高温での、電圧保持特性およびエージング耐性に優れた垂直配向用液晶配向膜を形成できる垂直配向用液晶配向処理剤、および長期にわたり安定して高品位な表示が可能な液晶表示素子を提供する。
式（１）で示される構造のジアミンおよび下記式（２）で示される構造のジアミンを必須とするジアミン成分と、脂環構造を有するテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られるポリアミド酸、またはそのポリアミド酸の脱水閉環体のうち、少なくともどちらか一方のポリマーを含有する垂直配向用液晶配向処理剤、およびこの液晶配向処理剤を用いた液晶表示素子。


（式（１）中、Ｘ_１は、単結合または、エーテル、エステル、アミド、及びウレタンからなる群より選ばれる２価の結合基を表す。Ｘ_２は、炭素数８〜２０の直鎖状アルキル基、または炭素数４〜４０の脂環式骨格を有する１価の有機基を表す。）


（式（２）中、Ｒ_１は炭素数１〜１２の線状の炭化水素基、または炭素数１〜１２の分岐状の炭化水素基を表し、Ｒ_２は水素原子、炭素数１〜１２の線状の炭化水素基、または炭素数１〜１２の分岐状の炭化水素基を表す。Ｒ_３、Ｒ_４は独立して水素原子またはメチル基を表す。） （もっと読む）

高分子主鎖が芳香環又は複素環を有するアミノ基で置換されたフルオレン誘導体の９位で連結された重合体からなる電荷輸送性化合物、例えば、下記式（１）で示される化合物、を電荷輸送性薄膜中に用いることで、有機ＥＬ素子の低電圧化、高輝度化、超寿命化及び無欠陥化を図ることができる。
［化１］
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下記の式（１）で表される１，４−ジチイン環を有する化合物を含む電荷輸送性有機材料。この有機材料からなる薄膜を低分子系有機エレクトロルミネッセンス（ＯＬＥＤ）素子及び高分子系有機エレクトロルミネッセンス(ＰＬＥＤ)素子中で用いることによって、低駆動電圧、高発光効率等のＥＬ素子特性を向上することができる。また、下記式（１）で表される１，４−ジチイン環を有する化合物を含む電荷輸送性ワニスは、良好なプロセス性を有し、これから得られた薄膜は、高い電荷輸送特性を有するため、コンデンサ電極保護膜への応用や、帯電防止膜、太陽電池、燃料電池への応用にも有効である。
［化１］

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【課題】不飽和ジカルボン酸およびエチレン尿素を含む半導体用洗浄液組成物および洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明は、半導体ウェハ加工工程において、残さ物を洗浄するための組成物であって、不飽和ジカルボン酸とエチレン尿素を必須成分として含有する。不飽和ジカルボン酸の中では、特にマレイン酸が好ましい。好ましい当該組成物は、不飽和ジカルボン酸、エチレン尿素、不飽和ジカルボン酸を除く少なくとも１種の他の有機カルボン酸、エチレン尿素を除く少なくとも１種の他の塩基性化合物、および水を含有する。また、この好ましい当該組成物に随意成分として、有機溶媒、キレート剤、および界面活性剤並びにホスホン酸及び／またはホスフィン酸からなる群から選択される少なくとも１種を加えてもよい。 （もっと読む）

【課題】半導体装置製造のリソグラフィープロセスに使用されるリソグラフィー用下層膜形成組成物、及びフォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、そして、フォトレジストとのインターミキシングを起こさないリソグラフィー用下層膜を提供すること。
【解決手段】ヒドロキシル基の少なくとも５０％がエステル基となったデキストリンエステル化合物、架橋性化合物、及び有機溶剤を含むリソグラフィー用下層膜形成組成物。 （もっと読む）

環境温度の変化に対してプレチルト角の変化が少なく、かつ高温時においても液晶に安定して高いプレチルト角を与える液晶配向膜を形成させることができる液晶配向処理剤を提供することであり、環境温度の変化に対して安定して高品位な表示をすることが可能な液晶表示素子を提供することである。
下記式（１）で示される構造単位を含む付加重合体を含有する液晶配向処理剤、及びこの液晶配向処理剤を用いた液晶表示素子。


（式中、Ａは付加重合によって得られる重合体の主鎖構造であり、Ｂは単結合又はエステル、エーテル、アミド、及びウレタンからなる群より選ばれる結合基である。Ｘ１とＸ２は独立して芳香族環、脂肪族環、又はヘテロ環を表し、Ｒ１は炭素数３〜１８のアルキル基、炭素数３〜１８のアルコキシ基、炭素数１〜５のフルオロアルキル基、炭素数１〜５のフルオロアルコキシ基、シアノ基、又はハロゲン原子を表す。）
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【課題】変性物などの不純物の含有量を抑制することにより高純粋度の３，５−ジヒドロキシ−６−ヘプテン酸誘導体を製造する方法を提供する。
【解決手段】式（１）で表される３，５−ジヒドロキシ−６−ヘプテン酸誘導体（式中、Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基である）を炭素数１〜４の低級アルコール含有溶媒と接触する過程を含む方法により製造するに際し、酸化性物質の含有量を３，５−ジヒドロキシ−６−ヘプテン酸誘導体に対して０.０５モル当量以下にせしめたアルコール含有溶媒を使用し、３，５−ジヒドロキシ−６−ヘプテン酸誘導体に含有される不純物量を抑制する。
【化１】
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【課題】 抗高血圧薬、狭心症治療薬として有用な、エホニジピンの光学活性体の効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）で表される化合物のラセミ体を溶媒に溶解して過飽和溶液を調製し、前記過飽和溶液に、前記式（１）で表される化合物の、どちらか一方の光学活性体の結晶を種晶として加え、前記種晶を加えた一方の光学活性体の結晶を析出させるか、 又は、前記式（１）で表される化合物の、どちらか一方の光学活性体が過剰に存在する混合体を溶媒に溶解して過飽和溶液を調製し、前記過飽和溶液に、過剰に存在する一方の光学活性体の結晶を種晶として加え、前記過剰に存在する一方の光学活性体の結晶を析出させることを特徴とする、式（１）で表される化合物の光学活性体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて使用され、フォトレジスト用のアルカリ性現像液で現像できる反射防止膜を形成するための反射防止膜形成組成物、及びその反射防止膜形成組成物を用いたフォトレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 テトラカルボン酸二無水物化合物と少なくとも一つのカルボキシル基を有するジアミン化合物から製造されるポリアミド酸、少なくとも二つのエポキシ基を有する化合物、及び溶剤を含む反射防止膜形成組成物。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置製造のリソグラフィープロセスに使用される、リソグラフィー用下層膜形成組成物、及びフォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、そして、フォトレジストとのインターミキシングを起こさない下層膜を提供すること。
【解決手段】 保護されたカルボキシル基を有する化合物、カルボキシル基と反応可能な基を有する化合物及び溶剤を含む下層膜形成組成物、またはカルボキシル基と反応可能な基と保護されたカルボキシル基とを有する化合物及び溶剤を含む下層膜形成組成物。 （もっと読む）