説明

Nb3Sn超電導線用芯線、Nb3Sn超電導線及びその製造方法

【課題】低コストで製造可能で、低い交流損失を達成でき、歪みにも強く、機械的強度にも優れたNbSn超電導線用芯線、NbSn超電導線及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Cu被覆2を有するSn−Zn合金棒1の周囲に、Cu被覆4を有するNb−1at%Ta六角線3を複数本配置し、Cu管5内に収納した後、細線化して定尺に切り分けた芯線の複数本を、Sn拡散防止用Nbパイプに収納し、更にその外周にCuパイプを被覆し、細線化後、熱処理を施してSnとNbを反応させNbSnを生成させる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、9T以上の高磁界を発生する超電導マグネット等に用いられるNbSn超電導線用芯線、NbSn超電導線及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
NbSn超電導線は、9T以上の磁界を発生させるほぼ全ての超電導マグネットに使用されている代表的な超電導線材である。
【0003】
NbSn超電導線の代表的な製造方法として、以下の4つの方法が挙げられる。
【0004】
(1)ブロンズ法
NbあるいはNb合金コアとCu−Sn(ブロンズ)マトリックスを複合化して極細多芯化し、熱処理を施してブロンズ中のSnをNbコアヘ拡散させてNbSnとする製法である。最終的なフィラメント径を均一なサブミクロンオーダーとすることも可能で、交流損失の低減に有利である(例えば、特許文献1参照)。
【0005】
(2)Sn内部拡散法
Cuマトリックス内に多数の極細Nbコアを配置するとともに、Snコアを線材中心あるいは複数に分散させて配置させ、熱処理を施してSnをCuマトリックスを介してNbコアに拡散させてNbSnとする製法である。臨界電流密度(Jc)の高い線を低コストで製造可能である(例えば、特許文献2参照)。
【0006】
(3)粉末法
Nb粉末とSn粉末を混合し、Nbパイプ等に充填して単芯線とし、複数束ねて複合化した多芯線とした後、熱処理を施してSnとNbを反応させてNbSnとする製法である(例えば、特許文献3参照)。また、関連した製法として、Ta−Sn金属間化合物粉末をNbパイプ内に充填して単芯線とし、複数束ねて複合化した多芯線とした後、熱処理を施してSnをNbへ拡散させてNbSnとする製法もある。この方法では、15T以上の高い磁界でJcが高いという利点がある。
【0007】
(4)Nbチューブ法
Nb管内にCu被覆したSn棒を収容し、Nb管外側にはCu管を被覆して単芯線とし、複数束ねて複合化した多芯線とした後、熱処理を施してSnをCuマトリックスを介してNbへ拡散させてNbSnとする製法である。臨界電流密度(J)の高い線を低コストで製造できるという利点がある(例えば、特許文献4参照)。
【特許文献1】特開2004−342561号公報
【特許文献2】特開2004−171829号公報
【特許文献3】特開2005−32631号公報
【特許文献4】特開2005−93235公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
しかしながら、前述の方法では、以下に示すような課題があった。
まず、(1)のブロンズ法では、ブロンズが伸線を繰り返すと加工硬化して断線等が発生し、伸線不能になる。従って、伸線の途中で数パス毎に中間熱処理を施し、ブロンズの加工歪みを除去して軟化させる必要があるため、製造コストが高くなり、製造に要する時間も長くなる。また、高臨界電流密度(Jc)を達成するためには、ブロンズ中のSn濃度を固溶限界(15.8wt%)近傍あるいは、それ以上まで高Sn濃度化させる必要がある。その結果、前記中間熱処理の回数は更に多くなるので、コスト高や断線の危険性が更に増大してしまう。
【0009】
次に、(2)のSn内部拡散法は、ブロンズ法のような中間熱処理が不要なため低コストで製造可能となり、Sn量も比較的容易に調整が可能であるため、高磁界での高Jc化にも有利である。しかし、フィラメント径を約50μm以下にする場合のようなフィラメントの極細化には不利なので、交流損失を低減するのは困難である。また、Sn拡散後に元来Snが存在した位置が空隙となるため、断面構成によっては線材の機械的強度が低下する可能性がある。しかも、融点が232℃のSnを含んでいるので、押出し等において、押出し比を高くし過ぎると(即ち、細く押し過ぎると)、たとえ冷間押出しでも加工熱によりSnが溶けて不均一加工になってしまう可能性がある。
【0010】
また、(3)の粉末法では、粉末充填によるため、非常に多数のフィラメントを断面・長さ両方向に均一に極細化するのは困難である。特に、フィラメント径を約50μm以下にするのは難しいため、フィラメント径が太くなり、交流損失を低減するのは困難である。また、長さ方向にフィラメント径が均一でない場合、マグネットにしたときの永久電流モード時の電流減衰度が大きくなってしまい、NMR等の均一磁界を発生するマグネットには不利となる。しかも、フィラメントが太いので、NbSn生成熱処理後の線材は、曲げ等の歪には弱い。
【0011】
更に、(4)のNbチューブ法では、最終フィラメント径は10〜20μm程度が限界であり、ブロンズ法ほど細くはできないが、内部拡散法や粉末法ほど太くはないため、交流損失は比較的低減可能である。しかし、更なる高Jc化のためにNb管内のSn量を増やすと加工性が低下して加工不可能になるため、加工性が原因で高Jc化が困難になる。また、内部拡散法と同様に融点の低いSnを複合化しているため、大きな押出し比で押出し加工できない。加えて、リング状に生成したNbSnフィラメント内側の元来Snが存在した位置には空隙が発生する場合があり、線材の機械的強度に問題がある。
【0012】
従って、本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し、従来の超電導線加工設備を用いて低コストで製造可能で、低い交流損失を達成でき、歪みにも強く、機械的強度にも優れたNbSn超電導線用芯線、NbSn超電導線及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0013】
上記目的を達成するため、本発明のNbSn超電導線用芯線は、Cu被覆又はCu基合金被覆を有するSn−Zn合金棒の周囲に、Cu被覆又はCu基合金被覆を有するNbフィラメント又はNb合金フィラメントが複数本配置され、これらがCu管又はCu基合金管内に収納されていることを特徴とする。
【0014】
前記芯線の複数本を、Sn拡散防止用Nbパイプ又はNb合金パイプに収納し、更にその外周にCuパイプ又はCu合金パイプを形成することもできる。
【0015】
前記Nb合金フィラメントは、Nbに、Ti、Ta、Zr、V、Hfのいずれか1種類あるいは複数種を合計濃度で5at%以下含むことが好ましい。
【0016】
前記Sn−Zn合金棒のZn濃度が12wt%以上、40wt%以下であり、SnとZnの合計濃度が95wt%以上であることが好ましい。
【0017】
また、上記目的を達成するため、本発明のNbSn超電導線は、Cu被覆又はCu基合金被覆を有するSn−Zn合金棒の周囲に、Cu被覆又はCu基合金被覆を有するNbフィラメント又はNb合金フィラメントが複数本配置され、これらがCu管又はCu基合金管内に収納された芯線内に、NbSnを生成したことを特徴とする。
【0018】
前記芯線の複数本がSn拡散防止用Nbパイプ又はNb合金パイプに収納され、更にその外周にCuパイプ又はCu合金パイプが形成された多芯線内に、NbSnを生成してもよい。
【0019】
前記Nb合金フィラメントは、Nbに、Ti、Ta、Zr、V、Hfのいずれか1種類あるいは複数種を合計濃度で5at%以下含むことが好ましい。
【0020】
前記Sn−Zn合金棒のZn濃度が12wt%以上、40wt%以下であり、SnとZnの合計濃度が95wt%以上であることが好ましい。
【0021】
また、上記目的を達成するため、本発明のNbSn超電導線の製造方法は、Cu被覆又はCu基合金被覆を有するSn−Zn合金棒の周囲に、Cu被覆又はCu基合金被覆を有するNbフィラメント又はNb合金フィラメントを複数本配置し、Cu管又はCu基合金管内に収納した後、細線化して定尺に切り分けた芯線の複数本を、Sn拡散防止用Nbパイプ又はNb合金パイプに収納し、更にその外周にCuパイプ又はCu合金パイプを被覆し、細線化後、熱処理を施してSnとNbを反応させNbSnを生成させることを特徴とする。
【0022】
前記熱処理は、230℃以上、520℃以下の温度領域においての昇温時間も含めた保持時間を10時間以上とし、その後のNbSn生成熱処理温度を550℃以上、750℃以下とすることが好ましい。
【発明の効果】
【0023】
本発明によれば、従来の純Snコアを用いた内部拡散法に比較して低い交流損失を達成できる。また、NbSn生成後の線材の強度に優れ、歪みにも強いNbSnを低コストで製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0024】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
【0025】
図1に、本発明に係るNbSn超電導線の製造過程で得られるサブマルチビレットの一例を示す。
このサブマルチビレット10は、Cu被覆2を有する六角のSn−Zn合金棒1の周囲に、Cu被覆4を有するNb−1at%Ta六角線(Nbフィラメント)3を複数本配置し、Cu管5内に収納したものである。
【0026】
(Nbフィラメント)
Nbフィラメントの材質は、純Nbとするのみならず、Ti、Ta、Zr、V、Hfのいずれか1種類あるいは複数種を合計濃度で5at%以下含むNb合金とすることが好ましい。
この理由は、NbへのTi、Ta等の添加によりJcが向上し、また、Ta、Zr、V、Hf等の添加によりNb合金の結晶粒を均一に微細化させるため、純Nbに比較してフィラメントの形状を均一に保持できる利点があるからである。但し、その添加濃度が5at%を超えると、合金の硬さが硬くなり、Nb合金管内に複合化したSn−Zn合金との硬さの差(ミスマッチ)が大きくなり不均一加工の原因となる。
【0027】
(Sn−Zn合金棒)
SnにZnを添加することにより、SnのNbへの拡散反応を促進させることができ、高Jc化の観点から有利となる。
【0028】
Sn−Zn合金棒1において、SnとZnを主成分とするSn−Zn合金のZn濃度は、12wt%以上、40wt%以下とすることが好ましく、SnとZnの合計濃度が95wt%以上とすることが望ましい。
【0029】
Zn濃度を12wt%以上としたのは、図2に示すSnとZnの相図(フェイズダイヤグラム)において、融点が232℃の純SnにZnを添加していくと、Sn−8.8wt%Znにおいて融点が最低の198.5℃となるが、更に添加していくと約12wt%で純Snの融点以上に高くなるからである。また、Zn濃度を40wt%以下としたのは、NbとSnのモル比(3:1)を考慮すると、Znを40wt%を超えて多量に添加するとSn濃度が低下するため、NbSn生成に必要なSn量が不足してしまうためである。
【0030】
また、その他の添加元素としては、固溶しやすく、かつ合金の融点を極端に低下させないという条件からBi、Al、Cu、Ag等が考えられる。但し、主成分であるSnやZnのいずれか一方と延性に乏しい化合物を形成してしまう可能性もあるので、その添加濃度は5wt%未満とすることが好ましい。従って、Sn−Zn合金濃度は95wt%以上とすることが望ましい。
【0031】
(NbSn生成熱処理過程)
サブマルチビレットには後に熱処理が施され、サブマルチビレット内におけるSn−Zn合金棒1のSnとNb−1at%Ta六角線3のNbとの反応によりNbSnが生成される。
【0032】
このNbSn生成熱処理過程においては、230℃以上、520℃以下の温度領域での昇温時間も含めた保持時間が10時間以上であり、その後のNbSn生成熱処理温度が550℃以上、750℃以下とすることが好ましい。
【0033】
この理由は、一般的なNbSn生成熱処理温度は600℃以上であるが、いきなり室温から上記時間より短時間で600℃以上に温度を上昇させると、Sn−Zn部分が液状化して線材の両端末から漏れ出す可能性があるからである。
【0034】
従って、上記現象を防止するために、Snの融点近傍の230℃以上、Cu−Sn合金におけるε相が生成する520℃以下の温度で、温度上昇に要する時間(昇温時間)、あるいは230〜530℃の範囲内で、昇温時間を含めた保持時間を10時間以上とすることで、600℃付近でも液状化しないCu−Sn−Zn合金とすることができる。
【0035】
(製造工程)
図3に、本実施形態に係るNbSn超電導線の製造工程の一例を示す。
まず、図1に示すサブマルチビレットを作製すべく、Cu被覆2を有する六角のSn−Zn合金棒1(対辺距離12mm、長さ150mm)の周囲に、各々対辺距離1.7mmであり、Cu被覆4を有するNb−1at%Ta六角線3を114本配置し、外径27mm、内径23.9mmのCu管5内に収納して、サブマルチビレット10とする(図3工程a)。
【0036】
このサブマルチビレットを室温で直径12mmに静水圧押出し加工した後(工程b)、伸線加工を繰り返して細線化し(工程c)、対辺距離2.5mmの六角線とする(工程d)。
【0037】
この六角線を、直状に矯正した後(工程e)、長さ150mmに切り分ける(工程f)。
次に、図4に示すように、この対辺距離2.5mmのサブマルチ六角線15を61本、内径23mm、外径24mm、のSn拡散防止用Nbパイプ20に収納し、その外周に内径24.1mm、外径28.5mmのCuパイプ30を被覆してマルチビレット40とする(工程g)。
【0038】
このマルチビレット40を室温で直径12mmに静水圧押出しした後(工程h)、伸線加工を繰り返して(工程i)、直径1mmまで細径化してマルチ線とする(工程j)。
このマルチ線に、図5に示す温度プロファイルにより熱処理を施す。即ち、Ar雰囲気中で(415℃×10h)+(515℃×10h)の条件で多段階に昇温させたのち、650℃×100時間の熱処理を行い、NbSnを生成させる(工程k)。
【0039】
(本実施形態における効果)
(1)従来製法では、加工を繰り返すとSnだけが軟化し、他の複合物であるNbやCuは加工硬化していくので硬さの差が顕著になり、不均一加工となってしまうが、本製法では、Zn濃度を調整することでSn−Zn合金の融点を純Snの融点よりも高くし、加工熱によるSnの溶融や軟化現象を防止することができ、均一加工が可能になる。
(2)熱処理後に、Cuマトリックス中にZnが拡散することによりマトリックスがCu‐Sn‐Zn合金となり、高抵抗化する。(一方、従来の純Snを用いた場合には電気抵抗が低い低Sn濃度ブロンズ(Cu−0.5〜2wt%Sn)となる。)高抵抗化されたマトリックスは、NbSnフィラメント間の電磁気的結合を抑制し、有効フィラメント径を小さくできるので、交流損失を低減でき、かつ低磁界における磁気的不安定性を防止できる(フラックスジャンプの防止)。
(3)交流損失を低減でき、低磁界における磁気的不安定性を防止できる結果、核融合用、加速器用等のパルス励磁を行う超電導マグネットにも幅広く応用可能となる。
(4)コスト面からは、Sn、Znともに安価な金属であり、従来法の内部拡散法等に比較してコスト高になることなく、フィラメント径が10μmレベルの線材を製造可能である。加えて、ブロンズ法のような中間熱処理は必要ない。
(5)従来の純Snコアを用いた内部拡散法に比較して低い交流損失を達成できる。また、NbSn生成後の線材の強度に優れ、歪みにも強いNbSnを低コストで製造することができる。
【実施例】
【0040】
Cu被覆したSn−Zn合金棒(コア)のZn濃度を0(純Sn)、10、20、30、40wt%の5種類とし、図3に示す工程図に従ってNbSn超電導線を作製した。
【0041】
表1に、この5種類の線材の12Tにおける臨界電流(Ic)の測定結果を示す。
【0042】
【表1】

【0043】
表1の結果より、IcはZn濃度の増加とともに低下したが、Sn−0,10,20wt%Znコアでは、ほぼ同じ値であった。
一方、Sn−30、40wt%Znコアの線材はSnの量が低下したため、Icが低下した。
【0044】
次に、表2に、外部磁界B=±3Tにおけるヒステリシス損失測定結果を示す。
【0045】
【表2】

【0046】
表2の結果より、ヒステリシス損失はZn濃度の増加とともに低下し、特にZn濃度が20wt%以上からヒステリシス損失が急激に低減した。これは熱処理後、NbSnフィラメント周囲に生成したCu−Sn−Zn合金のZn濃度が高いほど、NbSnフィラメント間の電磁気的結合を抑制した結果と考えられる。
【0047】
次に、表3に、熱処理済みの線材を室温で引張り試験した結果を示す。
【0048】
【表3】

【0049】
表3の結果より、0.2%耐力、引張り強さ共に、Zn濃度の増加に従って増大した。この理由は、熱処理後に生成されたCu−Sn−Zn合金(真鍮)の引張り強度が、Zn濃度の増加とともに高くなった結果と推測される。
【図面の簡単な説明】
【0050】
【図1】本実施形態に係るサブマルチビレットを示す断面図である。
【図2】SnとZnの相図(フェイズダイヤグラム)である。
【図3】本実施形態に係るNbSn超電導線の製造工程図である。
【図4】本実施形態に係るマルチビレットを示す断面図である。
【図5】本実施形態に係る熱処理条件を示すグラフである。
【符号の説明】
【0051】
1 Sn−Zn合金棒
2 Cu被覆
3 Nb−1at%Ta六角線
4 Cu被覆
5 Cu管
10 サブマルチビレット
15 サブマルチ六角線
20 Sn拡散防止用Nbパイプ
30 Cuパイプ
40 マルチビレット

【特許請求の範囲】
【請求項1】
Cu被覆又はCu基合金被覆を有するSn−Zn合金棒の周囲に、Cu被覆又はCu基合金被覆を有するNbフィラメント又はNb合金フィラメントが複数本配置され、これらがCu管又はCu基合金管内に収納されていることを特徴とするNbSn超電導線用芯線。
【請求項2】
前記芯線の複数本が、Sn拡散防止用Nbパイプ又はNb合金パイプに収納され、更にその外周にCuパイプ又はCu合金パイプが形成されていることを特徴とする請求項1記載のNbSn超電導線用芯線。
【請求項3】
前記Nb合金フィラメントは、Nbに、Ti、Ta、Zr、V、Hfのいずれか1種類あるいは複数種を合計濃度で5at%以下含むことを特徴とする請求項1又は2記載のNbSn超電導線用芯線。
【請求項4】
前記Sn−Zn合金棒のZn濃度が12wt%以上、40wt%以下であり、SnとZnの合計濃度が95wt%以上であることを特徴とする請求項1又は2記載のNbSn超電導線用芯線。
【請求項5】
Cu被覆又はCu基合金被覆を有するSn−Zn合金棒の周囲に、Cu被覆又はCu基合金被覆を有するNbフィラメント又はNb合金フィラメントが複数本配置され、これらがCu管又はCu基合金管内に収納された芯線内に、NbSnが生成されていることを特徴とするNbSn超電導線。
【請求項6】
前記芯線の複数本が、Sn拡散防止用Nbパイプ又はNb合金パイプに収納され、更にその外周にCuパイプ又はCu合金パイプが形成された多芯線内に、NbSnが生成されていることを特徴とする請求項5記載のNbSn超電導線。
【請求項7】
前記Nb合金フィラメントは、Nbに、Ti、Ta、Zr、V、Hfのいずれか1種類あるいは複数種を合計濃度で5at%以下含むことを特徴とする請求項5又は6記載のNbSn超電導線。
【請求項8】
前記Sn−Zn合金棒のZn濃度が12wt%以上、40wt%以下であり、SnとZnの合計濃度が95wt%以上であることを特徴とする請求項5又は6記載のNbSn超電導線。
【請求項9】
Cu被覆又はCu基合金被覆を有するSn−Zn合金棒の周囲に、Cu被覆又はCu基合金被覆を有するNbフィラメント又はNb合金フィラメントを複数本配置し、Cu管又はCu基合金管内に収納した後、細線化して定尺に切り分けた芯線の複数本を、Sn拡散防止用Nbパイプ又はNb合金パイプに収納し、更にその外周にCuパイプ又はCu合金パイプを被覆し、細線化後、熱処理を施してSnとNbを反応させNbSnを生成させることを特徴とするNbSn超電導線の製造方法。
【請求項10】
前記熱処理は、230℃以上、520℃以下の温度領域においての昇温時間も含めた保持時間を10時間以上とし、その後のNbSn生成熱処理温度を550℃以上、750℃以下とすることを特徴とする請求項9記載のNbSn超電導線の製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2007−165152(P2007−165152A)
【公開日】平成19年6月28日(2007.6.28)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−360768(P2005−360768)
【出願日】平成17年12月14日(2005.12.14)
【出願人】(000005120)日立電線株式会社 (3,358)
【Fターム(参考)】