説明

X線照射装置

【課題】医療器具のような物品を、現在の方法に比べて高速に、完全に滅菌するのに使用できる装置を提供する。
【解決手段】X線ビーム放射器12はターゲット窓16を有する真空チャンバ30を備える。真空チャンバ30内には、ターゲット窓16に向けて電子を放射してX線を発生させる電子発生器32が配置される。X線はX線ビームとなってターゲット窓16を透過する。

【発明の詳細な説明】
【関連出願】
【0001】
本出願は、2001年3月20日出願の米国仮出願第60/277,322号の優先権を主張する。前記出願の全内容は参照により本明細書に引用したものとする。
【背景技術】
【0002】
多くの医療器具は再使用可能であり、使用毎に滅菌を必要とする。これら器具のうち特定のもの、例えば内視鏡および胃内視鏡は、完全な滅菌が困難である。一般にこのような器具は、器具の内部および外部全体に過酸化水素を流して滅菌される。このプロセスは時間を要する(約1時間)だけでなく、器具には、滅菌プロセスが十分に浸透しない汚染領
域があるため、細菌のバイオフィルム(生物膜)等を完全に滅菌できない。さらに、過酸化水素は必ずしもすべてのウィルスを死滅させることができない。別の一般的な滅菌薬剤には酸化エチレンがあるが、同様の結果を得るのみである。滅菌の他の方法には、ガンマ線照射があるが、この方法は現在の装置を用いると最大24時間を要する。
【発明の開示】
【0003】
本発明は、医療器具のような物品を、現在の方法に比べて高速に、完全に滅菌するのに使用できる装置を含む。本発明はターゲット窓を持つ真空チャンバを有するX線ビーム放射器を含む。電子発生器は、真空チャンバ内に配置され、ターゲット窓に向けて放射され電子を発生させて、X線を発生させる。X線はX線ビームとなってターゲット窓を透過する。
【0004】
特定の実施形態では、ターゲット窓は、窓を通る電子の通過を実質的に防止する厚さを有する。電子およびX線ビームはほぼ同一方向に進む。X線ビームは照射領域を照射して、その領域内に置かれた物品を照射する。実施形態によっては、X線ビーム放射器は滅菌装置であり、X線ビームで照射される物品が滅菌される。
【0005】
X線ビーム放射器は、少なくとも1つのX線ビームを照射領域に照射する少なくとも1つのX線ビーム放射器を備える、X線照射装置のX線ビーム・システムの一部である。特定の実施形態では、X線ビーム・システムは、X線ビームを互いに異なる方向から照射領域に照射する2つ以上のX線ビーム放射器を含む。1つの実施形態では、少なくとも3つの
X線ビーム放射器を照射領域のまわりに、つまり照射領域を中心としてリング状に配置することにより、中央照射チャンバを形成する。別の実施形態では、6つのX線ビーム放射器を照射領域のまわりにリング状に、互いに接触するように配置する。X線ビーム・システムは、複数のX線ビーム放射器を連結してなるリングを複数備えることができる。実施形態によっては、X線照射装置は滅菌装置であり、この場合は、物品は滅菌のために照射チャンバ内に置かれる。
【0006】
本発明はまた、X線を発生させる方法を含む。この方法は、ターゲット窓を持つ真空チャンバを設けるステップを含む。電子発生器は真空チャンバ内に配置され、電子を発生させる。電子はターゲット窓に放射されて、X線ビームとなってターゲット窓を透過するX線を発生させる。ターゲット窓は、該窓を通る電子の通過を実質的に防止する厚さを有する。電子およびX線ビームはほぼ同一方向に進む。
【0007】
滅菌目的で使用する場合、本発明の実施形態により発生するX線ビームは、照射される物品に深く浸透できる。表面および内部の汚染物質の両方を、従来の方法に比べて高速かつ完全に滅菌できる。
【0008】
本発明の前述およびその他の目的、特徴、および利点は、添付図面に示す本発明の好ましい実施形態の以下の詳細な説明で明らかになるであろう。図面では、同一参照符号は異なる図面においても同一部品を指す。図面は必ずしも縮尺通りでなく、本発明の原理を示すことに重点が置かれている。
【0009】
図1および2のX線ビーム照射装置10は目的物または物品、例えば、医療器具、道具、または構成部品を滅菌するのに適する。図1および2に示す実施形態では、X線ビーム照射装置10は、物品19を照射するX線照射ユニット11を有するX線ビーム・システムを含む。図1および2に示した実施形態のX線照射ユニット11は一連のX線ビーム放射器12を含む。各放射器12は、ターゲット窓16を有しており、この窓を通ってX線ビーム22が発生する。X線ビーム放射器12は傾斜した側壁14を有しているので、隣り合うX線ビーム放射器12が互いに接触し、照射領域またはチャンバ20を囲むようにリング10a状に連結され、その結果、X線ビーム放射器12はX線ビーム22を、径方向内方に互いに異なる方向から照射チャンバ20に放射できる。図1および2は、互いに接触して配置されて六角形の照射チャンバ20を形成する6つのX線ビーム放射器12を示す。ターゲット窓16は互いに近接して配置されるので、照射チャンバ20に放射されるX線ビーム22により、ターゲット窓16が並ぶ周方向に連続した領域内で、径方向内方にX線が照射されるX線ビーム照射範囲を実現する。
【0010】
使用においては、滅菌を必要とする医療器具のような物品19(図1)は、通常、照射チャンバ20内に置かれる。図3に符号26で示すようなドアを照射チャンバ20の両端に設置して、X線を遮蔽することができる。代替方法では、細長の入口および出口トンネルを設けて、遮蔽することができる。次に、X線ビーム放射器12に電力を供給すると、X線ビーム22が照射チャンバ20に放射される。X線ビーム22は、物品19表面のバクテリア、ウィルス、および生物体を無能化、損傷または死滅させることができる。さらに、X線ビーム22は、汚染物質の厚い層または領域を貫通して滅菌できるだけでなく、物品19を貫通できるため、物品19の内部深くまで滅菌できる。内視鏡のような器具は、完全な滅菌を行うのに、放射器12当たり5kWの低電力で、約30分の滅菌時間を必要とする。これは、過酸化水素で滅菌するときに一般に必要とする時間(1時間)に比べて約半分の時間である。過酸化水素で滅菌される器具は、1時間以上かけても本発明による滅菌ほどに完全に滅菌されない。
【0011】
図1および2では、6つのX線ビーム放射器12によりX線照射ユニット11を形成しているが、任意の数のX線ビーム放射器12を使用できることは理解されるであろう。3つの放射器12を使用する場合、照射チャンバ20は三角形の形状にでき、4つの放射器12を使用する場合では、正方形、5つ以上の放射器12を使用する場合では、多角形にできる。複数の放射器12を使用する場合、状況に応じて、照射チャンバ20は幅広、平板状、または渦巻状の構成にもできる。場合によっては、X線照射ユニット11は1つまたは2つのX線ビーム放射器12のみを必要とする。さらに、X線ビーム放射器12はリング10a状に連結されているものとして示してきたが、代替方法では、1つ以上のX線ビーム放射器12を配置して、ほぼ全方位からX線ビームを放射するのではなく、例えば一方向または二方向から、X線ビームを放射してもよい。2つのX線ビーム放射器12を使用する場合、放射器12は対向して配置される。
【0012】
図3のX線ビーム照射装置24は、前述の装置10内に納めるには長すぎる物品19を滅菌するときに使用される。X線ビーム照射装置24は、2つ以上のX線ビーム照射ユニット11を連結したX線ビーム・システムを含む。1つの実施形態では、各X線照射ユニット11は、図1および2と同様な、リング10a状のX線ビーム放射器12を含む。リング10aは互いに接触して連結されているので、各リング10aの照射チャンバ20が連結されて、1つの長い照射領域またはチャンバ28を形成する。図3には、接触して一
体となっている3つのX線照射ユニット11を示しているが、3つ以下または以上のユニット11を連結することができる。通常、X線ビーム照射装置24はX線を遮蔽するためのドア26を備える。器具は通常照射チャンバ28内に静止して配置されるが、代替方法では、コンベア・システムを使用して、物品19を低速度で照射チャンバ28を通過させることができる。コンベア・システムはコンベア・ベルトおよび/またはローラを備えることができる。コンベア・システムを使用するとき、入口および出口トンネルは遮蔽機能を持つのが望ましい。
【0013】
X線照射装置24は、前述のリング10aとは異なる構成で配置したX線照射ユニット11を備えることができる。さらに、照射ユニット11の実施形態によっては、物品19上またはそのまわりで1つ以上の放射器12を移動させる機構を備えることにより、最少台数の放射器12を用いてX線照射を実現できる。1つの実施形態では、リング10aは物品19に沿って縦方向に並進する。別の実施形態では、1つの放射器12は物品19を中心として回転し、また物品19上を縦方向に並進する。放射器12が物品19を中心として回転する構成では、2つ以上の放射器12を使用すれば要求される回転量を減少することができる。例えば、2つの放射器12を対向させて配置する場合、放射器12は物品19を中心としてそのまわりを180度回転するだけでよい。
【0014】
医療器具、道具、または構成部品を滅菌することに加えて、X線ビーム照射装置10および24を使用して、人工関節、ピン、プレート、ポンプ、ペースメーカなどのような人体埋め込み型デバイスまたは構成部品を滅菌できる。さらに、滅菌室または滅菌環境で使用する幅広い種類の対象物または物品19を滅菌できる。場合によっては、粉末、液体、または食品などの物品を滅菌するのが望ましいこともある。図3のX線ビーム照射装置24を、その一端が滅菌環境空間に連結され、通常該空間の壁を貫通する滅菌入口部として用いて、物品19を該入口部から該空間内に案内する。一方のドア26により、物品19を外部から装置24内に挿入して滅菌できる。他方のドア26により、滅菌された物品19を装置24から滅菌環境空間内に移すことができる。
【0015】
図4および5を参照すると、1つの実施形態におけるX線ビーム放射器12は、矩形のターゲット窓16を有する気密に密封された真空チャンバ30を備える。このターゲット窓16はチャンバ30の一端に配置されている。電子発生器32は、真空チャンバ30の内部30aに配置され、ターゲット窓16に向けて加速される電子eを発生させて、X線を発生させる。ターゲット窓16は通常薄い金属箔から構成され、この金属箔は、X線を透過させる一方で電子eの透過を実質的に防止する十分な厚さを有する。ターゲット窓16は一連の孔38aを有する支持板38により支持され、電子eはこれらの孔を通りターゲット窓16に達することができる。いくつかの実施形態では、外方向に傾斜した孔38bを支持板38(図5)の遠位端(外周部)に設けているので、ターゲット窓16の端部に向けてより多くの電子eを放射することができる。ターゲット窓16は、加熱および加圧による接着により支持板38に対して密封されるが、代替方法では、蝋付けまたは溶接することもできる。1つの実施形態では、ターゲット窓16は12インチ(30.5cm)長さとし、それにより、照射チャンバ20を約12インチ(30.5cm)長さにできる。X線ビーム放射器12がリング10a(図1)のようにリング状に互いに接触している場合、放射器12は、ターゲット窓16の長辺側近傍に延びる傾斜側面14を有してもよい(図4)。6つの放射器12が連結される場合は、側面14は約60度の角度で傾斜するが、側面14の角度は連結される放射器12の数に応じて異なる。照射チャンバ20の構成によっては、傾斜側面14を省略して、例えば矩形の構成にできる。真空チャンバ30からチューブを延ばして真空ポンプに接続することにより、真空チャンバ30を真空排気して、真空チャンバ30を気密に密封することができる。
【0016】
電子発生器32はフィラメント・ハウジング34を有する。このハウジングは、1つの
実施形態では円盤状であり、その底部34aに一連の開口を有する。電子eを発生するタングステン・フィラメント36がハウジング34内に配置される。フィラメント・ハウジング34は、円筒形導体40aおよびケーブル18により高電圧源に電気的に接続される。通常範囲は100〜300kVであり、典型的には125kVである。用途によっては、100kVおよび300kV以上が望ましいこともある。ターゲット窓16は電気的にアースされ、フィラメント・ハウジング34とターゲット窓16との間に高電圧を印加する。フィラメント36は、ケーブル18に電気的に接続されたフィラメント電源により電力を供給され、その一端が、フィラメント・ハウジング34の内部に延びる導体42に電気的に接続され、その他端が、ケーブル18から延びる導体40bに電気的に接続される。導体40aの上部は絶縁材44内に埋め込まれる。
【0017】
使用においては、フィラメント36に電力を供給して約3400°F〜4200°F(約1870℃〜2320℃)に加熱し、フィラメント36上に自由電子eを発生させる。フィラメント・ハウジング34とターゲット窓16の間に印加される高電圧により、フィラメント36上の自由電子eを、ビームとしてフィラメント36からフィラメント・ハウジング34の底部34aの開口を通過させ、ターゲット窓16に向けて加速させる。ターゲット窓16は一般に、約3ミクロン厚さの金、チタン、またはタングステンの薄い箔であり、該窓を通る電子eの通過をほぼ阻止または防止する。代替方法では、このターゲット窓16は金からなる層で覆ったチタンで形成するか、あるいは銅または銀で覆われた金で形成できる。一般に、大きい原子番号と高い熱伝導性を持つ金属が好ましいが、ターゲット窓16に使用される金属は実際の用途に応じて変更できる。例えば、前述以外の材料および組み合わせも使用できる。ターゲット窓16に衝突する電子eは、一般に、該ターゲット窓16を通過できないが、代わりに、X線ビーム22としてターゲット窓16から放射されるX線を発生させ、電子eの移動方向とほぼ同一の方向に移動を続ける。言い換えると、電子eのビームはターゲット窓16によって変換されてX線ビーム22となり、その結果、連続する2つのステージからなるビームが形成される。つまり、第1ステージは電子eのビームにより形成され、第2ステージはX線のビーム22により形成される。X線ビーム22はターゲット窓16とほぼ同一の輪郭でターゲット窓16から放射される。このようにX線を発生させることにより、比較的効率良く広範囲にX線ビームを放射できる。なぜなら、電子eおよびX線ビーム22が同一方向に移動するからである。電子eビームおよびX線ビーム22は、ターゲット窓16に垂直またはほぼ垂直に示されている。場合によっては、電子eはある角度でターゲット窓16に衝突することもある。
【0018】
実施形態によっては、ターゲット窓16は一部の電子eを透過させて電子eとX線の混合ビームを発生させるように構成できる。別の実施形態では、ターゲット窓16は、電子eを電子ビームとして放射器12から放射する電子ビーム放射窓と置き換えることができる。この場合、電子eは滅菌される物品の表面に衝突し、その表面を滅菌すると同時に、物品の内部を滅菌するX線を発生させる。このような実施形態を使用して、任意の装置の滅菌または汚染除去ができる。ターゲット窓16は特定の装置に適合するように構成でき、矩形以外の形状にもできる。
【0019】
本発明を好ましい実施形態により詳細に図示し、説明してきたが、当業者には、添付の特許請求の範囲に包含される本発明の範囲から逸脱することなく、形態または細部に各種の変更を加えることが可能であるのは理解されるであろう。例えば、前述のさまざまな実施形態の構成を互いに組み合わせるか、または省略できる。X線放射器12の構成、形状、寸法、サイズ、および出力は、実際の用途およびターゲット窓16の形状に応じて変更できることは理解されるであろう。複数の放射器12は、一方向からX線ビームを発生するように並べて配置するか、または、二方向からX線ビームを発生するように対向する方向に配置することができる。構成によっては、X線放射器12ならびに装置10および2
4は、任意の所望の物品を滅菌するのに使用するか、または、患者のX線撮影もしくはコーティングの硬化などの他の目的に使用できる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】本発明のX線ビーム照射装置の一つの実施形態の簡略化した端面図である。
【図2】図1のX線ビーム照射装置の簡略化した斜視図である。
【図3】本発明のX線ビーム照射装置の別の実施形態の側面図である。
【図4】本発明によるX線ビーム放射器の一つの実施形態の縦断面図である。
【図5】図4のX線ビーム放射器の側面断面図である。
【符号の説明】
【0021】
10…X線ビーム照射装置
11…X線照射ユニット
12…X線ビーム放射器
16…ターゲット窓
19…物品
20…照射チャンバ
22…X線ビーム

【特許請求の範囲】
【請求項1】
ターゲット窓を有する真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に配置され、前記ターゲット窓に向けて放射される電子を発生させて、X線ビームとなって前記ターゲット窓を透過するX線を発生させる電子発生器と、を備えているX線ビーム放射器。
【請求項2】
請求項1において、前記ターゲット窓が、該窓を通る電子の通過をほぼ阻止する厚さを有するX線ビーム放射器。
【請求項3】
請求項2において、電子およびX線ビームがほぼ同一方向に移動するX線ビーム放射器。
【請求項4】
請求項3において、さらに、X線ビームが物品を照射する照射領域を備えているX線ビーム放射器。
【請求項5】
請求項4において、前記放射器が滅菌装置であって、前記X線ビームで照射される物品が滅菌されるX線ビーム放射器。
【請求項6】
少なくとも1つのX線ビームを照射領域に向けて放射するX線ビーム・システムであって、このX線ビーム・システムが有する少なくとも1つのX線ビーム放射器が、
ターゲット窓を有する真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に配置され、前記ターゲット窓に向けて放射される電子を発生させて、X線ビームとなって該ターゲット窓を透過するX線を発生させる電子発生器とを備えているX線ビーム・システムを含むX線照射装置。
【請求項7】
請求項6において、前記X線ビーム放射器の前記ターゲット窓が、該窓を通る電子の通過をほぼ阻止する厚さを有するX線照射装置。
【請求項8】
請求項7において、前記電子およびX線ビームがほぼ同一方向に移動するX線照射装置。
【請求項9】
請求項8において、前記X線ビーム・システムが、互いに異なる方向から前記照射領域にX線ビームを放射する2つ以上のX線ビーム放射器を備えているX線照射装置。
【請求項10】
請求項8において、前記X線ビーム・システムが、前記照射領域のまわりにリング状に配置された少なくとも3つのX線ビーム放射器を備え、それにより中央照射チャンバを形成しているX線照射装置。
【請求項11】
請求項9において、前記X線ビーム・システムが、前記照射領域のまわりにリング状に配置され、かつ互いに接触する6つのX線ビーム放射器を備えているX線照射装置。
【請求項12】
請求項10において、前記X線ビーム・システムが、複数のX線ビーム放射器を連結してなるリングを2つ以上備えているX線照射装置。
【請求項13】
請求項8において、前記照射装置が滅菌装置であって、物品を前記照射チャンバ内に置いて滅菌するX線照射装置。
【請求項14】
請求項8において、前記X線ビーム・システムが、少なくとも1つのX線ビーム放射器を有する少なくとも1つの照射ユニットを備えているX線照射装置。
【請求項15】
請求項14において、前記X線ビーム・システムが、連結された2つ以上の照射ユニットを備えているX線照射装置。
【請求項16】
ターゲット窓を有する真空チャンバを設け、
前記ターゲット窓に向けて放射される電子を発生させて、X線ビームとなって前記ターゲット窓を透過するX線を発生させる電子発生器を前記真空チャンバ内に配置する。各ステップを含むX線ビーム放射器を形成する方法。
【請求項17】
請求項16において、さらに、電子の通過をほぼ阻止する厚さを有する前記ターゲット窓を設けるステップを含む方法。
【請求項18】
請求項17において、さらに、電子およびX線ビームがほぼ同一方向に移動するように前記ビーム放射器を構成するステップを含む方法。
【請求項19】
請求項18において、さらに、X線ビームが物品を照射する照射領域を形成するステップを含む方法。
【請求項20】
少なくとも1つのX線ビーム放射器を備え、少なくとも1つのX線ビームを照射領域に向けて放射するX線ビーム・システムを形成し、
前記X線ビーム放射器に、ターゲット窓を有する真空チャンバと、前記真空チャンバ内に配置される電子発生器とを設け、前記ターゲット窓に向けて放射される電子を発生させて、X線ビームとなってターゲット窓を透過するX線を発生させる、各ステップを含む、X線照射装置を形成する方法。
【請求項21】
請求項20において、さらに、電子の通過をほぼ阻止する厚さを有するターゲット窓を設けるステップを含む方法。
【請求項22】
請求項21において、さらに、電子およびX線ビームがほぼ同一方向に移動するように前記X線ビーム放射器構成するステップを含む方法。
【請求項23】
請求項22おいて、さらに、前記X線ビーム・システムに2つ以上のX線ビーム放射器を設けて、異なる方向から前記照射領域にX線ビームを放射するステップを含む方法。
【請求項24】
請求項22おいて、さらに、前記X線ビーム・システムに、前記照射領域のまわりにリング状に配置された少なくとも3つのX線ビーム放射器を設けて、中央照射チャンバを形成するステップを含む方法。
【請求項25】
請求項24において、さらに、前記照射領域のまわりに6つのX線ビーム放射器をリング状に配置し、かつこれら放射器を互いに接触させるステップを含む方法。
【請求項26】
請求項24において、さらに、連結された複数のX線ビーム放射器からなる2つ以上のリングから前記X線ビーム・システムを形成するステップを含む方法。
【請求項27】
請求項22において、さらに、少なくとも1つのX線ビーム放射器を有する少なくとも1つの照射ユニットを備える前記X線ビーム・システムを設けるステップを含む方法。
【請求項28】
請求項27において、さらに、2つ以上の照射ユニットを連結して、前記X線ビーム・システムを形成するステップを含む方法。
【請求項29】
請求項21において、さらに、前記照射領域に配置された物品を滅菌するように前記X線照射装置を滅菌装置に構成するステップを含む方法。
【請求項30】
ターゲット窓を有する真空チャンバを設け、
電子を発生させる電子発生器を前記真空チャンバ内に配置し、
前記ターゲット窓に向けて電子を放射して、X線ビームとなってターゲット窓を透過するX線を発生させる、各ステップを含む、X線ビームを発生する方法。
【請求項31】
請求項30において、さらに、電子の通過をほぼ阻止する厚さを有する前記ターゲット窓を設けるステップを含む方法。
【請求項32】
請求項31において、さらに、電子およびX線ビームがほぼ同一方向に移動するように前記X線ビーム放射器を構成するステップを含む方法。


【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【公開番号】特開2009−58519(P2009−58519A)
【公開日】平成21年3月19日(2009.3.19)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−271589(P2008−271589)
【出願日】平成20年10月22日(2008.10.22)
【分割の表示】特願2002−574689(P2002−574689)の分割
【原出願日】平成14年3月19日(2002.3.19)
【出願人】(501230719)アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド (6)
【Fターム(参考)】