説明

東ソー株式会社により出願された特許

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【目的】脱アルミニウム処理をすることなく、合成したままの状態でSiO/Al比の高い高純度モルデナイト型ゼオライト結晶を合成し、それを用いた優れた高温耐熱性、高い構造安定性、強い固体酸性などが要求される触媒、吸着剤、分離剤等の基材として有用な材料を提供する。
【解決手段】反応混合物が酸化物のモル比で表して次の組成
SiO/Al=40〜100
NaO/SiO=0〜0.3
TEAO/SiO=0.01〜0.5
NHAn/SiO=0.01〜0.3
O/SiO=0.5〜50
(ここでTEAはテトラエチルアンモニウムイオン、NHAnはアンモニウム塩、Anは陰イオンを表す)の反応混合物を自生圧力下において100〜200℃の温度で結晶化させるSiO/Al=40〜100の高純度モルデナイト型ゼオライトの合成方法。 (もっと読む)


【課題】 ある粒子の粒界に他の粒子が均一に分散している複合粒子を安定に製造でき、そのため大量生産も可能な製造方法を提供する。
【解決手段】 表面電位が正の微粒子を含有する少なくとも1種の流体と、表面電位が負の微粒子を含有する少なくとも1種の流体とを混合する混合工程を有し、混合工程の前に、微粒子のうちの少なくとも1種の表面に高分子化合物を修飾して、該微粒子の表面電位を調整する表面電位調整工程を有する方法である。混合工程は、微小流路内で行うことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】高い電子移動度を示す電子輸送材を提供する。
【解決手段】一般式(1)中、X


置換4−(フェニルエチニル)フェニル基を示し、X置換フェニル基を示す。これで表される1,3,5−トリアジン誘導体からなる電子輸送材を薄膜とし、有機電界発光素子などに用いる。 (もっと読む)


【課題】UV領域以下の短波長の露光に用いられる反射型フォトマスク用Tiドープ低熱膨張石英ガラス基板につき、平坦度≦100nm、表面の自乗平均平方根粗さ≦0.15nmRMSを同時に満足する加工法を提供する。
【解決手段】不活性ガスと反応ガスとの混合ガス中にガラス基板を配し、ガラス基板に対向して設けた電極に高周波電圧を印加して生成した局所的なプラズマによって反応ガスのラジカルを生成し、ガラス基板とラジカルとを化学反応させて生成する反応生成物の揮発量を、予め測定したガラス基板の表面形状データを基に制御してガラス基板表面を高平坦化する方法において、ガラス基板がTiドープ低熱膨張石英ガラスであり、混合ガス全量に対して酸素系ガスの存在が0.01vol%以下で加工を行なう。 (もっと読む)


【課題】350℃以上の高温でもヒロックやボイドなどの熱欠陥が発生せず、電気抵抗が低く、安価で信頼性が高く、電子デバイスの高密度化に適した電極配線材料、及び、スパッタリングターゲットを提供する
【解決手段】希土類元素から選ばれる1種又は2種以上の元素を含有するCu合金、元素周期表の第四族元素から選ばれる1種又は2種以上の元素を含有するCu合金、又は、希土類元素から選ばれる1種又は2種以上の元素を含有するとともに、元素周期表の第四族元素から選ばれる1種又は2種以上の元素を含有するCu合金を用いることにより耐熱性に優れた低抵抗の配線材料が得られる。 (もっと読む)


【課題】増幅効率を向上させたRNA増幅方法を提供する。
【解決手段】標的RNAを鋳型とし、標的RNAと相同的な第一のプライマーおよび標的RNAに相補的な第二のプライマーにより、プロモーター配列を有し、かつ前記特定塩基配列に相同又は相補的な配列からなるRNAを転写可能な2本鎖DNAを生成する工程、該2本鎖DNAを鋳型とし前記特定塩基配列に相同又は相補的な配列からなるRNA転写産物を生成する工程、該RNA転写産物が更に前記2本鎖DNA合成のための鋳型として前記工程を連鎖的に繰り返される条件で実施することからなるRNA増幅工程において、1本鎖DNA結合タンパク質を共存させる。 (もっと読む)


【課題】 酸化ケイ素等の半導体材料にダメージがなく、ハフニウムシリケート、ハフニウムアルミネート等のハフニウム化合物を選択的にエッチングでき、なおかつエッチングしたハフニウムの付着を防止すると共に難燃性で安全に用いることができるエッチング用組成物を提供する。
【解決手段】 フッ化物、塩化物、及び錯化剤を含んでなるエッチング用組成物、或いはフッ化ケイ素、リン酸を含んでなるエッチング用組成物を用いる。フッ化ケイ素、リン酸を含んでなるエッチング用組成物には、錯化剤、過酸化水素を含んでも良い。 (もっと読む)


【課題】 酸化ストロンチウムイリジウム(SrIrO3)に基づく金属酸化物、特にペロブスカイト型のSrIrO3に基づく金属酸化物の薄膜を提供する。
【解決手段】 有機ストロンチウム(Sr)化合物11と有機イリジウム(Ir)化合物12とを含有する原料ガスを用いる有機金属化学気相成長法によって、基材3の表面上に、特に立方晶系、正方晶系又は斜方晶系の(100)面又は(110)面である基材3の表面上に、SrIrO3、特にペロブスカイト型構造のSrIrO3に基づく金属酸化物の薄膜を製造する方法とする。 (もっと読む)


【課題】 透明性、耐熱性、靱性、及び溶融加工性に優れ、光学用材料として好適に用いることのできる透明性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 数平均分子量が1×10以上5×10以下である特定の構造を有するN−置換マレイミド・オレフィン共重合体50〜99重量%、及び、1,3−ブタジエン・スチレン共重合体ゴム粒子にスチレン・アクリロニトリル共重合体をグラフト化してなるグラフト変性1,3−ブタジエン・スチレン共重合体ゴム50〜1重量%からなる透明性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】円筒型ガラス管内壁に溶射膜を形成する際、ガラス管を横型にして回転させながら溶射していたが、ガラス管を十分保持できなかったため、回転中にガラス管のぶれ・位置ずれ・脱落等が生じ、均一な溶射膜形成が困難であった。
【解決手段】プラズマガン、回転台座、アーム及び排気ダクトを備えたプラズマ溶射装置であって、回転台座は、円筒型ガラス管の中心軸を中心として回転可能なように円筒型ガラス管を鉛直に保持し、アームは、プラズマガンから照射されるプラズマフレームが円筒型ガラス管内壁に届く距離に、ガラス管に対向させるようプラズマガンを保持し、かつ回転台座に対して上下左右に移動可能であり、排気ダクトは、溶射により発生する円筒型ガラス管内部の粉塵を排気するために、回転台座の内側またはアーム移動範囲外にダクトを備えたプラズマ溶射装置。 (もっと読む)


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