ばれる一価の基であり；ｐは１〜１０の数であり；並びにｍは１又は２である。
【００７２】
【化５】
【００７３】
式中、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、末端にＣＦ3基を有するアルキル基又はアルコキシ基を表し、但し、アルキル基（アルコキシ基中のアルキル基も含む）中の隣接していない２以上の炭素原子は、酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよい；Ｘ31、Ｘ32及びＸ33は、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表し；ｍ３１、ｍ３２及びｍ３３はそれぞれ、１〜５の数である。上記式（III）中、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33はそれぞれ、下記式で表される基であるのが好ましい。
−Ｏ（ＣnＨ2n）n1Ｏ（ＣmＨ2m）m1−ＣkＦ2k+1
式中、ｎ及びｍはそれぞれ１〜３であり、ｎ１及びｍ１はそれぞれ１〜３であり、ｋは１〜１０である。
【化６】
式（II’）中、式(II)と同一の符号は同一の意義であり；Ｌ25はＬ24と同義であり；Ｒ23、Ｒ24及びＲ25はそれぞれ、炭素原子数が１〜１２のアルキル基を表し、ｎ３は０〜４、ｎ４は１〜４、及びｎ５は０〜４を表す。
る。
【００７４】
［他の添加剤］
前記光学異方性層の形成に用いられる液晶性組成物は、他の添加剤の１種以上を含有していてもよい。使用可能な添加剤の例として、空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等について説明する。
【００７５】
空気界面配向制御剤：
前記組成物は、空気界面においては空気界面のチルト角で配向する。このチルト角は、液晶性組成物に含まれる液晶性化合物の種類や添加剤の種類等で、その程度が異なるため、目的に応じて空気界面のチルト角を任意に制御する必要がある。
【００７６】
前記チルト角の制御には、例えば、電場や磁場のような外場を用いることや添加剤を用いることができるが、添加剤を用いることが好ましい。このような添加剤としては、炭素原子数が６〜４０の置換もしくは無置換脂肪族基、又は炭素原子数が６〜４０の置換もしくは無置換脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を、分子内に１本以上有する化合物が好ましく、分子内に２本以上有する化合物が更に好ましい。例えば、空気界面配向制御剤としては、特開２００２−２０３６３号公報に記載の疎水性排除体積効果化合物を用いることができる。
また、特開２００９−１９３０４６号公報等に記載のフルオロ脂肪族基含有ポリマーも同様な作用があるので空気界面配向制御剤として添加することができる。
【００７７】
空気界面側の配向制御用添加剤の添加量としては、前記組成物（塗布液の場合は固形分、以下同様である）に対して、０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、０．０１質量％〜１０質量％が更に好ましく、０．１質量％〜５質量％がより更に好ましい。
【００７８】
ハジキ防止剤：
前記組成物に添加し、該組成物の塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。
使用するポリマーとしては、前記組成物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。
ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。
前記組成物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、前記組成物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００７９】
重合開始剤：
前記組成物は、重合開始剤を含有しているのが好ましい。重合開始剤を含有する前記組成物を用いると、液晶相形成温度まで加熱した後、重合させ冷却することによって液晶状態の配向状態を固定化して、光学異方性層を作製することもできる。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応と電子線照射による重合反応が含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応又は電子線照射による重合反応が好ましい。
【００８０】
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
光重合開始剤の使用量は、前記組成物の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
【００８１】
重合性モノマー：
前記組成物には、重合性のモノマーを添加してもよい。本発明で使用できる重合性モノマーとしては、併用される液晶化合物と相溶性を有し、液晶性組成物の配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、併用される液晶化合物に対して一般に０．５〜５０質量％の範囲にあり、１〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜との密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
【００８２】
前記組成物は、塗布液として調製してもよい。塗布液の調製に使用する溶剤としては、汎用の有機溶剤が好ましく用いられる。汎用の有機溶剤の例には、アミド系溶剤（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド系溶剤（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環系溶剤（例、ピリジン）、炭化水素系溶剤（例、トルエン、ヘキサン）、アルキルハライド系溶剤（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル系溶剤（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン系溶剤（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル系溶剤（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。エステル系溶剤及びケトン系溶剤が好ましく、特にケトン系溶剤が好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００８３】
前記光学異方性層は、前記組成物を、配向状態とし、その配向状態を固定することで、作製することができる。以下に、製造方法の一例について説明するが、この方法に限定されるものではない。
まず、重合性液晶性化合物を少なくとも含有する組成物を支持体の表面上（配向膜を有する場合は配向膜表面）に塗布する。所望により加熱等して、所望の配向状態で配向させる。次に、重合反応等を進行させて、その状態を固定して、光学異方性層を形成する。この方法に用いられる前記組成物に添加可能な添加剤の例としては、前記した空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等が挙げられる。
【００８４】
塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により行うことができる。
【００８５】
均一に配向した状態を実現するためには、配向膜を利用するのが好ましい。配向膜は、ポリマー膜（例えば、ポリビニルアルコール膜及びイミド膜等）の表面をラビング処理することで形成されるものが好ましい。本発明に利用するのに好ましい配向膜の例には、特開２００６−２７６２０３号公報の［０１３０］〜［０１７５］に記載のあるアクリル酸コポリマー又はメタクリル酸コポリマーの配向膜が含まれる。当該配向膜を利用すると、液晶化合物のゆらぎを抑制でき高コントラスト化が達成できるので好ましい。
【００８６】
次に、配向状態を固定するために、重合を実施するのが好ましい。前記組成物中に光重合開始剤を含有させ、光照射により重合を開始するのが好ましい。光照射には、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。また、雰囲気の酸素濃度は重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達しない場合には、窒素置換等の方法により酸素濃度を低下させることが好ましい。好ましい酸素濃度としては、１０％以下が好ましく、７％以下がさらに好ましく、３％以下がよりさらに好ましい。
【００８７】
本発明で配向状態が固定化された状態とは、その配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様ではあるが、それだけには限定されず、具体的には、通常０℃〜５０℃、より過酷な条件下では−３０℃〜７０℃の温度範囲において、該固定化された組成物に流動性が無く、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を指すものである。なお、配向状態が最終的に固定化され光学異方性層が形成された際に、前記組成物はもはや液晶性を示す必要はない。例えば、結果的に熱、光等による反応により重合又は架橋反応が進行し、高分子量化して、液晶性化合物が液晶性を失ってもよい。
【００８８】
前記光学異方性層の厚さについては特に制限されないが、一般的には、０．１〜１０μｍ程度であるのが好ましく、０．５〜５μｍ程度であるのがより好ましい。
【００８９】
前記光学異方性層の形成には、配向膜を利用してもよく、配向膜としては、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを主成分とする膜の表面をラビング処理したもの等を利用することができる。
【００９０】
なお、本発明に利用する前記位相差フィルム及び光学異方性層は、長尺の状態で連続的に製造されることが好ましい。更に、長手方向に対して遅相軸が平行でも直交でもない方向にあることが、ロールツーロールの方式で、偏光膜と、その遅相軸を偏光膜の吸収軸に対して４５°又は１３５°として貼り合わせできるので好ましい。すなわち、位相差フィルム及び光学異方性層の遅相軸と長辺とのなす角度は、５〜８５°であることが好ましい。
液晶組成物から形成される光学異方性層の遅相軸の角度は、ラビングの角度で調整できる。延伸フィルムの遅相軸は、延伸方向によって遅相軸の角度が調整できる。
【００９１】
上記した通り、保護部材Ａ２は、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、それぞれλ／４機能を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する。パターン光学異方性層は、液晶組成物から形成することができる。
【００９２】
パターン光学異方性層の形成方法として、以下の態様が挙げられる。
第１の態様は、液晶の配向制御に影響を与える複数の作用を利用し、その後、外部刺激（熱処理等）によりいずれかの作用を消失させて、所定の配向制御作用を支配的にする方法である。例えば、配向膜による配向制御能と、液晶組成物中に添加される配向制御剤の配向制御能との複合作用により、液晶を所定の配向状態とし、それを固定して一方の位相差領域を形成した後、外部刺激（熱処理等）により、いずれかの作用（例えば配向制御剤による作用）を消失させて、他の配向制御作用（配向膜による作用）を支配的にし、それによって他の配向状態を実現し、それを固定して他方の位相差領域を形成する。例えば、後述する所定のピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物は、ピリジニウム基又はイミダリウム基が親水的であるため前記親水的なポリビニルアルコール配向膜表面に偏在する。特に、ピリジニウム基が、さらに、水素原子のアクセプターの置換基であるアミノ基が置換されていると、ポリビニルアルコールとの間に分子間水素結合が発生し、より高密度に配向膜表面に偏在すると共に、水素結合の効果により、ピリジニウム誘導体がポリビニルアルコールの主鎖と直交する方向に配向するため、ラビング方向に対して液晶の直交配向を促進する。後述する所定のピリジニウム誘導体等は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、液晶、特にディスコティック液晶との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍における直交配向を誘起する。特に、親水的なピリジニウム基に疎水的な芳香環が連結されていると、その疎水性の効果により垂直配向を誘起する効果も有する。しかし、その効果は、ある温度を超えて加熱すると、水素結合が切断され、前記ピリジニウム化合物等の配向膜表面における偏在性及び密度が低下し、その作用を消失する。その結果、ラビング配向膜そのものの規制力により液晶が配向し、液晶は平行配向状態になる。この方法の詳細については、特願２０１０−１４１３４６号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
【００９３】
第２の態様は、パターン配向膜を利用する態様である。この態様では、互いに異なる配向制御能を有するパターン配向膜を形成し、その上に、液晶組成物を配置し、液晶を配向させる。液晶は、パターン配向膜のそれぞれの配向制御能によって配向規制され、互いに異なる配向状態を達成する。それぞれの配向状態を固定することで、配向膜のパターンに応じて第１及び第２の位相差領域のパターンが形成される。パターン配向膜は、印刷法、ラビング配向膜に対するマスクラビング、光配向膜に対するマスク露光等を利用して形成することができる。また、配向膜を一様に形成し、配向制御能に影響を与える添加剤（例えば、上記オニウム塩等）を別途所定のパターンで印刷することによって、パターン配向膜を形成することもできる。大掛かりな設備が不要である点や製造容易な点で、印刷法を利用する方法が好ましい。この方法の詳細については、特願２０１０−１７３０７７号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
【００９４】
また、第１及び第２の態様を併用してもよい。一例は、配向膜中に光酸発生剤を添加する例である。この例では、配向膜中に光酸発生剤を添加し、パターン露光により、光酸発生剤が分解して酸性化合物が発生した領域と、発生していない領域とを形成する。光未照射部分では光酸発生剤はほぼ未分解のままであり、配向膜材料、液晶、及び所望により添加される配向制御剤の相互作用が配向状態を支配し、液晶を、その遅相軸がラビング方向と直交する方向に配向させる。配向膜へ光照射し、酸性化合物が発生すると、その相互作用はもはや支配的ではなくなり、ラビング配向膜のラビング方向が配向状態を支配し、液晶は、その遅相軸をラビング方向と平行にして平行配向する。前記配向膜に用いられる光酸発生剤としては、水溶性の化合物が好ましく用いられる。使用可能な光酸発生剤の例には、Ｐｒｏｇ． Ｐｏｌｙｍ． Ｓｃｉ．， ２３巻、１４８５頁（１９９８年）に記載の化合物が含まれる。前記光酸発生剤としては、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましく用いられる。この方法の詳細については、特願２０１０−２８９３６０号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
【００９５】
（３）表面層
前記保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂの表面には、目的に応じて必要な表面層を単独又は複数層設けてもよい。好ましい態様としては、光学異方性層の上にハードコート層が積層された態様、光学異方性層の上に反射防止層が積層された態様、光学異方性層の上にハードコート層が積層され、その上に更に反射防止層が積層された態様、等が挙げられる。
【００９６】
［反射防止層］
反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して設計された，少なくとも一層以上の層からなる層である。
反射防止層は、最も単純な構成では、フィルムの最表面に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、膜厚変動に対するロバスト性に優れる３層構成の反射防止フィルムは特開２００８−２６２１８７号公報に記載されている。上記３層構成の反射防止フィルムは、画像表示装置の表面に設置した場合、反射率の平均値を０．５％以下とすることができ、映り込みを著しく低減することができ、立体感に優れる画像を得ることができる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層、防眩性のハードコート層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２００７−２６４１１３号公報等）等が挙げられる。
【００９７】
ハードコート層や反射防止層を有する場合の具体的な層構成の例を下記に示す。以下表記中−＊／は表面層が積層される基材を表す。具体的には、−＊／は、上述の光学異方性支持体、光学異方性層、支持体などを表す。
・−＊／ハードコート層、
・−＊／低屈折率層、
・−＊／防眩層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／低屈折率層、
・−＊／ハードコート層／防眩層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
上記の各構成のなかでも、光学異方性層の上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の表面層を直接形成することが好ましい。また、光学異方性層を含む光学フィルムと、別途、支持体上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の層を設けた光学フィルムとを貼合積層して製造してもよい。
【００９８】
［ハードコート層］
保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２に設ける表面フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
【００９９】
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性の表面フィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．７０である。
【０１００】
ハードコート層の膜厚は、表面フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、更に好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１０１】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ2が好ましい。
【０１０２】
電離放射線硬化性化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【０１０３】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１０４】
電離放射線硬化性化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの電気陰性度が大きな原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的にはＯＨ−、ＳＨ−、−ＮＨ−、ＣＨＯ−、ＣＨＮ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている化合物を用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
【０１０５】
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。
【０１０６】
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。
【０１０７】
［防眩層］
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくは表面フィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１０８】
［高屈折率層及び中屈折率層］
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜１．７４であることが好ましく、１．７１〜１．７３であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．６０〜１．６４であることが好ましく、１．６１〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
【０１０９】
上記中屈折率層は、上記高屈折率層と屈折率を異ならせた以外は同様の材料を用いて同様に調整できるので、以下、特に高屈折率層について説明する。
上記高屈折率層は、無機微粒子、３官能以上の重合性基を有する硬化性化合物（以下、「バインダー」と称する場合もある）、溶媒及び重合開始剤を含有する塗布組成物を塗布し、溶媒を乾燥させた後、加熱、電離放射線照射あるいは両手段の併用により硬化して形成されたものであるのが好ましい。硬化性化合物や開始剤を用いる場合は、塗布後に熱及び／又は電離放射線による重合反応により硬化性化合物を硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。
【０１１０】
［低屈折率層］
本発明における低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．４７であることが好ましい。表面フィルムが多層薄膜干渉型の反射防止フィルム（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）の場合の低屈折率層の屈折率は１．３３〜１．３８であることが望ましく、更に望ましくは１．３５〜１．３７が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
低屈折率層は、含フッ素硬化性ポリマー、含フッ素硬化性モノマー、非含フッ素硬化性モノマー、低屈折率粒子などを構成成分として形成することができる。これら化合物は、特開２０１０−１５２３１１号公報[００１８]〜[０１６８]段落に記載のものを用いることができる。
【０１１１】
低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９５゜以上であることが好ましい。更に好ましくは１０２゜以上である。特に、接触角が１０５°以上であると、指紋に対する防汚性能が著しく良化するため、特に好ましい。また、水の接触角が１０２°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２５ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることがより好ましく、２３ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが特に好ましく、２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが更に好ましい。最も好ましくは、水の接触角が１０５°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である。
【０１１２】
（４）紫外線吸収剤
本発明では、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂは、紫外線吸収剤を含有しているのが好ましい。保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂが積層構造体である態様では、少なくとも１つの層が紫外線吸収剤を含有しているのが好ましい。例えば、透明支持体、光学異方性層、反射防止層、又はそれらを接着する接着剤を有する態様では、これらのいずれかに紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。また、表面フィルムのハードコート層及び／又は反射防止層には、紫外線吸収剤を含有させることができる。紫外線吸収剤としては、紫外線吸収性を発現できるもので、公知のものがいずれも使用できる。そのような紫外線吸収剤のうち、紫外線吸収性が高く、電子画像表示装置で用いられる紫外線吸収能（紫外線カット能）を得るためにベンゾトリアゾール系又はヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤が好ましい。また、紫外線の吸収幅を広くするために、最大吸収波長の異なる紫外線吸収剤を２種以上併用することができる。
【０１１３】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシヘキシル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチル−３′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−シアノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ニトロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒ―ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゼンプロパン酸−３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１、１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−，Ｃ７〜９−ブランチ直鎖アルキルエステル、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等が挙げられる。
【０１１４】
ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２'−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ビス−ブチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−５，５′−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウム塩等が挙げられる。
【０１１５】
紫外線吸収剤の含有量は、求める紫外線透過率や紫外線吸収剤の吸光度にもよるが、前記紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、通常２０質量部以下、好ましくは１〜２０質量部である。紫外線吸収剤の含有量が２０質量部よりも多い場合には、硬化性組成物の紫外線による硬化性が低下する傾向があると共に、光学フィルムの可視光線透過率が低下するおそれもある。一方、１質量部より少ない場合には、光学フィルムの紫外線吸収性を十分に発揮することができなくなる。
【０１１６】
２．偏光膜
本発明の時分割式３Ｄ表示システムに利用される画像表示装置は、その視認側に少なくとも１つの偏光膜（第１の偏光膜）を有する。画像表示装置が、透過モードの液晶パネルである態様では、液晶セルのバックライト側にも偏光膜を有する。また、本発明のシステムに利用される、時分割画像表示遮断器が液晶セルのシャッター機能を利用した態様では、偏光膜を１枚、又は液晶セルを挟んで２枚配置する。
【０１１７】
本発明に利用される偏光膜については特に制限はなく、通常用いられている偏光膜を利用することができ、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を利用した染料系偏光膜、及びポリエン系偏光膜のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光膜、及び染料系偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素又は二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
【０１１８】
なお、偏光膜は、その両面に保護フィルムが貼合された偏光板として用いられることが一般的である。本発明でも、偏光板を用いてもよい。図５及び図６に、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２又はλ／４板Ｂを有する偏光板の例を示すがこれに限定されるものではない。図６中の光学補償フィルムは、液晶セルの視野角を補償する機能を有するものである。
【０１１９】
３．液晶セル
本発明の時分割方式３Ｄ表示システムに用いられる画像表示装置及び時分割画像表示遮断器の構成については特に制限はない。一例は、いずれも液晶セルを利用した態様である。利用可能な液晶セルの構成については特に制限はない。液晶セルは、一対の基板及び液晶層の他に、各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていてもよい。液晶セルの方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ）電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であってもよい。カラーフィルタを使用しないフィールドシーケンシャル方式であってもよい。
【０１２０】
画像表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、又はＴＮモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Patterned Vertical Alignment）型、光配向型（Optical Alignment）、及びＰＳＡ（Polymer-Sustained Alignment）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、及び特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の透過軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０１２１】
例えば、画像表示装置用の液晶セルは、表示性能の観点で選択されるであろうし、また時分割画像表示遮断器のシャッター機能に利用する液晶セルは、右目と左目の映像に対応した応答を行うので、応答速度及び透過率の観点で選択され、速いＴＮモードの液晶セルを用いることが好ましい。
【実施例】
【０１２２】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
なお、実施例および比較例において、Ｒｅ（５５０）、Ｒｔｈ（５５０）及びＲｅ波長分散は、特に断りがない限り、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて測定した値を用いた。
【０１２３】
１．時分割方式３Ｄ表示システム
（１）λ／４フィルムの作製
（λ／４フィルム１ａの作製）
市販のノルボルネン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を固定端二軸延伸し、ノルボルネン系λ／４フィルム１ａを作製した。ノルボルネン系λ／４フィルム１ａのＲｅ（５５０）は、１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は、１５５ｎｍであった。また、λ／４フィルム１ａのＲｅ波長分散はフラット分散であった。
【０１２４】
（λ／４フィルム２ａの作製）
市販のノルボルネン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を、温度１５６℃にて、延伸倍率４５％で自由端一軸延伸を行いうことで、ノルボルネン系λ／４フィルム２ａを作製した。ノルボルネン系λ／４フィルム２ａのＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであった。また、λ／４フィルム２ａのＲｅ波長分散はフラット分散であった。
【０１２５】
（λ／４フィルム３ａの作製）
市販のポリカーボネート系フィルム「ピュアエースＷＲ Ｗ−１４２」（帝人化成（株）製）をλ／４フィルム３ａとして使用した。λ／４フィルム３ａのＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は７２ｎｍであった。
【０１２６】
（λ／４フィルムＡの準備）
＜透明支持体（セルロースアセテートフィルムＴ１）の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液（内層用ドープＡ及び外層用ドープＢ）を調製した。
【０１２７】
──────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（質量部） 内層 外層
──────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００ １００
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８ ７．８
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９ ３．９
メチレンクロライド（第１溶媒） ２９３ ３１４
メタノール（第２溶媒） ７１ ７６
１−ブタノール（第３溶媒） １．５ １．６
シリカ微粒子 ０ ０．８
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
下記レターデーション上昇剤（Ａ） １．７ ０
──────────────────────────────────────
【０１２８】
【化７】
【０１２９】
得られた内層用ドープＡ及び外層用ドープＢを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（厚み８０μｍ（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ））を製造した。作製したセルロースアセテートフィルムＴ１のＲｅ（５５０）は５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は９０ｎｍであった。
【０１３０】
＜液晶性化合物を含む光学異方性層の形成＞
＜＜アルカリ鹸化処理＞＞
セルロースアシレートフィルムＴ１を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。
【０１３１】
＜アルカリ溶液組成＞
────────────────────────────────────
アルカリ溶液組成（質量部）
────────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
────────────────────────────────────
【０１３２】
＜配向膜の形成＞
上記のように鹸化処理した長尺状のセルロースアセテートフィルムに、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。
【０１３３】
────────────────────────────────────
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー２９５９、チバ・ジャパン製） ０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１３４】
【化８】
【０１３５】
＜ディスコティック液晶性化合物を含む光学異方性層の形成＞
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向に対して、ラビングローラーの回転軸は時計回りに４５°の方向とした。
【０１３６】
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液Ａを上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し厚さ１．７７μｍの光学異方性層を形成し、λ／４フィルムＡを得た。
【０１３７】
────────────────────────────────────
光学異方性層塗布液（Ａ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――───
下記のディスコティック液晶化合物 ９１質量部
アクリレートモノマー ＊１ ５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のピリジニウム塩 ０．５質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１） ０．２質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ３） ０．１質量部
メチルエチルケトン １８９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――───
＊１：アクリレートモノマーは、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）を使用した。
【０１３８】
【化９】
【化１０】
【０１３９】
作製したフィルムλ／４フィルムＡは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が５４ｎｍであった。遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は反時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１４０】
（λ／４フィルム４ａの作製）
上記のセルロースアセテートフィルムＴ１の作製おいて、ドープＡの流量を調節してフィルムの全層の膜厚を８０μｍから５５μｍに変えた以外は同様にして、セルロースアセテートフィルムＴ２を作製した。セルロースアセテートフィルムＴ２のＲｅ（５５０）は２ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６０ｎｍであった。
【０１４１】
作製したλ／４フィルムＡとセルロースアセテートフィルムＴ２を準備した。続いて、λ／４フィルムＡのセルロースアセテートフィルム側に易接着層を介してセルロースアセテートフィルムＴ２を貼合し、λ／４フィルム４ａとして使用した。
【０１４２】
（λ／４フィルム５ａの作製）
＜透明支持体（セルロースアセテートフィルムＴ３）の作製＞
セルロースアセテートフィルムＴ１の作製おいて、ドープＡの流量を調節してフィルムの全層の膜厚を８０μｍから４９μｍに変えた以外は同様にして、セルロースアセテートフィルムＴ３を作製した。セルロースアセテートフィルムＴ３のＲｅ（５５０）は２ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は５３ｎｍであった。
【０１４３】
作製したλ／４フィルムＡとセルロースアセテートフィルムＴ３を準備した。続いて、λ／４フィルムＡのセルロースアセテートフィルム側に易接着層を介してセルロースアセテートフィルムＴ３を貼合し、λ／４フィルム５ａとして使用した。
【０１４４】
（λ／４フィルム６ａの作製）
λ／４フィルムＡの準備において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、フィルム長手方向に対するラビングローラーの回転軸を反時計回りに４５°の方向とした以外はλ／４フィルムＡの準備と同様にしてλ／４フィルム６ａを作製した。光学異方性層の厚さは１．６０μｍであった。作製したλ／４フィルム６ａの５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が６０ｎｍであった。遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１４５】
（λ／４フィルム７ａの作製）
λ／４フィルムＡの準備において、セルロースアセテートフィルムＴ１を市販のセルロースアシレートフィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）とし、光学異方性層の厚さを１．７７μｍから１．６０μｍとした以外はフィルムＡの準備と同様の方法でλ／４フィルム７ａを作製した。
【０１４６】
作製したλ／４フィルム７ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が８ｎｍであった。遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、塗布面を上に向けたときに遅相軸は反時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１４７】
（λ／４フィルム８ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、光学異方性層の厚さを１．７７μｍから１．８７μｍとした以外はλ／４フィルム７ａの作製と同様の方法でλ／４フィルム８ａを作製した。
作製したλ／４フィルム８ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１４５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が０ｎｍであった。λ／４フィルム８ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１４８】
（λ／４フィルム９ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、光学異方性層の厚さを１．７７μｍから１．４８μｍとした以外はλ／４フィルム７ａの作製と同様の方法でλ／４フィルム９ａを作製した。
作製したλ／４フィルム９ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１１５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が１２ｎｍであった。λ／４フィルム９ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１４９】
（λ／４フィルム１０ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、光学異方性層の厚さを１．７７μｍから１．６７μｍとした以外はλ／４フィルム７ａの作製と同様の方法でλ／４フィルム1０ａを作製した。
作製したλ／４フィルム１０ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が６ｎｍであった。λ／４フィルム１０ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１５０】
（λ／４フィルム１１ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、光学異方性層の厚さを１．７７μｍから２．０８μｍとした以外はλ／４フィルム７ａの作製と同様の方法でλ／４フィルム１１ａを作製した。作製したλ／４フィルム１１ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が−６ｎｍであった。λ／４フィルム１１ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１５１】
（λ／４フィルム１２ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層の支持体としてＴＤ８０ＵＬを以下のように作製したセルロースアシレートフィルムＴ４に変えた以外は、フィルム７ａの作製と同様の方法でフィルム１２ａを作製した。
λ／４フィルム１２ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。λ／４フィルム１２ａのＲｅ（５５０）は１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−５９ｎｍであった。
【０１５２】
＜セルロースアシレートフィルムＴ４の作製＞
全置換度２．９７（アセチル置換度０．４５、プロピオニル置換度２．５２）のセルロースアシレートを調製した。触媒としての硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）とカルボン酸無水物との混合物を−２０℃に冷却してからパルプ由来のセルロースに添加し、４０℃でアシル化を行った。この時、カルボン酸無水物の種類及びその量を調整することで、アシル基の種類及びその置換比を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行って全置換度を調整した。
【０１５３】
＜＜セルロースアシレート溶液の調製＞＞
１）セルロースアシレート
調製したセルロースアシレートを１２０℃に加熱して乾燥し、含水率を０．５質量％以下とした後、３０質量部を溶媒と混合させた。
２）溶媒
ジクロロメタン／メタノール／ブタノール（８１／１５／４質量部）を溶媒として用いた。なお、これらの溶媒の含水率は、いずれも０．２質量％以下であった。
３）添加剤
全ての溶液調製に際し、トリメチロールプロパントリアセテート０．９質量部を添加した。また、全ての溶液調製に際し、二酸化ケイ素微粒子（粒径２０ｎｍ、モース硬度：約７）０．２５質量部を添加した。
４）膨潤、溶解
攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環する４００リットルのステンレス製溶解タンクに、上記溶媒、添加剤に加え、下記ＵＶ吸収剤Ａを３．０％投入して撹拌、分散させながら、上記セルロースアシレートを徐々に添加した。投入完了後、室温にて２時間撹拌し、３時間膨潤させた後に再度撹拌を実施し、セルロースアシレート溶液を得た。
なお、攪拌には、１５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０4ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ2）の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸及び中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０4ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ2）で攪拌する攪拌軸を用いた。膨潤は、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして実施した。
【０１５４】
【化１１】
５）ろ過
上記で得られたセルロースアシレート溶液を、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）で濾過し、更に絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ＦＨ０２５、ポール社製）にて濾過してセルロースアシレート溶液を得た。
【０１５５】
上記セルロースアシレート溶液を３０℃に加温し、流延ギーサー（特開平１１−３１４２３３号公報に記載）を通して１５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは１５ｍ／分、塗布幅は２００ｃｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをバンドから剥ぎ取り、４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、更に１４０℃で１０分乾燥して、セルロースアシレートフィルムＴ４を作製した。
得られたセルロースアシレートフィルムＴ４のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−２５ｎｍであった。
【０１５６】
（λ／４フィルム１３ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層の支持体としてＴＤ８０ＵＬを以下のように作製したセルロースアシレートフィルムＴ５に変えた以外は、フィルム７ａの作製と同様の方法でフィルム１３ａを作製した。
λ／４フィルム１３ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。λ／４フィルム１３ａのＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−３１ｎｍであった。
【０１５７】
＜セルロースアシレートフィルムＴ５の作製＞
セルロースアシレートフィルムＴ４の作製において、ＵＶ吸収剤Ａの添加量を１．２％にし、さらに下記のＲｔｈ低減剤Ｂを１１％入れた以外はセルロースアシレートフィルムＴ４の製造方法と同様にしてセルロースアシレートフィルムＴ５を作製した。面内レターデーションＲｅ（５５０）は１ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−１ｎｍであった。
【０１５８】
【化１２】
【０１５９】
（λ／４フィルム１４ａの作製）
市販のセルロースアシレートフィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）をアルカリ溶液でケン化後、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜に長手方向に対して、４５°方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。なお、ケン化は、セルロースアシレートフィルムＴ１と同様の処理にて行った。
【０１６０】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６１】
【化１３】
【０１６２】
次に、下記の組成の光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーで塗布した。
────────────────────────────────────
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物 １．８ｇ
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ０．２ｇ
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ０．０６ｇ
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．０２ｇ
メチルエチルケトン ３．９ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６３】
【化１４】
【０１６４】
これを１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。次に、１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射し棒状液晶性化合物を架橋した。ＵＶ硬化時の温度を８０℃として、光学異方性層を得た。光学異方性層の厚さは、１．８１μｍであった。その後、室温まで放冷した。このようにして、λ／４フィルム１４ａを製作した。形成した光学異方性層の状態を調べ、塗布ムラ（塗布液が配向膜にはじかれて生じたムラ）や配向の乱れがないことを確認した。
作製したλ／４フィルム１４ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が９５ｎｍであった。
【０１６５】
（λ／４フィルム１５ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層の支持体としてＴＤ８０ＵＬを以下のように作製したセルロースアシレートフィルムＴ６に変えた以外は、フィルム７ａの作製と同様の方法でフィルム１５ａを作製した。
作製したλ／４フィルム１５ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が０ｎｍであり、光学異方性層の厚さは１．７７μｍであった。λ／４フィルム１５ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１６６】
＜透明支持体（セルロースアセテートフィルムＴ６）の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、固形分濃度２２質量％のセルロースアセテート溶液（ドープ６Ａ）を調製した。
【０１６７】
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
紫外線吸収剤（チヌビン３２８ チバ・ジャパン製） ０．９質量部
紫外線吸収剤（チヌビン３２６ チバ・ジャパン製） ０．２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３３６質量部
メタノール（第２溶媒） ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６８】
上記ドープ６Ａに平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）をセルロースアセテート１００質量部に対して０．０２質量添加したマット剤入りドープ６Ｂを調製した。ドープ６Ａと同じ溶剤組成で固形分濃度が１９質量％になるように調節した。
【０１６９】
ドープ６Ａを主流とし、マット剤入りドープ６Ｂを最下層及び最上層になるようにして、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムをはがし１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルムＴ６を作製した。マット剤入りの最下層及び最上層はそれぞれ３μｍに、主流は７４μｍになるように流量を調節した。
【０１７０】
得られた長尺状のセルロースアセテートフィルムＴ６の幅は２３００ｍｍであり、厚さは８０μｍであった。また、面内レターデーションＲｅ（５５０）は０ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は３９ｎｍであった。
【０１７１】
（λ／４フィルム１６ａの作製）
λ／４フィルムＡの準備において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、フィルム長手方向に対するラビングローラーの回転軸を反時計回りに４５°の方向とした以外はλ／４フィルムＡの準備と同様にしてλ／４フィルム１６ａを作製した。光学異方性層の厚さは２．０６μｍであった。作製したλ／４フィルム１６ａの５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が４５ｎｍであった。遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１７２】
作製したλ／４フィルム１ａ〜１６ａの面内レターデーションＲｅ（５５０）及び厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）をまとめた表を以下に示す。
【０１７３】
【表１】
【０１７４】
（λ／４積層体１ｂの作製）
＜表面フィルムの準備＞
＜＜ハードコート層用塗布液の調製＞＞
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層用塗布液（固形分濃度５８質量％）とした。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ハードコート層用塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
酢酸メチル ３６．２質量部
メチルエチルケトン ３６．２質量部
（ａ）モノマー：下記構造のＰＥＴＡ（新中村化学工業（株）製） ７７．０質量部
（ｂ）下記構造のウレタンモノマー ２０．０質量部
光重合開始剤 ＊１ ３．０質量部
下記構造のレベリング剤（ＳＰ-１３） ０.０２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
＊１：イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【０１７５】
＜＜低屈折率層用塗布液の調製＞＞
各成分を下記のように混合し、ＭＥＫ／ＭＭＰＧ−Ａｃの８５／１５混合物(質量比)に溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液を調製した（ＭＥＫは、メチルエチルケトンを意味し、ＭＭＰＧ−Ａｃは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを意味する。）。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
低屈折率層塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のパーフルオロオレフィン共重合体 １５質量部
ＤＰＨＡ ＊１ ７質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３ ＊２ ５質量部
下記の含フッ素重合性化合物 ２０質量部
中空シリカ粒子固形分 ＊３ ５０質量部
イルガキュア１２７ ＊４ ３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
＊１：ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製
＊２：ディフェンサＭＣＦ−３２３：フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製
＊３：中空シリカ：中空シリカ粒子分散液（平均粒子サイズ４５ｎｍ、屈折率１．２５、表面をアクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理、ＭＥＫ分散液濃度２０％）
＊４：イルガキュア１２７：光重合開始剤、チバ・ジャパン（株）製
【化１８】
【０１７６】
＜＜ハードコート層及び低屈折率層の形成＞＞
ガラス板上に、調製したハードコート層用塗布液をダイコーターを用いて塗布した（固形分塗布量：１２ｇ/ｍ2）。１００℃で６０秒乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層（反射防止層）付きガラス板を作製した。このハードコート層の上に、上記低屈折率層用塗布液を塗布した。低屈折率層の乾燥条件は７０℃、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。低屈折率層の屈折率は１．３４、膜厚は９５ｎｍであった。以上のように、ハードコート層、低屈折率層がこの順で積層されたガラス板を作製した。
【０１７７】
ガラス板上にハードコート層、低屈折率層を形成した後、ハードコート層及び低屈折率層をガラスから剥離した。この層を粘着剤を用いて、λ／４フィルム１ａに貼合し、λ／４積層体１ｂを作製した。λ／４積層体１ｂのＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１５５ｎｍであった。
【０１７８】
（λ／４積層体２ｂの作製）
λ／４積層体１ｂの作製において、λ／４フィルム１ａをλ／４フィルム２ａに代えた以外はλ／４積層体１ｂの作製と同様にしてλ／４積層体２ｂを作製した。λ／４積層体２ｂのＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであった。
【０１７９】
（λ／４積層体２ｂ２の作製）
市販のセルロースアシレート系フィルムを支持体とする低反射フィルムのクリアＬＲ「ＣＶ−ＬＣ」（富士フイルム社製）を準備した。続いて、λ／４フィルム２ａに易接着層を介してＣＶ-ＬＣの支持体面を貼合し、λ／４積層体２ｂ２を作製した。λ／４積層体２ｂ２のＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１２５ｎｍであった。
【０１８０】
（λ／４積層体３ｂの作製）
λ／４積層体１ｂの作製において、λ／４フィルム１ａをλ／４フィルム３ａに代えた以外はλ／４積層体１ｂの作製と同様にしてλ／４積層体３ｂを作製した。λ／４積層体３ｂのＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は７２ｎｍであった。
【０１８１】
（λ／４積層体４ｂの作製）
λ／４積層体２ｂ２の作製において、λ／４フィルム２ａをλ／４フィルム４ａに代えた以外はλ／４積層体２ｂ２の作製と同様にしてλ／４積層体４ｂを作製した。λ／４積層体４ｂのＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１５５ｎｍであった。
【０１８２】
（λ／４積層体５ｂの作製）
λ／４積層体４ｂの作製において、λ／４フィルム４ａをλ／４フィルム５ａに代えた以外はλ／４積層体４ｂの作製と同様にしてλ／４積層体５ｂを作製した。λ／４積層体５ｂのＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１４８ｎｍであった。
【０１８３】
（λ／４積層体６ｂの作製）
λ／４積層体１ｂの作製において、λ／４フィルム１ａをλ／４フィルム６ａに代えた以外はλ／４積層体１ｂの作製と同様にしてλ／４積層体６ｂを作製した。なお、ハードコート層などの表面フィルムは、λ／４フィルム６ａの光学異方性層側にハードコート層を形成した。λ／４積層体６ｂのＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６０ｎｍであった。
【０１８４】
（λ／４積層体６ｂ２の作製）
λ／４積層体２ｂ２の作製において、λ／４フィルム２ａをλ／４フィルム６ａに代えた以外はλ／４積層体２ｂ２の作製と同様にしてλ／４積層体６ｂ２を作製した。なお、λ／４フィルム６ａの光学異方性層側に易接着層を介してＣＶ-ＬＣの支持体面を貼合した。λ／４積層体６ｂ２のＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであった。
【０１８５】
（λ／４積層体７ｂの作製）
λ／４積層体１ｂの作製において、λ／４フィルム１ａをλ／４フィルム７ａに代えた以外はλ／４積層体１ｂの作製と同様にしてλ／４積層体７ｂを作製した。なお、λ／４フィルム７ａの支持体側に表面フィルムを形成した。λ／４積層体７ｂのＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８ｎｍであった。
【０１８６】
（λ／４積層体９ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム９ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体９ｂを作製した。λ／４積層体９ｂのＲｅ（５５０）は１１５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１２ｎｍであった。
【０１８７】
（λ／４積層体１０ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１０ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１０ｂを作製した。λ／４積層体１０ｂのＲｅ（５５０）は１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６ｎｍであった。
【０１８８】
（λ／４積層体１１ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１１ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１１ｂを作製した。λ／４積層体１１ｂのＲｅ（５５０）は１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−６ｎｍであった。
【０１８９】
（λ／４積層体１２ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１２ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１２ｂを作製した。λ／４積層体１２ｂのＲｅ（５５０）は１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−５９ｎｍであった。
【０１９０】
（λ／４積層体１３ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１３ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１３ｂを作製した。λ／４積層体１３ｂのＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−３１ｎｍであった。
【０１９１】
（λ／４積層体１４ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１４ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１４ｂを作製した。λ／４積層体１４ｂのＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は９５ｎｍであった。
【０１９２】
（λ／４積層体１５ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１５ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１５ｂを作製した。λ／４積層体１５ｂのＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は０ｎｍであった。
【０１９３】
（λ／４積層体１６ｂの作製）
λ／４積層体２ｂ２の作製において、λ／４フィルム２ａをλ／４フィルム１６ａに代えた以外はλ／４積層体２ｂ２の作製と同様にしてλ／４積層体１６ｂを作製した。なお、λ／４フィルム１６ａの光学異方性層側に易接着層を介してＣＶ-ＬＣ（富士フイルム社製）の支持体面を貼合した。λ／４積層体１６ｂのＲｅ（５５０）は１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであった。
【０１９４】
作製したλ／４積層体１ｂ〜１６ｂの面内レターデーションＲｅ（５５０）及び厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）をまとめた表を以下に示す。
【０１９５】
【表２】
【０１９６】
（２） 画像表示装置１の作製（実施例１）
（偏光板の作製）
＜画像表示装置用偏光板の作製＞
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
アルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 Ｒｅ（５５０）＝５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１２５ｎｍ）を用意し、片面を前記ＶＡ用位相差フィルムで、もう片面を作製した前記λ／４積層体５ｂのλ／４フィルム５ａを偏光膜側にして粘着剤及び接着剤を用いて貼合し、画像表示装置用偏光板１を作製した。
【０１９７】
＜液晶シャッターメガネ用偏光板の作製＞
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）を用意し、片面を前記ＴＤ８０ＵＬで、もう片面を作製したλ／４フィルム３ａで偏光膜を挟んで、粘着剤及び接着剤を用いて貼合し、液晶シャッターメガネ用偏光板１を作製した。
【０１９８】
（画像表示装置の作製）
ＳＨＡＲＰ製の３Ｄ液晶テレビ「ＬＣ−４６ＬＶ３」を用意し、フロント偏光板をはがし、作製した画像表示装置用偏光板１のＶＡ用位相差フィルムを液晶セル側にして粘着剤及び接着剤を用いて貼合した。
【０１９９】
（液晶シャッターメガネの作製）
続いて、ＳＨＡＲＰ製の液晶シャッターメガネ「ＡＮ−３ＤＧ１０」を用意した。この「ＡＮ−３ＤＧ１０」は、λ／４フィルムを有さない偏光板２枚方式の液晶シャッターメガネである。「ＡＮ−３ＤＧ１０」の目と反対側（画像表示装置と対峙する側）の偏光板をはがし、そこに上記作製した液晶シャッターメガネ用偏光板１のＴＤ８０ＵＬ側を易接着層を介して「ＡＮ−３ＤＧ１０」を貼合し、図２に示すような構成の液晶シャッターメガネＷを作製した。このとき、液晶シャッターメガネ用偏光板の吸収軸は、「ＡＮ−３ＤＧ１０」の目側の偏光板（剥がさずに残した偏光板）の吸収軸と直交するように貼合した。液晶シャッターメガネＷを装着して顔を傾斜しない状態で画像表示装置と対峙したときに、液晶シャッターメガネ用偏光板のλ／４フィルム３ａの遅相軸が、画像表示装置の画像表示装置用偏光板のλ／４フィルム５ａの遅相軸と直交するように貼合した。
【０２００】
（３） 時分割方式３Ｄ画像表示装置の作製（実施例２〜１９、比較例１〜３）
下記表に示すように、λ／４フィルム及びλ／４積層体を代えた以外は実施例１と同様にして時分割方式３Ｄ画像表示装置２〜２５を作製した。
【０２０１】
（４）評価
（画面輝度ムラ）
暗室において、画像表示装置に両目に白を表示する３Ｄコンテンツを表示した。液晶シャッターメガネを装着して画像表示装置の正面に立ち、液晶シャッターメガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保ったまま、顔を動かしたときの画面を観察し、以下の基準で画面輝度ムラを評価した。結果を下記表に示す。
［評価基準］
◎：画面輝度ムラが視認されない。
○：画面隅のいずれかにわずかな輝度ムラが視認されるが、許容できる程度。
×：画面隅に輝度ムラがはっきり視認され、許容できない。
【０２０２】
（輝度低下率）
上記した画面輝度ムラの評価基準を定量化するため、液晶シャッターメガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保持した状態で、極角は０度〜６０度まで１０度ステップで、方位角は０度〜３５０度まで１０度ステップの方向で画像表示装置から液晶シャッターメガネを透過した光の輝度をＢＭ５Ａ（ＴＯＰＣＯＮ社製）にて測定した。続いて、極角０度の輝度で規格化した極角１０度〜６０度まで１０度ステップ、方位角０度〜３５０度まで１０度ステップ方向の輝度の平均値を求め（参考例１に示した基準形態に対する）、各形態の輝度低下率を下記式で算出した。なお、基準形態（参考例１）は、理想的なλ／４フィルムを画像表示装置と液晶シャッターメガネの両方に使用した形態である。
各形態の輝度低下率（％）＝１００−（各形態の輝度平均値／基準形態（参考例１）の輝度平均値）×１００
上式で算出した輝度低下率をもとに、画面輝度ムラの評価基準を定量化した。
［評価基準］
◎：輝度低下率が１％未満
○：輝度低下率が１％以上３％未満
×：輝度低下率が３％以上
【０２０３】
（３Ｄ表示性能）
λ／４フィルムがない画像表示装置および液晶シャッターメガネからなる時分割方式３Ｄ画像表示装置２４を用意した。続いて、暗室において、時分割方式３Ｄ画像表示装置１〜２４に、左目に白を、右目に黒を表示する３Ｄコンテンツを表示した。液晶シャッターメガネを装着して画像表示装置の正面に立ち、液晶シャッターメガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保ったまま画面を観察し、以下の基準で３Ｄ表示性能を評価した。結果を下記表に示す。
［評価基準］
◎：右目の黒表示が画像表示装置２４と同等（λ／４フィルム起因のクロストークが視認されない。）。
○：右目の黒表示が画像表示装置２４に比べてわずかに明るいが許容できる程度（λ／４フィルム起因のクロストークがわずかに視認される。）。
×：右目の黒表示が画像表示装置２４に比べて明るいことがはっきり視認され、許容できない（λ／４フィルム起因のクロストークが許容できない。）。
【０２０４】
【表３】
【０２０５】
【表４】
【０２０６】
表から、保護部材Ａ１として用いたλ／４積層体のＲｔｈ（５５０）Aと、液晶シャッターメガネのλ／４層Ｂとして用いたλ／４フィルムのＲｔｈ（５５０）Bとが、式（Ｉ）の関係を満たすと、画面隅の輝度ムラ、輝度低下率が向上していることがわかる。
【０２０７】
上記実施例及び比較例は液晶シャッターメガネＷを使用したが、下記のように作製した液晶シャッターメガネＳを作製し、同様の試験をしたところ、同様の結果を得た。
【０２０８】
（液晶シャッターメガネＳの作製）
「ＡＮ−３ＤＧ１０」を別途用意し、「ＡＮ−３ＤＧ１０」の目と反対側（画像表示装置と対峙する側）の偏光板をはがし、そこに作製したλ／４フィルム３ａを易接着層を介して貼合し、図３（ａ）に示すような構成の液晶シャッターメガネＳを作製した。このとき、液晶シャッターメガネＳを装着して顔を傾斜しない状態で画像表示装置と対峙したときに、液晶シャッターメガネＳのλ／４フィルム３ａの遅相軸が、画像表示装置の中に配置したλ／４フィルム５ａの遅相軸と直交するように貼合した。
【０２０９】
また、図７のように作製した３Ｄ表示システムを作製し、上記実施例及び比較例と同様の試験をしたところ、同様の結果を得た。
【０２１０】
２．空間分割方式３Ｄ表示システム
（１）空間分割方式用光学フィルムＡ、並びにそれを有する偏光板及び画像表示装置の作製
＜透明支持体（セルロースアセテートフィルムＴ７）の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
────────────────────────────────────
セルロースアシレート溶液Ａの組成
────────────────────────────────────
置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール １１質量部
────────────────────────────────────
【０２１１】
別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ａを調製した。
────────────────────────────────────
添加剤溶液Ａの組成
────────────────────────────────────
下記化合物Ｂ１（Ｒｅ低下剤） ４０質量部
下記化合物Ｂ２（波長分散制御剤） ４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ８０質量部
メタノール（第２溶媒） ２０質量部
────────────────────────────────────
【０２１２】
【化１９】
【０２１３】
＜＜セルロースアセテート透明支持体Ｔ７の作製＞＞
セルロースアシレート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂの４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３乃至５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み６０μｍのセルロースアセテート保護フィルム（透明支持体Ｔ７）を作製した。透明支持体Ｔ７は紫外線吸収剤を含有しておらず、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１２ｎｍであった。
【０２１４】
＜＜アルカリ鹸化処理＞＞
セルロースアセテート透明支持体Ｔ７を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体Ｔ７を作製した。
【０２１５】
────────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
────────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
────────────────────────────────────
【０２１６】
＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
上記作製した支持体の、鹸化処理を施した面に、下記の組成のラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。次に、透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスクをラビング配向膜上に配置し、室温空気下にて、ＵＶ−Ｃ領域における照度２．５ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を４秒間照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより第１位相差領域用配向層を形成した。その後に、ストライプマスクのストライプに対して４５°の角度を保持して５００ｒｐｍで一方向に１往復、ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであった。
────────────────────────────────────
配向膜形成用塗布液の組成
────────────────────────────────────
配向膜用ポリマー材料 ３．９質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
光酸発生剤（Ｓ−２） ０．１質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
────────────────────────────────────
【０２１７】
【化２０】
【０２１８】
＜パターン化された光学異方性層Ａの作製＞
下記の光学異方性層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布量４ｍｌ／ｍ2で塗布した。次いで、膜面温度１１０℃で２分間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層Ａを形成した。マスク露光部分（第１位相差領域）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行にディスコティック液晶が垂直配向しており、未露光部分（第２位相差領域）は直交に垂直配向していた。なお、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。
【０２１９】
────────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液の組成
────────────────────────────────────
ディスコティック液晶Ｅ−１ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） ３．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．４質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
────────────────────────────────────
【０２２０】
【化２１】
【０２２１】
形成されたパターン光学異方性層Ａの第１位相差領域及び第２位相差領域をそれぞれＴＯＦ-ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ Ｖ）により分析したところ、第１位相差領域と第２位相差領域では、対応する配向層中における光酸発生剤Ｓ−２の存在比が８対９２であり、第１位相差領域ではＳ−２がほとんど分解していることがわかった。また、光学異方性層においては、第１位相差領域の空気界面に、II−１のカチオン及び光酸発生剤Ｓ−２から発生した酸ＨＢＦ4のアニオンＢＦ4-が存在していることが確認された。第２位相差領域の空気界面には、これらのイオンはほとんど観測されず、II−１のカチオン及びＢｒ-が配向膜界面近傍に存在していることがわかった。空気界面におけるそれぞれのイオンの存在比は、II−１のカチオンは９３対７、ＢＦ4-は９０対１０であった。このことから、第２位相差領域中、配向膜界面配向剤(II−１)は配向膜界面に偏在しているが、第１位相差領域では偏在性が減少し、空気界面にも拡散していること、及び第１位相差領域においては、発生した酸ＨＢＦ4とII−１がアニオン交換することによってII−１カチオンの拡散が促進されていることが理解できる。
【０２２２】
パターン化された光学異方性層Ａを、第１位相差領域又は第２位相差領域のいずれか一方の遅相軸が、直交位に組合された２枚の偏光板のいずれか一方の偏光軸と平行になるように、偏光板の間に入れ、さらに、位相差５３０ｎｍの鋭敏色板を、その遅相軸が偏光板の偏光軸と４５°の角度をなすように、光学異方性層の上においた。次に、光学異方性層を＋４５°回転させた状態を偏光顕微鏡（ＮＩＫＯＮ製 ＥＣＬＩＰＥ Ｅ６００Ｗ ＰＯＬ）で観察した。観察結果から明らかなように、＋４５°回転させた場合、第１位相差領域の遅相軸と鋭敏色板の遅相軸が平行になっているため、位相差は５３０ｎｍよりも大きくなり、その色は青色（白黒図面では濃淡の濃い部分）に変化している。一方、第２位相差領域の遅相軸は鋭敏色板の遅相軸と直交しているため、位相差は５３０ｎｍよりも小さくなり、その色は白色（白黒図面では濃淡の淡い部分）に変化する。即ち、図１０に上面図を示す通りの第１及び第２位相差領域が形成されたことが確認できた。
【０２２３】
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。
【０２２４】
下記表に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、光酸発生剤を含有したＰＶＡ系ラビング配向膜にマスク露光した後、一方向にラビング処理した該配向膜上で配向させることによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
【０２２５】
＜表面フィルムＡの作製＞
＜＜反射防止膜の作製＞＞
［ハードコート層用塗布液の調製］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
メチルエチルケトン９００質量部に対して、シクロヘキサノン１００質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製）７５０質量部、シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製）２００質量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５０質量部、を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
【０２２６】
［中屈折率層用塗布液Ａの調製］
ＺｒＯ2微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）５．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）１．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、メチルエチルケトン６６．６質量部、メチルイソブチルケトン７．７質量部及びシクロヘキサノン１９．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して中屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【０２２７】
［中屈折率層用塗布液Ｂの調製］
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）４．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．１４質量部、メチルエチルケトン６６．５質量部、メチルイソブチルケトン９．５質量部及びシクロヘキサノン１９．０質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して中屈折率層用塗布液Ｂを調製した。
【０２２８】
屈折率１．３６、膜厚９０μｍとなるように、中屈折率用塗布液Ａと中屈折率用塗布液Ｂとを適量混合し、中屈折率塗布液を調製した。
【０２２９】
［高屈折率層用塗布液の調製］
ＺｒＯ2微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、光重合開始剤含有、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）１４．４質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）０．７５質量部、メチルエチルケトン６２．０質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して高屈折率層用塗布液Ｃを調製した。
【０２３０】
［低屈折率層用塗布液の調製］
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０２３１】
【化２２】
【０２３２】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ2）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ2）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２、質量平均分子量は５００００であった。
【０２３３】
［中空シリカ粒子分散液Ａの調製］
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シエル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ａを得た。得られた分散液ＡのＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５質量％以下であった。
【０２３４】
［低屈折率層用塗布液の調製］
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分濃度５質量％の低屈折率層用塗布液Ｌｎ６を作製した。下記各成分の質量％は、塗布液の全固形分に対する、各成分の固形分の比率である。
【０２３５】
────────────────────────────────────────・Ｐ−１：パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量％
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製） ７質量％
・ＭＦ１：国際公開第２００３／０２２９０６号パンフレットの実施例記載の下
記含フッ素不飽和化合物（重量平均分子量１６００） ５質量％
・Ｍ−１：日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ２０質量％
・分散液Ａ：前記中空シリカ粒子分散液Ａ（アクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシランで表面修飾した中空シリカ粒子ゾル、固形分濃度１８．２％） ５０質量％
・Ｉｒｇ１２７：光重合開始剤イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ（株）製） ３質量％
────────────────────────────────────────
【０２３６】
【化２３】
【０２３７】
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を表面フィルム用支持体Ａとして使用し、表面フィルム用支持体Ａ上に、前記組成のハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。なお、ＴＤ８０ＵＬは、紫外線吸収剤を含んでいる。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａを形成した。
更に中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。このようにして、表面フィルムＡを作製した。
【０２３８】
＜空間分割方式用光学フィルムＡの作製＞
上記作製した表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面とパターン化された光学異方性層Ａの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、空間分割方式用光学フィルムＡを作製した。
【０２３９】
＜空間分割方式用偏光板Ａの作製＞
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を偏光板Ａ用保護フィルムＡとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したＴＤ８０ＵＬと、同様のアルカリ鹸化処理したＩＰＳ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝０／−５）を、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、ＴＤ８０ＵＬとＩＰＳ用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ａを作製した。
【０２４０】
＜空間分割方式用光学フィルムＡ付偏光板Ａの作製＞
上記作製した空間分割方式用光学フィルムＡの透明支持体面と空間分割方式用偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＡ付偏光板Ａを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
【０２４１】
＜空間分割方式３Ｄ画像表示装置Ａの作製＞
東芝社製３２zｐ２の視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＡ付偏光板ＡとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せ、図１１（ａ）の構成の空間分割方式３Ｄ表示装置Ａを作製した。なお、偏光膜の透過軸の向きは、図９と同様である。
【０２４２】
（２）空間分割方式用光学フィルムＢ、並びにそれを有する偏光板及び画像表示装置の作製
＜光配向膜付透明支持体Ｂの作製＞
国際公開２０１０／０９０４２９号パンフレットに記載の棒状液晶及び配向膜を使用して立体表示装置Ｂを作製した。
上記作製した透明支持体Ｔ７の鹸化処理を施した面に、下記構造の光配向材料Ｅ−１ １％水溶液を塗布し、１００℃で１分間乾燥した。得られた塗布膜に、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫
外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を図１２（ａ）に示すように、方向１にセットして、さらにマスクＡ（透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスク）を通して、露光を行った。その後、図１２（ｂ）に示すように、ワイヤーグリッド偏光子を方向２にセットして、さらにマスクＢ（透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスク）を通して、露光を行った。露光マスク面と光配向膜の間の距離を２００μｍに設定した。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【０２４３】
【化２４】
【０２４４】
＜パターン化された光学異方性層Ｂの作製＞
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、塗布液として用いた。光配向膜付透明支持体Ｂ上に該塗布液を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、７５℃まで冷却して、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、パターン化された光学異方性層Ｂの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、１．３μｍであった。
【０２４５】
────────────────────────────────────────光学異方性層Ｂ用組成
────────────────────────────────────────棒状液晶（ＬＣ２４２、ＢＡＳＦ（株）製） １００質量部
水平配向剤Ａ ０．３質量部
光重合開始剤 ３．３質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．１質量部
メチルエチルケトン ３００質量部
────────────────────────────────────────
【０２４６】
【化２５】
【０２４７】
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、上記と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。下記表に、光学異方性層の遅相軸と配向膜の露光方向の方向との関係を示す。下記表に示す結果から、棒状液晶を光配向膜上で配向させて露光することによって、水平配向であるとともに、遅相軸が直交した第１の位相差領域と第２の位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
【０２４８】
＜空間分割方式用光学フィルムＢの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｂの透明支持体Ｂの表面に、上記実施例と同様の方法にて反射防止膜を形成し、空間分割方式用光学フィルムＢを作製した。
【０２４９】
＜空間分割方式用光学フィルムＢ付偏光板Ｂの作製＞
上記作製した光学フィルムＢのパターン化された光学異方性層面と上記実施例で作製した偏光板のＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＢ付偏光板Ｂを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｂの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
【０２５０】
＜立体表示装置Ｂの作製＞
東芝社製３２ｚｐ２の視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＢ付偏光板ＢのＩＰＳ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せ、図１１（ｂ）の構成の立体表示装置Ｂを作製した。なお、偏光膜の透過軸の向きは図９と同様であった。
【０２５１】
（３）空間分割方式用光学フィルムＣ、並びにそれを有する偏光板及び画像表示装置の作製
＜パターン化された光学異方性層Ｃの作製＞
パターン化された光学異方性層Ａの作製において、透明支持体ＡをＴＤ８０ＵＬに代えた以外は同様にして、パターン化された光学異方性層Ｃを作製した。
【０２５２】
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体Ｃから剥離した後、上記と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。下記表に、光学異方性層の遅相軸と配向膜の露光方向の方向との関係を示す。下記表に示す結果から、棒状液晶を光配向膜上で配向させて露光することによって、水平配向であるとともに、遅相軸が直交した第１の位相差領域と第２の位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
【０２５３】
＜空間分割方式用光学フィルムＣの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｃの透明支持体の表面に、上記実施例と同様の方法にて反射防止膜を形成し、空間分割方式用光学フィルムＣを作製した。
【０２５４】
＜空間分割方式用光学フィルムＣ付偏光板Ｃの作製＞
上記作製した光学フィルムＣのパターン化された光学異方性層Ｃ面と上記実施例１で作製した偏光板のＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＣ付偏光板Ｃを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｃの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
【０２５５】
＜立体表示装置Ｃの作製＞
東芝社製３２ｚｐ２の視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＣ付偏光板ＣのＩＰＳ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せ、図１１（ｂ）の構成の立体表示装置Ｃを作製した。なお、偏光膜の透過軸の向きは図９と同様であった。
【０２５６】
（４）円偏光メガネ用偏光板の作製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）を用意し、片面を前記ＴＤ８０ＵＬで、もう片面を作製したλ／４フィルム１ａで偏光膜を挟んで、粘着剤及び接着剤を用いて貼合し、円偏光メガネ用偏光板１Ｒを作製した。このとき、偏光板の吸収軸とλ／４フィルムの遅相軸のなす角度は４５度になるように貼合した。
続いて、偏光板の吸収軸とλ／４フィルムの遅相軸のなす角度が−４５度になるように貼合した以外は同様にして、円偏光メガネ用偏光板１Ｌを作製した。
【０２５７】
＜円偏光メガネ１の作製＞
東芝社製３２ｚｐ２に付属のメガネを用意した。偏光板をはがし、上記作製した円偏光メガネ用偏光板１Ｒと円偏光メガネ用偏光板１Ｌを簡易接着剤を介して、右目側と左目側に貼合し、円偏光メガネ１を作製した。
【０２５８】
＜円偏光メガネ２及び３の作製＞
円偏光メガネ１の作製で使用した、λ／４フィルム１ａの代わりにλ／４フィルム６ａ、λ／４フィルム１５ａを使用した以外は同様にして、円偏光メガネ２及び３をそれぞれ作製した。
【０２５９】
４．空間分割方式３Ｄ画像表示装置の評価
（画面輝度ムラ）
暗室において、画像表示装置に両目に白を表示する３Ｄコンテンツを表示した。円偏光メガネを装着して画像表示装置の正面に立ち、円偏光メガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保ったまま、顔を動かしたときの画面を観察し、以下の基準で画面輝度ムラを評価した。結果を下記表に示す。
［評価基準］
◎：画面輝度ムラが視認されない。
○：画面隅のいずれかにわずかな輝度ムラが視認されるが、許容できる程度。
×：画面隅に輝度ムラがはっきり視認され、許容できない。
【０２６０】
（輝度低下率）
上記した画面輝度ムラの評価基準を定量化するため、円偏光メガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保持した状態で、極角は０度〜６０度まで１０度ステップで、方位角は０度〜３５０度まで１０度ステップの方向で画像表示装置から円偏光メガネを透過した光の輝度をＢＭ５Ａ（ＴＯＰＣＯＮ社製）にて測定した。続いて、極角０度の輝度で規格化した極角１０度〜６０度まで１０度ステップ、方位角０度〜３５０度まで１０度ステップ方向の輝度の平均値を求め（参考例２に示した基準形態に対する）、各形態の輝度低下率を下記式で算出した。なお、基準形態（参考例２）は、理想的なλ／４フィルムを画像表示装置と偏光メガネの両方に使用した形態である。
各形態の輝度低下率（％）＝１００−（各形態の輝度平均値／基準形態（参考例２）の輝度平均値）×１００
上式で算出した輝度低下率をもとに、画面輝度ムラの評価基準を定量化した。
［評価基準］
◎：輝度低下率が１％未満
○：輝度低下率が１％以上３％未満
×：輝度低下率が３％以上
【０２６１】
（３Ｄ表示性能）
円偏光メガネからなる空間分割方式３Ｄ画像表示装置１〜３を用意した。続いて、暗室において、空間分割方式３Ｄ画像表示装置１〜３に、左目に白を、右目に黒を表示する３Ｄコンテンツを表示した。円偏光メガネを装着して画像表示装置の正面に立ち、円偏光メガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保ったまま画面を観察し、以下の基準で３Ｄ表示性能を評価した。結果を下記表に示す。
［評価基準］
◎：右目の黒表示が画像表示装置２４と同等（λ／４フィルム起因のクロストークが視認されない。）。
○：右目の黒表示が画像表示装置２４に比べてわずかに明るいが許容できる程度（λ／４フィルム起因のクロストークがわずかに視認される。）。
×：右目の黒表示が画像表示装置２４に比べて明るいことがはっきり視認され、許容できない（λ／４フィルム起因のクロストークが許容できない。）
【０２６２】
【表５】
【０２６３】
【表６】
【符号の説明】
【０２６４】
１ 画像表示装置
１１ 第１の偏光膜
１２ 保護部材
１３ 液晶セル
１４ 偏光板
１５ 光学補償／保護フィルム
２ 時分割画像表示遮断機器（液晶シャッターメガネ）
２ａ 左目シャッター
２ｂ 右目シャッター
２１ λ／４板Ｂ
２２ 偏光膜
２３ 液晶セル
２４ 偏光膜
３ 同期回路
４ バックライト
【技術分野】
【０００１】
本発明は、時分割方式及び空間分割方式の３Ｄ表示システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
立体（３Ｄ）表示方法には従来からさまざまな方式が提案されており、その一つに液晶シャッターメガネ等を使用する時分割方式がある。この方式では、左目用と右目用の画像を時間的に交互に表示しながら、画像の表示に同期してメガネのシャッターを開閉し、それぞれの画像が対応する眼に入るように制御する方式である（例えば特許文献１）。この方式による３Ｄ表示装置として、表示モニタに液晶パネルを利用するものが提案されている（例えば特許文献２）。また、３Ｄ表示の他の方式として、いわゆる空間分割方式と呼ばれる、偏光眼鏡方式（パッシブ眼鏡）がある（例えば特許文献３）。この空間分割方式では、表示パネルからの出射光を異なる２種の偏光状態（例えば、右偏光と左偏光）にし、一方の偏光のみを透過する偏光板を右眼用に、及び他方の偏光のみを透過する偏光板を左眼用にして構成された偏光眼鏡を通じて表示画面を観察させることで、立体感のある画像として認識させるものである。
【０００３】
しかし、いずれの３Ｄ表示方式でも、偏光メガネを到着した観察者が顔を傾けた時に生じる、輝度低下やクロストークの悪化の問題がある。時分割方式については、画像表示装置側表面及びシャッターメガネの表面に、λ／４板をそれぞれ配置し、円偏光画像を利用することでこの問題を解決することが提案されている（例えば特許文献４）。
【０００４】
しかし、λ／４板を利用する時分割方式及び空間分割方式の３Ｄ表示方法では、正面（表示面に対して法線方向）から画面を観察した際、画面の隅が暗くなるという問題があった。この問題は、画面が大型化する場合に、益々顕著になる傾向がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開昭５３−５１９１７号公報
【特許文献２】特開２００３−２５９３９５号公報
【特許文献３】米国特許第５,３２７,２８５号明細書
【特許文献４】特開２００２−８２３０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであって、正面方向から観察した際の輝度ムラが軽減された時分割方式及び空間分割方式３Ｄ表示システムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
正面方向から画面の隅を観察すると、見込み角が生じた状態で画面を観察することになる。本発明者らが鋭意検討した結果、この見込み角に起因する輝度ムラは、時分割方式及び空間分割方式３Ｄ表示システムに利用されているλ／４板のＲｔｈが影響しているとの知見を得た。理想のλ／４板はＲｔｈが０であり、画像表示装置及びシャッター等の偏光メガネ側のいずれにも理想のλ／４板を利用すれば、正面方向から見込み角のある状態で画面を観察しても、輝度ムラの問題は生じない。一方で、理想のλ／４板の作製は困難であり、実用に沿わない。本発明者がさらに鋭意検討した結果、画像表示装置及びシャッター等の偏光メガネ側に配置されるλ／４板のＲｔｈの合計の絶対値が、所定の範囲であると、見込み角が生じた状態で画面を観察しても輝度ムラが生じず、上記問題を解決できるとの知見を得、本発明を完成するに至った。本発明では理想のλ／４板を使用しなくても、上記課題を解決でき、実用に沿うものである。
【０００８】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］ 視認側に配置される第１の偏光膜と、前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、λ／４機能を有する保護部材Ａ１と、を少なくとも有する画像表示装置；及びλ／４板Ｂを少なくとも有し、前記画像表示装置に同期して作動する時分割画像表示遮断機器；を備えた時分割３Ｄ表示システムであって、前記保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする時分割方式３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
［２］ 下記式（ＩＩ）の関係を満たす［１］の時分割３Ｄ表示システム：
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ 。
［３］ 前記保護部材Ａ１及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、セルロースアシレートフィルム及び環状オレフィン系ポリマーフィルムの少なくともいずれかを含む［１］又は［２］の時分割方式３Ｄ表示システム。
［４］ 前記保護部材Ａ１及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を少なくとも含む［１］〜［３］のいずれかの時分割方式３Ｄ表示システム。
［５］ 前記液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記円盤状液晶化合物が垂直に配向している［４］の時分割方式３Ｄ表示システム。
［６］ 前記液晶化合物が、棒状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記棒状液晶化合物が水平に配向している［４］の時分割方式３Ｄ表示システム。
［７］ 前記保護部材Ａ１が、視認側表面に反射防止層を有する［１］〜［６］のいずれかの時分割方式３Ｄ表示システム。
［８］ 前記保護部材Ａ１が、紫外線吸収剤を含有する［１］〜［７］のいずれかの時分割方式３Ｄ表示システム。
［９］ 前記画像表示装置が、液晶パネルである［１］〜［８］のいずれかの時分割方式３Ｄ表示システム。
［１０］ 前記時分割画像表示遮断機器が、液晶セル及び第２の偏光膜をさらに有し、前記画像表示装置に対向する側から、前記λ／４板Ｂ、前記液晶セル、及び前記第２の偏光膜の順に、又は前記第２の偏光膜、前記液晶セル、及び前記λ／４板Ｂの順に配置されている［９］の時分割３Ｄ表示システム。
［１１］ 前記時分割画像表示遮断機器が、第３の偏光膜をさらに有し、前記画像表示装置に対向する側から、前記λ／４板Ｂ、前記第３の偏光膜、前記液晶セル、及び前記第２偏光膜の順に、又は前記第２の偏光膜、前記液晶セル、前記第３の偏光膜、及び前記λ／４板Ｂの順に配置されている［９］又は［１０］の時分割３Ｄ表示システム。
［１２］ 視認側に配置される第１の偏光膜と、前記第１の偏光膜の視認側に配置される液晶セルと、前記液晶セルの視認側表面に配置されるλ／４機能を有する保護部材Ａ１と、を少なくとも有する画像表示装置；及びλ／４板Ｂを少なくとも有するメガネ；を備えた時分割３Ｄ表示システムであって、前記液晶セルは、画像表示装置に同期して作動し、前記保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする時分割方式３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
【０００９】
［１３］ 視認側に配置される第１の偏光膜と、
前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、それぞれλ／４機能を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する保護部材Ａ２と、
を少なくとも有する画像表示装置；及び
λ／４板Ｂを少なくとも有する偏光変換素子；
を備えた３Ｄ表示システムであって、
前記保護部材Ａ２の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
［１４］ 下記式（ＩＩ）の関係を満たす［１３］の３Ｄ表示システム：
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ 。
［１５］ 前記保護部材Ａ２及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、セルロースアシレートフィルム及び環状オレフィン系ポリマーフィルムの少なくともいずれかを含む［１３］又は［１４］の３Ｄ表示システム。
［１６］ 前記保護部材Ａ２及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を少なくとも含む［１３］〜［１５］のいずれかの３Ｄ表示システム。
［１７］ 前記液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記円盤状液晶化合物が垂直に配向している［１６］の３Ｄ表示システム。
［１８］ 前記液晶化合物が、棒状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記棒状液晶化合物が水平に配向している［１６］の３Ｄ表示システム。
［１９］ 前記保護部材Ａ２が、視認側表面に反射防止層を有する［１３］〜［１８］のいずれかの３Ｄ表示システム。
［２０］ 前記保護部材Ａ２が、紫外線吸収剤を含有する［１３］〜［１９］のいずれかの３Ｄ表示システム。
［２１］ 前記画像表示装置が、液晶パネルである［１３］〜［２０］のいずれかの３Ｄ表示システム。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、正面方向から観察した際の輝度ムラが軽減された時分割方式及び空間分割方式の３Ｄ表示システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例を示した模式図である。
【図２】本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例の断面模式図である。
【図３】本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例の断面模式図である。
【図４】保護部材Ａ１又はＡ２及びλ／４板Ｂ層の一例の断面模式図である。
【図５】第１の偏光板の一例の断面模式図である。
【図６】第１の偏光板の一例の断面模式図である。
【図７】本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例の断面模式図である。
【図８】本発明の空間分割方式３Ｄ表示システムの一例の断面模式図である。
【図９】偏光膜の吸収軸とパターン光学異方性層の面内遅相軸との関係の一例を示した概略図である。
【図１０】実施例で作製したパターン光学異方性層の上面模式図である。
【図１１】実施例で作製した空間分割方式３Ｄ画像表示装置の断面模式図である。
【図１２】実施例で使用した露光マスクの上面模式図である
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明について、実施の形態を挙げて詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
まず、本明細書で用いられる用語について説明する。
【００１３】
Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルタをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、及び式（Ｂ）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１４】
【数１】
なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（Ｂ）
【００１５】
測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００１６】
本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがより好ましい。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。
なお、屈折率の測定波長は、特に断らない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値であり、Ｒｅ及びＲｔｈの測定波長については、特に断らない限り、５５０ｎｍとする。
【００１７】
また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。なお、「λ／４板」は、「λ／４フィルム」及び「λ／４層」と同義である。
【００１８】
まず、本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの実施態様について、図面を用いて説明する。
図１は、本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一態様の概略模式図である。図１に示す時分割方式３Ｄ表示システムは、画像表示装置１と、シャッター機能を有するメガネ２（時分割画像表示遮断機器）とを備え、画像表示装置１の画像を、メガネ２を装着した観察者が観察する。図１中には示さないが、画像表示装置１の表示面側には、偏光膜とλ／４機能を有する保護部材が配置されていて、画像表示装置１からは、円偏光画像が観察者側に表示され、且つメガネ２もλ／４層を含み、円偏光画像の透過率をＯＮ−ＯＦＦするシャッター機能を有する。
【００１９】
画像表示装置１には、例えば、所定の周波数（例えば、６０Ｈｚ以上の周波数）で左目用画像及び右目用画像が交互に表示される。一例では、立体視用の画像信号は、画像処理部において、左目用画像信号と右目用画像信号とに処理された後、表示用モニタ駆動回路に送られ、画像表示装置１の各々の画素部に、左目用画像信号と右目用画像信号とがフィールド毎に交互に割り当てられて、所定の時間毎に、左目用画像と右目用画像とが画像表示装置１の同一画面上に交互に表示され、視認側表面に配置されている偏光膜とλ／４機能を有する保護部材によって、左目用円偏光画像と右目用円偏光画像に変換される。
【００２０】
画像表示装置１の左目用及び右目用画像表示の切り替えに同期回路３により同期させて、メガネ２に、駆動電圧等が印加され、具体的には、左目用画像が表示されているときは、左目シャッター２ａの円偏光に対する透過率が最大になり、左目に画像が入力され、且つ右目シャッター２ｂの円偏光に対する透過率は最小になり、右目には画像は入力されず、一方、右目用画像が表示されているときは、右目シャッター２ｂの円偏光透過率が最大になり、右目に画像が入力され、且つ左目シャッター２ａの円偏光透過率は最小になり左目には画像は入力されなくなっている。観察者は、左目用画像を左目だけで、右目用画像を右目だけで選択的に見ることで、表示画像を立体画像として認識する。なお、メガネ２の透過率のＯＮ／ＯＦＦの機構については特に制限はない。液晶セルによるシャッター機能を利用したメガネが好ましい。
【００２１】
上記した通り、画像表示装置１の表示面側には、偏光膜とλ／４機能を有する保護部材Ａ１が配置されていて、円偏光画像が観察者に対して表示され、またメガネ２もλ／４板Ｂを含み、円偏光画像の透過率をＯＮ−ＯＦＦするシャッター機能を有する。従来、λ／４板を利用した時分割３Ｄ表示システムでは、正面方向から画像を観察した際に、画面の隅が暗くなるという問題があった。この問題は、画面の隅を正面から観察する場合には、見込み角が生じていることに起因するものである。本発明では、画像表示装置１に配置されているλ／４機能を有する保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、メガネ２に含まれるλ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）（より好ましくは下記式（ＩＩ））の関係を満たしているので、見込み角がある状態で正面方向から観察しても、輝度の低下がなく、正面方向から観察した際に、輝度ムラのない、良好な３Ｄ表示が可能になる。
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ
【００２２】
保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Aと、メガネ２に含まれるλ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Bは、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１５ｎｍ〜１６０ｎｍであるのが好ましい。一方で、Ｒｅ（５５０）AとＲｅ（５５０）Bの差はより小さいほうが、表示特性の観点で好ましい。具体的には、下記式（ＩＩＩ）の関係を満たすことが好ましく、下記式（ＩＶ）の関係を満たすことがより好ましい。
（ＩＩＩ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦３０ｎｍ
（ＩＶ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦１６ｎｍ
【００２３】
画像表示装置１の構成については特に制限はない。例えば、液晶層を含む液晶パネルであっても、有機ＥＬ層を含む有機ＥＬ表示パネルであってもよい。いずれの態様でも、種々の可能な構成を採用することができる。また、メガネ２のシャッター機能についても特に制限はなく、種々の構成を採用できる。好ましくは液晶セルのシャッター機能を利用したメガネである。
図２に、画像表示装置１として液晶パネルを、メガネ２として、液晶シャッターメガネをそれぞれ利用した構成例を、断面模式図として示す。なお、図中、各層の厚みの相対的関係は、実際の画像表示装置等の各層の厚みの相対的関係と必ずしも一致しているものではない。
【００２４】
画像表示装置１は、液晶セル１３を有する液晶パネルであり、その視認側に第１の偏光膜１２、さらにその視認側表面に保護部材１１を有する。液晶シャッターメガネ２は、液晶セル２３、及びその視認側にλ／４フィルム２１を有する液晶シャッターメガネである。保護部材１１はλ／４機能を有し、そのＲｔｈ（５５０）とλ／４フィルム２１のＲｔｈ（５５０）とは、上記式（Ｉ）を満足する。
【００２５】
画像表示装置１の液晶セル１３の後方には、バックライト４が配置され、バックライト４と液晶セル１３との間には偏光板１４が配置され、透過モードとして構成されている。偏光板１４の吸収軸は、第１の偏光膜１２の吸収軸と直交になっている。また、第１の偏光膜１２と液晶セル１３との間には、視野角補償のための、及び／又は偏光膜１２の保護のためのフィルム１５が配置されている。偏光板１４も、偏光膜とともに、偏光膜の液晶セル側表面及びバックライト側表面に、保護フィルムを有していてもよい。
【００２６】
液晶セル１３の構成については特に制限はなく、一般的な構成の液晶セルを採用することができる。液晶セル１３は、例えば、図示しない対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持された液晶層とを含み、必要に応じて、カラーフィルタ層などを含んでいてもよい。液晶セル１３の駆動モードについても特に制限はなく、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードを利用することができる。
【００２７】
表示側に配置される第１の偏光膜１２は、視認側表面に、λ／４機能を有する保護部材１１を有する。保護部材１１の構成については特に制限はなく、単層構造であっても、積層構造であってもよい。λ／４機能を有する部材としては、位相差ポリマーフィルム、位相差ポリマーフィルムの積層体、液晶組成物の配向を固定して形成される光学異方性層、及び該光学異方性層とそれを支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられる。保護部材１１が、ポリマーフィルムを含んでいると、偏光膜１１の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。また、保護部材１１は、視認側表面に反射防止層を有しているのも好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。
【００２８】
メガネ２は、λ／４板２１、偏光膜２２、液晶セル２３、及び偏光膜２４を有し、液晶画像装置部１の画像表示と同期するシャッター機能を備えている。メガネ２の構成としては、図２に示すような偏光板２枚方式であってもよく、図２に示す構成以外に、図３（ａ）、図３（ｂ）に示す偏光板１枚方式の構成であってもよい。
【００２９】
λ／４板２１の構成についても特に制限はない。単層構造であっても、積層構造であってもよい。観察者が装着することを考慮すると、軽量且つ薄層であるのが好ましく、従って、単層構造であるのが好ましい。λ／４板２１に利用可能な部材としては、位相差ポリマーフィルム、位相差フィルムの積層体、液晶組成物の配向を固定して形成される光学異方性層、及び該光学異方性層とそれを支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられる。λ／４板２１が、ポリマーフィルムを含んでいると、偏光膜２２の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。また、λ／４板２１は、表面にハードコート層や反射防止層を有しているのも好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。
【００３０】
画像表示装置１の第１の偏光膜１２の吸収軸と、λ／４機能を有する保護部材１１の遅相軸とは、４５°を中心として±１０°、即ち３５〜５５°であるか、又は１３５°を中心として±１０°、即ち１２５〜１４５°であるのが好ましい。また、第１の偏光膜１２の吸収軸及び偏光膜２２の吸収軸は、直交又は平行に配置するのが好ましく、且つ保護部材１１及びλ／４板２１の遅相軸は直交又は平行であるのが好ましい。
なお、保護部材１１及びλ／４板２１が複数の位相差層及び／又は位相差フィルムを含む態様では、遅相軸は、保護部材１１及びλ／４板２１全体で測定したときの遅相軸として特定される。
【００３１】
本発明の時分割方式３Ｄ表示システムは、図２に示す部材以外に、さらに、立体視用の画像信号を左目用画像信号と右目用画像信号とに処理する画像処理部、当該画像信号をディスプレイに送る表示用モニタ駆動回路、当該画像信号に応じて、液晶シャッターメガネに信号を送り、左右液晶シャッターの透過率をＯＮ／ＯＦＦさせる、同期回路を備えているのが好ましい。
【００３２】
図２の構成は、観察者が、液晶セル２３を利用したシャッター機能を有するメガネ２を介して画像を観察することで３Ｄ表示する構成であるが、液晶セル２３を、図７に示すように画像表示装置１に配置させても、同様の効果が得られる。この場合、液晶セル２３は画像表示装置１の出射光を右円偏光と左円偏光に時分割で変換するアクティブリターダー用のセルとして機能する。一方、偏光メガネ２０側にはシャッター機能は不要となる。画像表示装置が時分割で表示する左右目用円偏光画像が、それぞれ左目のみ又は右目のみに入射するのを可能にするために、互いに逆向きの円偏光板を左右目用に有する偏光メガネ２０が用いられる。
【００３３】
本発明は、空間分割方式の３Ｄ表示システムにも関する。
図８は、本発明の空間分割方式３Ｄ表示システムの一態様の概略模式図である。図８中、図１〜図７中の部材と同一の部材については同一の符号を付し、詳細な説明を省略する場合がある。
図８に示す空間分割方式３Ｄ表示システムは、画像表示装置１０と、偏光メガネ２０（偏光変換素子）とを備え、画像表示装置１０の画像を、偏光メガネ２０を装着した観察者が観察する。画像表示装置１０の表示面側には、偏光膜と、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、それぞれλ／４機能を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する保護部材３１（保護部材Ａ２）が配置されている。例えば、互いに直交する方向に面内遅相軸を有する第１及び第２領域をそれぞれ通過した直線偏光画像は、それぞれ逆向きの円偏光画像に変換されて、観察者に対して表示される。偏光メガネ２０も、直線偏光膜とλ／４層（λ／４板Ｂ）を含み、互いに逆向きの円偏光画像の一方を左目のみに、及び他方を右目のみに入射する機能を有する。従来、λ／４板を利用した空間分割３Ｄ表示システムでは、偏光メガネを装着した観察者が、正面方向から画像を観察した際に、画面の隅が暗くなるという問題があった。この問題は、画面の隅を正面から観察する場合には、見込み角が生じていることに起因するものである。本発明では、画像表示装置１０に配置されているλ／４機能を有する保護部材３１（保護部材Ａ２）の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、偏光メガネ２０に含まれるλ／４層２１（λ／４板Ｂ）の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）（より好ましくは下記式（ＩＩ））の関係を満たしているので、見込み角がある状態で正面方向から観察しても、輝度の低下がなく、正面方向から観察した際に、輝度ムラのない、良好な３Ｄ表示が可能になる。
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ
【００３４】
保護部材３１（保護部材Ａ２）の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Aと、メガネ２０に含まれるλ／４層２１（λ／４板Ｂ）の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Bは、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１５ｎｍ〜１６０ｎｍであるのが好ましい。一方で、Ｒｅ（５５０）AとＲｅ（５５０）Bの差はより小さいほうが、表示特性の観点で好ましい。具体的には、下記式（ＩＩＩ）の関係を満たすことが好ましく、下記式（ＩＶ）の関係を満たすことがより好ましい。
（ＩＩＩ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦３０ｎｍ
（ＩＶ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦１６ｎｍ
【００３５】
表示側に配置される第１の偏光膜１２は、視認側表面に、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、それぞれλ／４機能を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する保護部材３１（保護部材Ａ２）を有する。保護部材３１の構成については特に制限はなく、単層構造であっても、積層構造であってもよい。一例は、液晶組成物の配向を固定して形成されるパターン光学異方性層と、該パターン光学異方性層を支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられる。保護部材３１が、ポリマーフィルムを含んでいると、偏光膜１１の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。また、保護部材３１は、視認側表面に反射防止層を有しているのも好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。
【００３６】
偏光メガネ２０は、λ／４層２１（λ／４板Ｂ）、及び偏光膜２４を有する。シャッター機能は不要である。左右目用のレンズが、互いに逆向きの円偏光板となる構成が好ましい。
【００３７】
λ／４層２１の構成についても特に制限はない。単層構造であっても、積層構造であってもよい。観察者が装着することを考慮すると、軽量且つ薄層であるのが好ましく、従って、単層構造であるのが好ましい。λ／４層２１に利用可能な部材としては、位相差ポリマーフィルム、位相差フィルムの積層体、液晶組成物の配向を固定して形成される光学異方性層、及び該光学異方性層とそれを支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられる。λ／４層２１が、ポリマーフィルムを含んでいると、偏光膜２２の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。また、λ／４層２１は、表面にハードコート層や反射防止層を有しているのも好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。
【００３８】
画像表示装置１０の第１の偏光膜１２の吸収軸と、保護部材３１の、第１及び第２位相差領域の面内遅相軸とは、４５°で交差させて配置する。４５°を中心として±１０°、即ち３５〜５５°であるのが好ましい。一例を図９に示す。図９に示す例では、第１の偏光膜１２の吸収軸ｐは左右方向にあり、及び保護部材３１の第１及び第２位相差領域３１ａ及び３１ｂそれぞれの互いに直交する面内遅相軸ａ及びｂは、左右方向を０°方向とすると、それぞれ±４５°の方向にあり、即ち、吸収軸ｐと面内遅相軸ａ及びｂのそれぞれとは４５°で交差している。
【００３９】
なお、保護部材３１及びλ／４層２１が複数の位相差層及び／又は位相差フィルムを含む態様では、遅相軸は、保護部材３１及びλ／４層２１全体で測定したときの遅相軸として特定される。
【００４０】
以下、本発明の３Ｄ表示システムに用いられる種々の部材について詳細に説明する。
【００４１】
１．λ／４機能を有する部材
本発明の時分割方式の態様では、画像表示装置の視認側に配置される第１の偏光膜の、視認側表面に配置される保護部材Ａ１として、及び時分割画像表示遮断器が有するλ／４板Ｂとして、λ／４機能を有する部材が用いられる。また、本発明の空間分割方式の態様では、画像表示装置の視認側に配置される第１の偏光膜の、視認側表面に配置される保護部材Ａ２として、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、λ／４機能を有するパターン光学異方性層を有する部材が用いられ、及び偏光変換素子が有するλ／４板Ｂとして、λ／４機能を有する部材が用いられる。
なお、λ／４板Ｂは、図２及び図３（ａ）に示す態様では、液晶セル２３よりも画像表示装置１側にある層すべての総称であり、図３（ｂ）に示す態様では、偏光膜２４と液晶セル２３の間にある層すべての総称である。
【００４２】
本発明では、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとは、下記式（Ｉ）の関係を満たし、下記式（ＩＩ）の関係を満たすことが好ましい。
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ
【００４３】
理想的なλ／４フィルムは、Ｒｅ（５５０）＝１３７．５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝０ｎｍ、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅ＋０．５＝０．５である。しかし、このようなλ／４フィルムは製造困難なことが多い。本発明では、Ｒｔｈ（５５０）A及びＲｔｈ（５５０）Bが上記関係式（Ｉ）を満足する限り、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂに対して、Ｒｔｈ＝０は要求されない。Ｒｔｈの観点で理想的でなくても、上記式（Ｉ）を満足すれば、正面方向から見込み角がある状態で画面を観察しても、輝度ムラのない良好な３Ｄ表示が可能である。但し、Ｒｔｈ（５５０）A及びＲｔｈ（５５０）Bの絶対値が過度に高いと、斜め方向から見た場合の輝度ムラの点で好ましくない場合があり、その観点では、Ｒｔｈ（５５０）Aは、−１６０〜１６０ｎｍが好ましく、−１００〜１００ｎｍがより好ましく、−８０〜８０ｎｍが特に好ましい。Ｒｔｈ（５５０）Bは、−２００〜２００ｎｍが好ましく、−１５０〜１５０ｎｍがより好ましく、−１００〜１００ｎｍが特に好ましい。
【００４４】
保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Aと、メガネ２に含まれるλ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）Bは、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１５ｎｍ〜１６０ｎｍであるのが好ましい。一方で、Ｒｅ（５５０）AとＲｅ（５５０）Bの差はより小さいほうが、表示特性の観点で好ましい。具体的には、下記式（ＩＩＩ）の関係を満たすことが好ましく、下記式（ＩＶ）の関係を満たすことがより好ましい。
（ＩＩＩ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦３０ｎｍ
（ＩＶ）： ｜Ｒｅ（５５０）A−Ｒｅ（５５０）B｜≦１６ｎｍ
【００４５】
なお、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂがそれぞれ積層体である態様では、Ｒｅ（５５０）AとＲｔｈ（５５０）A、及びＲｅ（５５０）BとＲｔｈ（５５０）Bは、それぞれ積層体全体のＲｔｈ（５５０）及びＲｅ（５５０）を意味する。
【００４６】
保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂはそれぞれ、単層構造であっても、積層構造であってもよい。λ／４板Ｂは、メガネとして観察者が装着する時分割画像表示遮断機器に含まれるので、より軽量且つ薄層であるのが好ましい。また、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂが、ポリマーフィルムを含んでいると、隣接して配置される偏光膜の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。また、表面に反射防止層を含んでいるのも好ましい。λ／４機能を有する部材としては、位相差ポリマーフィルム、位相差ポリマーフィルムの積層体、液晶組成物の配向を固定して形成される光学異方性層、及び該光学異方性層とそれを支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられ、いずれも用いることができる。位相差ポリマーフィルムの例には、ポリマーフィルムを延伸してフィルム中の高分子を配向させて発現させた光学異方性を有するフィルムが含まれる。１枚又は２枚以上の二軸性フィルムによって構成することができるし、またＣプレートとＡプレートとの組合せ等、一軸性フィルムを２枚以上組合せることでも構成することができる。勿論、１枚以上の二軸性フィルムと、１枚以上の一軸性フィルムとを組み合わせることによっても構成することもできる。前記光学異方性層は、液晶性化合物の分子の配向によって発現された光学異方性を示す層である。光学異方性層単独でλ／４機能を有していてもよいし、支持体となるポリマーフィルムとともに、全体として、λ／４機能を有していてもよい。
【００４７】
保護部材Ａ２は、互いに異なる方向（一例は互いに直交する方向）に面内遅相軸を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する。パターンの形状等については特に制限はないが、左右画像が不均一とならないようにするためには、、第１及び第２位相差領域は、互いに等しい形状であるのが好ましく、またそれぞれの配置は、均等且つ対称的であるのが好ましい。一例は、同一の幅のストライプ状の第１及び第２位相差領域が交互に配置されたパターン光学異方性層である。
【００４８】
図４及び以下に、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂの構成例を示す。なお、図中及び以下の説明では、「光学異方性支持体」とは、位相差ポリマーフィルムを意味し、「支持体」とは、位相差ポリマーフィルムと低位相差の光学的に等方性に近いポリマーフィルムの双方を含む意味とする。また、光学異方性層については、保護部材Ａ１及びλ／４板Ｂでは、一様な光学異方性層を、及び保護部材Ａ２では互いに異なる方向に面内遅相軸を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を意味するものとする。
後述する図５及び図６においても同様である。
光学異方性支持体（図４（ｉ））
光学異方性支持体／ハードコート層（図４（ｉｉ））
光学異方性支持体／低屈折率層（図４（ｉｉｉ））
光学異方性支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｉｖ））
光学異方性支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｖ））
光学異方性支持体／支持体／ハードコート層（図４（ｖｉ））
光学異方性支持体／支持体／低屈折率層（図４（ｖｉｉ））
光学異方性支持体／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｖｉｉｉ））
光学異方性支持体／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｉｘ））
支持体／光学異方性層（図４（ｘ））
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層（図４（ｘｉ））
支持体／光学異方性層／支持体／低屈折率層（図４（ｘｉｉ））
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｉｉｉ））
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｉｖ））
光学異方性層／支持体（図４（ｘｖ））
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層（図４（ｘｖｉ））
光学異方性層／支持体／支持体／低屈折率層（図４（ｘｖｉｉ））
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｖｉｉｉ））
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｉｘ））
光学異方性層／支持体／ハードコート層（図４（ｘｘ））
光学異方性層／支持体／低屈折率層（図４（ｘｘｉ））
光学異方性層／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｘｉｉ））
光学異方性層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｘｉｉｉ））
支持体／光学異方性層／ハードコート層（図４（ｘｘｉｖ））
支持体／光学異方性層／低屈折率層（図４（ｘｘｖ））
支持体／光学異方性層／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｘｖｉ））
支持体／光学異方性層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｘｖｉｉ））
【００４９】
（１）ポリマーフィルム
前記位相差ポリマーフィルム、又は前記光学異方性層の支持体として用いられるポリマーフィルムの材料については、特に制限はない。種々のポリマーフィルム、例えば、セルロースアシレート（例えば、セルローストリアセテートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ノルボルネン等の環状オレフィン系ポリマー、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーを混合したポリマー等が挙げられる。１種又は２種以上のポリマーを、主成分として用いることができる。市販品を用いても良く、環状オレフィン系ポリマーであるアートン（ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィンであるゼオネックス（日本ゼオン社製））などを用いてもよい。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、環状オレフィン系ポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
【００５０】
前記位相差ポリマーフィルム等の製造方法については特に制限はない。溶液製膜方法及び溶融製膜方法のいずれも利用することができる。所望の特性とするために、製膜後に延伸処理を行ってもよい。また、その上に、液晶組成物からなる光学異方性層を形成する場合は、ポリマーフィルムを表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理、鹸化処理）等してもよい。
【００５１】
前記位相差ポリマーフィルムの厚みについては特に制限はないが、通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものが使用される。
【００５２】
なお、後述する液晶組成物からなる光学異方性層の支持体として用いるポリマーフィルムは、低Ｒｅであってもよく、例えば、０〜５０ｎｍ、０〜３０ｎｍ、又は０〜１０ｎｍであってもよい。また、支持体として用いられるポリマーフィルムのＲｔｈについても、特に制限はなく、例えば、−３００ｎｍ〜３００ｎｍ、−１００ｎｍ〜２００ｎｍ、又は−６０ｎｍ〜６０ｎｍであってもよい。支持体の光学特性は、その上に設けられる光学異方性層との組み合わせによって選択することが好ましい。
【００５３】
支持体のＲｅ、Ｒｔｈについては各種公知のレターデーション調整剤、延伸などにより調整することもできる。
【００５４】
（２）液晶性化合物を含む光学異方性層
前記保護部材Ａ１、保護部材Ａ２又はλ／４板Ｂは、液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を１以上有していてもよい。液晶性化合物の種類については特に制限されない。例えば、低分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層や、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることもできる。なお本発明では、光学異方性層に液晶性化合物が用いられる場合であっても、光学異方性層は、該液晶性化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。重合性液晶性化合物は、多官能性重合性液晶でもよいし、単官能性重合性液晶性化合物でもよい。また、液晶性化合物は、ディスコティック液晶性化合物でもよいし、棒状液晶性化合物でもよい。
【００５５】
前記光学異方性層において、液晶化合物の分子は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向及び傾斜配向のいずれかの配向状態に固定化されていることが好ましい。一例は、ディスコティック液晶性化合物の円盤面がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に垂直に配向している例であり、他の例は、棒状液晶性化合物の長軸がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に水平に配向している例である。ディスコティック液晶性化合物が実質的に垂直とは、フィルム面（光学異方性層面）とディスコティック液晶性化合物の円盤面とのなす角度の平均値が７０°〜９０°の範囲内であることを意味する。８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°が更に好ましい。棒状液晶性化合物が実質的に水平とは、フィルム面（光学異方性層面）と棒状液晶性化合物のダイレクターとのなす角度が０°〜２０°の範囲内であることを意味する。０°〜１０°がより好ましく、０°〜５°が更に好ましい。
液晶化合物の分子をハイブリッド配向させて視野角依存性が非対称である光学補償フィルムを作製する場合、液晶化合物のダイレクターの平均傾斜角は５〜８５°であることが好ましく、１０〜８０°であることがより好ましく、１５〜７５°であることが更に好ましい。
【００５６】
前記光学異方性層は、棒状液晶性化合物又は円盤状（ディスコティック）液晶性化合物等の液晶性化合物と、所望により、後述する重合開始剤や配向制御剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体上に塗布することで形成することができる。支持体上に配向膜を形成し、該配向膜表面に前記塗布液を塗布して形成するのが好ましい。
【００５７】
［棒状液晶性化合物］
光学異方性層の形成に利用可能な棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶性化合物には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。
【００５８】
［ディスコティック液晶性化合物］
前記光学異方性層の形成に利用可能なディスコティック液晶性化合物については、特に制限はない。ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【００５９】
ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式で表される化合物であることが好ましい。
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは１〜１２の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。なお、液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、３０〜３００℃が好ましく、３０〜１７０℃が更に好ましい。
【００６０】
下記式（Ｉ）で表わされるディスコティック液晶性化合物は、面内レターデーションの波長分散性が低く、高い面内レターデーションを発現可能であり、また特殊な配向膜や添加剤を使用しなくても高い平均傾斜角で均一性に優れた垂直配向を達成できるので、光学異方性層の形成に利用するのが好ましい。更に該液晶性化合物を含有する塗布液は、その粘度が比較的低くなる傾向があり、塗布性が良好である点でも好ましい。
【００６１】
（１）−１ 一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶化合物
【化１】
【００６２】
式中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ｈ1、Ｈ2及びＨ3は、それぞれ独立に一般式（Ｉ−Ａ）又は（Ｉ−Ｂ）の基を表し；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ−Ｒ）を表す；
【化２】
【００６３】
一般式（Ｉ−Ａ）中、ＹＡ1及びＹＡ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す；
【００６４】
【化３】
【００６５】
一般式（Ｉ−Ｂ）中、ＹＢ1及びＹＢ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す；
【００６６】
一般式（Ｉ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｑ2）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
一般式（Ｉ−Ｒ）中、＊は、一般式（Ｉ）におけるＨ1〜Ｈ3側と結合する位置を表す；Ｌ21は単結合又は二価の連結基を表す；Ｑ2は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基（環状基）を表す；ｎ１は、０〜４の整数を表す；Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊＊−ＮＨ−、＊＊−ＳＯ2−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表す；Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す；Ｑ1は重合性基又は水素原子を表す。
【００６７】
前記式（Ｉ）で表される３置換ベンゼン系ディスコティック液晶化合物の各符号の好ましい範囲、及び前記式（Ｉ）の化合物の具体例については、特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［００７７］記載を参照することができる。但し、本発明に使用可能なディスコティック液晶化合物は、前記式（Ｉ）の３置換ベンゼン系ディスコティック液晶化合物に限定されるものではない。
【００６８】
トリフェニレン化合物としては、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００６２］〜［００６７］記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６９】
なお、前記３置換ベンゼン又はトリフェニレン化合物とともに、下記一般式（ＩＩ）（より好ましくは一般式(II’)）で表されるピリジニウム化合物の少なくとも１種、及び下記一般式（ＩＩＩ）で表されるトリアジン環基を含む化合物の少なくとも１種を含有させ逆ハイブリッド配向状態を達成可能な組成物としてもよい。前記ピリジニウム化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物１００質量部に対し、０．５〜３質量部であるのが好ましい。また、前記トリアジン環基を含む化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物１００質量部に対し、０．２〜０．４質量部であるのが好ましい。
【００７０】
【化４】
【００７１】
式中、Ｌ23及びＬ24はそれぞれ二価の連結基であり；Ｒ22は水素原子、無置換アミノ基、又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基であり；Ｘはアニオンであり；Ｙ22及びＹ23はそれぞれ、置換されていてもよい５又は６員環を部分構造として有する２価の連結基であり；Ｚ21はハロゲン置換フェニル、ニトロ置換フェニル、シアノ置換フェニル、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル、炭素原子数が１〜１２のアルキル基、炭素原子数が２〜２０のアルキニル基、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基および炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基からなる群より選ばれる一価の基であり；ｐは１〜１０の数であり；並びにｍは１又は２である。
【００７２】
【化５】
【００７３】
式中、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、末端にＣＦ3基を有するアルキル基又はアルコキシ基を表し、但し、アルキル基（アルコキシ基中のアルキル基も含む）中の隣接していない２以上の炭素原子は、酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよい；Ｘ31、Ｘ32及びＸ33は、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表し；ｍ３１、ｍ３２及びｍ３３はそれぞれ、１〜５の数である。上記式（III）中、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33はそれぞれ、下記式で表される基であるのが好ましい。
−Ｏ（ＣnＨ2n）n1Ｏ（ＣmＨ2m）m1−ＣkＦ2k+1
式中、ｎ及びｍはそれぞれ１〜３であり、ｎ１及びｍ１はそれぞれ１〜３であり、ｋは１〜１０である。
【化６】
式（II’）中、式(II)と同一の符号は同一の意義であり；Ｌ25はＬ24と同義であり；Ｒ23、Ｒ24及びＲ25はそれぞれ、炭素原子数が１〜１２のアルキル基を表し、ｎ３は０〜４、ｎ４は１〜４、及びｎ５は０〜４を表す。
る。
【００７４】
［他の添加剤］
前記光学異方性層の形成に用いられる液晶性組成物は、他の添加剤の１種以上を含有していてもよい。使用可能な添加剤の例として、空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等について説明する。
【００７５】
空気界面配向制御剤：
前記組成物は、空気界面においては空気界面のチルト角で配向する。このチルト角は、液晶性組成物に含まれる液晶性化合物の種類や添加剤の種類等で、その程度が異なるため、目的に応じて空気界面のチルト角を任意に制御する必要がある。
【００７６】
前記チルト角の制御には、例えば、電場や磁場のような外場を用いることや添加剤を用いることができるが、添加剤を用いることが好ましい。このような添加剤としては、炭素原子数が６〜４０の置換もしくは無置換脂肪族基、又は炭素原子数が６〜４０の置換もしくは無置換脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を、分子内に１本以上有する化合物が好ましく、分子内に２本以上有する化合物が更に好ましい。例えば、空気界面配向制御剤としては、特開２００２−２０３６３号公報に記載の疎水性排除体積効果化合物を用いることができる。
また、特開２００９−１９３０４６号公報等に記載のフルオロ脂肪族基含有ポリマーも同様な作用があるので空気界面配向制御剤として添加することができる。
【００７７】
空気界面側の配向制御用添加剤の添加量としては、前記組成物（塗布液の場合は固形分、以下同様である）に対して、０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、０．０１質量％〜１０質量％が更に好ましく、０．１質量％〜５質量％がより更に好ましい。
【００７８】
ハジキ防止剤：
前記組成物に添加し、該組成物の塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。
使用するポリマーとしては、前記組成物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。
ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。
前記組成物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、前記組成物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００７９】
重合開始剤：
前記組成物は、重合開始剤を含有しているのが好ましい。重合開始剤を含有する前記組成物を用いると、液晶相形成温度まで加熱した後、重合させ冷却することによって液晶状態の配向状態を固定化して、光学異方性層を作製することもできる。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応と電子線照射による重合反応が含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応又は電子線照射による重合反応が好ましい。
【００８０】
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
光重合開始剤の使用量は、前記組成物の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
【００８１】
重合性モノマー：
前記組成物には、重合性のモノマーを添加してもよい。本発明で使用できる重合性モノマーとしては、併用される液晶化合物と相溶性を有し、液晶性組成物の配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、併用される液晶化合物に対して一般に０．５〜５０質量％の範囲にあり、１〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜との密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
【００８２】
前記組成物は、塗布液として調製してもよい。塗布液の調製に使用する溶剤としては、汎用の有機溶剤が好ましく用いられる。汎用の有機溶剤の例には、アミド系溶剤（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド系溶剤（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環系溶剤（例、ピリジン）、炭化水素系溶剤（例、トルエン、ヘキサン）、アルキルハライド系溶剤（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル系溶剤（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン系溶剤（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル系溶剤（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。エステル系溶剤及びケトン系溶剤が好ましく、特にケトン系溶剤が好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００８３】
前記光学異方性層は、前記組成物を、配向状態とし、その配向状態を固定することで、作製することができる。以下に、製造方法の一例について説明するが、この方法に限定されるものではない。
まず、重合性液晶性化合物を少なくとも含有する組成物を支持体の表面上（配向膜を有する場合は配向膜表面）に塗布する。所望により加熱等して、所望の配向状態で配向させる。次に、重合反応等を進行させて、その状態を固定して、光学異方性層を形成する。この方法に用いられる前記組成物に添加可能な添加剤の例としては、前記した空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等が挙げられる。
【００８４】
塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により行うことができる。
【００８５】
均一に配向した状態を実現するためには、配向膜を利用するのが好ましい。配向膜は、ポリマー膜（例えば、ポリビニルアルコール膜及びイミド膜等）の表面をラビング処理することで形成されるものが好ましい。本発明に利用するのに好ましい配向膜の例には、特開２００６−２７６２０３号公報の［０１３０］〜［０１７５］に記載のあるアクリル酸コポリマー又はメタクリル酸コポリマーの配向膜が含まれる。当該配向膜を利用すると、液晶化合物のゆらぎを抑制でき高コントラスト化が達成できるので好ましい。
【００８６】
次に、配向状態を固定するために、重合を実施するのが好ましい。前記組成物中に光重合開始剤を含有させ、光照射により重合を開始するのが好ましい。光照射には、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。また、雰囲気の酸素濃度は重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達しない場合には、窒素置換等の方法により酸素濃度を低下させることが好ましい。好ましい酸素濃度としては、１０％以下が好ましく、７％以下がさらに好ましく、３％以下がよりさらに好ましい。
【００８７】
本発明で配向状態が固定化された状態とは、その配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様ではあるが、それだけには限定されず、具体的には、通常０℃〜５０℃、より過酷な条件下では−３０℃〜７０℃の温度範囲において、該固定化された組成物に流動性が無く、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を指すものである。なお、配向状態が最終的に固定化され光学異方性層が形成された際に、前記組成物はもはや液晶性を示す必要はない。例えば、結果的に熱、光等による反応により重合又は架橋反応が進行し、高分子量化して、液晶性化合物が液晶性を失ってもよい。
【００８８】
前記光学異方性層の厚さについては特に制限されないが、一般的には、０．１〜１０μｍ程度であるのが好ましく、０．５〜５μｍ程度であるのがより好ましい。
【００８９】
前記光学異方性層の形成には、配向膜を利用してもよく、配向膜としては、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを主成分とする膜の表面をラビング処理したもの等を利用することができる。
【００９０】
なお、本発明に利用する前記位相差フィルム及び光学異方性層は、長尺の状態で連続的に製造されることが好ましい。更に、長手方向に対して遅相軸が平行でも直交でもない方向にあることが、ロールツーロールの方式で、偏光膜と、その遅相軸を偏光膜の吸収軸に対して４５°又は１３５°として貼り合わせできるので好ましい。すなわち、位相差フィルム及び光学異方性層の遅相軸と長辺とのなす角度は、５〜８５°であることが好ましい。
液晶組成物から形成される光学異方性層の遅相軸の角度は、ラビングの角度で調整できる。延伸フィルムの遅相軸は、延伸方向によって遅相軸の角度が調整できる。
【００９１】
上記した通り、保護部材Ａ２は、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、それぞれλ／４機能を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する。パターン光学異方性層は、液晶組成物から形成することができる。
【００９２】
パターン光学異方性層の形成方法として、以下の態様が挙げられる。
第１の態様は、液晶の配向制御に影響を与える複数の作用を利用し、その後、外部刺激（熱処理等）によりいずれかの作用を消失させて、所定の配向制御作用を支配的にする方法である。例えば、配向膜による配向制御能と、液晶組成物中に添加される配向制御剤の配向制御能との複合作用により、液晶を所定の配向状態とし、それを固定して一方の位相差領域を形成した後、外部刺激（熱処理等）により、いずれかの作用（例えば配向制御剤による作用）を消失させて、他の配向制御作用（配向膜による作用）を支配的にし、それによって他の配向状態を実現し、それを固定して他方の位相差領域を形成する。例えば、後述する所定のピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物は、ピリジニウム基又はイミダリウム基が親水的であるため前記親水的なポリビニルアルコール配向膜表面に偏在する。特に、ピリジニウム基が、さらに、水素原子のアクセプターの置換基であるアミノ基が置換されていると、ポリビニルアルコールとの間に分子間水素結合が発生し、より高密度に配向膜表面に偏在すると共に、水素結合の効果により、ピリジニウム誘導体がポリビニルアルコールの主鎖と直交する方向に配向するため、ラビング方向に対して液晶の直交配向を促進する。後述する所定のピリジニウム誘導体等は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、液晶、特にディスコティック液晶との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍における直交配向を誘起する。特に、親水的なピリジニウム基に疎水的な芳香環が連結されていると、その疎水性の効果により垂直配向を誘起する効果も有する。しかし、その効果は、ある温度を超えて加熱すると、水素結合が切断され、前記ピリジニウム化合物等の配向膜表面における偏在性及び密度が低下し、その作用を消失する。その結果、ラビング配向膜そのものの規制力により液晶が配向し、液晶は平行配向状態になる。この方法の詳細については、特願２０１０−１４１３４６号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
【００９３】
第２の態様は、パターン配向膜を利用する態様である。この態様では、互いに異なる配向制御能を有するパターン配向膜を形成し、その上に、液晶組成物を配置し、液晶を配向させる。液晶は、パターン配向膜のそれぞれの配向制御能によって配向規制され、互いに異なる配向状態を達成する。それぞれの配向状態を固定することで、配向膜のパターンに応じて第１及び第２の位相差領域のパターンが形成される。パターン配向膜は、印刷法、ラビング配向膜に対するマスクラビング、光配向膜に対するマスク露光等を利用して形成することができる。また、配向膜を一様に形成し、配向制御能に影響を与える添加剤（例えば、上記オニウム塩等）を別途所定のパターンで印刷することによって、パターン配向膜を形成することもできる。大掛かりな設備が不要である点や製造容易な点で、印刷法を利用する方法が好ましい。この方法の詳細については、特願２０１０−１７３０７７号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
【００９４】
また、第１及び第２の態様を併用してもよい。一例は、配向膜中に光酸発生剤を添加する例である。この例では、配向膜中に光酸発生剤を添加し、パターン露光により、光酸発生剤が分解して酸性化合物が発生した領域と、発生していない領域とを形成する。光未照射部分では光酸発生剤はほぼ未分解のままであり、配向膜材料、液晶、及び所望により添加される配向制御剤の相互作用が配向状態を支配し、液晶を、その遅相軸がラビング方向と直交する方向に配向させる。配向膜へ光照射し、酸性化合物が発生すると、その相互作用はもはや支配的ではなくなり、ラビング配向膜のラビング方向が配向状態を支配し、液晶は、その遅相軸をラビング方向と平行にして平行配向する。前記配向膜に用いられる光酸発生剤としては、水溶性の化合物が好ましく用いられる。使用可能な光酸発生剤の例には、Ｐｒｏｇ． Ｐｏｌｙｍ． Ｓｃｉ．， ２３巻、１４８５頁（１９９８年）に記載の化合物が含まれる。前記光酸発生剤としては、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましく用いられる。この方法の詳細については、特願２０１０−２８９３６０号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
【００９５】
（３）表面層
前記保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂの表面には、目的に応じて必要な表面層を単独又は複数層設けてもよい。好ましい態様としては、光学異方性層の上にハードコート層が積層された態様、光学異方性層の上に反射防止層が積層された態様、光学異方性層の上にハードコート層が積層され、その上に更に反射防止層が積層された態様、等が挙げられる。
【００９６】
［反射防止層］
反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して設計された，少なくとも一層以上の層からなる層である。
反射防止層は、最も単純な構成では、フィルムの最表面に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、膜厚変動に対するロバスト性に優れる３層構成の反射防止フィルムは特開２００８−２６２１８７号公報に記載されている。上記３層構成の反射防止フィルムは、画像表示装置の表面に設置した場合、反射率の平均値を０．５％以下とすることができ、映り込みを著しく低減することができ、立体感に優れる画像を得ることができる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層、防眩性のハードコート層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２００７−２６４１１３号公報等）等が挙げられる。
【００９７】
ハードコート層や反射防止層を有する場合の具体的な層構成の例を下記に示す。以下表記中−＊／は表面層が積層される基材を表す。具体的には、−＊／は、上述の光学異方性支持体、光学異方性層、支持体などを表す。
・−＊／ハードコート層、
・−＊／低屈折率層、
・−＊／防眩層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／低屈折率層、
・−＊／ハードコート層／防眩層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
上記の各構成のなかでも、光学異方性層の上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の表面層を直接形成することが好ましい。また、光学異方性層を含む光学フィルムと、別途、支持体上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の層を設けた光学フィルムとを貼合積層して製造してもよい。
【００９８】
［ハードコート層］
保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２に設ける表面フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
【００９９】
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性の表面フィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．７０である。
【０１００】
ハードコート層の膜厚は、表面フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、更に好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１０１】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ2が好ましい。
【０１０２】
電離放射線硬化性化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【０１０３】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１０４】
電離放射線硬化性化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの電気陰性度が大きな原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的にはＯＨ−、ＳＨ−、−ＮＨ−、ＣＨＯ−、ＣＨＮ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている化合物を用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
【０１０５】
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。
【０１０６】
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。
【０１０７】
［防眩層］
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくは表面フィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１０８】
［高屈折率層及び中屈折率層］
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜１．７４であることが好ましく、１．７１〜１．７３であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．６０〜１．６４であることが好ましく、１．６１〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
【０１０９】
上記中屈折率層は、上記高屈折率層と屈折率を異ならせた以外は同様の材料を用いて同様に調整できるので、以下、特に高屈折率層について説明する。
上記高屈折率層は、無機微粒子、３官能以上の重合性基を有する硬化性化合物（以下、「バインダー」と称する場合もある）、溶媒及び重合開始剤を含有する塗布組成物を塗布し、溶媒を乾燥させた後、加熱、電離放射線照射あるいは両手段の併用により硬化して形成されたものであるのが好ましい。硬化性化合物や開始剤を用いる場合は、塗布後に熱及び／又は電離放射線による重合反応により硬化性化合物を硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。
【０１１０】
［低屈折率層］
本発明における低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．４７であることが好ましい。表面フィルムが多層薄膜干渉型の反射防止フィルム（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）の場合の低屈折率層の屈折率は１．３３〜１．３８であることが望ましく、更に望ましくは１．３５〜１．３７が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
低屈折率層は、含フッ素硬化性ポリマー、含フッ素硬化性モノマー、非含フッ素硬化性モノマー、低屈折率粒子などを構成成分として形成することができる。これら化合物は、特開２０１０−１５２３１１号公報[００１８]〜[０１６８]段落に記載のものを用いることができる。
【０１１１】
低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９５゜以上であることが好ましい。更に好ましくは１０２゜以上である。特に、接触角が１０５°以上であると、指紋に対する防汚性能が著しく良化するため、特に好ましい。また、水の接触角が１０２°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２５ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることがより好ましく、２３ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが特に好ましく、２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが更に好ましい。最も好ましくは、水の接触角が１０５°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である。
【０１１２】
（４）紫外線吸収剤
本発明では、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂは、紫外線吸収剤を含有しているのが好ましい。保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２及びλ／４板Ｂが積層構造体である態様では、少なくとも１つの層が紫外線吸収剤を含有しているのが好ましい。例えば、透明支持体、光学異方性層、反射防止層、又はそれらを接着する接着剤を有する態様では、これらのいずれかに紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。また、表面フィルムのハードコート層及び／又は反射防止層には、紫外線吸収剤を含有させることができる。紫外線吸収剤としては、紫外線吸収性を発現できるもので、公知のものがいずれも使用できる。そのような紫外線吸収剤のうち、紫外線吸収性が高く、電子画像表示装置で用いられる紫外線吸収能（紫外線カット能）を得るためにベンゾトリアゾール系又はヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤が好ましい。また、紫外線の吸収幅を広くするために、最大吸収波長の異なる紫外線吸収剤を２種以上併用することができる。
【０１１３】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシヘキシル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチル−３′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−シアノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ニトロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒ―ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゼンプロパン酸−３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１、１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−，Ｃ７〜９−ブランチ直鎖アルキルエステル、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等が挙げられる。
【０１１４】
ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２'−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ビス−ブチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−５，５′−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウム塩等が挙げられる。
【０１１５】
紫外線吸収剤の含有量は、求める紫外線透過率や紫外線吸収剤の吸光度にもよるが、前記紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、通常２０質量部以下、好ましくは１〜２０質量部である。紫外線吸収剤の含有量が２０質量部よりも多い場合には、硬化性組成物の紫外線による硬化性が低下する傾向があると共に、光学フィルムの可視光線透過率が低下するおそれもある。一方、１質量部より少ない場合には、光学フィルムの紫外線吸収性を十分に発揮することができなくなる。
【０１１６】
２．偏光膜
本発明の時分割式３Ｄ表示システムに利用される画像表示装置は、その視認側に少なくとも１つの偏光膜（第１の偏光膜）を有する。画像表示装置が、透過モードの液晶パネルである態様では、液晶セルのバックライト側にも偏光膜を有する。また、本発明のシステムに利用される、時分割画像表示遮断器が液晶セルのシャッター機能を利用した態様では、偏光膜を１枚、又は液晶セルを挟んで２枚配置する。
【０１１７】
本発明に利用される偏光膜については特に制限はなく、通常用いられている偏光膜を利用することができ、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を利用した染料系偏光膜、及びポリエン系偏光膜のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光膜、及び染料系偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素又は二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
【０１１８】
なお、偏光膜は、その両面に保護フィルムが貼合された偏光板として用いられることが一般的である。本発明でも、偏光板を用いてもよい。図５及び図６に、保護部材Ａ１又は保護部材Ａ２又はλ／４板Ｂを有する偏光板の例を示すがこれに限定されるものではない。図６中の光学補償フィルムは、液晶セルの視野角を補償する機能を有するものである。
【０１１９】
３．液晶セル
本発明の時分割方式３Ｄ表示システムに用いられる画像表示装置及び時分割画像表示遮断器の構成については特に制限はない。一例は、いずれも液晶セルを利用した態様である。利用可能な液晶セルの構成については特に制限はない。液晶セルは、一対の基板及び液晶層の他に、各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていてもよい。液晶セルの方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ）電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であってもよい。カラーフィルタを使用しないフィールドシーケンシャル方式であってもよい。
【０１２０】
画像表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、又はＴＮモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Patterned Vertical Alignment）型、光配向型（Optical Alignment）、及びＰＳＡ（Polymer-Sustained Alignment）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、及び特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の透過軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０１２１】
例えば、画像表示装置用の液晶セルは、表示性能の観点で選択されるであろうし、また時分割画像表示遮断器のシャッター機能に利用する液晶セルは、右目と左目の映像に対応した応答を行うので、応答速度及び透過率の観点で選択され、速いＴＮモードの液晶セルを用いることが好ましい。
【実施例】
【０１２２】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
なお、実施例および比較例において、Ｒｅ（５５０）、Ｒｔｈ（５５０）及びＲｅ波長分散は、特に断りがない限り、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて測定した値を用いた。
【０１２３】
１．時分割方式３Ｄ表示システム
（１）λ／４フィルムの作製
（λ／４フィルム１ａの作製）
市販のノルボルネン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を固定端二軸延伸し、ノルボルネン系λ／４フィルム１ａを作製した。ノルボルネン系λ／４フィルム１ａのＲｅ（５５０）は、１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は、１５５ｎｍであった。また、λ／４フィルム１ａのＲｅ波長分散はフラット分散であった。
【０１２４】
（λ／４フィルム２ａの作製）
市販のノルボルネン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を、温度１５６℃にて、延伸倍率４５％で自由端一軸延伸を行いうことで、ノルボルネン系λ／４フィルム２ａを作製した。ノルボルネン系λ／４フィルム２ａのＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであった。また、λ／４フィルム２ａのＲｅ波長分散はフラット分散であった。
【０１２５】
（λ／４フィルム３ａの作製）
市販のポリカーボネート系フィルム「ピュアエースＷＲ Ｗ−１４２」（帝人化成（株）製）をλ／４フィルム３ａとして使用した。λ／４フィルム３ａのＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は７２ｎｍであった。
【０１２６】
（λ／４フィルムＡの準備）
＜透明支持体（セルロースアセテートフィルムＴ１）の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液（内層用ドープＡ及び外層用ドープＢ）を調製した。
【０１２７】
──────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（質量部） 内層 外層
──────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００ １００
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８ ７．８
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９ ３．９
メチレンクロライド（第１溶媒） ２９３ ３１４
メタノール（第２溶媒） ７１ ７６
１−ブタノール（第３溶媒） １．５ １．６
シリカ微粒子 ０ ０．８
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
下記レターデーション上昇剤（Ａ） １．７ ０
──────────────────────────────────────
【０１２８】
【化７】
【０１２９】
得られた内層用ドープＡ及び外層用ドープＢを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（厚み８０μｍ（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ））を製造した。作製したセルロースアセテートフィルムＴ１のＲｅ（５５０）は５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は９０ｎｍであった。
【０１３０】
＜液晶性化合物を含む光学異方性層の形成＞
＜＜アルカリ鹸化処理＞＞
セルロースアシレートフィルムＴ１を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。
【０１３１】
＜アルカリ溶液組成＞
────────────────────────────────────
アルカリ溶液組成（質量部）
────────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
────────────────────────────────────
【０１３２】
＜配向膜の形成＞
上記のように鹸化処理した長尺状のセルロースアセテートフィルムに、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。
【０１３３】
────────────────────────────────────
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー２９５９、チバ・ジャパン製） ０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１３４】
【化８】
【０１３５】
＜ディスコティック液晶性化合物を含む光学異方性層の形成＞
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向に対して、ラビングローラーの回転軸は時計回りに４５°の方向とした。
【０１３６】
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液Ａを上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し厚さ１．７７μｍの光学異方性層を形成し、λ／４フィルムＡを得た。
【０１３７】
────────────────────────────────────
光学異方性層塗布液（Ａ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――───
下記のディスコティック液晶化合物 ９１質量部
アクリレートモノマー ＊１ ５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のピリジニウム塩 ０．５質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１） ０．２質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ３） ０．１質量部
メチルエチルケトン １８９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――───
＊１：アクリレートモノマーは、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）を使用した。
【０１３８】
【化９】
【化１０】
【０１３９】
作製したフィルムλ／４フィルムＡは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が５４ｎｍであった。遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は反時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１４０】
（λ／４フィルム４ａの作製）
上記のセルロースアセテートフィルムＴ１の作製おいて、ドープＡの流量を調節してフィルムの全層の膜厚を８０μｍから５５μｍに変えた以外は同様にして、セルロースアセテートフィルムＴ２を作製した。セルロースアセテートフィルムＴ２のＲｅ（５５０）は２ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６０ｎｍであった。
【０１４１】
作製したλ／４フィルムＡとセルロースアセテートフィルムＴ２を準備した。続いて、λ／４フィルムＡのセルロースアセテートフィルム側に易接着層を介してセルロースアセテートフィルムＴ２を貼合し、λ／４フィルム４ａとして使用した。
【０１４２】
（λ／４フィルム５ａの作製）
＜透明支持体（セルロースアセテートフィルムＴ３）の作製＞
セルロースアセテートフィルムＴ１の作製おいて、ドープＡの流量を調節してフィルムの全層の膜厚を８０μｍから４９μｍに変えた以外は同様にして、セルロースアセテートフィルムＴ３を作製した。セルロースアセテートフィルムＴ３のＲｅ（５５０）は２ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は５３ｎｍであった。
【０１４３】
作製したλ／４フィルムＡとセルロースアセテートフィルムＴ３を準備した。続いて、λ／４フィルムＡのセルロースアセテートフィルム側に易接着層を介してセルロースアセテートフィルムＴ３を貼合し、λ／４フィルム５ａとして使用した。
【０１４４】
（λ／４フィルム６ａの作製）
λ／４フィルムＡの準備において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、フィルム長手方向に対するラビングローラーの回転軸を反時計回りに４５°の方向とした以外はλ／４フィルムＡの準備と同様にしてλ／４フィルム６ａを作製した。光学異方性層の厚さは１．６０μｍであった。作製したλ／４フィルム６ａの５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が６０ｎｍであった。遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１４５】
（λ／４フィルム７ａの作製）
λ／４フィルムＡの準備において、セルロースアセテートフィルムＴ１を市販のセルロースアシレートフィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）とし、光学異方性層の厚さを１．７７μｍから１．６０μｍとした以外はフィルムＡの準備と同様の方法でλ／４フィルム７ａを作製した。
【０１４６】
作製したλ／４フィルム７ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が８ｎｍであった。遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、塗布面を上に向けたときに遅相軸は反時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１４７】
（λ／４フィルム８ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、光学異方性層の厚さを１．７７μｍから１．８７μｍとした以外はλ／４フィルム７ａの作製と同様の方法でλ／４フィルム８ａを作製した。
作製したλ／４フィルム８ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１４５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が０ｎｍであった。λ／４フィルム８ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１４８】
（λ／４フィルム９ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、光学異方性層の厚さを１．７７μｍから１．４８μｍとした以外はλ／４フィルム７ａの作製と同様の方法でλ／４フィルム９ａを作製した。
作製したλ／４フィルム９ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１１５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が１２ｎｍであった。λ／４フィルム９ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１４９】
（λ／４フィルム１０ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、光学異方性層の厚さを１．７７μｍから１．６７μｍとした以外はλ／４フィルム７ａの作製と同様の方法でλ／４フィルム1０ａを作製した。
作製したλ／４フィルム１０ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が６ｎｍであった。λ／４フィルム１０ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１５０】
（λ／４フィルム１１ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、光学異方性層の厚さを１．７７μｍから２．０８μｍとした以外はλ／４フィルム７ａの作製と同様の方法でλ／４フィルム１１ａを作製した。作製したλ／４フィルム１１ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が−６ｎｍであった。λ／４フィルム１１ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１５１】
（λ／４フィルム１２ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層の支持体としてＴＤ８０ＵＬを以下のように作製したセルロースアシレートフィルムＴ４に変えた以外は、フィルム７ａの作製と同様の方法でフィルム１２ａを作製した。
λ／４フィルム１２ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。λ／４フィルム１２ａのＲｅ（５５０）は１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−５９ｎｍであった。
【０１５２】
＜セルロースアシレートフィルムＴ４の作製＞
全置換度２．９７（アセチル置換度０．４５、プロピオニル置換度２．５２）のセルロースアシレートを調製した。触媒としての硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）とカルボン酸無水物との混合物を−２０℃に冷却してからパルプ由来のセルロースに添加し、４０℃でアシル化を行った。この時、カルボン酸無水物の種類及びその量を調整することで、アシル基の種類及びその置換比を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行って全置換度を調整した。
【０１５３】
＜＜セルロースアシレート溶液の調製＞＞
１）セルロースアシレート
調製したセルロースアシレートを１２０℃に加熱して乾燥し、含水率を０．５質量％以下とした後、３０質量部を溶媒と混合させた。
２）溶媒
ジクロロメタン／メタノール／ブタノール（８１／１５／４質量部）を溶媒として用いた。なお、これらの溶媒の含水率は、いずれも０．２質量％以下であった。
３）添加剤
全ての溶液調製に際し、トリメチロールプロパントリアセテート０．９質量部を添加した。また、全ての溶液調製に際し、二酸化ケイ素微粒子（粒径２０ｎｍ、モース硬度：約７）０．２５質量部を添加した。
４）膨潤、溶解
攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環する４００リットルのステンレス製溶解タンクに、上記溶媒、添加剤に加え、下記ＵＶ吸収剤Ａを３．０％投入して撹拌、分散させながら、上記セルロースアシレートを徐々に添加した。投入完了後、室温にて２時間撹拌し、３時間膨潤させた後に再度撹拌を実施し、セルロースアシレート溶液を得た。
なお、攪拌には、１５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０4ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ2）の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸及び中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０4ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ2）で攪拌する攪拌軸を用いた。膨潤は、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして実施した。
【０１５４】
【化１１】
５）ろ過
上記で得られたセルロースアシレート溶液を、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）で濾過し、更に絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ＦＨ０２５、ポール社製）にて濾過してセルロースアシレート溶液を得た。
【０１５５】
上記セルロースアシレート溶液を３０℃に加温し、流延ギーサー（特開平１１−３１４２３３号公報に記載）を通して１５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは１５ｍ／分、塗布幅は２００ｃｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをバンドから剥ぎ取り、４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、更に１４０℃で１０分乾燥して、セルロースアシレートフィルムＴ４を作製した。
得られたセルロースアシレートフィルムＴ４のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−２５ｎｍであった。
【０１５６】
（λ／４フィルム１３ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層の支持体としてＴＤ８０ＵＬを以下のように作製したセルロースアシレートフィルムＴ５に変えた以外は、フィルム７ａの作製と同様の方法でフィルム１３ａを作製した。
λ／４フィルム１３ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。λ／４フィルム１３ａのＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−３１ｎｍであった。
【０１５７】
＜セルロースアシレートフィルムＴ５の作製＞
セルロースアシレートフィルムＴ４の作製において、ＵＶ吸収剤Ａの添加量を１．２％にし、さらに下記のＲｔｈ低減剤Ｂを１１％入れた以外はセルロースアシレートフィルムＴ４の製造方法と同様にしてセルロースアシレートフィルムＴ５を作製した。面内レターデーションＲｅ（５５０）は１ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−１ｎｍであった。
【０１５８】
【化１２】
【０１５９】
（λ／４フィルム１４ａの作製）
市販のセルロースアシレートフィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）をアルカリ溶液でケン化後、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜に長手方向に対して、４５°方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。なお、ケン化は、セルロースアシレートフィルムＴ１と同様の処理にて行った。
【０１６０】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６１】
【化１３】
【０１６２】
次に、下記の組成の光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーで塗布した。
────────────────────────────────────
光学異方性層塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物 １．８ｇ
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ０．２ｇ
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ０．０６ｇ
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．０２ｇ
メチルエチルケトン ３．９ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６３】
【化１４】
【０１６４】
これを１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。次に、１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射し棒状液晶性化合物を架橋した。ＵＶ硬化時の温度を８０℃として、光学異方性層を得た。光学異方性層の厚さは、１．８１μｍであった。その後、室温まで放冷した。このようにして、λ／４フィルム１４ａを製作した。形成した光学異方性層の状態を調べ、塗布ムラ（塗布液が配向膜にはじかれて生じたムラ）や配向の乱れがないことを確認した。
作製したλ／４フィルム１４ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が９５ｎｍであった。
【０１６５】
（λ／４フィルム１５ａの作製）
λ／４フィルム７ａの作製において、光学異方性層の支持体としてＴＤ８０ＵＬを以下のように作製したセルロースアシレートフィルムＴ６に変えた以外は、フィルム７ａの作製と同様の方法でフィルム１５ａを作製した。
作製したλ／４フィルム１５ａは、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が０ｎｍであり、光学異方性層の厚さは１．７７μｍであった。λ／４フィルム１５ａの光学異方性層についても、ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１６６】
＜透明支持体（セルロースアセテートフィルムＴ６）の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、固形分濃度２２質量％のセルロースアセテート溶液（ドープ６Ａ）を調製した。
【０１６７】
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
紫外線吸収剤（チヌビン３２８ チバ・ジャパン製） ０．９質量部
紫外線吸収剤（チヌビン３２６ チバ・ジャパン製） ０．２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３３６質量部
メタノール（第２溶媒） ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６８】
上記ドープ６Ａに平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）をセルロースアセテート１００質量部に対して０．０２質量添加したマット剤入りドープ６Ｂを調製した。ドープ６Ａと同じ溶剤組成で固形分濃度が１９質量％になるように調節した。
【０１６９】
ドープ６Ａを主流とし、マット剤入りドープ６Ｂを最下層及び最上層になるようにして、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムをはがし１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルムＴ６を作製した。マット剤入りの最下層及び最上層はそれぞれ３μｍに、主流は７４μｍになるように流量を調節した。
【０１７０】
得られた長尺状のセルロースアセテートフィルムＴ６の幅は２３００ｍｍであり、厚さは８０μｍであった。また、面内レターデーションＲｅ（５５０）は０ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は３９ｎｍであった。
【０１７１】
（λ／４フィルム１６ａの作製）
λ／４フィルムＡの準備において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整し、フィルム長手方向に対するラビングローラーの回転軸を反時計回りに４５°の方向とした以外はλ／４フィルムＡの準備と同様にしてλ／４フィルム１６ａを作製した。光学異方性層の厚さは２．０６μｍであった。作製したλ／４フィルム１６ａの５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が４５ｎｍであった。遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
【０１７２】
作製したλ／４フィルム１ａ〜１６ａの面内レターデーションＲｅ（５５０）及び厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）をまとめた表を以下に示す。
【０１７３】
【表１】
【０１７４】
（λ／４積層体１ｂの作製）
＜表面フィルムの準備＞
＜＜ハードコート層用塗布液の調製＞＞
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層用塗布液（固形分濃度５８質量％）とした。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ハードコート層用塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
酢酸メチル ３６．２質量部
メチルエチルケトン ３６．２質量部
（ａ）モノマー：下記構造のＰＥＴＡ（新中村化学工業（株）製） ７７．０質量部
（ｂ）下記構造のウレタンモノマー ２０．０質量部
光重合開始剤 ＊１ ３．０質量部
下記構造のレベリング剤（ＳＰ-１３） ０.０２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
＊１：イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【０１７５】
＜＜低屈折率層用塗布液の調製＞＞
各成分を下記のように混合し、ＭＥＫ／ＭＭＰＧ−Ａｃの８５／１５混合物(質量比)に溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液を調製した（ＭＥＫは、メチルエチルケトンを意味し、ＭＭＰＧ−Ａｃは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを意味する。）。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
低屈折率層塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のパーフルオロオレフィン共重合体 １５質量部
ＤＰＨＡ ＊１ ７質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３ ＊２ ５質量部
下記の含フッ素重合性化合物 ２０質量部
中空シリカ粒子固形分 ＊３ ５０質量部
イルガキュア１２７ ＊４ ３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
＊１：ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製
＊２：ディフェンサＭＣＦ−３２３：フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製
＊３：中空シリカ：中空シリカ粒子分散液（平均粒子サイズ４５ｎｍ、屈折率１．２５、表面をアクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理、ＭＥＫ分散液濃度２０％）
＊４：イルガキュア１２７：光重合開始剤、チバ・ジャパン（株）製
【化１８】
【０１７６】
＜＜ハードコート層及び低屈折率層の形成＞＞
ガラス板上に、調製したハードコート層用塗布液をダイコーターを用いて塗布した（固形分塗布量：１２ｇ/ｍ2）。１００℃で６０秒乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層（反射防止層）付きガラス板を作製した。このハードコート層の上に、上記低屈折率層用塗布液を塗布した。低屈折率層の乾燥条件は７０℃、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。低屈折率層の屈折率は１．３４、膜厚は９５ｎｍであった。以上のように、ハードコート層、低屈折率層がこの順で積層されたガラス板を作製した。
【０１７７】
ガラス板上にハードコート層、低屈折率層を形成した後、ハードコート層及び低屈折率層をガラスから剥離した。この層を粘着剤を用いて、λ／４フィルム１ａに貼合し、λ／４積層体１ｂを作製した。λ／４積層体１ｂのＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１５５ｎｍであった。
【０１７８】
（λ／４積層体２ｂの作製）
λ／４積層体１ｂの作製において、λ／４フィルム１ａをλ／４フィルム２ａに代えた以外はλ／４積層体１ｂの作製と同様にしてλ／４積層体２ｂを作製した。λ／４積層体２ｂのＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであった。
【０１７９】
（λ／４積層体２ｂ２の作製）
市販のセルロースアシレート系フィルムを支持体とする低反射フィルムのクリアＬＲ「ＣＶ−ＬＣ」（富士フイルム社製）を準備した。続いて、λ／４フィルム２ａに易接着層を介してＣＶ-ＬＣの支持体面を貼合し、λ／４積層体２ｂ２を作製した。λ／４積層体２ｂ２のＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１２５ｎｍであった。
【０１８０】
（λ／４積層体３ｂの作製）
λ／４積層体１ｂの作製において、λ／４フィルム１ａをλ／４フィルム３ａに代えた以外はλ／４積層体１ｂの作製と同様にしてλ／４積層体３ｂを作製した。λ／４積層体３ｂのＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は７２ｎｍであった。
【０１８１】
（λ／４積層体４ｂの作製）
λ／４積層体２ｂ２の作製において、λ／４フィルム２ａをλ／４フィルム４ａに代えた以外はλ／４積層体２ｂ２の作製と同様にしてλ／４積層体４ｂを作製した。λ／４積層体４ｂのＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１５５ｎｍであった。
【０１８２】
（λ／４積層体５ｂの作製）
λ／４積層体４ｂの作製において、λ／４フィルム４ａをλ／４フィルム５ａに代えた以外はλ／４積層体４ｂの作製と同様にしてλ／４積層体５ｂを作製した。λ／４積層体５ｂのＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１４８ｎｍであった。
【０１８３】
（λ／４積層体６ｂの作製）
λ／４積層体１ｂの作製において、λ／４フィルム１ａをλ／４フィルム６ａに代えた以外はλ／４積層体１ｂの作製と同様にしてλ／４積層体６ｂを作製した。なお、ハードコート層などの表面フィルムは、λ／４フィルム６ａの光学異方性層側にハードコート層を形成した。λ／４積層体６ｂのＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６０ｎｍであった。
【０１８４】
（λ／４積層体６ｂ２の作製）
λ／４積層体２ｂ２の作製において、λ／４フィルム２ａをλ／４フィルム６ａに代えた以外はλ／４積層体２ｂ２の作製と同様にしてλ／４積層体６ｂ２を作製した。なお、λ／４フィルム６ａの光学異方性層側に易接着層を介してＣＶ-ＬＣの支持体面を貼合した。λ／４積層体６ｂ２のＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであった。
【０１８５】
（λ／４積層体７ｂの作製）
λ／４積層体１ｂの作製において、λ／４フィルム１ａをλ／４フィルム７ａに代えた以外はλ／４積層体１ｂの作製と同様にしてλ／４積層体７ｂを作製した。なお、λ／４フィルム７ａの支持体側に表面フィルムを形成した。λ／４積層体７ｂのＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８ｎｍであった。
【０１８６】
（λ／４積層体９ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム９ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体９ｂを作製した。λ／４積層体９ｂのＲｅ（５５０）は１１５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１２ｎｍであった。
【０１８７】
（λ／４積層体１０ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１０ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１０ｂを作製した。λ／４積層体１０ｂのＲｅ（５５０）は１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６ｎｍであった。
【０１８８】
（λ／４積層体１１ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１１ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１１ｂを作製した。λ／４積層体１１ｂのＲｅ（５５０）は１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−６ｎｍであった。
【０１８９】
（λ／４積層体１２ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１２ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１２ｂを作製した。λ／４積層体１２ｂのＲｅ（５５０）は１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−５９ｎｍであった。
【０１９０】
（λ／４積層体１３ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１３ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１３ｂを作製した。λ／４積層体１３ｂのＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−３１ｎｍであった。
【０１９１】
（λ／４積層体１４ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１４ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１４ｂを作製した。λ／４積層体１４ｂのＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は９５ｎｍであった。
【０１９２】
（λ／４積層体１５ｂの作製）
λ／４積層体７ｂの作製において、λ／４フィルム７ａをλ／４フィルム１５ａに代えた以外はλ／４積層体７ｂの作製と同様にしてλ／４積層体１５ｂを作製した。λ／４積層体１５ｂのＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は０ｎｍであった。
【０１９３】
（λ／４積層体１６ｂの作製）
λ／４積層体２ｂ２の作製において、λ／４フィルム２ａをλ／４フィルム１６ａに代えた以外はλ／４積層体２ｂ２の作製と同様にしてλ／４積層体１６ｂを作製した。なお、λ／４フィルム１６ａの光学異方性層側に易接着層を介してＣＶ-ＬＣ（富士フイルム社製）の支持体面を貼合した。λ／４積層体１６ｂのＲｅ（５５０）は１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであった。
【０１９４】
作製したλ／４積層体１ｂ〜１６ｂの面内レターデーションＲｅ（５５０）及び厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）をまとめた表を以下に示す。
【０１９５】
【表２】
【０１９６】
（２） 画像表示装置１の作製（実施例１）
（偏光板の作製）
＜画像表示装置用偏光板の作製＞
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
アルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 Ｒｅ（５５０）＝５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１２５ｎｍ）を用意し、片面を前記ＶＡ用位相差フィルムで、もう片面を作製した前記λ／４積層体５ｂのλ／４フィルム５ａを偏光膜側にして粘着剤及び接着剤を用いて貼合し、画像表示装置用偏光板１を作製した。
【０１９７】
＜液晶シャッターメガネ用偏光板の作製＞
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）を用意し、片面を前記ＴＤ８０ＵＬで、もう片面を作製したλ／４フィルム３ａで偏光膜を挟んで、粘着剤及び接着剤を用いて貼合し、液晶シャッターメガネ用偏光板１を作製した。
【０１９８】
（画像表示装置の作製）
ＳＨＡＲＰ製の３Ｄ液晶テレビ「ＬＣ−４６ＬＶ３」を用意し、フロント偏光板をはがし、作製した画像表示装置用偏光板１のＶＡ用位相差フィルムを液晶セル側にして粘着剤及び接着剤を用いて貼合した。
【０１９９】
（液晶シャッターメガネの作製）
続いて、ＳＨＡＲＰ製の液晶シャッターメガネ「ＡＮ−３ＤＧ１０」を用意した。この「ＡＮ−３ＤＧ１０」は、λ／４フィルムを有さない偏光板２枚方式の液晶シャッターメガネである。「ＡＮ−３ＤＧ１０」の目と反対側（画像表示装置と対峙する側）の偏光板をはがし、そこに上記作製した液晶シャッターメガネ用偏光板１のＴＤ８０ＵＬ側を易接着層を介して「ＡＮ−３ＤＧ１０」を貼合し、図２に示すような構成の液晶シャッターメガネＷを作製した。このとき、液晶シャッターメガネ用偏光板の吸収軸は、「ＡＮ−３ＤＧ１０」の目側の偏光板（剥がさずに残した偏光板）の吸収軸と直交するように貼合した。液晶シャッターメガネＷを装着して顔を傾斜しない状態で画像表示装置と対峙したときに、液晶シャッターメガネ用偏光板のλ／４フィルム３ａの遅相軸が、画像表示装置の画像表示装置用偏光板のλ／４フィルム５ａの遅相軸と直交するように貼合した。
【０２００】
（３） 時分割方式３Ｄ画像表示装置の作製（実施例２〜１９、比較例１〜３）
下記表に示すように、λ／４フィルム及びλ／４積層体を代えた以外は実施例１と同様にして時分割方式３Ｄ画像表示装置２〜２５を作製した。
【０２０１】
（４）評価
（画面輝度ムラ）
暗室において、画像表示装置に両目に白を表示する３Ｄコンテンツを表示した。液晶シャッターメガネを装着して画像表示装置の正面に立ち、液晶シャッターメガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保ったまま、顔を動かしたときの画面を観察し、以下の基準で画面輝度ムラを評価した。結果を下記表に示す。
［評価基準］
◎：画面輝度ムラが視認されない。
○：画面隅のいずれかにわずかな輝度ムラが視認されるが、許容できる程度。
×：画面隅に輝度ムラがはっきり視認され、許容できない。
【０２０２】
（輝度低下率）
上記した画面輝度ムラの評価基準を定量化するため、液晶シャッターメガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保持した状態で、極角は０度〜６０度まで１０度ステップで、方位角は０度〜３５０度まで１０度ステップの方向で画像表示装置から液晶シャッターメガネを透過した光の輝度をＢＭ５Ａ（ＴＯＰＣＯＮ社製）にて測定した。続いて、極角０度の輝度で規格化した極角１０度〜６０度まで１０度ステップ、方位角０度〜３５０度まで１０度ステップ方向の輝度の平均値を求め（参考例１に示した基準形態に対する）、各形態の輝度低下率を下記式で算出した。なお、基準形態（参考例１）は、理想的なλ／４フィルムを画像表示装置と液晶シャッターメガネの両方に使用した形態である。
各形態の輝度低下率（％）＝１００−（各形態の輝度平均値／基準形態（参考例１）の輝度平均値）×１００
上式で算出した輝度低下率をもとに、画面輝度ムラの評価基準を定量化した。
［評価基準］
◎：輝度低下率が１％未満
○：輝度低下率が１％以上３％未満
×：輝度低下率が３％以上
【０２０３】
（３Ｄ表示性能）
λ／４フィルムがない画像表示装置および液晶シャッターメガネからなる時分割方式３Ｄ画像表示装置２４を用意した。続いて、暗室において、時分割方式３Ｄ画像表示装置１〜２４に、左目に白を、右目に黒を表示する３Ｄコンテンツを表示した。液晶シャッターメガネを装着して画像表示装置の正面に立ち、液晶シャッターメガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保ったまま画面を観察し、以下の基準で３Ｄ表示性能を評価した。結果を下記表に示す。
［評価基準］
◎：右目の黒表示が画像表示装置２４と同等（λ／４フィルム起因のクロストークが視認されない。）。
○：右目の黒表示が画像表示装置２４に比べてわずかに明るいが許容できる程度（λ／４フィルム起因のクロストークがわずかに視認される。）。
×：右目の黒表示が画像表示装置２４に比べて明るいことがはっきり視認され、許容できない（λ／４フィルム起因のクロストークが許容できない。）。
【０２０４】
【表３】
【０２０５】
【表４】
【０２０６】
表から、保護部材Ａ１として用いたλ／４積層体のＲｔｈ（５５０）Aと、液晶シャッターメガネのλ／４層Ｂとして用いたλ／４フィルムのＲｔｈ（５５０）Bとが、式（Ｉ）の関係を満たすと、画面隅の輝度ムラ、輝度低下率が向上していることがわかる。
【０２０７】
上記実施例及び比較例は液晶シャッターメガネＷを使用したが、下記のように作製した液晶シャッターメガネＳを作製し、同様の試験をしたところ、同様の結果を得た。
【０２０８】
（液晶シャッターメガネＳの作製）
「ＡＮ−３ＤＧ１０」を別途用意し、「ＡＮ−３ＤＧ１０」の目と反対側（画像表示装置と対峙する側）の偏光板をはがし、そこに作製したλ／４フィルム３ａを易接着層を介して貼合し、図３（ａ）に示すような構成の液晶シャッターメガネＳを作製した。このとき、液晶シャッターメガネＳを装着して顔を傾斜しない状態で画像表示装置と対峙したときに、液晶シャッターメガネＳのλ／４フィルム３ａの遅相軸が、画像表示装置の中に配置したλ／４フィルム５ａの遅相軸と直交するように貼合した。
【０２０９】
また、図７のように作製した３Ｄ表示システムを作製し、上記実施例及び比較例と同様の試験をしたところ、同様の結果を得た。
【０２１０】
２．空間分割方式３Ｄ表示システム
（１）空間分割方式用光学フィルムＡ、並びにそれを有する偏光板及び画像表示装置の作製
＜透明支持体（セルロースアセテートフィルムＴ７）の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
────────────────────────────────────
セルロースアシレート溶液Ａの組成
────────────────────────────────────
置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール １１質量部
────────────────────────────────────
【０２１１】
別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ａを調製した。
────────────────────────────────────
添加剤溶液Ａの組成
────────────────────────────────────
下記化合物Ｂ１（Ｒｅ低下剤） ４０質量部
下記化合物Ｂ２（波長分散制御剤） ４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ８０質量部
メタノール（第２溶媒） ２０質量部
────────────────────────────────────
【０２１２】
【化１９】
【０２１３】
＜＜セルロースアセテート透明支持体Ｔ７の作製＞＞
セルロースアシレート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂの４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３乃至５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み６０μｍのセルロースアセテート保護フィルム（透明支持体Ｔ７）を作製した。透明支持体Ｔ７は紫外線吸収剤を含有しておらず、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１２ｎｍであった。
【０２１４】
＜＜アルカリ鹸化処理＞＞
セルロースアセテート透明支持体Ｔ７を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体Ｔ７を作製した。
【０２１５】
────────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
────────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
────────────────────────────────────
【０２１６】
＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
上記作製した支持体の、鹸化処理を施した面に、下記の組成のラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。次に、透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスクをラビング配向膜上に配置し、室温空気下にて、ＵＶ−Ｃ領域における照度２．５ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を４秒間照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより第１位相差領域用配向層を形成した。その後に、ストライプマスクのストライプに対して４５°の角度を保持して５００ｒｐｍで一方向に１往復、ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであった。
────────────────────────────────────
配向膜形成用塗布液の組成
────────────────────────────────────
配向膜用ポリマー材料 ３．９質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
光酸発生剤（Ｓ−２） ０．１質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
────────────────────────────────────
【０２１７】
【化２０】
【０２１８】
＜パターン化された光学異方性層Ａの作製＞
下記の光学異方性層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布量４ｍｌ／ｍ2で塗布した。次いで、膜面温度１１０℃で２分間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層Ａを形成した。マスク露光部分（第１位相差領域）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行にディスコティック液晶が垂直配向しており、未露光部分（第２位相差領域）は直交に垂直配向していた。なお、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。
【０２１９】
────────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液の組成
────────────────────────────────────
ディスコティック液晶Ｅ−１ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） ３．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．４質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
────────────────────────────────────
【０２２０】
【化２１】
【０２２１】
形成されたパターン光学異方性層Ａの第１位相差領域及び第２位相差領域をそれぞれＴＯＦ-ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ Ｖ）により分析したところ、第１位相差領域と第２位相差領域では、対応する配向層中における光酸発生剤Ｓ−２の存在比が８対９２であり、第１位相差領域ではＳ−２がほとんど分解していることがわかった。また、光学異方性層においては、第１位相差領域の空気界面に、II−１のカチオン及び光酸発生剤Ｓ−２から発生した酸ＨＢＦ4のアニオンＢＦ4-が存在していることが確認された。第２位相差領域の空気界面には、これらのイオンはほとんど観測されず、II−１のカチオン及びＢｒ-が配向膜界面近傍に存在していることがわかった。空気界面におけるそれぞれのイオンの存在比は、II−１のカチオンは９３対７、ＢＦ4-は９０対１０であった。このことから、第２位相差領域中、配向膜界面配向剤(II−１)は配向膜界面に偏在しているが、第１位相差領域では偏在性が減少し、空気界面にも拡散していること、及び第１位相差領域においては、発生した酸ＨＢＦ4とII−１がアニオン交換することによってII−１カチオンの拡散が促進されていることが理解できる。
【０２２２】
パターン化された光学異方性層Ａを、第１位相差領域又は第２位相差領域のいずれか一方の遅相軸が、直交位に組合された２枚の偏光板のいずれか一方の偏光軸と平行になるように、偏光板の間に入れ、さらに、位相差５３０ｎｍの鋭敏色板を、その遅相軸が偏光板の偏光軸と４５°の角度をなすように、光学異方性層の上においた。次に、光学異方性層を＋４５°回転させた状態を偏光顕微鏡（ＮＩＫＯＮ製 ＥＣＬＩＰＥ Ｅ６００Ｗ ＰＯＬ）で観察した。観察結果から明らかなように、＋４５°回転させた場合、第１位相差領域の遅相軸と鋭敏色板の遅相軸が平行になっているため、位相差は５３０ｎｍよりも大きくなり、その色は青色（白黒図面では濃淡の濃い部分）に変化している。一方、第２位相差領域の遅相軸は鋭敏色板の遅相軸と直交しているため、位相差は５３０ｎｍよりも小さくなり、その色は白色（白黒図面では濃淡の淡い部分）に変化する。即ち、図１０に上面図を示す通りの第１及び第２位相差領域が形成されたことが確認できた。
【０２２３】
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。
【０２２４】
下記表に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、光酸発生剤を含有したＰＶＡ系ラビング配向膜にマスク露光した後、一方向にラビング処理した該配向膜上で配向させることによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
【０２２５】
＜表面フィルムＡの作製＞
＜＜反射防止膜の作製＞＞
［ハードコート層用塗布液の調製］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
メチルエチルケトン９００質量部に対して、シクロヘキサノン１００質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製）７５０質量部、シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製）２００質量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５０質量部、を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
【０２２６】
［中屈折率層用塗布液Ａの調製］
ＺｒＯ2微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）５．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）１．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、メチルエチルケトン６６．６質量部、メチルイソブチルケトン７．７質量部及びシクロヘキサノン１９．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して中屈折率層用塗布液Ａを調製した。
【０２２７】
［中屈折率層用塗布液Ｂの調製］
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）４．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．１４質量部、メチルエチルケトン６６．５質量部、メチルイソブチルケトン９．５質量部及びシクロヘキサノン１９．０質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して中屈折率層用塗布液Ｂを調製した。
【０２２８】
屈折率１．３６、膜厚９０μｍとなるように、中屈折率用塗布液Ａと中屈折率用塗布液Ｂとを適量混合し、中屈折率塗布液を調製した。
【０２２９】
［高屈折率層用塗布液の調製］
ＺｒＯ2微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、光重合開始剤含有、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）１４．４質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）０．７５質量部、メチルエチルケトン６２．０質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して高屈折率層用塗布液Ｃを調製した。
【０２３０】
［低屈折率層用塗布液の調製］
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０２３１】
【化２２】
【０２３２】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ2）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ2）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２、質量平均分子量は５００００であった。
【０２３３】
［中空シリカ粒子分散液Ａの調製］
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シエル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ａを得た。得られた分散液ＡのＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５質量％以下であった。
【０２３４】
［低屈折率層用塗布液の調製］
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分濃度５質量％の低屈折率層用塗布液Ｌｎ６を作製した。下記各成分の質量％は、塗布液の全固形分に対する、各成分の固形分の比率である。
【０２３５】
────────────────────────────────────────・Ｐ−１：パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量％
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製） ７質量％
・ＭＦ１：国際公開第２００３／０２２９０６号パンフレットの実施例記載の下
記含フッ素不飽和化合物（重量平均分子量１６００） ５質量％
・Ｍ−１：日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ２０質量％
・分散液Ａ：前記中空シリカ粒子分散液Ａ（アクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシランで表面修飾した中空シリカ粒子ゾル、固形分濃度１８．２％） ５０質量％
・Ｉｒｇ１２７：光重合開始剤イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ（株）製） ３質量％
────────────────────────────────────────
【０２３６】
【化２３】
【０２３７】
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を表面フィルム用支持体Ａとして使用し、表面フィルム用支持体Ａ上に、前記組成のハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。なお、ＴＤ８０ＵＬは、紫外線吸収剤を含んでいる。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａを形成した。
更に中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。このようにして、表面フィルムＡを作製した。
【０２３８】
＜空間分割方式用光学フィルムＡの作製＞
上記作製した表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面とパターン化された光学異方性層Ａの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、空間分割方式用光学フィルムＡを作製した。
【０２３９】
＜空間分割方式用偏光板Ａの作製＞
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を偏光板Ａ用保護フィルムＡとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したＴＤ８０ＵＬと、同様のアルカリ鹸化処理したＩＰＳ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝０／−５）を、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、ＴＤ８０ＵＬとＩＰＳ用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ａを作製した。
【０２４０】
＜空間分割方式用光学フィルムＡ付偏光板Ａの作製＞
上記作製した空間分割方式用光学フィルムＡの透明支持体面と空間分割方式用偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＡ付偏光板Ａを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
【０２４１】
＜空間分割方式３Ｄ画像表示装置Ａの作製＞
東芝社製３２zｐ２の視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＡ付偏光板ＡとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せ、図１１（ａ）の構成の空間分割方式３Ｄ表示装置Ａを作製した。なお、偏光膜の透過軸の向きは、図９と同様である。
【０２４２】
（２）空間分割方式用光学フィルムＢ、並びにそれを有する偏光板及び画像表示装置の作製
＜光配向膜付透明支持体Ｂの作製＞
国際公開２０１０／０９０４２９号パンフレットに記載の棒状液晶及び配向膜を使用して立体表示装置Ｂを作製した。
上記作製した透明支持体Ｔ７の鹸化処理を施した面に、下記構造の光配向材料Ｅ−１ １％水溶液を塗布し、１００℃で１分間乾燥した。得られた塗布膜に、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫
外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を図１２（ａ）に示すように、方向１にセットして、さらにマスクＡ（透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスク）を通して、露光を行った。その後、図１２（ｂ）に示すように、ワイヤーグリッド偏光子を方向２にセットして、さらにマスクＢ（透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスク）を通して、露光を行った。露光マスク面と光配向膜の間の距離を２００μｍに設定した。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【０２４３】
【化２４】
【０２４４】
＜パターン化された光学異方性層Ｂの作製＞
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、塗布液として用いた。光配向膜付透明支持体Ｂ上に該塗布液を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、７５℃まで冷却して、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、パターン化された光学異方性層Ｂの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、１．３μｍであった。
【０２４５】
────────────────────────────────────────光学異方性層Ｂ用組成
────────────────────────────────────────棒状液晶（ＬＣ２４２、ＢＡＳＦ（株）製） １００質量部
水平配向剤Ａ ０．３質量部
光重合開始剤 ３．３質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．１質量部
メチルエチルケトン ３００質量部
────────────────────────────────────────
【０２４６】
【化２５】
【０２４７】
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、上記と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。下記表に、光学異方性層の遅相軸と配向膜の露光方向の方向との関係を示す。下記表に示す結果から、棒状液晶を光配向膜上で配向させて露光することによって、水平配向であるとともに、遅相軸が直交した第１の位相差領域と第２の位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
【０２４８】
＜空間分割方式用光学フィルムＢの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｂの透明支持体Ｂの表面に、上記実施例と同様の方法にて反射防止膜を形成し、空間分割方式用光学フィルムＢを作製した。
【０２４９】
＜空間分割方式用光学フィルムＢ付偏光板Ｂの作製＞
上記作製した光学フィルムＢのパターン化された光学異方性層面と上記実施例で作製した偏光板のＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＢ付偏光板Ｂを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｂの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
【０２５０】
＜立体表示装置Ｂの作製＞
東芝社製３２ｚｐ２の視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＢ付偏光板ＢのＩＰＳ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せ、図１１（ｂ）の構成の立体表示装置Ｂを作製した。なお、偏光膜の透過軸の向きは図９と同様であった。
【０２５１】
（３）空間分割方式用光学フィルムＣ、並びにそれを有する偏光板及び画像表示装置の作製
＜パターン化された光学異方性層Ｃの作製＞
パターン化された光学異方性層Ａの作製において、透明支持体ＡをＴＤ８０ＵＬに代えた以外は同様にして、パターン化された光学異方性層Ｃを作製した。
【０２５２】
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体Ｃから剥離した後、上記と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。下記表に、光学異方性層の遅相軸と配向膜の露光方向の方向との関係を示す。下記表に示す結果から、棒状液晶を光配向膜上で配向させて露光することによって、水平配向であるとともに、遅相軸が直交した第１の位相差領域と第２の位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
【０２５３】
＜空間分割方式用光学フィルムＣの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｃの透明支持体の表面に、上記実施例と同様の方法にて反射防止膜を形成し、空間分割方式用光学フィルムＣを作製した。
【０２５４】
＜空間分割方式用光学フィルムＣ付偏光板Ｃの作製＞
上記作製した光学フィルムＣのパターン化された光学異方性層Ｃ面と上記実施例１で作製した偏光板のＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＣ付偏光板Ｃを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｃの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
【０２５５】
＜立体表示装置Ｃの作製＞
東芝社製３２ｚｐ２の視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＣ付偏光板ＣのＩＰＳ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せ、図１１（ｂ）の構成の立体表示装置Ｃを作製した。なお、偏光膜の透過軸の向きは図９と同様であった。
【０２５６】
（４）円偏光メガネ用偏光板の作製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）を用意し、片面を前記ＴＤ８０ＵＬで、もう片面を作製したλ／４フィルム１ａで偏光膜を挟んで、粘着剤及び接着剤を用いて貼合し、円偏光メガネ用偏光板１Ｒを作製した。このとき、偏光板の吸収軸とλ／４フィルムの遅相軸のなす角度は４５度になるように貼合した。
続いて、偏光板の吸収軸とλ／４フィルムの遅相軸のなす角度が−４５度になるように貼合した以外は同様にして、円偏光メガネ用偏光板１Ｌを作製した。
【０２５７】
＜円偏光メガネ１の作製＞
東芝社製３２ｚｐ２に付属のメガネを用意した。偏光板をはがし、上記作製した円偏光メガネ用偏光板１Ｒと円偏光メガネ用偏光板１Ｌを簡易接着剤を介して、右目側と左目側に貼合し、円偏光メガネ１を作製した。
【０２５８】
＜円偏光メガネ２及び３の作製＞
円偏光メガネ１の作製で使用した、λ／４フィルム１ａの代わりにλ／４フィルム６ａ、λ／４フィルム１５ａを使用した以外は同様にして、円偏光メガネ２及び３をそれぞれ作製した。
【０２５９】
４．空間分割方式３Ｄ画像表示装置の評価
（画面輝度ムラ）
暗室において、画像表示装置に両目に白を表示する３Ｄコンテンツを表示した。円偏光メガネを装着して画像表示装置の正面に立ち、円偏光メガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保ったまま、顔を動かしたときの画面を観察し、以下の基準で画面輝度ムラを評価した。結果を下記表に示す。
［評価基準］
◎：画面輝度ムラが視認されない。
○：画面隅のいずれかにわずかな輝度ムラが視認されるが、許容できる程度。
×：画面隅に輝度ムラがはっきり視認され、許容できない。
【０２６０】
（輝度低下率）
上記した画面輝度ムラの評価基準を定量化するため、円偏光メガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保持した状態で、極角は０度〜６０度まで１０度ステップで、方位角は０度〜３５０度まで１０度ステップの方向で画像表示装置から円偏光メガネを透過した光の輝度をＢＭ５Ａ（ＴＯＰＣＯＮ社製）にて測定した。続いて、極角０度の輝度で規格化した極角１０度〜６０度まで１０度ステップ、方位角０度〜３５０度まで１０度ステップ方向の輝度の平均値を求め（参考例２に示した基準形態に対する）、各形態の輝度低下率を下記式で算出した。なお、基準形態（参考例２）は、理想的なλ／４フィルムを画像表示装置と偏光メガネの両方に使用した形態である。
各形態の輝度低下率（％）＝１００−（各形態の輝度平均値／基準形態（参考例２）の輝度平均値）×１００
上式で算出した輝度低下率をもとに、画面輝度ムラの評価基準を定量化した。
［評価基準］
◎：輝度低下率が１％未満
○：輝度低下率が１％以上３％未満
×：輝度低下率が３％以上
【０２６１】
（３Ｄ表示性能）
円偏光メガネからなる空間分割方式３Ｄ画像表示装置１〜３を用意した。続いて、暗室において、空間分割方式３Ｄ画像表示装置１〜３に、左目に白を、右目に黒を表示する３Ｄコンテンツを表示した。円偏光メガネを装着して画像表示装置の正面に立ち、円偏光メガネと画像表示装置の画面が平行となる位置関係を保ったまま画面を観察し、以下の基準で３Ｄ表示性能を評価した。結果を下記表に示す。
［評価基準］
◎：右目の黒表示が画像表示装置２４と同等（λ／４フィルム起因のクロストークが視認されない。）。
○：右目の黒表示が画像表示装置２４に比べてわずかに明るいが許容できる程度（λ／４フィルム起因のクロストークがわずかに視認される。）。
×：右目の黒表示が画像表示装置２４に比べて明るいことがはっきり視認され、許容できない（λ／４フィルム起因のクロストークが許容できない。）
【０２６２】
【表５】
【０２６３】
【表６】
【符号の説明】
【０２６４】
１ 画像表示装置
１１ 第１の偏光膜
１２ 保護部材
１３ 液晶セル
１４ 偏光板
１５ 光学補償／保護フィルム
２ 時分割画像表示遮断機器（液晶シャッターメガネ）
２ａ 左目シャッター
２ｂ 右目シャッター
２１ λ／４板Ｂ
２２ 偏光膜
２３ 液晶セル
２４ 偏光膜
３ 同期回路
４ バックライト
【特許請求の範囲】
【請求項１】
視認側に配置される第１の偏光膜と、
前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、λ／４機能を有する保護部材Ａ１と、
を少なくとも有する画像表示装置；及び
λ／４板Ｂを少なくとも有し、前記画像表示装置に同期して作動する時分割画像表示遮断機器；
を備えた時分割３Ｄ表示システムであって、
前記保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする時分割方式３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
【請求項２】
下記式（ＩＩ）の関係を満たす請求項１に記載の時分割３Ｄ表示システム：
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ 。
【請求項３】
前記保護部材Ａ１及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、セルロースアシレートフィルム及び環状オレフィン系ポリマーフィルムの少なくともいずれかを含む請求項１又は２に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項４】
前記保護部材Ａ１及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を少なくとも含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項５】
前記液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記円盤状液晶化合物が垂直に配向している請求項４に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項６】
前記液晶化合物が、棒状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記棒状液晶化合物が水平に配向している請求項４に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項７】
前記保護部材Ａ１が、視認側表面に反射防止層を有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項８】
前記保護部材Ａ１が、紫外線吸収剤を含有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項９】
前記画像表示装置が、液晶パネルである請求項１〜８のいずれか１項に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項１０】
前記時分割画像表示遮断機器が、液晶セル及び第２の偏光膜をさらに有し、前記画像表示装置に対向する側から、
前記λ／４板Ｂ、前記液晶セル、及び前記第２の偏光膜の順に、又は
前記第２の偏光膜、前記液晶セル、及び前記λ／４板Ｂの順に
配置されている請求項９に記載の時分割３Ｄ表示システム。
【請求項１１】
前記時分割画像表示遮断機器が、第３の偏光膜をさらに有し、前記画像表示装置に対向する側から、
前記λ／４板Ｂ、前記第３の偏光膜、前記液晶セル、及び前記第２偏光膜の順に、又は
前記第２の偏光膜、前記液晶セル、前記第３の偏光膜、及び前記λ／４板Ｂの順に
配置されている請求項９又は１０に記載の時分割３Ｄ表示システム。
【請求項１２】
視認側に配置される第１の偏光膜と、
前記第１の偏光膜の視認側に配置される液晶セルと、
前記液晶セルの視認側表面に配置されるλ／４機能を有する保護部材Ａ１と、を少なくとも有する画像表示装置；及び
λ／４板Ｂを少なくとも有するメガネ；を備えた時分割３Ｄ表示システムであって、
前記液晶セルは、画像表示装置に同期して作動し、
前記保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする時分割方式３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
【請求項１３】
視認側に配置される第１の偏光膜と、
前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、それぞれλ／４機能を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する保護部材Ａ２と、
を少なくとも有する画像表示装置；及び
λ／４板Ｂを少なくとも有する偏光変換素子；
を備えた３Ｄ表示システムであって、
前記保護部材Ａ２の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
【請求項１４】
下記式（ＩＩ）の関係を満たす請求項１３に記載の３Ｄ表示システム：
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ 。
【請求項１５】
前記保護部材Ａ２及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、セルロースアシレートフィルム及び環状オレフィン系ポリマーフィルムの少なくともいずれかを含む請求項１３又は１４に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項１６】
前記保護部材Ａ２及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を少なくとも含む請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項１７】
前記液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記円盤状液晶化合物が垂直に配向している請求項１６に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項１８】
前記液晶化合物が、棒状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記棒状液晶化合物が水平に配向している請求項１６に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項１９】
前記保護部材Ａ２が、視認側表面に反射防止層を有する請求項１３〜１８のいずれか１項に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項２０】
前記保護部材Ａ２が、紫外線吸収剤を含有する請求項１３〜１９のいずれか１項に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項２１】
前記画像表示装置が、液晶パネルである請求項１３〜２０のいずれか１項に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項１】
視認側に配置される第１の偏光膜と、
前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、λ／４機能を有する保護部材Ａ１と、
を少なくとも有する画像表示装置；及び
λ／４板Ｂを少なくとも有し、前記画像表示装置に同期して作動する時分割画像表示遮断機器；
を備えた時分割３Ｄ表示システムであって、
前記保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする時分割方式３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
【請求項２】
下記式（ＩＩ）の関係を満たす請求項１に記載の時分割３Ｄ表示システム：
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ 。
【請求項３】
前記保護部材Ａ１及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、セルロースアシレートフィルム及び環状オレフィン系ポリマーフィルムの少なくともいずれかを含む請求項１又は２に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項４】
前記保護部材Ａ１及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を少なくとも含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項５】
前記液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記円盤状液晶化合物が垂直に配向している請求項４に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項６】
前記液晶化合物が、棒状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記棒状液晶化合物が水平に配向している請求項４に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項７】
前記保護部材Ａ１が、視認側表面に反射防止層を有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項８】
前記保護部材Ａ１が、紫外線吸収剤を含有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項９】
前記画像表示装置が、液晶パネルである請求項１〜８のいずれか１項に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
【請求項１０】
前記時分割画像表示遮断機器が、液晶セル及び第２の偏光膜をさらに有し、前記画像表示装置に対向する側から、
前記λ／４板Ｂ、前記液晶セル、及び前記第２の偏光膜の順に、又は
前記第２の偏光膜、前記液晶セル、及び前記λ／４板Ｂの順に
配置されている請求項９に記載の時分割３Ｄ表示システム。
【請求項１１】
前記時分割画像表示遮断機器が、第３の偏光膜をさらに有し、前記画像表示装置に対向する側から、
前記λ／４板Ｂ、前記第３の偏光膜、前記液晶セル、及び前記第２偏光膜の順に、又は
前記第２の偏光膜、前記液晶セル、前記第３の偏光膜、及び前記λ／４板Ｂの順に
配置されている請求項９又は１０に記載の時分割３Ｄ表示システム。
【請求項１２】
視認側に配置される第１の偏光膜と、
前記第１の偏光膜の視認側に配置される液晶セルと、
前記液晶セルの視認側表面に配置されるλ／４機能を有する保護部材Ａ１と、を少なくとも有する画像表示装置；及び
λ／４板Ｂを少なくとも有するメガネ；を備えた時分割３Ｄ表示システムであって、
前記液晶セルは、画像表示装置に同期して作動し、
前記保護部材Ａ１の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする時分割方式３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
【請求項１３】
視認側に配置される第１の偏光膜と、
前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、互いに異なる方向に面内遅相軸を有し、それぞれλ／４機能を有する第１及び第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を有する保護部材Ａ２と、
を少なくとも有する画像表示装置；及び
λ／４板Ｂを少なくとも有する偏光変換素子；
を備えた３Ｄ表示システムであって、
前記保護部材Ａ２の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Aと、前記λ／４板Ｂの波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）Bとが、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする３Ｄ表示システム：
（Ｉ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦２２０ｎｍ 。
【請求項１４】
下記式（ＩＩ）の関係を満たす請求項１３に記載の３Ｄ表示システム：
（ＩＩ）： ｜Ｒｔｈ（５５０）A＋Ｒｔｈ（５５０）B｜≦１２０ｎｍ 。
【請求項１５】
前記保護部材Ａ２及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、セルロースアシレートフィルム及び環状オレフィン系ポリマーフィルムの少なくともいずれかを含む請求項１３又は１４に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項１６】
前記保護部材Ａ２及び前記λ／４板Ｂの少なくとも一方が、液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を少なくとも含む請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項１７】
前記液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記円盤状液晶化合物が垂直に配向している請求項１６に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項１８】
前記液晶化合物が、棒状液晶化合物であり、前記光学異方性層中、前記棒状液晶化合物が水平に配向している請求項１６に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項１９】
前記保護部材Ａ２が、視認側表面に反射防止層を有する請求項１３〜１８のいずれか１項に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項２０】
前記保護部材Ａ２が、紫外線吸収剤を含有する請求項１３〜１９のいずれか１項に記載の３Ｄ表示システム。
【請求項２１】
前記画像表示装置が、液晶パネルである請求項１３〜２０のいずれか１項に記載の３Ｄ表示システム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１２−１９８４９１（Ｐ２０１２−１９８４９１Ａ）
【公開日】平成２４年１０月１８日（２０１２．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９６９７４（Ｐ２０１１−１９６９７４）
【出願日】平成２３年９月９日（２０１１．９．９）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月１８日（２０１２．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月９日（２０１１．９．９）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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